JP5849965B2 - 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 - Google Patents
無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5849965B2 JP5849965B2 JP2012547835A JP2012547835A JP5849965B2 JP 5849965 B2 JP5849965 B2 JP 5849965B2 JP 2012547835 A JP2012547835 A JP 2012547835A JP 2012547835 A JP2012547835 A JP 2012547835A JP 5849965 B2 JP5849965 B2 JP 5849965B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mgo
- alkali
- glass
- less
- cao
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 113
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 33
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 claims description 17
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 13
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 13
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 12
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229960002645 boric acid Drugs 0.000 description 3
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 2
- -1 MgCO 3 Chemical class 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001341 alkaline earth metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 239000010459 dolomite Substances 0.000 description 2
- 229910000514 dolomite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- XDVOLDOITVSJGL-UHFFFAOYSA-N 3,7-dihydroxy-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound O1B(O)OB2OB(O)OB1O2 XDVOLDOITVSJGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N oxoborinic acid Chemical compound OB=O VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
(1)アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して膜特性を劣化させるため、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。
(2)薄膜形成工程で高温にさらされる際に、ガラスの変形およびガラスの構造安定化に伴う収縮(熱収縮)を最小限に抑えうるように、歪点が高いこと。
(4)内部および表面に欠点(泡、脈理、インクルージョン、ピット、キズ等)がないこと。
(5)ディスプレイの軽量化が要求され、ガラス自身も密度の小さいガラスが望まれる。
(6)ディスプレイの軽量化が要求され、基板ガラスの薄板化が望まれる。
(8)液晶ディスプレイ作製熱処理の昇降温速度を速くして、生産性を上げたり耐熱衝撃性を上げるために、ガラスの平均熱膨張係数の小さいガラスが求められる。
一方、ガラス製造プロセス、特に溶解、成形における要請から、ガラスの粘性、特にガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4を低くすることが求められている。
SiO2 66〜70、
Al2O3 12〜15、
B2O3 0〜1.5、
MgO 9.5超11.5以下、
CaO 4〜9、
SrO 0.5〜4.5、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2、からなり
MgO+CaO+SrO+BaO が17〜21であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.4以上であり、MgO/(MgO+CaO)が0.4以上であり、MgO/(MgO+SrO)が0.6以上であり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無アルカリガラスを提供する。
SiO2 66〜70、
Al2O3 12〜15、
B2O3 0〜1.5、
MgO 5〜9.5、
CaO 4〜11、
SrO 0.5〜4.5、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2、からなり
MgO+CaO+SrO+BaO が18.2超21以下であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.25以上であり、MgO/(MgO+CaO)が0.3以上であり、MgO/(MgO+SrO)が0.6以上であり、Al2O3×(MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO))が5.5以上であり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無アルカリガラスを提供する。
ここで、本発明の無アルカリガラスの第1態様では、MgO含有量が9.5%超13%以下である。9.5%以下では上述したMgO添加による効果が十分あらわれない。しかし、13%を超えると、失透温度が上昇するおそれがある。12.5%以下、12%以下、11.5%以下がより好ましい。
一方、本発明の無アルカリガラスの第2態様では、MgO含有量が5〜9.5%である。5%未満では上述したMgO添加による効果が十分あらわれない。6%以上、7%以上がより好ましい。しかし、9.5%を超えると、失透温度が上昇するおそれがある。9.3%以下、9%以下がより好ましい。
ここで、本発明の無アルカリガラスの第1態様では、CaO含有量が4〜9%である。4%未満では上述したCaO添加による効果が十分あらわれない。しかし、9%を超えると、失透温度が上昇したりCaO原料である石灰石(CaCO3)中の不純物であるリンが、多く混入するおそれがある。7%以下、6%以下、5%以下がより好ましい。
一方、本発明の無アルカリガラスの第2態様では、CaO含有量が4〜11%である。4%未満では上述したCaO添加による効果が十分あらわれない。5%以上が好ましい。しかし、11%を超えると、失透温度が上昇したりCaO原料である石灰石(CaCO3)中の不純物であるリンが、多く混入するおそれがある。10%以下、9%以下、7%以下、6%以下がより好ましい。
一方、本発明の無アルカリガラスの第2態様において、MgO、CaO、SrO、BaOは合量で18.2%以下だと、溶解性に乏しく、21%よりも多いと、熱膨張係数を小さくできないという難点が生じるおそれがある。好ましくは20%以下である。
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.4以上であり、好ましくは0.45以上である。
MgO/(MgO+CaO)が0.4以上であり、好ましくは0.52以上、さらに好ましくは0.55以上である。
MgO/(MgO+SrO)が0.6以上であり、好ましくは0.7以上である。
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.25以上であり、好ましくは0.3以上、より好ましく0.4以上であり、さらに好ましくは0.45以上である。
MgO/(MgO+CaO)が0.3以上であり、好ましくは0.4以上であり、より好ましくは0.52以上、さらに好ましくは0.55以上である。
MgO/(MgO+SrO)が0.6以上であり、好ましくは0.7以上である。
本発明の無アルカリガラスにおいて、さらに好ましくは歪点が735℃以上である。歪点が735℃以上であると、高歪点用途(例えば、有機EL用のディスプレイ用基板または照明用基板、あるいは板厚100μm以下の薄板のディスプレイ用基板または照明用基板)に適している。
板厚100μm以下の板ガラスの成形では、成形時の引き出し速度が速くなる傾向があるため、ガラスの仮想温度が上昇し、ガラスのコンパクションが増大しやすい。この場合、高歪点ガラスであると、コンパクションを抑制することができる。
また、本発明の無アルカリガラスは失透温度が、1350℃以下であることがフロート法による成形が容易となることから好ましい。好ましくは1340℃以下、より好ましくは1330℃以下である。
本明細書における失透温度は、白金製の皿に粉砕されたガラス粒子を入れ、一定温度に制御された電気炉中で17時間熱処理を行い、熱処理後の光学顕微鏡観察によって、ガラスの表面及び内部に結晶が析出する最高温度と結晶が析出しない最低温度との平均値である。
液晶ディスプレイパネル製造工程や液晶ディスプレイ装置使用時に発生した応力によってガラス基板が複屈折性を有することにより、黒の表示がグレーになり、液晶ディスプレイのコントラストが低下する現象が認められることがある。光弾性定数を31nm/MPa/cm以下とすることにより、この現象を小さく抑えることができる。好ましくは30nm/MPa/cm以下、より好ましくは29nm/MPa/cm以下、さらに好ましくは28.5nm/MPa/cm以下、特に好ましくは28nm/MPa/cm以下である。
また、本発明の無アルカリガラスは、他の物性確保の容易性を考慮すると、光弾性定数が25nm/MPa/cm以下であることが好ましい、
なお、光弾性定数は円盤圧縮法により測定できる。
日本国特開2011−70092号公報に記載されているような、インセル型のタッチパネル(液晶ディスプレイパネル内にタッチセンサを内蔵したもの)の場合、タッチセンサのセンシング感度の向上、駆動電圧の低下、省電力化の観点から、ガラス基板の比誘電率が高いほうがよい。比誘電率を5.6以上とすることにより、タッチセンサのセンシング感度が向上する。好ましくは5.8以上、より好ましくは6.0以上、さらに好ましくは6.2以上、特に好ましくは6.4以上である。
なお、比誘電率はJIS C−2141(1992年)に記載の方法で測定できる。
本発明の無アルカリガラスは、比較的溶解性が低いため、各成分の原料として下記を用いることが好ましい。
SiO2の珪素源としては珪砂を用いることができるが、メディアン粒径D50が20μm〜27μm、粒径2μm以下の粒子の割合が0.3体積%以下、かつ粒径100μm以上の粒子の割合が2.5体積%以下の珪砂を用いることが、珪砂の凝集を抑えて溶融させることができるので、珪砂の溶融が容易になり、泡が少なく、均質性、平坦度が高い無アルカリガラスが得られることから好ましい。
また、本明細書における「メディアン粒径D50」とは、レーザー回折法によって計測された粉体の粒度分布において、ある粒径より大きい粒子の体積頻度が、全粉体のそれの50%を占める粒子径をいう。言い換えると、レーザー回折法によって計測された粉体の粒度分布において、累積頻度が50%のときの粒子径をいう。
また、本明細書における「粒径2μm以下の粒子の割合」及び「粒径100μm以上の粒子の割合」は、例えば、レーザー回折/散乱法によって粒度分布を計測することにより測定される。
また、珪砂における粒径100μm以上の粒子の割合は、0%であることが珪砂の溶融がより容易になるので特に好ましい。
アルカリ土類金属源としては、アルカリ土類金属化合物を用いることができる。ここでアルカリ土類金属化合物の具体例としては、MgCO3、CaCO3、BaCO3、SrCO3、(Mg,Ca)CO3(ドロマイト)等の炭酸塩や、MgO、CaO、BaO、SrO等の酸化物や、Mg(OH)2、Ca(OH)2、Ba(OH)2、Sr(OH)2等の水酸化物を例示できるが、アルカリ土類金属源の一部または全部にアルカリ土類金属の水酸化物を含有させることが、ガラス原料の融解時のSiO2成分の未融解量が低下するので好ましい。珪砂中に含まれるSiO2成分の未融解量が増大すると、この未融解のSiO2が、ガラス融液中に泡が発生した際にこの泡に取り込まれてガラス融液の表層近くに集まる。これにより、ガラス融液の表層と表層以外の部分との間においてSiO2の組成比に差が生じて、ガラスの均質性が低下するとともに平坦性も低下する。
アルカリ土類金属源中の水酸化物のモル比が増加するにつれて、ガラス原料の融解時のSiO2成分の未融解量が低下するので、上記水酸化物のモル比は高ければ高いほどよい。
無アルカリガラスがB2O3を含有する場合、B2O3のホウ素源としては、ホウ素化合物を用いることができる。ここでホウ素化合物の具体例としては、オルトホウ酸(H3BO3)、メタホウ酸(HBO2)、四ホウ酸(H2B4O7)、無水ホウ酸(B2O3)等が挙げられる。通常の無アルカリガラスの製造においては、安価で、入手しやすい点から、オルトホウ酸が用いられる。
無水ホウ酸以外のホウ素化合物としては、安価で、入手しやすい点から、オルトホウ酸が好ましい。
なお、表1〜5中、括弧書で示した値は計算値である。
また、比誘電率が5.6以上であり、インセル型のタッチパネルのガラス基板として使用した場合にタッチセンサのセンシング感度が向上する。
本出願は、2010年12月7日出願の日本特許出願2010−272674に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
Claims (7)
- 歪点が725℃以上であって、50〜300℃での平均熱膨張係数が30×10-7〜40×10-7/℃であって、ガラス粘度が102dPa・sとなる温度T2が1710℃以下であって、ガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4が1320℃以下であって、失透温度が1350℃以下であって、酸化物基準のモル%表示で
SiO2 66〜70、
Al2O3 12〜15、
B2O3 0〜1.5、
MgO 9.5超11.5以下、
CaO 4〜9、
SrO 0.5〜4.5、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2、からなり
MgO+CaO+SrO+BaO が17〜21であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.4以上であり、MgO/(MgO+CaO)が0.4以上であり、MgO/(MgO+SrO)が0.6以上であり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無アルカリガラス。 - 歪点が725℃以上であって、50〜300℃での平均熱膨張係数が30×10-7〜40×10-7/℃であって、ガラス粘度が102dPa・sとなる温度T2が1710℃以下であって、ガラス粘度が104dPa・sとなる温度T4が1320℃以下であって、酸化物基準のモル%表示で
SiO2 66〜70、
Al2O3 12〜15、
B2O3 0〜1.5、
MgO 5〜9.5、
CaO 4〜11、
SrO 0.5〜4.5、
BaO 0〜1、
ZrO2 0〜2、からなり
MgO+CaO+SrO+BaO が18.2超21以下であり、
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)が0.25以上であり、MgO/(MgO+CaO)が0.3以上であり、MgO/(MgO+SrO)が0.6以上であり、Al2O3×(MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO))が5.5以上であり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無アルカリガラス。 - Al 2 O 3 の含有量が、酸化物基準のモル%表示で12〜14.5%である請求項1または2に記載の無アルカリガラス。
- ガラス粘度が10 4 dPa・sとなる温度T 4 が1315℃以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載の無アルカリガラス。
- SiO2の珪素源として、メディアン粒径D50が20μm〜27μm、粒径2μm以下の粒子の割合が0.3体積%以下、かつ粒径100μm以上の粒子の割合が2.5体積%以下の珪砂を用いる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の無アルカリガラスの製造方法。
- MgO、CaO、SrOおよびBaOのアルカリ土類金属源として、アルカリ土類金属の水酸化物を、アルカリ土類金属源100モル%(MO換算。但しMはアルカリ土類金属元素である。以下同じ。)のうち、15〜100モル%(MO換算)含有するものを用いる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の無アルカリガラスの製造方法。
- SiO2の珪素源として、メディアン粒径D50が20μm〜27μm、粒径2μm以下の粒子の割合が0.3体積%以下、かつ粒径100μm以上の粒子の割合が2.5体積%以下の珪砂を用い、MgO、CaO、SrOおよびBaOのアルカリ土類金属源として、アルカリ土類金属の水酸化物を、アルカリ土類金属源100モル%(MO換算。但しMはアルカリ土類金属元素である。以下同じ。)のうち、15〜100モル%(MO換算)含有するものを用いる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の無アルカリガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012547835A JP5849965B2 (ja) | 2010-12-07 | 2011-12-02 | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010272674 | 2010-12-07 | ||
JP2010272674 | 2010-12-07 | ||
PCT/JP2011/077960 WO2012077609A1 (ja) | 2010-12-07 | 2011-12-02 | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 |
JP2012547835A JP5849965B2 (ja) | 2010-12-07 | 2011-12-02 | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012077609A1 JPWO2012077609A1 (ja) | 2014-05-19 |
JP5849965B2 true JP5849965B2 (ja) | 2016-02-03 |
Family
ID=46207097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012547835A Active JP5849965B2 (ja) | 2010-12-07 | 2011-12-02 | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9193622B2 (ja) |
EP (1) | EP2650262A1 (ja) |
JP (1) | JP5849965B2 (ja) |
KR (1) | KR101752033B1 (ja) |
CN (1) | CN103261109B (ja) |
TW (1) | TWI540110B (ja) |
WO (1) | WO2012077609A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210119419A (ko) | 2019-02-07 | 2021-10-05 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 |
KR20210124242A (ko) | 2019-02-07 | 2021-10-14 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 |
US11414339B2 (en) | 2018-03-14 | 2022-08-16 | AGC Inc. | Alkali-free glass |
US11718553B2 (en) | 2019-03-19 | 2023-08-08 | AGC Inc. | Alkali-free glass substrate |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012090783A1 (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-05 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 |
JP5943064B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2016-06-29 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスの製造方法 |
KR101555458B1 (ko) * | 2012-04-27 | 2015-09-23 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 그의 제조 방법 |
US9505650B2 (en) * | 2012-12-05 | 2016-11-29 | Asahi Glass Company, Limited | Non-alkali glass substrate |
CN105121370B (zh) | 2013-04-23 | 2017-08-08 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃基板及其制造方法 |
CN104291681A (zh) * | 2013-06-27 | 2015-01-21 | 旭硝子株式会社 | 磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板 |
JP6308044B2 (ja) * | 2013-06-27 | 2018-04-11 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
KR102249898B1 (ko) * | 2013-11-28 | 2021-05-11 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 기판, 및 무알칼리 유리 기판의 박판화 방법 |
JP2017114685A (ja) * | 2014-04-28 | 2017-06-29 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
TWI671273B (zh) * | 2014-10-23 | 2019-09-11 | 日商Agc股份有限公司 | 無鹼玻璃 |
KR20230148860A (ko) * | 2014-11-28 | 2023-10-25 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 액정 디스플레이 패널 |
JP7060915B2 (ja) | 2014-12-12 | 2022-04-27 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
JP7182871B2 (ja) | 2015-04-03 | 2022-12-05 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
DE102017102900A1 (de) | 2016-05-04 | 2017-11-09 | Schott Ag | Pharmapackmittel mit einem chemisch beständigen Glas |
EP3241810B1 (de) | 2016-05-04 | 2019-01-23 | Schott AG | Pharmapackmittel mit einem chemisch beständigen glas |
KR102403524B1 (ko) * | 2016-08-23 | 2022-05-31 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 |
WO2018116731A1 (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
JP6983377B2 (ja) * | 2016-12-19 | 2021-12-17 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
US10242996B2 (en) | 2017-07-19 | 2019-03-26 | Cypress Semiconductor Corporation | Method of forming high-voltage transistor with thin gate poly |
US11420897B2 (en) | 2018-06-19 | 2022-08-23 | Corning Incorporated | High strain point and high young's modulus glasses |
JP7478340B2 (ja) * | 2018-10-17 | 2024-05-07 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス板 |
DE102018133413A1 (de) | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Schott Ag | Chemisch beständige, Bor- und Alkali-freie Gläser |
CN115397784A (zh) * | 2020-06-23 | 2022-11-25 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61236631A (ja) * | 1985-04-10 | 1986-10-21 | Ohara Inc | 耐火・耐熱性ガラス |
WO2009054314A1 (ja) * | 2007-10-25 | 2009-04-30 | Asahi Glass Company, Limited | 無アルカリガラスの製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61281041A (ja) | 1985-06-06 | 1986-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
US4634684A (en) | 1985-10-23 | 1987-01-06 | Corning Glass Works | Strontium aluminosilicate glass substrates for flat panel display devices |
US4634683A (en) | 1985-10-23 | 1987-01-06 | Corning Glass Works | Barium and/or strontium aluminosilicate crystal-containing glasses for flat panel display devices |
JP3083586B2 (ja) | 1991-04-26 | 2000-09-04 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
US5116789A (en) | 1991-08-12 | 1992-05-26 | Corning Incorporated | Strontium aluminosilicate glasses for flat panel displays |
US5326730A (en) | 1993-01-22 | 1994-07-05 | Corning Incorporated | Barium aluminosilicate glasses |
JP3666610B2 (ja) * | 1995-08-02 | 2005-06-29 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板 |
JP3804112B2 (ja) | 1996-07-29 | 2006-08-02 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス、無アルカリガラスの製造方法およびフラットディスプレイパネル |
DE19916296C1 (de) * | 1999-04-12 | 2001-01-18 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
JP2010272674A (ja) | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機光電変換素子およびその製造方法 |
JP5712922B2 (ja) * | 2009-07-02 | 2015-05-07 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよびその製造方法 |
JP2011070092A (ja) | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JP5874316B2 (ja) * | 2010-10-27 | 2016-03-02 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
WO2012090783A1 (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-05 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 |
JP5888326B2 (ja) | 2011-04-08 | 2016-03-22 | 旭硝子株式会社 | 基板用無アルカリガラスの製造方法 |
WO2013099855A1 (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
KR101555458B1 (ko) * | 2012-04-27 | 2015-09-23 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 그의 제조 방법 |
-
2011
- 2011-12-02 JP JP2012547835A patent/JP5849965B2/ja active Active
- 2011-12-02 EP EP11847758.7A patent/EP2650262A1/en not_active Withdrawn
- 2011-12-02 WO PCT/JP2011/077960 patent/WO2012077609A1/ja active Application Filing
- 2011-12-02 CN CN201180059101.0A patent/CN103261109B/zh active Active
- 2011-12-02 KR KR1020137014618A patent/KR101752033B1/ko active IP Right Grant
- 2011-12-07 TW TW100145138A patent/TWI540110B/zh active
-
2013
- 2013-06-07 US US13/912,642 patent/US9193622B2/en active Active
-
2015
- 2015-09-18 US US14/858,391 patent/US9670087B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61236631A (ja) * | 1985-04-10 | 1986-10-21 | Ohara Inc | 耐火・耐熱性ガラス |
WO2009054314A1 (ja) * | 2007-10-25 | 2009-04-30 | Asahi Glass Company, Limited | 無アルカリガラスの製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11414339B2 (en) | 2018-03-14 | 2022-08-16 | AGC Inc. | Alkali-free glass |
US11897812B2 (en) | 2018-03-14 | 2024-02-13 | AGC Inc. | Alkali-free glass |
KR20210119419A (ko) | 2019-02-07 | 2021-10-05 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 |
KR20210124242A (ko) | 2019-02-07 | 2021-10-14 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 |
US11718553B2 (en) | 2019-03-19 | 2023-08-08 | AGC Inc. | Alkali-free glass substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9193622B2 (en) | 2015-11-24 |
TW201223910A (en) | 2012-06-16 |
TWI540110B (zh) | 2016-07-01 |
EP2650262A1 (en) | 2013-10-16 |
CN103261109A (zh) | 2013-08-21 |
US20160002095A1 (en) | 2016-01-07 |
US20130274086A1 (en) | 2013-10-17 |
JPWO2012077609A1 (ja) | 2014-05-19 |
CN103261109B (zh) | 2016-10-12 |
KR101752033B1 (ko) | 2017-06-28 |
WO2012077609A1 (ja) | 2012-06-14 |
KR20130129971A (ko) | 2013-11-29 |
US9670087B2 (en) | 2017-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5849965B2 (ja) | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 | |
JP5712922B2 (ja) | 無アルカリガラスおよびその製造方法 | |
JP5702888B2 (ja) | 無アルカリガラスおよびその製造方法 | |
JP6107823B2 (ja) | 無アルカリガラスおよびその製造方法 | |
JP5817737B2 (ja) | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラスの製造方法 | |
JPWO2013172307A1 (ja) | 板ガラスの製造方法 | |
WO2015072429A1 (ja) | 板ガラスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140801 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150811 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151013 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5849965 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |