JPH10139467A - 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル - Google Patents
無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネルInfo
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- JPH10139467A JPH10139467A JP30054596A JP30054596A JPH10139467A JP H10139467 A JPH10139467 A JP H10139467A JP 30054596 A JP30054596 A JP 30054596A JP 30054596 A JP30054596 A JP 30054596A JP H10139467 A JPH10139467 A JP H10139467A
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/078—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing an oxide of a divalent metal, e.g. an oxide of zinc
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】バッファードフッ酸や塩酸への耐久性に優れ、
フロート法による成形が可能な無アルカリガラスを得
る。 【解決手段】モル表示で実質的に、ＳｉＯ2 ：５０〜７
５％、Ａｌ2 Ｏ3 ：０〜２５％、Ｂ2 Ｏ3 ：０〜２０
％、ＭｇＯ：０〜２０％、ＣａＯ：０〜２０％、Ｓｒ
Ｏ：０〜２０％、ＢａＯ：０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ
＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、ＳｎＯ2 ＋ＺｒＯ2 ＋
ＴｉＯ2 ：０．１〜２０％からなる。
フロート法による成形が可能な無アルカリガラスを得
る。 【解決手段】モル表示で実質的に、ＳｉＯ2 ：５０〜７
５％、Ａｌ2 Ｏ3 ：０〜２５％、Ｂ2 Ｏ3 ：０〜２０
％、ＭｇＯ：０〜２０％、ＣａＯ：０〜２０％、Ｓｒ
Ｏ：０〜２０％、ＢａＯ：０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ
＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、ＳｎＯ2 ＋ＺｒＯ2 ＋
ＴｉＯ2 ：０．１〜２０％からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種ディスプレイ
やフォトマスク用基板ガラスとして好適な、アルカリ金
属酸化物を実質上含有せずフロート成形の可能な、無ア
ルカリガラスに関するものである。
やフォトマスク用基板ガラスとして好適な、アルカリ金
属酸化物を実質上含有せずフロート成形の可能な、無ア
ルカリガラスに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、各種ディスプレイ用基板ガラス、
特に表面に金属または酸化物薄膜等を形成させるもので
は、以下に示す特性が要求されてきた。
特に表面に金属または酸化物薄膜等を形成させるもので
は、以下に示す特性が要求されてきた。
【０００３】（１）アルカリ金属酸化物を含有している
と、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を
劣化させてしまうため、実質的にアルカリ金属イオンを
含まないこと。
と、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を
劣化させてしまうため、実質的にアルカリ金属イオンを
含まないこと。
【０００４】（２）薄膜形成工程で高温にさらされるた
め、ガラスの変形及びガラスの構造安定化に伴う収縮
（熱収縮）を最小限に抑えるため、高い歪点を有してい
ること。
め、ガラスの変形及びガラスの構造安定化に伴う収縮
（熱収縮）を最小限に抑えるため、高い歪点を有してい
ること。
【０００５】（３）半導体形成に用いられる各種薬品に
対して充分な化学耐久性を有すること。特にＳｉＯx や
ＳｉＮx のエッチングのためのバッファードフッ酸（フ
ッ酸＋フッ化アンモニウム；ＢＨＦ）、及びＩＴＯのエ
ッチングに用いられる塩酸を含有する薬液、金属電極の
エッチングに用いられる各種の酸（硝酸、硫酸等）、レ
ジスト剥離液のアルカリに対して耐久性のあること。
対して充分な化学耐久性を有すること。特にＳｉＯx や
ＳｉＮx のエッチングのためのバッファードフッ酸（フ
ッ酸＋フッ化アンモニウム；ＢＨＦ）、及びＩＴＯのエ
ッチングに用いられる塩酸を含有する薬液、金属電極の
エッチングに用いられる各種の酸（硝酸、硫酸等）、レ
ジスト剥離液のアルカリに対して耐久性のあること。
【０００６】（４）内部及び表面に欠点（泡、脈理、イ
ンクルージョン、ピット、キズ等）をもたないこと。
ンクルージョン、ピット、キズ等）をもたないこと。
【０００７】上記の要求に加えて、近年では、以下のよ
うな状況にある。
うな状況にある。
【０００８】（１）これまでのアモルファスシリコンタ
イプの液晶ディスプレイに加え、若干熱処理温度の高い
多結晶シリコンタイプの液晶ディスプレイが作製される
ようになってきた。すなわち、アモルファスシリコンタ
イプではせいぜい３５０℃程度の熱処理であるが、多結
晶シリコンタイプでは５５０℃にも達することがある。
このため、より歪点の高いものが求められるようになっ
てきた。
イプの液晶ディスプレイに加え、若干熱処理温度の高い
多結晶シリコンタイプの液晶ディスプレイが作製される
ようになってきた。すなわち、アモルファスシリコンタ
イプではせいぜい３５０℃程度の熱処理であるが、多結
晶シリコンタイプでは５５０℃にも達することがある。
このため、より歪点の高いものが求められるようになっ
てきた。
【０００９】（２）液晶ディスプレイ作製熱処理の昇降
温速度を速くして、生産性を上げたり、耐熱衝撃性を上
げるために、ガラスの熱膨張係数の小さいガラスが求め
られるようになってきた。
温速度を速くして、生産性を上げたり、耐熱衝撃性を上
げるために、ガラスの熱膨張係数の小さいガラスが求め
られるようになってきた。
【００１０】このような状況下、これらすべての条件を
満足するガラスは、耐薬品性と、歪点が非常に高いガラ
スであり、一般には、熔融粘性が極めて高く、熔融が困
難なものである。そして、熔融が容易な組成では、耐薬
品性が低下する傾向がある。
満足するガラスは、耐薬品性と、歪点が非常に高いガラ
スであり、一般には、熔融粘性が極めて高く、熔融が困
難なものである。そして、熔融が容易な組成では、耐薬
品性が低下する傾向がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、熔融
が比較的容易で、耐ＢＨＦ性、あるいは耐塩酸性を向上
させた、無アルカリガラスを提示することにある。
が比較的容易で、耐ＢＨＦ性、あるいは耐塩酸性を向上
させた、無アルカリガラスを提示することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、モル表示で実
質的に、 ＳｉＯ2 ５０〜７５％、 Ａｌ2 Ｏ3 ０〜２５％、 Ｂ2 Ｏ3 ０〜２０％、 ＭｇＯ ０〜２０％、 ＣａＯ ０〜２０％、 ＳｒＯ ０〜２０％、 ＢａＯ ０〜２０％、 ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ５〜４０％、 ＳｎＯ2 ＋ＺｒＯ2 ＋ＴｉＯ2０．１〜２０％、 からなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無
アルカリガラスである。
質的に、 ＳｉＯ2 ５０〜７５％、 Ａｌ2 Ｏ3 ０〜２５％、 Ｂ2 Ｏ3 ０〜２０％、 ＭｇＯ ０〜２０％、 ＣａＯ ０〜２０％、 ＳｒＯ ０〜２０％、 ＢａＯ ０〜２０％、 ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ５〜４０％、 ＳｎＯ2 ＋ＺｒＯ2 ＋ＴｉＯ2０．１〜２０％、 からなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無
アルカリガラスである。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に上記の通り各成分の組成範囲
について述べる。
について述べる。
【００１４】ＳｉＯ2 は５０モル％（以下単に％と記載
する）未満では、歪点が充分に上げられないと同時に、
熱膨張係数が増大、密度も上昇し、好ましくない。好ま
しくは６０％以上、特に好ましくは６２％以上である。
他方、７５％を超えると熔解性が低下し、失透温度も上
昇するので熔解性及びフロート成形性が低下して好まし
くない。好ましくは７２％以下である。
する）未満では、歪点が充分に上げられないと同時に、
熱膨張係数が増大、密度も上昇し、好ましくない。好ま
しくは６０％以上、特に好ましくは６２％以上である。
他方、７５％を超えると熔解性が低下し、失透温度も上
昇するので熔解性及びフロート成形性が低下して好まし
くない。好ましくは７２％以下である。
【００１５】Ａｌ2 Ｏ3 はガラスの分相性を抑制し、熱
膨脹係数を下げ、歪点をあげる効果がある。好ましい含
有量は５％以上、特に好ましくは９％以上である。一
方、２５％をこえるとガラスの熔解性が悪くなったり、
失透温度を上昇させるので好ましくない。好ましくは２
０％以下、特に好ましくは１６％以下である。
膨脹係数を下げ、歪点をあげる効果がある。好ましい含
有量は５％以上、特に好ましくは９％以上である。一
方、２５％をこえるとガラスの熔解性が悪くなったり、
失透温度を上昇させるので好ましくない。好ましくは２
０％以下、特に好ましくは１６％以下である。
【００１６】Ｂ2 Ｏ3 はガラスの熔解反応性をよくし、
また、失透温度を低下させるため添加してもよい。ただ
し、多く入れすぎると歪点が低くなるため好ましくな
い。２０％以下が好ましく、特に好ましくは１６％以下
である。
また、失透温度を低下させるため添加してもよい。ただ
し、多く入れすぎると歪点が低くなるため好ましくな
い。２０％以下が好ましく、特に好ましくは１６％以下
である。
【００１７】ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯはこの
うち少なくとも１種類を含有し、合量で、５〜４０％含
まれるようにされる。５％未満だと溶解が困難になるお
それがある。７％以上が好ましい。他方、４０％を超え
ると耐薬品性が悪く、膨張係数が大きくなりすぎるおそ
れがある。２５％以下が好ましく、特に好ましくは１８
％以下である。
うち少なくとも１種類を含有し、合量で、５〜４０％含
まれるようにされる。５％未満だと溶解が困難になるお
それがある。７％以上が好ましい。他方、４０％を超え
ると耐薬品性が悪く、膨張係数が大きくなりすぎるおそ
れがある。２５％以下が好ましく、特に好ましくは１８
％以下である。
【００１８】ＭｇＯはアルカリ土類の中では膨張を高く
せず、かつ歪点を過大には低下させないという特徴を有
し、熔解性も向上させる。しかし、２０％を超えると、
失透温度の上昇につながり、好ましくない。好ましくは
１５％以下、特に好ましくは６％以下である。
せず、かつ歪点を過大には低下させないという特徴を有
し、熔解性も向上させる。しかし、２０％を超えると、
失透温度の上昇につながり、好ましくない。好ましくは
１５％以下、特に好ましくは６％以下である。
【００１９】ＣａＯはＭｇＯに次いでアルカリ土類の中
では膨張を高くせず、かつ歪点が過大には低下させない
という特徴を有し、熔解性も向上させる。しかし、２０
％を超えると、失透温度が上昇するため好ましくない。
好ましくは９％以下である。
では膨張を高くせず、かつ歪点が過大には低下させない
という特徴を有し、熔解性も向上させる。しかし、２０
％を超えると、失透温度が上昇するため好ましくない。
好ましくは９％以下である。
【００２０】ＳｒＯは、ガラスの失透温度を上昇させず
熔解性を向上させる。しかし、２０％を超えると失透温
度が上昇するため好ましくない。好ましくは１５％以
下、特に好ましくは９％以下である。
熔解性を向上させる。しかし、２０％を超えると失透温
度が上昇するため好ましくない。好ましくは１５％以
下、特に好ましくは９％以下である。
【００２１】ＢａＯはガラスの失透温度を低下させる効
果が大きいため、添加してもよい。しかし２０％以上で
は膨張と密度を過大に増加させるので好ましくない。好
ましくは１５％以下である。さらに低熱膨張率が求めら
れる場合は、１％以下、特には無添加が好ましい。
果が大きいため、添加してもよい。しかし２０％以上で
は膨張と密度を過大に増加させるので好ましくない。好
ましくは１５％以下である。さらに低熱膨張率が求めら
れる場合は、１％以下、特には無添加が好ましい。
【００２２】ＳｎＯ2 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 は耐ＢＨＦ
性もしくは耐塩酸性を向上させる成分で、これらの中の
少なくとも１つの成分を含有する。合量で０．１％未満
では効果がなく、２０％以上含有すると逆に耐ＢＨＦ性
もしくは耐塩酸性を悪化させたり、他の物性を悪化させ
るおそれがある。好ましい含有量は１０％以下である。
性もしくは耐塩酸性を向上させる成分で、これらの中の
少なくとも１つの成分を含有する。合量で０．１％未満
では効果がなく、２０％以上含有すると逆に耐ＢＨＦ性
もしくは耐塩酸性を悪化させたり、他の物性を悪化させ
るおそれがある。好ましい含有量は１０％以下である。
【００２３】ＳｎＯ2 はＢＨＦ浸漬によるガラスの重量
減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面に生成
する白濁（ヘイズ）を大きく減少させる効果がある。ま
た、塩酸に対するガラスの重量減少量も小さくする効果
がある。０．１〜１０％程度含有されることが特に好ま
しい。
減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面に生成
する白濁（ヘイズ）を大きく減少させる効果がある。ま
た、塩酸に対するガラスの重量減少量も小さくする効果
がある。０．１〜１０％程度含有されることが特に好ま
しい。
【００２４】ＺｒＯ2 は塩酸への浸漬によるガラスの重
量減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面への
生成物を非常に少なくする効果がある。ＢＨＦに対する
影響は少ない。０．１〜１０％程度含有されることが好
ましい。
量減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面への
生成物を非常に少なくする効果がある。ＢＨＦに対する
影響は少ない。０．１〜１０％程度含有されることが好
ましい。
【００２５】ＴｉＯ2 はＢＨＦ浸漬によるガラスの重量
減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面に生成
する白濁（ヘイズ）を大きく減少させる効果がある。塩
酸に対する影響は少ない。０．１〜１０％程度含有され
ることが好ましい。
減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面に生成
する白濁（ヘイズ）を大きく減少させる効果がある。塩
酸に対する影響は少ない。０．１〜１０％程度含有され
ることが好ましい。
【００２６】本発明の無アルカリガラスは、ディスプレ
イ等のデバイスに作製する際の熱収縮を小さくするた
め、歪点が６００℃以上であることが好ましく、特に６
４０℃以上であることが好ましい。
イ等のデバイスに作製する際の熱収縮を小さくするた
め、歪点が６００℃以上であることが好ましく、特に６
４０℃以上であることが好ましい。
【００２７】また、デバイス製造時の耐熱衝撃性を良く
するため、５０〜３００℃の平均熱膨張係数が５０×１
０-7／℃以下であることが好ましく、特に３０×１０-7
〜４０×１０-7／℃であることが好ましい。
するため、５０〜３００℃の平均熱膨張係数が５０×１
０-7／℃以下であることが好ましく、特に３０×１０-7
〜４０×１０-7／℃であることが好ましい。
【００２８】さらに、本発明の無アルカリガラスは、４
０％フッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）と５０％フッ酸
（ＨＦ）を体積比で９：１に混合したバッファードフッ
酸に２５℃で１時間浸漬したときのガラスの重量減少量
が、好ましくは４ｍｇ／ｃｍ2以下、特に好ましくは３
ｍｇ／ｃｍ2 以下、ガラス表面の白濁度が好ましくは２
０％以下、特に好ましくは５％以下である。
０％フッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）と５０％フッ酸
（ＨＦ）を体積比で９：１に混合したバッファードフッ
酸に２５℃で１時間浸漬したときのガラスの重量減少量
が、好ましくは４ｍｇ／ｃｍ2以下、特に好ましくは３
ｍｇ／ｃｍ2 以下、ガラス表面の白濁度が好ましくは２
０％以下、特に好ましくは５％以下である。
【００２９】また、本発明の無アルカリガラスは、１／
１０規定の塩酸に９０℃で２０時間浸漬したときのガラ
スの重量減少量が、好ましくは、１ｍｇ／ｃｍ2 以下、
特に好ましくは０．５ｍｇ／ｃｍ2 以下、ガラス表面の
白濁度が好ましくは４０％以下、特に好ましくは５％以
下である。
１０規定の塩酸に９０℃で２０時間浸漬したときのガラ
スの重量減少量が、好ましくは、１ｍｇ／ｃｍ2 以下、
特に好ましくは０．５ｍｇ／ｃｍ2 以下、ガラス表面の
白濁度が好ましくは４０％以下、特に好ましくは５％以
下である。
【００３０】本発明のガラスは、例えば次のような方法
で製造できる。
で製造できる。
【００３１】通常使用される各成分の原料を目標成分に
なるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、１
５００〜１６００℃に加熱して熔融する。この熔融ガラ
スをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断
する。
なるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、１
５００〜１６００℃に加熱して熔融する。この熔融ガラ
スをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断
する。
【００３２】
【実施例】表１に本発明の実施例と比較例を示す。実施
例１〜３は比較例１の組成に、ＳｎＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔ
ｉＯ2 をさらにそれぞれ３モル％添加した結果である。
同様に実施例４〜６は比較例２の組成に、ＳｎＯ2 、Ｚ
ｒＯ2 、ＴｉＯ2 をさらにそれぞれ３モル％添加した結
果である。
例１〜３は比較例１の組成に、ＳｎＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔ
ｉＯ2 をさらにそれぞれ３モル％添加した結果である。
同様に実施例４〜６は比較例２の組成に、ＳｎＯ2 、Ｚ
ｒＯ2 、ＴｉＯ2 をさらにそれぞれ３モル％添加した結
果である。
【００３３】各成分の原料を目標組成になるように調合
し、白金坩堝を用いて、１５００〜１６００℃の温度で
熔解した。熔解にあたっては、白金スターラーを用いて
撹拌し、ガラスの均質化を行った。次いで熔融ガラスを
流し出し、板状に成形後徐冷した。
し、白金坩堝を用いて、１５００〜１６００℃の温度で
熔解した。熔解にあたっては、白金スターラーを用いて
撹拌し、ガラスの均質化を行った。次いで熔融ガラスを
流し出し、板状に成形後徐冷した。
【００３４】表には、各組成と、耐バッファードフッ酸
性、耐塩酸性、平均熱膨張係数（すなわち、５０〜３５
０℃の平均熱膨脹係数）、歪点、密度、高温粘性値（熔
解の目安となる粘性が１０2 ポイズとなる温度（Ｔｌｏ
ｇη＝２．０）とフロート成形性の目安となる粘性が１
０4 ポイズとなる温度（Ｔｌｏｇη＝４．０））を示し
た。
性、耐塩酸性、平均熱膨張係数（すなわち、５０〜３５
０℃の平均熱膨脹係数）、歪点、密度、高温粘性値（熔
解の目安となる粘性が１０2 ポイズとなる温度（Ｔｌｏ
ｇη＝２．０）とフロート成形性の目安となる粘性が１
０4 ポイズとなる温度（Ｔｌｏｇη＝４．０））を示し
た。
【００３５】耐バッファードフッ酸性は、薬液として１
９ＢＨＦ（４０％フッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）と５
０％フッ酸（ＨＦ）を体積比で９：１に混合した液）を
用い、浸漬条件は２５℃で１時間浸漬したときのガラス
の重量減少量と浸漬後超音波洗浄及び乾燥後のガラス表
面の白濁度（ヘイズ）を測定した結果を示す。ヘイズ値
は全透過光（直線光＋散乱光強度）に対する散乱光の強
度の比で表され、測定はスガ試験機製ヘイズメーターで
測定した。
９ＢＨＦ（４０％フッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）と５
０％フッ酸（ＨＦ）を体積比で９：１に混合した液）を
用い、浸漬条件は２５℃で１時間浸漬したときのガラス
の重量減少量と浸漬後超音波洗浄及び乾燥後のガラス表
面の白濁度（ヘイズ）を測定した結果を示す。ヘイズ値
は全透過光（直線光＋散乱光強度）に対する散乱光の強
度の比で表され、測定はスガ試験機製ヘイズメーターで
測定した。
【００３６】耐塩酸性は、薬液として１／１０規定の塩
酸を用い、浸漬条件は９０℃で２０時間浸漬したときの
ガラスの重量減少量と浸漬後超音波洗浄、乾燥後のガラ
ス表面の白濁度（ヘイズ）を測定した結果を示す。な
お、白濁度は、研磨あるいは洗浄が適切でないと、大き
なばらつきを生じることがあるため、同一の研磨条件と
洗浄条件（すなわち同一ロット）で試験を行った。
酸を用い、浸漬条件は９０℃で２０時間浸漬したときの
ガラスの重量減少量と浸漬後超音波洗浄、乾燥後のガラ
ス表面の白濁度（ヘイズ）を測定した結果を示す。な
お、白濁度は、研磨あるいは洗浄が適切でないと、大き
なばらつきを生じることがあるため、同一の研磨条件と
洗浄条件（すなわち同一ロット）で試験を行った。
【００３７】表から、本発明のガラスは、ディスプレイ
用基板等に適していることがわかる。また、表から明ら
かなように、ＳｎＯ2 はＢＨＦ浸漬によるガラスの重量
減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面に生成
する白濁（ヘイズ）を大きく減少させる効果があること
がわかる。塩酸に対するガラスの重量減少量も小さくす
る効果がある。ＺｒＯ2 は塩酸への浸漬によるガラスの
重量減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面へ
の生成物を少なくし、ヘイズを減らす効果があることが
わかる。ＴｉＯ2 はＢＨＦ浸漬によるガラスの重量減少
量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面に生成する
白濁（ヘイズ）を大きく減少させる効果があることがわ
かる。
用基板等に適していることがわかる。また、表から明ら
かなように、ＳｎＯ2 はＢＨＦ浸漬によるガラスの重量
減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面に生成
する白濁（ヘイズ）を大きく減少させる効果があること
がわかる。塩酸に対するガラスの重量減少量も小さくす
る効果がある。ＺｒＯ2 は塩酸への浸漬によるガラスの
重量減少量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面へ
の生成物を少なくし、ヘイズを減らす効果があることが
わかる。ＴｉＯ2 はＢＨＦ浸漬によるガラスの重量減少
量を小さくし、かつ、浸漬後のガラスの表面に生成する
白濁（ヘイズ）を大きく減少させる効果があることがわ
かる。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【発明の効果】本発明によるガラスは、バッファードフ
ッ酸や塩酸への耐久性に優れ、フロート法による成形が
可能である。ディスプレイ用基板、フォトマスク基板、
ＴＦＴタイプのディスプレイ基板等かかる特性を要求す
る用途に好適である。
ッ酸や塩酸への耐久性に優れ、フロート法による成形が
可能である。ディスプレイ用基板、フォトマスク基板、
ＴＦＴタイプのディスプレイ基板等かかる特性を要求す
る用途に好適である。
Claims (7)
- 【請求項１】モル表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ５０〜７５％、 Ａｌ2 Ｏ3 ０〜２５％、 Ｂ2 Ｏ3 ０〜２０％、 ＭｇＯ ０〜２０％、 ＣａＯ ０〜２０％、 ＳｒＯ ０〜２０％、 ＢａＯ ０〜２０％、 ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ５〜４０％、 ＳｎＯ2 ＋ＺｒＯ2 ＋ＴｉＯ2０．１〜２０％、 からなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無
アルカリガラス。 - 【請求項２】歪点が６００℃以上である請求項１記載の
無アルカリガラス。 - 【請求項３】５０〜３００℃の平均熱膨張係数が５０×
１０-7／℃以下である請求項１または２記載の無アルカ
リガラス。 - 【請求項４】ＢａＯを実質的に含有しない請求項１、２
または３記載の無アルカリガラス。 - 【請求項５】４０％フッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）と
５０％フッ酸（ＨＦ）とを体積比で９：１に混合したバ
ッファードフッ酸に２５℃で１時間浸漬したときのガラ
スの重量減少量が４ｍｇ／ｃｍ2 以下、ガラス表面の白
濁度が２０％以下であることを特徴とする請求項１、
２、３または４記載の無アルカリガラス。 - 【請求項６】１／１０規定の塩酸に９０℃で２０時間浸
漬したときのガラスの重量減少量が１ｍｇ／ｃｍ2 以
下、ガラス表面の白濁度が４０％以下であることを特徴
とする請求項１、２、３、４または５記載の無アルカリ
ガラス。 - 【請求項７】請求項１、２、３、４、５または６記載の
無アルカリガラスを少なくとも一方の基板として使用し
たフラットディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30054596A JPH10139467A (ja) | 1996-11-12 | 1996-11-12 | 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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