TWI243804B - Alkali-free aluminoborosilicate glass, and uses thereof - Google Patents

Alkali-free aluminoborosilicate glass, and uses thereof Download PDF

Info

Publication number
TWI243804B
TWI243804B TW090100024A TW90100024A TWI243804B TW I243804 B TWI243804 B TW I243804B TW 090100024 A TW090100024 A TW 090100024A TW 90100024 A TW90100024 A TW 90100024A TW I243804 B TWI243804 B TW I243804B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
glass
patent application
weight
item
borosilicate glass
Prior art date
Application number
TW090100024A
Other languages
English (en)
Inventor
Ulrich Peuchert
Peter Brix
Original Assignee
Schott Glas
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schott Glas filed Critical Schott Glas
Application granted granted Critical
Publication of TWI243804B publication Critical patent/TWI243804B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

1243804 五 '發明說明（1) __ 本^明係有關一種不含鹼之矽酸鋁 關於此種破螭的用途。 尚本發明亦係 於應用之玻璃係於平坦面板液晶顯 干二ΪΓ ί ’例如用順扭向列)/STN(超扭向列)i 或電漿定址以（PALGs)。玻璃除/ 體（TFTs) 以及對千坦面板螢幕製造過程使用 抗性外，破蹲須於寬廣光譜範圍⑴s，uv)4m好 ，以及為了保留重量盥低宓产。 ，、有问度透光性 ^ ^ ,1 . , . ；F T ( r ； ；Π Ϊ " f ^ -- 熱匹配至薄膜材料矽，其通常係於至多3:。“：:卜要求 晶矽（a-S i )形式沉積於玻璃基板、-’皿以非 後於約600 t溫度藉加熱處理來再杜曰非。曰曰石夕/分係經由隨 ，結果部份結晶形多晶石夕層其特^二膨由；；非晶石夕部分 UX Π-6/Κ。依據非晶石夕/多晶石/比為而熱^脹^數〜/3〇〇谷 〜/3。◦可由 2.9><10-6/1(至4.2><1〇夕6二=1’熱月^^數 晶石夕層係藉高於7〇。°C之高溫產生B =化。、虽貝1上結 ’其同樣為薄膜光電伏打電池所t，曰：法直接沉積時 降低的熱膨脹係、數為3. 2 x 1G-6/κ所要未基板具有顯著 以及光電伏打電池技術的應用要* J二此外顯不器 鑑於NaM廣散進入半導體層通常會存「在主有鹼金屬離子。 忍受製造結果低於1_ ppm之氧θ α毋化」作用’可 需要可以大型產業規模以適辰度。… 包含體）例如於漂浮玻璃廠或藉貝不含乱泡、鈕結、 稚孜引法經濟地製造適當破
W3l2\2d-code\90-03\90100024.ptd 1243804
璃。特別，藉拉引法製造帶有低表面浪形之薄的（〈i毫米） 不^，紋的基板要求玻璃具有高度反玻化穩定性。於製造 過私I、壓基板，特別於T τ顯示器之例，其對半導體微結 ，具有不良影響，需建立適當的與溫度相關的玻璃黏度特 徵性解決··就熱處理及形狀穩定性而言，須具有夠高玻螭 轉又度，亦即Tg >700 C，於其他方面不具有過高熔化 及處理（VA)溫度，亦即va$ 1 3 5 0 °C。 LCD顯示器技術或薄膜光電伏打電池技術對玻璃基板的
要求也述於「Glass substrates for AMLCD
applications:properties and implications」作者J.C·
Lapp ^SPIE Proceedings, Vol. 3014 ^ invited paper ( 1 9 9 7 )，以及於「Photovoltaik-Strom aus der Sonne」 作者 J. Schmid，VerlagC· F· M—tiller，Heidelberg 1 994。 藉鹼土金屬矽酸鋁硼玻璃最佳能實現前述要求之侧繪。 但已知於下列公開文獻所描述之顯示器或太陽能電池基板 玻璃仍有缺點，而無法滿足全部要求。 若干參考文獻敘述含相當少量或不含Ba〇之玻璃，例如 EP 7 1 4 8 62 B1，W0 98/270 1 9，JP 1 〇-72237 A 及EP 5 1 0 ^ 544 B1。此型玻璃特別具有低熱膨脹係數即低⑽含量，以 及南網工形成含1之玻璃對結晶化極為敏感。此外，大部 份玻璃其特別揭示於EP 714 862 B1以及jp 1〇-72237 A於 1〇2 dPas黏度時具有高溫。 但製備含高含量重質鹼土金屬氧化物BaO及/或SrO之顯
1243804 五、發明說明（3) 一 示器玻璃時同樣也與玻璃之熔解性質不良造成的重大困難 有關。此外，所述之此型玻璃例如於肫3 7 3 〇 4i〇 ai， us 5，116，m，us 5，1 1 6,78 7，Ep 341 3l3 B1，EP 51〇 543 B1及JP 9-100135 A具有非期望的高密度。 即使具有相對低SrQ含量於_般組合至高副含量之玻 璃，就其熔解性質而言仍然具有不利的黏度特性，例如jp 9 -169538 A，WO 97/1192〇 及 Jp 4—16〇〇3〇 A 所述玻璃。 、如所述，具有相對高含量輕質鹼土金屬氧化物，其特別 為 MgO 之玻璃例如述於 j 9- 1 5 6 9 5 3 a，jp 8-295530 A，JP 9 632 A及DE 1 9 7 3 9 91 2 Cl，具有良好熔解能力以及 低，^ °但其無法符合製造關於化學品抗性之顯示器以及 太陽能電池基板，特別於緩衝氫氟酸、結晶穩定性以及耐 熱性之全部要求。 具有低’酸含量的玻璃表現過高熔點，或由於此種結果 於此等玻璃處理上要求的炼化及處理溫度具有過高黏 度。此點亦應用於JP 1〇 —45422 A及JP 9 -2 6 342 1 A之玻 璃。 此外’此型玻璃與低Ba〇含量組合時具有高度反玻化傾 向。 相反地’如US 4, 824, 808所述，具有高·酸含量之玻璃 才，、、、丨生以及化學品抗性不足’特別對鹽酸溶液的抗性 足。 具，相對低S i 02含量的玻璃不具有夠高的化學品抗性， 特別是其含相對大量B2〇3及/或Mg〇，以及鹼金屬含量低。
90100024.ptd 第6頁 1243804
此點應用於WO 9 7/1 191 9及EP 6 72 6 2 9 A2之玻璃。後述參 考文獻之相對富含Si〇2變化例僅含低Al2〇3含量，此點方^ 結晶化表現不利。 JP 9 - 1 2 3 33 A敘述用於硬碟的玻璃之Al2〇3或民％的 較，，B^O3單純僅為選擇性成分。具有高鹼土金屬氧化物 含量與高度熱膨脹性之玻璃，因此使其不適合用於lcd PV技術。 /
DE 196 Π 344 C1以及DE 196 〇 3 698 π藉申請人揭开 不含㈣含有SnO之破璃’其具有熱膨脹係數 X ，…為良好的化學品抗性。其適合2。二3. 7 =術：但因其須含_，,欠不理想，特別用於漂浮玻璃 敞地=里日守不理想。特別於較高Zn〇含量時（>1. 5%重量比）， :: ίΓϋ後於熱成形範圍的冷凝，而有於玻璃表5 上形成ΖηΟ塗層的風險。 DE 1 96 0 1 0 22 Α1 #、+、、阳…4 ^ 七n a 1敘述選自極為覓廣的組成範圍且須$ 盆7^2 的玻璃。根據此等實施例，含Sr0的玻璃由於 其Zr〇2含1之故，而傾向表現出玻璃缺陷。
:“ 1 3 579 A1敎述m應用之玻璃，其具有熱膨㈣ =2:°〇 <5.!X 1〇，K ’根據實施例為 M.Ox 1〇-VK。此 :f Ϊ !十心〇3含量以及相對低呵含量的玻璃不具有 同q二〇口杬性，特別對稀鹽酸不具有高度抗性。 ’ 74’ 5 9 5敛述具有熱膨脹係數介於3. 2 X 10-VK至 4·6χ 1〇_6/Κ 之玻璃。4 ^ 璃相對較重，叫心列：：轨具有高_含量的玻 1王貝不良’以及熱膨脹性無法理想匹配
1243804 五、發明說明（7) 如此對預定低密度破螭具有正 面致 比，最佳< 4%重量比 果。
SrO被刪除，如此維 低密度。但可忍受次旦： '低炫：及熱成形溫度以及 導入玻璃熔體。 里為批二人原枓雜質即低於0. 1%重量 玻璃含有至多9%重量比Ca0。 私脹係數的過度增加 t更-將¥致熱 至少2%重量比Ca〇。 及…日日傾向彡日间。玻璃較佳含有 玻璃也可含有至& / 低密度及低處理、、w产。夏比Mg〇。相對高含量有利於 :及低處H，而相對低含量則有利於玻 口口几，，特別於緩衝氫氟酸及其反玻化安定性。 ' 千 神2 2 ί Ϊ ΐ有至多2%重量比Zn〇。Zn〇類似石朋酸對黏度4士 tt於+八t響’具有結構疏鬆化功能，而對熱膨脹的5 : 比驗土金屬氧化物效果低。最高Zn〇含量較佳限於i 5;重- 量2，特佳η重量比，最佳低於1%重量比，特別當玻蹲 係猎汙面方法處理時尤為如此。含量更高將增加玻璃表面 形成非期望的ΖηΟ塗層的風險，此塗層係藉蒸發，以及隨 後於熱成形範圍冷凝形成。存在有至少〇 ·丨％重量比為較
佳’當添加Ζ η 0 ’即使小量添加也可能導致反玻化安定性 增高。 玻璃不含鹼。「不含鹼」一詞用於此處表示玻璃大致不 含驗金屬氧化物，但可含有低於1 〇 〇〇 ppm之雜質。 玻璃可含有至多2%重量比Zr02 + Ti02，此處Ti02含量及 Zr〇2含量各自至多2%重量比。Zr02可有利於提高玻璃之耐
1243804
五、發明說明（8) 熱性。但由於溶解度低， 物即所謂的錯巢於^璁砧πΓ 2確實提高含Zr〇2之熔解殘餘 自於含I土 t^j勺風險。因此，較佳刪除Zr02。來 τ 102之優點可降低日光d ^低z r %含1不成問題。 成於可見光波异F向，即減少因UV —VIS輻射造 與Fe3+離+ y 專輪。當含量高於2%重量比時，由於 料雜質二开;成二合，吏顏色脫落，該F 6系由使用的原 十嘁貝造成於玻璃中以低濃度存在。 量比A离：有：ί用里之習知精製劑：如此含有至多1. 5%重 2〇Γ、δη〇2，Μ，π(·^π2Μ)， 制丨0 iCaF2形式）及/或叫2'(例如呈BaS04形式）。但精 ^劑和不超過丨.5%重量比。若刪除精製劑aw及叫〇3 ’則 在種玻璃不僅可使用多種拉引法處理，同時也可藉浮面方 法處理。 例如有關容易分批製備，刪除Zr〇2以及Sn〇2為有利的， 而仍然獲得具有前述性質側繪的玻璃，特別具有高度耐熱 性及化學品抗性以及低度結晶化傾向的玻璃。 實施例： 玻璃係於韵/銀掛禍於1 6 2 0 °C由習知原料製造，習知原 料除了無玎避免的雜質以外大致不含驗。熔體於此溫度精 製一個半小時’然後移轉至感應加熱始掛禍以及於1 5 5 〇。〇 攪拌30分鐘均化。 下表顯示根據本發明之1 5種玻璃實施例附帶其玻璃組成 (以％重量比表示，以氧化物為基準）及其最主要的性質。 未列出含量為〇·3%重量比之精製劑S n 〇2 (貫施例1 ~ 8，11，
90100024.Ptd 第11頁 1243804 五、發明說明（9) 1 2，1 4，1 5 )或A s? 03 (貫施例9，1 〇，1 3 )。列舉下列性質·· •熱膨脹係數^20/30。 [1 〇-6/K] •密度Ρ [克/立方厘米] •根據D I Ν 5 2 3 2 4藉膨脹計測量之玻璃轉變溫度[。〇] •於黏度104 dPas之溫度（稱作τ 4 [t：]) •於黏度102 dPas之溫度（稱作τ 2 [ °C ])，係由瓦格-富 車-塔曼（Vogel - Fulcher-Tammann)方程式計算 • 「HC 1」耐酸性，係於9 5 °C使用5 %強度鹽酸處理2 4小時
後測量各邊拋光的50毫米X 50毫米X 2毫米玻璃板之重量 損失’（材料去除值）表示[毫克/平方厘米] 對經緩衝的氫氟酸之Γ B H F」抗性，係於2 3 °C使用1 0 %強 · HF溶液處理20分鐘後測量各邊拋光的50毫米X 50 笔米X 2毫米玻璃板之重量損失（材料去除值）表示[毫克/ 平方厘米]。 •折射指數nd
1243804 五、發明說明（ίο) 表 實施例：組成（以％重量比表示，以氧化物為基準）以及根 據本發明之玻璃之主要性質。 1 2 3 4 5 6 Si〇2 60.0 60.0 59.9 58.9 59.9 61.0 B 2〇3 7.5 7.5 7.5 8.5 7.5 9.5 A 1 2 〇 3 21.5 21.5 21.5 21.5 21.5 18.4 Mg〇 2.9 2.9 2.0 2.0 2.9 2.2 Ca〇 3.8 2.8 3.8 3.8 4.8 4.1 Ba〇 4.0 5.0 5.0 5.0 3.1 4.5 Zn〇 麵 練 a 2 0 / 3 0 0 [10'6/K] 3.07 3.00 3.01 3.08 3.13 3.11 P [克/立方厘米] 2.48 2.48 2.48 2.48 2.47 2.45 T“t：] 747 748 752 741 743 729 T4 PC ] 1312 1318 1315 1308 1292 1313 T2 PC ] 1672 1678 1691 1668 1662 1700 lid 1.520 1.518 1.5 19 1.519 1.521 1.5 15 HC1 [毫克/平方厘米] 1.05 n . m. 0.58 n. m. 1 · 1 η. m. bhf [毫克/平方厘米] 0.57 0.58 0.55 0.55 0.56 0.49 n. m.=未測 1__11 90100024.ptd 第13頁 1243804 五、發明說明（11) 續表： 7 8 9 10 11 12 Sl〇2 58.5 62.8 63.5 63.5 59.7 59.0 B 2〇3 7.7 8.2 10.0 10.0 10.0 9.0 A 1 2 〇 3 22.7 16.5 15.4 15.4 18.5 17.2 Mg〇 2.8 0.5 2.0 1.0 2.0 Ca〇 2.0 4.2 5.6 6.6 8.3 9.0 Ba〇 5.0 7.5 3.2 3.2 3.2 3.5 Zn〇 1.0 - - - • a 2 0 / 3 0 0 [10*6/K] 2.89 3.19 3.24 3.34 3.44 3.76 p [克/立方厘米] 2.50 2.49 2.42 2.43 2.46 2.50 Tg [°C ] 748 725 711 719 7 14 711 T4 [°C ] 1314 1325 1320 1327 1281 1257 T2 [°C ] 1674 1699 η. m η. m 1650 1615 nd 1.520 1.513 1.511 1.512 1.520 1.526 HC1 [毫克/平方厘米] n. m. 0.30 0.89 η. m. η . m . 0.72 BHF [毫克/平方厘米] 0.62 0.45 0. 43 0.40 0.44 0.49 η · m ·二未測量
90100024.ptd 第14頁 1243804 五、發明說明（12) 續表： 13 14 15 Sl〇2 61.4 59.5 63.9 B 2〇3 8.2 10.0 10.4 A 1 2 〇 3 16.0 16.7 14.6 Mg〇 2.8 0.7 2.9 Ca〇 7.9 8.5 4.8 BaO 3.4 3.8 3.1 Zn〇 - 0.5 - Oi 2 0 / 3 0 0 [10 6/K] 3.75 3.60 3.21 P [克/立方厘米] 2.48 2.48 2.41 T, [°C ] 709 702 701 T4 [°C ] 1273 1260 1311 T2 [°C ] 1629 1629 n . m η ο 1.523 1.522 η . m . HC1 [毫克/平方厘米] 0.41 0.79 η . m . BHF [毫克/平方厘米] 0.74 0.47 η. m . η · m .二未測量
90100024.ptd 第15頁 1243804
如實施例之舉例說明 性質： 根據本發明之玻璃具有下列有利 :熱膨脹係數a2G/_為2 於較佳具體實施例$ 3. 6 X 3 · 2 X 1 〇-6 / κ，如此匹配非 現0 • 8 x 10_6/κ 至3· 6 X 1〇-6/Κ 之間 1 0 6 / Κ ’於特佳具體實施例< 晶石夕以及遞增多晶矽的膨脹表 1 00 c，此乃極高的玻璃轉變溫度亦即高度耐埶 ::此點對於製造上之最低可能緊壓性為必要的，以？、對 ^玻璃作為非W層塗層的基板且隨後退火的用途相 要。 • P <2· 6 0 0克/立方厘米，一種低密度。 、•於黏度104 dPas之溫度（處理溫度Va)為至高135〇， 以及於黏度ΙΟ2 dPas之溫度為至高172〇它，其表示有關埶 成形性及熔解性具有適當黏度特徵。 … • nd g 1. 5 26，一低折射率。此種性質為玻璃具有高度 穿透的物理先決要件。 •高度化學品抗性，由對經緩衝的氫氟酸具有良好抗性 等可證，如此使其對用於製造平坦面板螢幕使用的化學口 為充分惰性。 玻璃具有高度抗熱衝擊性質 可藉多種拉引法例如微片下拉 法製造成平面玻璃；以及於較 As2 03及Sb2 03，則亦可藉浮面方 及良好反玻化安定性。玻璃 引法、上拉引法或溢流融合 佳具體實施例中若破璃不含 法製造。 ，因 由於玻璃帶有此等性質
此高度適合用於顯示器技術
\\312\2d-code\90-03\90100024.ptd 第16頁 1243804 五、發明說明（14) ，特別TFT顯示器以及薄膜光電伏打電池，特別以非晶矽 及// c - S i為基礎的玻璃作為基板玻璃。
90100024.ptd 第17頁 1243804
90100024.ptd 第18頁
=日本未審查之公開案jp 10-25132 A，JP 10-114538 / ^ ^0"130034 A * JP 10-59741 A « JP 10-324526 A > 1f1-iq〇/i:3 5 0 A ,JP H、49520 A ’JP 1 0-23 1 1 39 AAJP 7 A，敘述極為寬廣的顯示器玻璃組成範圍，其 多種選擇性成分改變，以及其於各例中係混合一或 精製劑Η旦此等參考文獻並未指示具有前述完整 要求玻璃如何以特定方式來獲得。 目的係提供一種玻璃其可符合液晶顯示器以及 板關於物理及化學性=力’ Γ ”c_Si為主的玻璃基 h 子&貝方面加啫的複雜要求側繪，該種玻 ，須具有高度耐熱十生、有#的處理範圍以&足夠的 安定性。 —^目的可由如中請專利範圍主項所定義的相對狹窄組成 軏圍之矽酸鋁硼玻璃達成。 該種玻璃含有58%<Si〇2 $65%重量比。含量更低時化學 品抗性受損，而含量更高時熱膨脹過低，玻璃 向升高。 w 玻璃含有相對高含量Al2〇3，亦即重量 =，較佳18%-25%重量比。此種ΜΑ含量對玻璃之結晶安 定性有利，且對耐熱性有正面效果，而無需過度升高處理 溫度。較佳為大於18%重量比含量，特佳至少2〇· 5%重量 比，最佳至少21. 5%重量比A 12 03。 B2〇3 含量係6%<B2〇3 $10.5% 重量比，較佳8%<B2〇3 $1〇.5%
1243804 I Q0 rj 顏 90100024_年月日__修正 ί 年替 五、發明說明（6^ _ ^ — 一: 重量比。403含量限於規定的最大含量，俾達成高玻璃轉 變溫度Tg。含量更高也損害其對鹽酸溶液之化學品抗性。 規定的民〇3最低含量係用來確保玻璃具有良好的 = 及良好結晶安定性。 胃 網工形成成分A丨2 〇3及B2 〇3較佳係以交互關聯的最低含量 存在，俾確保網工形成S i 〇2、a 12 〇3及Bg 〇3具有較佳含量。 =如以民〇3含量6%<Β2〇3 $10·5%重量比為例，人12〇3之最低含 量較佳> 18%重量比；以及以Al2〇3含量14%<Al2〇3$25%重量 比為例，Βζ〇3之最低含量較佳> 8%重量比。較佳特別為了 達成至多3 · 6 X 1 0_6 / Κ的極低熱膨脹係數，§丨〇2、β2 以及 Α込〇3之和係大於8 4 %重量比。 主要玻璃成分為網工改性之鹼土金屬氧化物。特別經由 改變其含量，可於含量和為總重之8-18%以内達成熱膨脹 係數a2Q/3G。介於2· 8 X 10-6/K至3· 8 X 10-6/K間。鹼土金屬氧 化物總和之最大值較佳為丨5%重量比，特佳為丨2%重量比。 後述上限對於獲得具有極低（^/則〈3·2χ 1〇_6/κ)熱膨脹 ϊϊϊΐ璃特別有利。經常性存在#Ba0，而^0及^〇為 k擇性成分。較佳至少存在有兩種鹼土金屬，特佳存 全部三種所述鹼土金屬。 β 旦^ 3 1為3%<Ba0㈣重4比。發現如此相對較高㈣含 f Ζ Ϊ θ於多種平板玻璃製造過程例如浮面法以及多種 “ t得充分結晶安定性’特別以具有極高含量網工形 ί Ϊ Ι Γι而Ϊ原則上其相當高的結晶傾向之低度膨脹玻璃 &形為例。最大Ba0含量較佳限於5%重量比
c:\總檔

Claims (1)

  1. 94: 9‘—十 替換本 —“ :Ί 1 · 一種不含驗金屬之矽酸鋁硼玻璃，其熱膨脹係數 α 20/3GQ "於2 · 8 X 1 〇-6 / Κ與3 · 8 X 1 Ο-6 / κ之間，具有以下組成 物（以重量百分比表示，以氧化物為基準）： 58<Si〇2 $65 6<B2〇3 ^10.5 14<Al2〇3 ^25 0 $Mg〇<3 0 ^CaO 3<Ba〇 ^ 8 且8 SMg〇 + CaO + BaO $18 〇 ^Zn〇<2 。 > 2 ·如申清專利範圍第i項之矽酸鋁硼玻璃，其中，包含 高於8重量百分比之b2〇3。 3三如申巧專利範圍第^或2項之矽酸鋁硼玻璃，其中，包 含高於18重量百分比之a 。 4 ·如申凊專利範圍第3項之矽酸鋁硼玻璃，其中，包含 至少20· 5重量百分比之Al2〇3。 5 ·如申#專利範圍第丨項之矽酸鋁硼玻璃，其中，包 至多4重量百分比之Ba〇。 6. 如申請專利範圍第丨項之矽酸鋁硼玻璃，盆 至少0. 1重量百分比之Zn〇。 ，、 已5 7. 如申請專利範圍第丨項之矽酸鋁硼玻璃，其 包含（以重量百分比表示，以氧化物為基準）： 名、 0 ^ Z r 〇2 ^2
    1243804 _案號 90100024_年月日__ 六、申請專利範圍 0 ^ T 1 02 ^ 2 且0 $Zr02 + Ti02 $2 0 ^ As2 03 ^ 1. 5 0 ^Sb2 03 ^1.5 0 ^Sn02 ^1.5 0 $Ce02 $1. 5 0 ^Cl- ^1.5 0 ^ F- ^ 1. 5 0 ^S042' ^1.5 且 A s2 03 + S b2 03 + S n 02 + Ce02 + Cl- + F_ + S042H 5 。 8. 如申請專利範圍第1項之矽酸鋁硼玻璃，其中，玻璃 除了無法避免雜質以外不含As2 03及Sb2 03，以及該玻璃可於 漂浮玻璃廠製造。 9. 如申請專利範圍第1項之矽酸鋁硼玻璃，其具有熱膨 脹係數a 2Q/3QQ由2 · 8 X 1 0_6 / K至3. 6 X 1 0-6 / K，玻璃轉變溫度 Tg >700 °C，及密度ρ< 2.600克/立方厘米。 1 0.如申請專利範圍第9項之矽酸鋁硼玻璃，其具有熱膨 脹係數 a2Q/3。。由 2. 8 X 1〇-6/Κ 至3. 2 X 10_6/Κ。 11.如申請專利範圍第1項之矽酸鋁硼玻璃，其中，該玻 璃係用於顯示器技術作為基板玻璃。 1 2.如申請專利範圍第1項之矽酸鋁硼玻璃，其中，該玻 璃係用於薄膜光電伏打電池作為基板玻璃。
    (：:\總檔\90\90100024\90100024(替換）-4.ptc 第 20 頁
TW090100024A 2000-01-12 2001-01-02 Alkali-free aluminoborosilicate glass, and uses thereof TWI243804B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10000836A DE10000836B4 (de) 2000-01-12 2000-01-12 Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWI243804B true TWI243804B (en) 2005-11-21

Family

ID=7627183

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW090100024A TWI243804B (en) 2000-01-12 2001-01-02 Alkali-free aluminoborosilicate glass, and uses thereof

Country Status (10)

Country Link
US (1) US6707526B2 (zh)
EP (1) EP1118595B1 (zh)
JP (3) JP2001220174A (zh)
KR (1) KR100496067B1 (zh)
CN (1) CN1190377C (zh)
AT (1) ATE271529T1 (zh)
CA (1) CA2330763C (zh)
DE (2) DE10000836B4 (zh)
HK (1) HK1038730B (zh)
TW (1) TWI243804B (zh)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002029776A (ja) * 2000-07-14 2002-01-29 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐クラック性に優れた無アルカリガラス
JP2002308643A (ja) * 2001-02-01 2002-10-23 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びディスプレイ用ガラス基板
DE10204150A1 (de) * 2002-02-01 2003-08-14 Schott Glas Erdalkalialuminosilicatglas und Verwendung
DE10307422B4 (de) * 2003-02-21 2008-08-07 Schott Ag Verwendung eines Glassubstrats zur Herstellung eines Datenspeichers
FR2867776B1 (fr) * 2004-03-17 2006-06-23 Saint Gobain Vetrotex Fils de verre aptes a renforcer des matieres organiques et/ou inorganiques
JP4737709B2 (ja) 2004-03-22 2011-08-03 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ基板用ガラスの製造方法
CN104250066A (zh) 2005-08-15 2014-12-31 安瀚视特股份有限公司 玻璃组合物以及玻璃组合物的制造方法
DE102006016256B4 (de) 2006-03-31 2013-12-12 Schott Ag Aluminoborosilikatglas und dessen Verwendung
DE102006016257B4 (de) * 2006-03-31 2014-04-30 Schott Ag Aluminoborosilikatglas und dessen Verwendung
JP5808069B2 (ja) * 2007-02-16 2015-11-10 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス基板
JP5435394B2 (ja) * 2007-06-08 2014-03-05 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2008013434A (ja) * 2007-09-03 2008-01-24 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐クラック性に優れた無アルカリガラス
JP4862859B2 (ja) * 2008-05-12 2012-01-25 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
US8975199B2 (en) 2011-08-12 2015-03-10 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US8445394B2 (en) * 2008-10-06 2013-05-21 Corning Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
US8647995B2 (en) 2009-07-24 2014-02-11 Corsam Technologies Llc Fusion formable silica and sodium containing glasses
JP5704395B2 (ja) * 2010-03-29 2015-04-22 日本電気硝子株式会社 ガラスロール梱包体
CN102515524A (zh) * 2011-12-19 2012-06-27 彩虹（张家港）平板显示有限公司 一种硼铝硅酸盐玻璃基板及其制备方法
CN102584007B (zh) * 2011-12-20 2015-12-16 东旭集团有限公司 一种环保型tft-lcd基板玻璃的配方
TWI614227B (zh) 2012-02-29 2018-02-11 康寧公司 低ｃｔｅ之無鹼硼鋁矽酸鹽玻璃組成物及包含其之玻璃物件
JP5508547B1 (ja) * 2012-05-08 2014-06-04 新電元工業株式会社 半導体接合保護用ガラス組成物、半導体装置の製造方法及び半導体装置
US11352287B2 (en) 2012-11-28 2022-06-07 Vitro Flat Glass Llc High strain point glass
EP2991941A2 (en) 2013-04-29 2016-03-09 Corning Incorporated Photovoltaic module package
FR3008695B1 (fr) * 2013-07-16 2021-01-29 Corning Inc Verre aluminosilicate dont la composition est exempte de metaux alcalins, convenant comme substrat de plaques de cuisson pour chauffage a induction
WO2015023561A2 (en) 2013-08-15 2015-02-19 Corning Incorporated Intermediate to high cte glasses and glass articles comprising the same
KR20220003632A (ko) 2013-08-15 2022-01-10 코닝 인코포레이티드 알칼리-도핑 및 알칼리가-없는 보로알루미노실리케이트 유리
DE102013110803A1 (de) 2013-09-30 2015-04-02 Schott Ag Verfahren zur Weiterverarbeitung von Dünnglas und verfahrensgemäß hergestelltes Dünnglas
JP6578774B2 (ja) * 2014-07-18 2019-09-25 Ａｇｃ株式会社 無アルカリガラス
DE102014110855B4 (de) 2014-07-31 2017-08-03 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Bruchfestigkeit der Ränder dünner Bahnen sprödbrüchigen Materials
DE102014110856B4 (de) 2014-07-31 2016-04-14 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Kantenfestigkeit von scheibenförmigen Elementen aus sprödbrüchigem Material
DE102015113041A1 (de) 2014-12-01 2016-06-02 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Verarbeitung von dünnen Gläsern
DE102015108639A1 (de) 2014-12-01 2016-06-02 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Verarbeitung von dünnen Gläsern
JP2018505515A (ja) * 2014-12-01 2018-02-22 ショット アクチエンゲゼルシャフトＳｃｈｏｔｔ ＡＧ シート状の独立した部材を有する蓄電システム、独立したシート状の部材、その製造方法、およびその使用
JPWO2016088778A1 (ja) * 2014-12-02 2017-09-14 旭硝子株式会社 ガラス板およびそれを用いた加熱器
CN107108333B (zh) * 2015-01-20 2021-09-21 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 具有高的紫外线透射率和耐晒性的低cte玻璃
DE102015104801A1 (de) 2015-03-27 2016-09-29 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen Trennen von Glas
DE102015104802A1 (de) 2015-03-27 2016-09-29 Schott Ag Verfahren zum Trennen von Glas mittels eines Lasers, sowie verfahrensgemäß hergestelltes Glaserzeugnis
EP3353113A1 (en) 2015-09-25 2018-08-01 Clean World Technologies Ltd. Producing calcium phosphate compositions
WO2017132837A1 (en) * 2016-02-02 2017-08-10 Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. Low cte boro-aluminosilicate glass for glass carrier wafers
DE102016107535A1 (de) 2016-04-22 2017-10-26 Schott Ag Flachglasprodukt mit erhöhter Kantenfestigkeit und Verfahren zu dessen Herstellung
JP6955522B2 (ja) * 2018-01-17 2021-10-27 日本電気硝子株式会社 ガラス及びガラス基板
JP6770984B2 (ja) * 2018-01-17 2020-10-21 日本電気硝子株式会社 ガラス及びガラス基板
JP7269957B2 (ja) * 2018-04-25 2023-05-09 成都光明光▲電▼股▲分▼有限公司 ガラス組成物
JP6709519B2 (ja) * 2019-01-31 2020-06-17 日本電気硝子株式会社 ガラス及びガラス基板
WO2022057518A1 (zh) * 2020-09-15 2022-03-24 深圳前海发维新材料科技有限公司 一种高软化点、低热膨胀系数、高耐磨、低热导率的玻璃复合材料在发动机气轮机中的应用

Family Cites Families (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6374935A (ja) * 1986-09-17 1988-04-05 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐薬品性に優れたガラス基板
JPS6425132A (en) * 1987-07-22 1989-01-27 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
US4766158A (en) * 1987-08-03 1988-08-23 Olin Corporation Urethane-containing oxazolidone-modified isocyanurate foams and a composition and method for their production
JPS6459741A (en) * 1987-08-31 1989-03-07 Toshiba Corp X-ray image tube device
JPS6472237A (en) * 1987-09-14 1989-03-17 Hitachi Ltd Address calculation system
DE3882039T2 (de) * 1987-10-01 1994-02-03 Asahi Glass Co Ltd Alkalifreies glas.
US4824808A (en) * 1987-11-09 1989-04-25 Corning Glass Works Substrate glass for liquid crystal displays
JPH01143350A (ja) * 1987-11-30 1989-06-05 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPH01149520A (ja) * 1987-12-04 1989-06-12 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JP2644622B2 (ja) * 1990-10-24 1997-08-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
JP2871163B2 (ja) * 1991-04-26 1999-03-17 日本板硝子株式会社 無アルカリガラス
JP3144823B2 (ja) * 1991-04-26 2001-03-12 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
JP3083586B2 (ja) * 1991-04-26 2000-09-04 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
US5116787A (en) * 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated High alumina, alkaline earth borosilicate glasses for flat panel displays
US5116789A (en) * 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated Strontium aluminosilicate glasses for flat panel displays
US5374595A (en) * 1993-01-22 1994-12-20 Corning Incorporated High liquidus viscosity glasses for flat panel displays
US6292242B1 (en) * 1993-12-15 2001-09-18 Ois Optical Imaging Systems, Inc. Normally white twisted nematic LCD with positive uniaxial and negative biaxial retarders
US5508237A (en) * 1994-03-14 1996-04-16 Corning Incorporated Flat panel display
JPH0834634A (ja) * 1994-07-26 1996-02-06 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐薬品性に優れたガラス基板
JP4250208B2 (ja) * 1994-11-30 2009-04-08 旭硝子株式会社 ディスプレイ基板用無アルカリガラス及び液晶ディスプレイパネル
DE69508706T2 (de) * 1994-11-30 1999-12-02 Asahi Glass Co Ltd Alkalifreies Glas und Flachbildschirm
JP3804101B2 (ja) * 1995-04-27 2006-08-02 旭硝子株式会社 磁気ディスク用ガラス基板
JP3666608B2 (ja) * 1995-04-27 2005-06-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
JP3804111B2 (ja) * 1995-07-28 2006-08-02 旭硝子株式会社 無アルカリガラス及びディスプレイ用基板
JP3666610B2 (ja) * 1995-08-02 2005-06-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
WO1997011920A1 (fr) * 1995-09-28 1997-04-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Substrat de verre exempt d'alcalis
US5811361A (en) * 1995-09-28 1998-09-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass substrate
JP3858293B2 (ja) * 1995-12-11 2006-12-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
DE19601922C2 (de) * 1996-01-13 2001-05-17 Schott Glas Zinn- und zirkonoxidhaltige, alkalifreie Erdalkali-Alumo-Borosilicatgläser und deren Verwendung
DE19603698C1 (de) * 1996-02-02 1997-08-28 Schott Glaswerke Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JP3800657B2 (ja) * 1996-03-28 2006-07-26 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル
DE19617344C1 (de) * 1996-04-30 1997-08-07 Schott Glaswerke Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und seine Verwendung
JP3988209B2 (ja) 1996-06-03 2007-10-10 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル
JP3897194B2 (ja) * 1997-07-24 2007-03-22 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3861271B2 (ja) * 1996-08-21 2006-12-20 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3861272B2 (ja) * 1996-12-18 2006-12-20 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3800443B2 (ja) * 1996-10-22 2006-07-26 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用無アルカリガラス基板及びその製造方法
US6137048A (en) * 1996-11-07 2000-10-24 Midwest Research Institute Process for fabricating polycrystalline semiconductor thin-film solar cells, and cells produced thereby
JPH10139467A (ja) * 1996-11-12 1998-05-26 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル
US6060168A (en) * 1996-12-17 2000-05-09 Corning Incorporated Glasses for display panels and photovoltaic devices
JP4739468B2 (ja) * 1997-05-20 2011-08-03 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびその清澄方法
DE19739912C1 (de) * 1997-09-11 1998-12-10 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JPH11292563A (ja) * 1998-04-03 1999-10-26 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板
DE69902839T2 (de) * 1998-04-28 2003-05-28 Asahi Glass Co Ltd Flachglas und Substratglas für die Elektronik
US6468933B1 (en) * 1998-09-22 2002-10-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass and method of producing the same
JP4306044B2 (ja) * 1998-09-22 2009-07-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
DE19934072C2 (de) * 1999-07-23 2001-06-13 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung
DE19939789A1 (de) * 1999-08-21 2001-02-22 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und deren Verwendungen

Also Published As

Publication number Publication date
EP1118595B1 (de) 2004-07-21
US6707526B2 (en) 2004-03-16
CN1303826A (zh) 2001-07-18
CA2330763C (en) 2013-03-19
US20020032117A1 (en) 2002-03-14
KR20010096554A (ko) 2001-11-07
HK1038730A1 (en) 2002-03-28
DE10000836A1 (de) 2001-07-26
JP2011132125A (ja) 2011-07-07
ATE271529T1 (de) 2004-08-15
CA2330763A1 (en) 2001-07-12
HK1038730B (zh) 2005-10-14
CN1190377C (zh) 2005-02-23
EP1118595A3 (de) 2001-09-12
JP5150126B2 (ja) 2013-02-20
JP2001220174A (ja) 2001-08-14
KR100496067B1 (ko) 2005-06-17
DE50007124D1 (de) 2004-08-26
JP2007197321A (ja) 2007-08-09
EP1118595A2 (de) 2001-07-25
DE10000836B4 (de) 2005-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI243804B (en) Alkali-free aluminoborosilicate glass, and uses thereof
TW552245B (en) Alkali-free aluminoborosilicate glasses
TWI224583B (en) Alkali-free aluminoborosilicate glass, and uses thereof
TW524785B (en) Alkali-free aluminoborosilicate glass
TWI222962B (en) Aluminoborosilicate glass free from alkali metal oxides
JP4944354B2 (ja) アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用方法
TW552244B (en) Alkali-free aluminoborosilicate glass
JP2990379B2 (ja) 無アルカリガラス基板
TWI360544B (en) Tempered glass substrate and method for fabricatin
TW499403B (en) Alkali-free aluminoborosilicate glass
TW200922899A (en) Reinforced glass, reinforced glass substrate and fabricating method thereof
US6858552B2 (en) Alkali-free aluminoborosilicate glasses and uses thereof
JP3396835B2 (ja) アルカリ金属を含有しないアルミノ硼珪酸ガラスとその用途
US20130288001A1 (en) Tempered glass, and tempered glass plate
TW200800827A (en) Alkali free glass and alkali free glass substrate
TW201000422A (en) Glass plate for display panel, method for producing the same, and method for producing tft panel
TW200424144A (en) Glasses for flat panel displays
TW200530142A (en) No alkali glass, method for production thereof and liquid crystalline display panel
WO2019001093A1 (zh) 铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法和应用
US20240043314A1 (en) Tempered glass plate
CN106458701B (zh) 无碱玻璃
TWI230145B (en) Substrate glass for plate panel display

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Expiration of patent term of an invention patent