JP3144823B2 - 無アルカリガラス - Google Patents
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Description
ォトマスク用基板ガラスとして好適な、アルカリ金属酸
化物を実質上含有せずフロート成形の可能な、無アルカ
リガラスに関するものである。
表面に金属薄膜等を形成させるものについては、以下に
示す高度な特性が要求されている。
されるため、600℃以上の高い歪点を有しているこ
と。 (2)アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ
金属イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を劣化させてし
まうため、実質的にアルカリイオンを含まないこと。 (3)内部及び表面に欠点(泡、脈理、インクルージョ
ン、ピット、キズなど)をもたないこと。 (4)洗浄工程などに耐えるように優れた化学耐久性を
有すること。
T(Thin Film Transistor)と呼ばれる、非晶質シリコン
や多結晶シリコンを用いた薄膜トランジスタを形成させ
た液晶ディスプレイが増えてきている。これらに用いら
れるディスプレイ基板は、半導体形成工程において、S
i、SiO2 やSi3 N4 などのエッチングのためフッ
酸を含有したエッチャントにさらされることが多い。代
表的なエッチャントとしては、フッ酸に緩衝剤としてフ
ッ化アンモニウムを加えたバッファードフッ酸と、硝酸
とフッ酸の混液であるフッ硝酸が挙げられる。
ドフッ酸にさらされると表面に反応生成物が生成し、こ
れが容易に除去できないため使用に耐えなくなるものが
多かった。
のアルカリ土類イオンと溶液中のフッ素イオン(F
- )、硝酸イオン(NO3 -)が反応し、表面に反応生成
物が付着する。ガラス中のアルカリ土類酸化物の内、B
aOとMgOを多く含むガラスは、フッ硝酸に浸漬され
ると表面に微細な結晶性物質を生成するのに対し、Ca
OやSrOを多く含むガラスの場合はゲル状の非晶質物
質を表面に生成する。このゲル状の反応生成物がマスク
剤として働くため、エッチングむらを生じ、ガラス表面
に数μmの凹凸が形成される。そのため、高平坦性を要
求されるディスプレイ用ガラスとしては使用できないと
いう課題があった。
やアルカリ土類酸化物としてBaOだけを含むコーニン
グ社の#7059ガラスなどが挙げられるが、石英ガラ
スに関しては、非常に高粘性で熔解が困難であり、製造
コストが高い。#7059ガラスに関しては、B2 O3
含有量が多く、熔解時にB2 O3 が揮散するため熔解が
困難であり、歪点が低いため半導体形成工程においてガ
ラスが収縮するという課題があった。
Oを実質的に含有しないものが示されている。このガラ
スはバッファードフッ酸に対しては耐久性を示すが、M
gOを含有しないため、フッ硝酸に浸漬した場合表面に
凹凸が形成されるという課題があった。
Oを8〜15重量%含有する無アルカリガラスが示され
ている。このガラスはCaOを過剰に含有するため、耐
フッ硝酸性が充分ではないという課題があった。
欠点を解決し、バッファードフッ酸により白濁をおこさ
ず、フッ硝酸により表面に凹凸を形成せず、他の化学耐
久性もすぐれ、熔解・成形が容易で、高い歪点を有し、
フロート成形が可能で、低膨脹な無アルカリガラスを提
供することにある。
実質的に、SiO2 :54〜58%、Al2 O3 :10
〜14%、B2 O3 :4〜10%、MgO:1.5〜5
%、CaO:0〜7%、SrO:0〜10%、BaO:
10〜20%、ZnO:0〜3%からなり、アルカリ金
属酸化物を実質的に含有せず、620℃以上の歪点を有
し、フロート成形可能な無アルカリガラスを提供するも
のである。
た理由について述べる。SiO2 は54重量%(以下、
単に%と記載)未満では、ガラスの化学耐久性が悪化す
ると共に、熱膨脹係数が大きくなる。他方、58%をこ
えると熔解性が低下し、失透温度が上昇する。
膨脹係数を下げ、歪点を上げる働きがあるが10%未満
ではこの効果があらわれず、14%をこえるとガラスの
熔解性が悪くなる。
発生を防止し、低膨脹性、熔解性に関して有効な成分で
あるが4%未満ではその効果はあらわれず、10%をこ
えると歪点が低くなり耐フッ硝酸性が悪化する。B2 O
3 は、上記範囲中5.5〜8.5%の範囲がより好まし
い。
歪点が低下しないという特徴を有するので、少なくとも
1.5%含有させる。5%をこえると、バッファードフ
ッ酸による白濁やガラスの分相が生じやすくなる。Mg
Oは、上記範囲中2〜4.5%の範囲がより好ましい。
ができる。7%をこえると、ガラスの耐フッ硝酸性が低
下する。CaOは2〜5%の範囲がより好ましい。
抑制し、バッファードフッ酸による白濁に対し比較的有
用な成分である。10%をこえると熱膨脹係数が増大
し、耐フッ硝酸性が低下する。SrOは2〜8%の範囲
がより好ましい。
向上させ、失透温度を低下させる効果がある。10%未
満ではその効果は少なく、20%をこえると熱膨脹係数
が増大し、耐水性等の化学耐久性が劣化する。BaOは
12〜18%の範囲がより好ましい。
係数を低下させる効果がある。3%をこえるとフッ酸に
よる白濁が生じやすくなり、製造時においてもフロート
バス中で還元され蒸発し表層部に異質層を形成し、フロ
ート成形が難しくなる。ZnOは0〜2%の範囲がより
好ましい。
スの熔解性、清澄性、成形性を改善するため、ZrO
2 、P2 O5 、TiO2 、SO3 、As2 O3 、Sb2
O3 、F、Clを総量で5%以下添加することができ
る。
で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標成分
になるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、
1500〜1600℃に加熱して熔融する。この熔融ガ
ラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切
断する。
し、白金坩堝を用いて、1500〜1600℃の温度で
4時間加熱し熔解した。熔解にあたっては、白金スター
ラーを挿入し2時間撹拌しガラスの均質化を行った。次
いで熔融ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
し、表2に熱膨脹係数、logη=2.5、4.0(η
はポイズで示した粘度)となる温度、失透温度、歪点、
耐水性、耐酸性、耐バッファードフッ酸性及び耐フッ硝
酸性を示した。
時間浸漬した後、重量減を測定し、それをガラスの単位
表面積あたりに換算して示した。耐酸性は、95℃の1
/100規定のHNO3 中に20時間浸漬した後、重量
減を測定し、それをガラスの単位表面積あたりに換算し
て示した。
Fの混液(40重量%NH4 F水溶液と51重量%HF
水溶液とを重量で9:1に混合した液)中に25℃で2
0分浸漬した後、目視観察し外観の良好なものを○印、
不良なものを×印として示した。耐フッ硝酸性は、HF
とHNO3 の混液(51重量%HF水溶液と61重量%
HNO3 水溶液とを体積で1:2に混合した液)中に2
5℃で5分浸漬した後、表面粗さを測定し、表面性状の
良好なものを○印、不良なものを×印として示した。
れのガラスも、熱膨脹係数は40×10 -7 /℃〜50×
10-7/℃で低い値を示し、熔解の目安であるlogη
=2.5となる温度も比較的低く熔解が容易であること
がわかる。また成形性も目安であるlogη=4.0と
なる温度と失透温度の関係も良好で、成形時に失透が生
成するなどのトラブルがないと考えられる。歪点も62
0℃以上と高い値を示しており、高温での熱処理に充分
耐えられるものであることがわかる。
ぐれ、バッファードフッ酸により白濁を生じにくく、フ
ッ硝酸により表面に凹凸が形成されることはない。一
方、No.3、7、8には比較例を示した。No.7
は、logη=2.5となる温度が比較的低く熔解性は
よいと思われるが、耐フッ硝酸性は劣っている。また、
No.8は、耐バッファードフッ酸性、耐フッ硝酸性は
よいが、logη=2.5、4.0となる温度が高過
ぎ、熔解・成形が困難なことが予想される。
る成形が可能である。また、バッファードフッ酸による
白濁が生じにくく、耐フッ硝酸性に優れ、耐熱性が高
く、かつ低い熱膨脹係数を有しているのでディスプレイ
用基板、フォトマスク基板、TFTタイプのディスプレ
イ基板等かかる特性を要求する用途に好適である。
Claims (2)
- 【請求項1】重量%表示で実質的に、SiO2 :54〜
58%、Al2 O3 :10〜14%、B2 O3 :4〜1
0%、MgO:1.5〜5%、CaO:0〜7%、Sr
O:0〜10%、BaO:10〜20%、ZnO:0〜
3%からなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せ
ず、620℃以上の歪点を有し、フロート成形可能な無
アルカリガラス。 - 【請求項2】重量%表示で実質的に、SiO2 :54〜
58%、Al2 O3 :10〜14%、B2 O3 :5.5
〜8.5%、MgO:2〜4.5%、CaO:2〜5
%、SrO:2〜8%、BaO:12〜18%、Zn
O:0〜2%からなる請求項1に記載の無アルカリガラ
ス。
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