JP2001220173A - アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスプレイ技術および薄膜光電池の双方に
おける基板ガラスとしての使用に高度に適したガラス。 【解決手段】 ２．８×１０^{- ６}／Ｋ〜３．８×１０^{- ６}
／Ｋの熱膨張率α_{２０／ ３００}を有し、かつ次の組成
（質量％、酸化物基準）：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５、Ｂ
_２Ｏ_３ ＞６〜１１．５、ＭｇＯ ４〜８、ＢａＯ ０〜
＜０．５、ＺｎＯ ０〜２およびＡｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２
５、ＣａＯ ０〜８、ＳｒＯ ２．６〜＜４、但し、Ｓｒ
Ｏ＋ＢａＯ ＞３、またはＡｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５、Ｃ
ａＯ ０〜＜２、ＳｒＯ ＞０．５〜＜４、またはＡｌ_２
Ｏ_３ ＞２１〜２５、ＣａＯ ０〜８、ＳｒＯ ＞２．６
〜＜８、但し、ＳｒＯ＋ＢａＯ ＞３を有している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アルカリ金属不含
のアルミノホウケイ酸塩ガラスに関する。また、本発明
はこのガラスの使用に関する。

【０００２】

【従来の技術】フラットパネル液晶ディスプレイ技術、
例えばＴＮ（ねじれネマティック）／ＳＴＮ（超ねじれ
ネマティック）ディスプレイ、アクティブマトリックス
液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤｓ）、薄膜トランジスタ
（ＴＦＴｓ）またはプラズマアドレスド液晶(plasma ad
dressed liquid crystals)（ＰＡＬＣｓ）における基板
として適用するためのガラスには、高度な要求がなされ
ている。高い熱衝撃抵抗性およびフラットパネルスクリ
ーンの製造のためのプロセスに使用される攻撃的な化学
薬品に対する良好な耐性の他にも、ガラスは、幅広いス
ペクトル域（ＶＩＳ、ＵＶ）に亘り高い透明度を有する
べきであり、かつ重量を減らすために低い密度を有する
べきである。例えばＴＦＴディスプレイ（“チップ・オ
ン・ガラス”）における、集積半導体回路のための基板
材料としての使用は、付加的に、３００℃までの低温で
アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）の形でガラス基板上
に通常堆積する薄膜材料シリコンとの熱整合を必要とす
る。アモルファスシリコンを、約６００℃の温度での引
き続く熱処理により部分的に再結晶させる。ａ−Ｓｉ分
率のために、生じる部分的に結晶質のポリ−Ｓｉ層は、
熱膨張率α_{２０／３０ ０}≒３．７×１０^{- ６}／Ｋにより
特徴付けられる。ａ−Ｓｉ／ポリ−Ｓｉ比に応じて、熱
膨張率α_{２０／３００}は、２．９・１０^{- ６}／Ｋ〜４．
２・１０^{- ６}／Ｋの間で変化しうる。実質的に結晶質の
Ｓｉ層が、薄膜光電池において同様に望ましい、７００
℃を上回る高温処理によりまたはＣＶＤ法による直接的
な堆積により生じる場合には、基板は、３．２×１０^-
６／Ｋまたはそれ以下の顕著に低下した熱膨張を有する
ことを必要とする。

【０００３】その上、ディスプレイおよび光電池技術に
おける適用は、アルカリ金属イオンの不在を必要とす
る。製造の結果としての１０００ｐｐｍ未満の酸化ナト
リウム水準は、半導体層へのＮａ^＋の拡散のために一般
的な“被毒”作用を考慮して許容されうる。

【０００４】適切な品質で（気泡なし、ノットなし、混
在物なし）、例えばフロートプラント中でまたは延伸法
により、経済的に、大工業規模に関して適したガラスを
製造可能にすべきである。殊に、延伸法による、低い表
面うねりを有し、薄く（＜１ｍｍ）縞のない基板の製造
には、ガラスの高い失透安定性が要求される。殊にＴＦ
Ｔディスプレイの場合の、半導体ミクロ構造に不利な影
響を及ぼす、製造中の基板のコンパクションは、ガラス
の適した温度依存性の粘度特性線を確立することにより
対処することができる：熱プロセスおよび形状安定性に
関連して、十分に高いガラス転移温度Ｔ_ｇ、即ちＴ_ｇ＞
７００℃を有しているべきであるのに対して、他方では
過剰に高くない融解および加工温度（Ｖ_Ａ）、即ちＶ_Ａ
≦１３５０℃を有しているべきである。

【０００５】また、ＬＣＤディスプレイ技術または薄膜
光電池技術のためのガラス基板の必要条件は、J. C. La
ppによる“Glass substrates for AMLCD applications:
properties and implications” SPIE Proceedings, V
ol. 3014, invited paper (1997)、およびJ. Schmidに
よる“Photovoltaik - Strom aus der Sonne”VerlagC.
F. Mueller, Heidelberg 1994にそれぞれ記載されてい
る。

【０００６】上記の必要条件プロフィールは、アルカリ
土類金属−アルミノホウケイ酸塩ガラスにより最も満た
される。しかしながら、次の刊行物に記載されている公
知のディスプレイまたは太陽電池の基板ガラスはなお欠
点を有しており、かつ必要条件の完全なリストを満たし
ていない：多数の文献には、低ＭｇＯ含量を有するガラ
スが記載されている：特開平９−１６９５３８号、特開
平４−１６００３０号、特開平９−１００１３５号公
報、欧州特許出願公開第７１４８６２号、欧州特許第３
４１３１３号、米国特許第５３７４５９５号、国際特許
出願公表第９７／１１９１９号および同第９７／１１９
２０号明細書。粘度が１０^２ｄＰａｓおよび１０^４ｄＰ
ａｓで極めて高温であることから明らかであるように、
このようなガラスは望ましい溶融性を有しておらず、か
つ相対的に高い密度を有する。同じことは、ドイツ連邦
共和国特許出願公開第３７３０４１０号明細書のＭｇＯ
不含のガラスに当てはまる。

【０００７】米国特許第５３７４５９５号明細書のガラ
スは、これらのガラスの望ましくない高密度をまねく２
〜７モル％のＢａＯ含量を有する。同じことは、特開平
６１−１３２５３６号、特開平８−２９５５３０号、特
開平９−４８６３２号および特開平９−１５６９５３号
公報のガラスに当てはまる。

【０００８】同様に、高ＳｒＯ含量を有する特開平１０
−７２２３７号公報のガラスは、実施例から明らかであ
るように、粘度が１０^２ｄＰａｓおよび１０^４ｄＰａｓ
で極めて高い温度を有する。

【０００９】同じことは、特開平９−２６３４２１号お
よび特開平１０−４５４２２号公報に記載されているよ
うな低Ｂ_２Ｏ_３含量を有するガラスに当てはまる。失透
傾向は、殊に低ＢａＯ含量と組み合わせた場合に、不利
に高いであろう。他方では、過剰に高いＢ_２Ｏ_３含量−
そのようなガラスは例えば米国特許第４８２４８０８号
明細書に記載されている−は、高い耐熱性および高い耐
薬品性、殊に塩酸溶液に対する耐薬品性の意図した性質
にとって不利である。

【００１０】低ＳｉＯ_２ガラスは、殊にこれらが相対的
に多量のＢ_２Ｏ_３を含有し、かつアルカリ土類金属が少
ない場合には、十分に高い耐薬品性を有していない。こ
のことは、国際特許出願公表第９７／１１９１９号およ
び欧州特許出願公開第６７２６２９号明細書のガラスに
もあてはまる。後者の文献の相対的にＳｉＯ_２に富む変
法は、低いＡｌ_２Ｏ_３水準を有しているにすぎず、これ
は結晶化挙動には不利である。

【００１１】ハードディスク用のガラスに関する特開平
９−１２３３３号公報には、ＳｉＯ _２、Ａｌ_２Ｏ_３およ
びＣａＯおよびＢ_２Ｏ_３を含む別の任意の成分の組成が
記載されている。挙げられたガラスは、高いアルカリ土
類金属酸化物含量を有し、かつ従って高い熱膨張を有
し、これはＬＣＤまたはＰＶ技術における使用にとって
不適当なものにする。これらの可視的品質もまた、おそ
らく不適当であろう。

【００１２】本出願人によるドイツ連邦共和国特許第１
９６１７３４４号および同第１９６０３６９８号明細書
には、約３．７・１０^{- ６}／Ｋの熱膨張率α
_{２０／３００}および極めて良好な耐薬品性を有し、アル
カリ金属不含で、酸化スズ含有の低ＳｉＯ_２またはＳｒ
Ｏ不含のガラスが開示されている。これらは、ディスプ
レイ技術における使用に適している。しかしながら、Ｚ
ｎＯを含有していなければならないので、これらは、特
にフロートプラント法における加工のために理想的では
ない。殊により高いＺｎＯ含量（＞１．５質量％）で、
熱成形域における蒸発および引き続く凝縮によりガラス
表面上にＺｎＯコーティングを形成する危険がある。

【００１３】国際特許出願公表第９８／２７０１９号明
細書には、ディスプレイおよび光電池への適用のため
の、低い密度および高い耐熱性を有するガラスが記載さ
れている。これらのガラスにおいて、その一部は高いＣ
ａＯ含量を有し、ＳｒＯおよびＢａＯ含量は、全部で３
質量％に制限されており、これはガラスを結晶化感受性
にする。

【００１４】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６０
１０２２号明細書には、極めて幅広い組成範囲から選択
されており、かつＺｒＯ_２およびＳｎＯを含有していな
ければならないガラスが記載されている。実施例によれ
ば相対的に高いＢａＯ含量を有するガラスは、存在しな
ければならないＺｒＯ_２水準のために、ガラス欠陥を示
す傾向にある。

【００１５】ドイツ連邦共和国特許出願公開第４２１３
５７９号明細書には、５．５・１０ ^{- ６}／Ｋを下回り、
実施例によれば４．０・１０^{- ６}／Ｋ以上の熱膨張率α
_{２０／ ３００}を有するＴＦＴ適用のためのガラスが記載
されている。相対的に高いＢ_２Ｏ_３水準および相対的に
低いＳｉＯ_２含量を有するこれらのガラスは、高い耐薬
品性、殊に希塩酸に対する耐薬品性を有していない。

【００１６】未審査の日本の刊行物である特開平１０−
２５１３２号、特開平１０−１１４５３８号、特開平１
０−１３００３４号、特開平１０−５９７４１号、特開
平１０−３２４５２６号、特開平１１−４３３５０号、
特開平１１−４９５２０号、特開平１０−２３１１３９
号および特開平１０−１３９４６７号公報には、多くの
任意の成分を用いて変化させることができ、かつそのつ
ど１つまたはそれ以上の特別な清澄剤(refining agent)
と混合されるディスプレイガラスのための極めて幅広い
組成範囲が挙げられている。しかしながら、これらの文
献には、どのようにして上記の完全な必要条件プロフィ
ールを有するガラスを特別な方法で得ることができるの
かということが示されていない。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、液晶
ディスプレイ、殊にＴＦＴディスプレイおよび薄膜太陽
電池、殊にμｃ−Ｓｉをベースとする薄膜太陽電池のた
めのガラス基板、高い耐熱性、好ましい加工範囲および
十分な失透安定性を有するガラスに課される前記の物理
的および化学的な必要条件を満たすガラスを提供するこ
とにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】この課題は、独立請求項
で定義されたようなアルミノホウケイ酸塩ガラスにより
達成される。

【００１９】

【発明の実施の形態】このガラスは、＞５８〜６５質量
％のＳｉＯ_２を含有する。より低い含量で、耐薬品性は
損なわれるのに対して、より高い含量で、熱膨張が低す
ぎ、かつガラスの結晶化傾向が増大する。６４．５質量
％までのＳｉＯ_２含量が好ましい。

【００２０】このガラスは、＞１４〜２５質量％のＡｌ
_２Ｏ_３を含有する。Ａｌ_２Ｏ_３は、加工温度が過剰に増
大することなく、ガラスの耐熱性に肯定的な影響を及ぼ
す。より低い含量で、ガラスは結晶化により感受性にな
る。１４．５質量％を上回るＡｌ_２Ｏ_３含量、殊に好ま
しくは少なくとも１８質量％のＡｌ_２Ｏ_３含量、最も好
ましくは少なくとも２０．５質量％のＡｌ_２Ｏ_３含量、
殊に少なくとも２１質量％のＡｌ_２Ｏ_３含量が好まし
い。２４質量％の最大Ａｌ_２Ｏ_３含量が好ましい。

【００２１】Ｂ_２Ｏ_３含量は、高いガラス転移温度Ｔ_ｇ
を達成するために、最大１１．５質量％に制限される。
また、より高い含量は、塩酸溶液に対する耐薬品性を損
なうであろう。１１質量％の最大Ｂ_２Ｏ_３含量が好まし
い。Ｂ_２Ｏ_３含量は、ガラスが良好な溶融性および良好
な結晶化安定性を有することを確実にするために６質量
％よりも高い。８質量％を上回る最小含量が好ましい。

【００２２】網目形成成分Ａｌ_２Ｏ_３およびＢ_２Ｏ
_３は、有利に相互に依存した最小水準で存在し、その
際、好ましい含量の網目形成成分ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３
およびＢ_２Ｏ_３を確実にする。例えば、＞６質量％の最
小Ｂ_２Ｏ_３含量の場合に、最小Ａｌ _２Ｏ_３含量は有利に
＞１８質量％であり、かつ＞１４質量％のＡｌ_２Ｏ_３含
量の場合に、最小Ｂ_２Ｏ_３含量は有利に＞８質量％であ
る。

【００２３】ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３およびＢ_２Ｏ_３の総
和は有利に８３〜９１質量％である。

【００２４】本質的なガラス成分は、網目修飾アルカリ
土類金属酸化物である。殊にその水準を変化させること
により、２．８・１０^{- ６}／Ｋ〜３．８・１０^{- ６}／Ｋの
熱膨張率α_{２０／３００}が達成される。個々の酸化物
は、次の割合で存在する：このガラスは、４〜８質量％
のＭｇＯを含有する。高いＭｇＯ水準は、低い密度およ
び低い加工温度の望ましい性質に肯定的な影響を及ぼす
のに対して、確かに低い水準は、好ましい結晶化安定性
および耐薬品性である。

【００２５】このガラスは、８質量％までのＣａＯを含
有していてよい。より高い水準は、熱膨張の過剰な増大
および結晶化安定性の低下をまねく。殊に低い熱膨張を
示すガラス、殊に３．４・１０^{- ６}／Ｋまでの熱膨張率
α_{２０／３００}を有するガラスには、ＣａＯ含量は有利
に最大＜２質量％に制限される。

【００２６】別の任意の成分はＢａＯであり、その際、
最大含量は、０．５質量％未満に制限される。このこと
は、良好な溶融性を確実にし、密度を低く維持する。こ
のガラスは、有利にＢａＯ不含である。

【００２７】ガラスは、＜４質量％までの相対的に重い
アルカリ土類金属ＳｒＯを含有する。この低い最大含量
の制限は、殊にガラスの低い密度にとって有利である。

【００２８】ＳｒＯおよびＢａＯの最小総和が、十分な
結晶化安定性を確実にするために３質量％を上回る場合
には、殊にむしろＣａＯに富んだ組成物で、最小ＳｒＯ
含量は２．６質量％である。

【００２９】低ＣａＯおよびＣａＯ不含の変法の場合
に、殊に０〜＜２質量％のＣａＯ含量で、少なくとも＞
０．５質量％の最小ＳｒＯ含量で十分である。これらの
ガラスの場合に、ＳｒＯおよびＢａＯの総和は有利に少
なくとも１質量％、殊に有利に少なくとも＞１質量％で
ある。

【００３０】高Ａｌ_２Ｏ_３含量、即ち＞２１質量％の含
量の場合に、ＳｒＯ含量は、２．６〜＜８質量％のより
幅広い制限内で変化しうる。殊に、現在可能になってい
る高いＳｒＯ含量の結果として、十分に低い密度を有
し、殊に結晶化安定なガラスが得られる。これらのガラ
スの場合には、ＳｒＯおよびＢａＯの最小総和は、同様
に＞３質量％である。これらのガラスは、２．８×１０
^{- ６}／Ｋ〜３．６×１０^{- ６}／Ｋの熱膨張率α
_{２０／３００}を有する。

【００３１】このガラスは、２質量％までのＺｎＯ、有
利に＜２質量％のＺｎＯを含有していてもよい。網目修
飾成分ＺｎＯは、構造をゆるめる機能を有し、かつアル
カリ土類金属酸化物よりも熱膨張に及ぼす影響が少な
い。粘度特性線へのその影響は、Ｂ_２Ｏ_３のそれと同じ
である。殊にガラスがフロート法により加工される場合
には、ＺｎＯ水準は、有利に最大１．５質量％に制限さ
れる。より高い水準は、熱成形域における蒸発および引
き続く凝縮により形成されうるガラス表面上の望ましく
ないＺｎＯコーティングの危険が増大するであろう。

【００３２】このガラスは、アルカリ金属不含である。
本明細書中で使用されるような用語“アルカリ金属不
含”は、本質的にはアルカリ金属酸化物不含であるけれ
ども、１０００ｐｐｍ未満の不純物を含有していてもよ
いことを意味する。

【００３３】このガラスは、２質量％までのＺｒＯ_２＋
ＴｉＯ_２を含有していてよく、その際、ＴｉＯ_２含量お
よびＺｒＯ_２含量の双方は、それぞれ２質量％までであ
ってよい。ＺｒＯ_２は有利に、ガラスの耐熱性を増大さ
せる。しかしながら、その低溶解性のために、ＺｒＯ_２
はガラス中の、ＺｒＯ_２含有の融液残存構造、いわゆる
ジルコニウム巣の危険を増大させる。従って、ＺｒＯ_２
は有利に除外される。ジルコニウム含有のトラフ材料の
侵食から生じる低ＺｒＯ_２含量は問題ない。ＴｉＯ_２は
有利に、ソラリゼーション傾向、即ちＵＶ−ＶＩＳ放射
のために可視波長域における透過率の低下を減少させ
る。２質量％を上回る含量で、カラーキャスト(colour
cast)は、使用される原材料の不純物の結果として低い
水準でガラス中に存在するＦｅ^３＋イオンとの錯体形成
のために起こりうる。

【００３４】このガラスは、通常の量で、常用の清澄剤
を含有していてもよい：従って、これらは１．５質量％
までのＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２および／また
はＣｅＯ_２を含有していてもよい。同様に、それぞれ
１．５質量％のＣｌ^-（例えばＢａＣｌ_２の形で）、Ｆ^-
（例えばＣａＦ_２の形で）またはＳＯ_４ ^{２ -}（例えばＢ
ａＳＯ_４の形で）を添加することも可能である。しかし
ながら、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、Ｓｎ
Ｏ_２、Ｃｌ^-、Ｆ^-およびＳＯ_４ ^{２ -}の総和は、１．５質
量％を超えるべきではない。

【００３５】清澄剤Ａｓ_２Ｏ_３およびＳｂ_２Ｏ_３が除外
される場合には、このガラスは、多数の延伸法を用いる
だけではなく、フロート法によっても加工することがで
きる。

【００３６】例えば単純なバッチ製造に関連して、Ｚｒ
Ｏ_２およびＳｎＯ_２の双方を除外できることおよび上記
の性質プロフィール、殊に高い耐熱性および耐薬品性お
よび低い結晶化傾向を有するガラスをなお得ることがで
きることは有利である。

【００３７】

【実施例】作業例：ガラスをＰｔ／Ｉｒるつぼ中で１６
２０℃で不可避の不純物を除いて本質的にアルカリ金属
不含の常用の原材料から生産した。融液を、この温度で
１．５時間清澄し、ついで誘導加熱した白金るつぼに移
し、均質化のために１５５０℃で３０分間撹拌した。

【００３８】表は、本発明によるガラスの１４の例をそ
の組成（質量％、酸化物基準）およびその最も重要な性
質と共に示している。０．３質量％の水準での清澄剤Ｓ
ｎＯ _２（例１、２、４、５、７、８、１０〜１４）また
はＡｓ_２Ｏ_３（例３、６、９）は挙げられていない。次
の性質が与えられている： ・熱膨張率α_{２０／３００}［１０^{- ６}／Ｋ］ ・密度ρ［ｇ／ｃｍ^３］ ・ＤＩＮ５２３２４による膨張計による(dilatometric)
ガラス転移温度Ｔ_ｇ［℃］ ・粘度が１０^４ｄＰａｓでの温度（Ｔ４［℃］と呼ぶ） ・Vogel-Fulcher-Tammann式から計算した、粘度が１０
^２ｄＰａｓでの温度（Ｔ２［℃］と呼ぶ） ・屈折率ｎ_ｄ ・１０％濃度のＮＨ_４Ｆ・ＨＦ溶液で２３℃で２０分間
処理後の、両面磨いた寸法５０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍ
のガラスプレートからの質量損失（材料除去値）として
の緩衝したフッ化水素酸（“ＢＨＦ”）に対する耐性
［ｍｇ／ｃｍ^２］ 表 例：本発明によるガラスの組成（質量％、酸化物基準）
および本質的な性質

【００３９】

【表１】

【００４０】

【表２】

【００４１】更に、耐酸性を例３および１４のガラスで
測定した、即ち、５％濃度の塩酸で９５℃で２４時間処
理後の、両面磨いた寸法５０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍの
ガラスプレートからの質量損失（材料除去値）としての
“ＨＣｌ”耐酸性：それぞれ０．７８ｍｇ／ｃｍ^２（ガ
ラス番号３）および０．５０ｍｇ／ｃｍ^２（ガラス番号
１４）であることが見出された。

【００４２】作業例の説明として、本発明によるガラス
は、次の有利な性質を有する： ・それぞれ２．８×１０^{- ６}／Ｋ〜３．８×１０^{- ６}／Ｋ
または２．８×１０^{- ６}／Ｋ〜３．６×１０^{- ６}／Ｋまた
は３．４×１０^{- ６}／Ｋまでの熱膨張α_{２０／３ ００}、
従ってアモルファスシリコンおよびますます多結晶質の
シリコンの双方の膨張挙動に適合した。

【００４３】・Ｔ_ｇ＞７００℃、極めて高いガラス転移
温度、即ち高い耐熱性。これは、製造の結果として最も
低く可能なコンパクションにとって、かつアモルファス
Ｓｉ層でコーティングし、引き続き徐冷するための基板
としてのガラスの使用にとって必須である。

【００４４】・ρ＜２．６００ｇ／ｃｍ^３、低密度 ・粘度が１０^４ｄＰａｓでの温度は多くとも１３５０℃
および粘度が１０^２ｄＰａｓでの温度は多くとも１７２
０℃、これは熱成形および溶融性に関連して適した粘度
特性線を意味する。このガラスは板ガラスとして、多様
な延伸法、例えばマイクロシートダウンフロー、アップ
フローまたはオーバーフロー融解法により、および好ま
しい実施態様において、ガラスがＡｓ_２Ｏ_３およびＳｂ
_２Ｏ_３を含有しない場合には、フロート法によっても製
造することができる。

【００４５】・高い耐薬品性、緩衝したフッ化水素酸溶
液に対する良好な耐性から明らかであり、このことはフ
ラットパネルスクリーンの製造において使用される薬品
に対して十分に不活性にする。

【００４６】・ｎ_ｄ≦１．５２６、低い屈折率。この性
質は高透過性のための物理的必要条件である。

【００４７】このガラスは、高い熱衝撃抵抗性および良
好な失透安定性を有する。

【００４８】従って、このガラスは、ディスプレイ技
術、殊にＴＦＴディスプレイのため、および薄膜光電池
における基板ガラスとしての使用に高度に適している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 31/04 Ｈ０１Ｌ 31/04 Ｍ

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２．８×１０^{- ６}／Ｋ〜３．８×１０^{- ６}
   ／Ｋの熱膨張率α_{２ ０／３００}を有するアルカリ金属不
   含のアルミノホウケイ酸塩ガラスにおいて、次の組成
   （質量％、酸化物基準）： ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５ Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１１．５ Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５ ＭｇＯ ４〜８ ＣａＯ ０〜８ ＳｒＯ ２．６〜＜４ ＢａＯ ０〜＜０．５ 但し、ＳｒＯ＋ＢａＯ ＞３ ＺｎＯ ０〜２ を有していることを特徴とする、アルカリ金属不含のア
   ルミノホウケイ酸塩ガラス。
2. 【請求項２】 ２．８×１０^{- ６}／Ｋ〜３．４×１０^{- ６}
   ／Ｋの熱膨張率α_{２ ０／３００}を有するアルカリ金属不
   含のアルミノホウケイ酸塩ガラスにおいて、次の組成
   （質量％、酸化物基準）： ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５ Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１１．５ Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５ ＭｇＯ ４〜８ ＣａＯ ０〜＜２ ＳｒＯ ＞０．５〜＜４ ＢａＯ ０〜＜０．５ ＺｎＯ ０〜２ を有していることを特徴とする、アルカリ金属不含のア
   ルミノホウケイ酸塩ガラス。
3. 【請求項３】 ２．８×１０^{- ６}／Ｋ〜３．６×１０^{- ６}
   ／Ｋの熱膨張率α_{２ ０／３００}を有するアルカリ金属不
   含のアルミノホウケイ酸塩ガラスにおいて、次の組成
   （質量％、酸化物基準）： ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５ Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１１．５ Ａｌ_２Ｏ_３ ＞２１〜２５ ＭｇＯ ４〜８ ＣａＯ ０〜８ ＳｒＯ ２．６〜＜８ ＢａＯ ０〜＜０．５ 但し、ＳｒＯ＋ＢａＯ ＞３ ＺｎＯ ０〜２ を有していることを特徴とする、アルカリ金属不含のア
   ルミノホウケイ酸塩ガラス。
4. 【請求項４】 １８質量％を上回り、有利に少なくとも
   ２０．５質量％、特に有利に少なくとも２１質量％のＡ
   ｌ_２Ｏ_３を含んでいる、請求項１または２記載のアルミ
   ノホウケイ酸塩ガラス。
5. 【請求項５】 ガラスが８質量％を上回るＢ_２Ｏ_３を含
   んでいる、請求項１から４までのいずれか１項記載のア
   ルミノホウケイ酸塩ガラス。
6. 【請求項６】 付加的に次のもの： ＺｒＯ_２ ０〜２ ＴｉＯ_２ ０〜２ 但し、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２ ０〜２ Ａｓ_２Ｏ_３ ０〜１．５ Ｓｂ_２Ｏ_３ ０〜１．５ ＳｎＯ_２ ０〜１．５ ＣｅＯ_２ ０〜１．５ Ｃｌ^- ０〜１．５ Ｆ^- ０〜１．５ ＳＯ_４ ^{２ -} ０〜１．５ 但し、Ａｓ_２Ｏ_３＋Ｓｂ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２＋ＣｅＯ_２＋
   Ｃｌ^-＋Ｆ^-＋ＳＯ_４ ^{２ -} ０〜１．５ を含んでいる、請求項１から５までのいずれか１項記載
   のアルミノホウケイ酸塩ガラス。
7. 【請求項７】 ガラスが、不可避の不純物を除いて、酸
   化ヒ素および酸化アンチモンを含有しておらず、かつフ
   ロートプラントにおいて製造されることができる、請求
   項１から６までのいずれか１項記載のアルミノホウケイ
   酸塩ガラス。
8. 【請求項８】 ２．８×１０^{- ６}／Ｋ〜３．６×１０^{- ６}
   ／Ｋの熱膨張率α_{２ ０／３００}、７００℃を上回るガラ
   ス転移温度Ｔ_ｇおよび２．６００ｇ／ｃｍ^３を下回る密
   度ρを有している、請求項１から７までのいずれか１項
   記載のアルミノホウケイ酸塩ガラス。
9. 【請求項９】 ディスプレイ技術における基板ガラスと
   しての請求項１から８までのいずれか１項記載のアルミ
   ノホウケイ酸塩ガラスの使用。
10. 【請求項１０】 薄膜光電池における基板ガラスとして
    の請求項１から８までのいずれか１項記載のアルミノホ
    ウケイ酸塩ガラスの使用。