JPWO2017204167A1 - 無アルカリガラス基板、積層基板、およびガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明のガラス基板は、摩耗度が55以上であり、半導体製造プロセス用支持基板およびカバーガラスの少なくとも一方に用いられる無アルカリガラス基板であることを特徴とする。
ガラス原料を加熱して溶融ガラスを得る溶解工程と、
前記溶融ガラスから泡を除く清澄工程と、
前記溶融ガラスを板状にしてガラスリボンを得る成形工程と、
前記ガラスリボンを室温状態まで徐冷する徐冷工程と、を含み、
得られるガラス基板の組成が酸化物基準のモル百分率表示でAl2O3を11.0%以上、B2O3を8.0%以上、SrOを1%以上含有し、
前記得られるガラス基板の組成と、前記徐冷工程における前記ガラスリボンの粘度が1013d・Pa・sとなる温度から1014.5d・Pa・sとなる温度になるまでの平均冷却速度R(単位:℃/分)とが、次の条件(1)〜条件(3)を満たすことを特徴とする。
条件(1):
0.0181×(SiO2の含有量)+0.0004×(Al2O3の含有量)+0.0387×(B2O3の含有量)+0.0913×(MgOの含有量)+0.1621×(CaOの含有量)+0.1900×(SrOの含有量)+0.2180×(BaOの含有量)+0.0424×(ZnOの含有量)+0.0391×log10Rが3.10〜3.70
条件(2):
0.0218×(SiO2の含有量)+0.0302×(Al2O3の含有量)+0.0181×(B2O3の含有量)+0.0330×(MgOの含有量)+0.0351×(CaOの含有量)+0.0488×(SrOの含有量)+0.0634×(BaOの含有量)+0.0419×(ZnOの含有量)が2.42以上
条件(3):
0.677×(SiO2の含有量)+1.598×(Al2O3の含有量)−0.220×(B2O3の含有量)+1.466×(MgOの含有量)+1.135×(CaOの含有量)+0.667×(SrOの含有量)+0.298×(BaOの含有量)+1.027×(ZnOの含有量)が76.0以下[条件(1)〜(3)において、SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOの含有量は、得られたガラスに含有される酸化物基準のモル百分率表示で表した含有量である。]
SiO2 :50%〜75%、
Al2O3 :11.0%〜16%、
B2O3 :8.0%〜16%、
MgO :0%〜10%、
CaO :0%〜10%、
SrO :1%〜10%、
BaO :0%〜10%、
ZnO :0%〜10%
0.0181×(SiO2の含有量)+0.0004×(Al2O3の含有量)+0.0387×(B2O3の含有量)+0.0913×(MgOの含有量)+0.1621×(CaOの含有量)+0.1900×(SrOの含有量)+0.2180×(BaOの含有量)+0.0424×(ZnOの含有量)+0.0391×(12.3+log1060−log10η)
0.0218×(SiO2の含有量)+0.0302×(Al2O3の含有量)+0.0181×(B2O3の含有量)+0.0330×(MgOの含有量)+0.0351×(CaOの含有量)+0.0488×(SrOの含有量)+0.0634×(BaOの含有量)+0.0419×(ZnOの含有量)
0.677×(SiO2の含有量)+1.598×(Al2O3の含有量)−0.220×(B2O3の含有量)+1.466×(MgOの含有量)+1.135×(CaOの含有量)+0.667×(SrOの含有量)+0.298×(BaOの含有量)+1.027×(ZnOの含有量)
0.0111×(SiO2の含有量)+0.0250×(Al2O3の含有量)+0.0078×(B2O3の含有量)+0.0144×(MgOの含有量)+0.0053×(CaOの含有量)+0.0052×(SrOの含有量)+0.0013×(BaOの含有量)+0.0121×(ZnOの含有量)−0.0041×(12.3+log1060−log10η)
0.0368×(Al2O3の含有量)−0.0054×(B2O3の含有量)+0.0244×(MgOの含有量)+0.0143×(CaOの含有量)+0.0182×(SrOの含有量)+0.0097×(BaOの含有量)+0.097×(ZnOの含有量)−0.0032×(12.3+log1060−log10η)
0.0181×(SiO2の含有量)+0.0004×(Al2O3の含有量)+0.0387×(B2O3の含有量)+0.0913×(MgOの含有量)+0.1621×(CaOの含有量)+0.1900×(SrOの含有量)+0.2180×(BaOの含有量)+0.0424×(ZnOの含有量)+0.0391×log10Rが3.10〜3.70
0.0218×(SiO2の含有量)+0.0302×(Al2O3の含有量)+0.0181×(B2O3の含有量)+0.0330×(MgOの含有量)+0.0351×(CaOの含有量)+0.0488×(SrOの含有量)+0.0634×(BaOの含有量)+0.0419×(ZnOの含有量)が2.42以上
0.677×(SiO2の含有量)+1.598×(Al2O3の含有量)−0.220×(B2O3の含有量)+1.466×(MgOの含有量)+1.135×(CaOの含有量)+0.667×(SrOの含有量)+0.298×(BaOの含有量)+1.027×(ZnOの含有量)が76.0以下
0.0111×(SiO2の含有量)+0.0250×(Al2O3の含有量)+0.0078×(B2O3の含有量)+0.0144×(MgOの含有量)+0.0053×(CaOの含有量)+0.0052×(SrOの含有量)+0.0013×(BaOの含有量)+0.0121×(ZnOの含有量)−0.0041×log10Rが1.15〜1.35
0.0368×(Al2O3の含有量)−0.0054×(B2O3の含有量)+0.0244×(MgOの含有量)+0.0143×(CaOの含有量)+0.0182×(SrOの含有量)+0.0097×(BaOの含有量)+0.097×(ZnOの含有量)−0.0032×log10Rが0.30〜1.20
式(1):
0.0181×(SiO2の含有量)+0.0004×(Al2O3の含有量)+0.0387×(B2O3の含有量)+0.0913×(MgOの含有量)+0.1621×(CaOの含有量)+0.1900×(SrOの含有量)+0.2180×(BaOの含有量)+0.0424×(ZnOの含有量)+0.0391×(12.3+log1060−log10η)
式(2):
0.0218×(SiO2の含有量)+0.0302×(Al2O3の含有量)+0.0181×(B2O3の含有量)+0.0330×(MgOの含有量)+0.0351×(CaOの含有量)+0.0488×(SrOの含有量)+0.0634×(BaOの含有量)+0.0419×(ZnOの含有量)
式(3):
0.677×(SiO2の含有量)+1.598×(Al2O3の含有量)−0.220×(B2O3の含有量)+1.466×(MgOの含有量)+1.135×(CaOの含有量)+0.667×(SrOの含有量)+0.298×(BaOの含有量)+1.027×(ZnOの含有量)
式(4):
0.0111×(SiO2の含有量)+0.0250×(Al2O3の含有量)+0.0078×(B2O3の含有量)+0.0144×(MgOの含有量)+0.0053×(CaOの含有量)+0.0052×(SrOの含有量)+0.0013×(BaOの含有量)+0.0121×(ZnOの含有量)−0.0041×(12.3+log1060−log10η)
式(5):
0.0368×(Al2O3の含有量)−0.0054×(B2O3の含有量)+0.0244×(MgOの含有量)+0.0143×(CaOの含有量)+0.0182×(SrOの含有量)+0.0097×(BaOの含有量)+0.097×(ZnOの含有量)−0.0032×(12.3+log1060−log10η)である。
(仮想粘度)
上述した式[G.W.Scherer,Relaxation in Glass and Composites,Wiley,New York(1986),p.159]を用いて算出した。
JIS R3102(1995年)に規定されている方法に従い、示差熱膨張計(TMA)を用いて測定した。α50/100は測定温度範囲が50℃〜100℃、α100/200は100℃〜200℃、およびα200/300は200℃〜300℃である。
表7にシリコン基板(信越化学工業製)の平均熱膨張係数を示す。シリコン基板のαSi50/100は2.94ppm/℃、αSi100/200は3.37ppm/℃、αSi200/300は3.69ppm/℃、αSi200/300/αSi50/100は1.25、αSi200/300−αSi50/100は0.75ppm/℃であった。シリコン基板の平均熱膨張係数は、典型的には表7に示す値である。
泡を含まない約20gのガラス塊を、アルキメデス法によって測定した。
厚さ0.5mm〜10mmのガラスについて、超音波パルス法により測定した。
ビッカース硬度の測定は、JIS−Z−2244(2009)(ISO6507−1、ISO6507−4、ASTM−E−384)に規定する試験法に準拠し、SHIMADZU製のビッカース硬度計(MICRO HARDNESS TESTERHMV−2)を用い、常温、常湿環境下(この場合、室温25℃、湿度60%RHに維持した)で測定した。1サンプル当たり10箇所で測定し、その平均を当該試作例のビッカース硬度とした。また、ビッカース圧子の圧入荷重を0.98N、15秒間の圧入とした。
研削レートに対する指標として、日本光学硝子工業会規格J10−1994「光学ガラスの磨耗度の測定方法」に記載の測定方法を用いて、摩耗度を測定した。
JIS R3103−3(2001年)に規定されている方法に従い、TMAを用いて測定した。
回転粘度計を用いて粘度を測定し、102d・Pa・sとなるときの温度T2(℃)を測定した。
回転粘度計を用いて粘度を測定し、104d・Pa・sとなるときの温度T4(℃)を測定した。
失透温度は、粉砕されたガラス粒子を白金製皿に入れ、一定温度に制御された電気炉中で17時間熱処理を行い、熱処理後の光学顕微鏡観察によって、ガラスの表面または内部に結晶が析出する最高温度とガラスの表面または内部に結晶が析出しない最低温度との平均値とした。
ガラスの失透粘性(ガラスの失透温度におけるガラス粘度)は、回転粘度計を用いて、高温(1000℃〜1600℃)における溶融ガラスのガラス粘度を測定した結果から、フルチャーの式の係数を求め、該係数を用いたフルチャーの式により求めた。
HF重量減少量は、次の様にして測定した。上述のようにして得られたガラス板を切断し、両面を鏡面研磨して、40mm四方、厚さ1mmのガラスサンプルを得た。ガラスサンプルを洗浄後、乾燥させ、重量を測定した。次いで、ガラスサンプルを、25℃に保持した5質量%フッ酸水溶液に20分間浸漬し、洗浄後、乾燥させ、重量を測定した。浸漬前から浸漬後の重量減少量を算出した。浸漬中に薬液を撹拌するとエッチング速度が変動するため、撹拌は実施しなかった。サンプル寸法から表面積を算出し、重量減少量を表面積で割ったのち、さらに浸漬時間で割ることで、単位面積および単位時間当たりの重量減少量(HF重量減少量)を求めた。
円板圧縮法(「円板圧縮法による化学強化用ガラスの光弾性定数の測定」、横田良助、窯業協会誌、87[10]、1979年、p.519−522)により測定した。
20 樹脂
30 積層基板
G1 ガラス基板
Claims (22)
- 酸化物基準のモル百分率表示でAl2O3を11.0%以上、B2O3を8.0%以上、SrOを1%以上含有し、且つ100℃〜200℃での平均熱膨張係数α100/200が3.10ppm/℃〜3.70ppm/℃、ヤング率が76.0GPa以下、密度が2.42g/cm3以上である無アルカリガラス基板。
- 酸化物基準のモル百分率表示で、下記の組成である請求項1に記載の無アルカリガラス基板。
SiO2 :50%〜75%、
Al2O3 :11.0%〜16%、
B2O3 :8.0%〜16%、
MgO :0%〜10%、
CaO :0%〜10%、
SrO :1%〜10%、
BaO :0%〜10%、
ZnO :0%〜10% - 酸化物基準のモル百分率表示で、MgOおよびCaOの合計含有量が1.0%以上である請求項1または2に記載の無アルカリガラス基板。
- 200℃〜300℃の平均熱膨張係数α200/300を50℃〜100℃の平均熱膨張係数α50/100で除した値α200/300/α50/100が、1.15〜1.35である請求項1〜3のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- 200℃〜300℃の平均熱膨張係数α200/300を50℃〜100℃の平均熱膨張係数α50/100で除した値α200/300/α50/100が、1.15以上1.20未満である請求項1〜3のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- 200℃〜300℃の平均熱膨張係数α200/300から50℃〜100℃の平均熱膨張係数α50/100を減じた値α200/300−α50/100が、0.30〜1.20である請求項1〜5のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- ガラス転移点が680℃以上である請求項1〜6のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- 摩耗度が55以上である請求項1〜7のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- ビッカース硬度が600以下である請求項1〜8のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- 半導体製造プロセス用支持基板およびカバーガラスの少なくとも一方に用いられる請求項1〜9のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- 少なくとも一方の主表面の面積が0.03m2以上である請求項1〜10のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- 厚さが1.0mm以下である請求項1〜11のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- ガラス基板に含まれる0.5μm以上1mm以下の欠点の密度が、1個/cm2以下である請求項1〜12のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
- 下記式(1)で表される値が3.10〜3.70である請求項1〜13のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
式(1):
0.0181×(SiO2の含有量)+0.0004×(Al2O3の含有量)+0.0387×(B2O3の含有量)+0.0913×(MgOの含有量)+0.1621×(CaOの含有量)+0.1900×(SrOの含有量)+0.2180×(BaOの含有量)+0.0424×(ZnOの含有量)+0.0391×(12.3+log1060−log10η)[式(1)において、SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOの含有量は、得られたガラスに含有される酸化物基準のモル百分率表示で表した含有量、ηは仮想粘度(単位:d・Pa・s)である。] - 下記式(2)で表される値が2.42以上である請求項1〜14のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
式(2):
0.0218×(SiO2の含有量)+0.0302×(Al2O3の含有量)+0.0181×(B2O3の含有量)+0.0330×(MgOの含有量)+0.0351×(CaOの含有量)+0.0488×(SrOの含有量)+0.0634×(BaOの含有量)+0.0419×(ZnOの含有量)[式(2)において、SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOの含有量は、得られたガラスに含有される酸化物基準のモル百分率表示で表した含有量である。] - 下記式(3)で表される値が76.0以下である請求項1〜15のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
式(3):
0.677×(SiO2の含有量)+1.598×(Al2O3の含有量)−0.220×(B2O3の含有量)+1.466×(MgOの含有量)+1.135×(CaOの含有量)+0.667×(SrOの含有量)+0.298×(BaOの含有量)+1.027×(ZnOの含有量)[式(3)において、SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOの含有量は、得られたガラスに含有される酸化物基準のモル百分率表示で表した含有量である。] - 下記式(4)で表される値が1.15〜1.35である請求項1〜16のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
式(4):
0.0111×(SiO2の含有量)+0.0250×(Al2O3の含有量)+0.0078×(B2O3の含有量)+0.0144×(MgOの含有量)+0.0053×(CaOの含有量)+0.0052×(SrOの含有量)+0.0013×(BaOの含有量)+0.0121×(ZnOの含有量)−0.0041×(12.3+log1060−log10η) - 下記式(5)で表される値が0.30〜1.20である請求項1〜17のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板。
式(5):
0.0368×(Al2O3の含有量)−0.0054×(B2O3の含有量)+0.0244×(MgOの含有量)+0.0143×(CaOの含有量)+0.0182×(SrOの含有量)+0.0097×(BaOの含有量)+0.097×(ZnOの含有量)−0.0032×(12.3+log1060−log10η)[式(5)において、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOの含有量は、得られたガラスに含有される酸化物基準のモル百分率表示で表した含有量である。] - 摩耗度が55以上であり、半導体製造プロセス用支持基板およびカバーガラスの少なくとも一方に用いられる無アルカリガラス基板。
- 請求項1〜19のいずれか1項に記載の無アルカリガラス基板と、シリコン基板とが積層された積層基板。
- ガラス原料を加熱して溶融ガラスを得る溶解工程と、
前記溶融ガラスから泡を除く清澄工程と、
前記溶融ガラスを板状にしてガラスリボンを得る成形工程と、
前記ガラスリボンを室温状態まで徐冷する徐冷工程と、を含み、
得られるガラス基板の組成が酸化物基準のモル百分率表示でAl2O3を11.0%以上、B2O3を8.0%以上、SrOを1%以上含有し、
前記得られるガラス基板の組成と、前記徐冷工程における前記ガラスリボンの粘度が1013d・Pa・sとなる温度から1014.5d・Pa・sとなる温度になるまでの平均冷却速度R(単位:℃/分)とが、次の条件(1)〜条件(3)を満たす無アルカリガラス基板の製造方法。
条件(1):
0.0181×(SiO2の含有量)+0.0004×(Al2O3の含有量)+0.0387×(B2O3の含有量)+0.0913×(MgOの含有量)+0.1621×(CaOの含有量)+0.1900×(SrOの含有量)+0.2180×(BaOの含有量)+0.0424×(ZnOの含有量)+0.0391×log10Rが3.10〜3.70
条件(2):
0.0218×(SiO2の含有量)+0.0302×(Al2O3の含有量)+0.0181×(B2O3の含有量)+0.0330×(MgOの含有量)+0.0351×(CaOの含有量)+0.0488×(SrOの含有量)+0.0634×(BaOの含有量)+0.0419×(ZnOの含有量)が2.42以上
条件(3):
0.677×(SiO2の含有量)+1.598×(Al2O3の含有量)−0.220×(B2O3の含有量)+1.466×(MgOの含有量)+1.135×(CaOの含有量)+0.667×(SrOの含有量)+0.298×(BaOの含有量)+1.027×(ZnOの含有量)が76.0以下[条件(1)〜(3)において、SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOの含有量は、得られたガラスに含有される酸化物基準のモル百分率表示で表した含有量である。] - 前記得られるガラス基板の組成が下記条件(4)および条件(5)をさらに満たす請求項21に記載の無アルカリガラス基板の製造方法。
条件(4):
0.0111×(SiO2の含有量)+0.0250×(Al2O3の含有量)+0.0078×(B2O3の含有量)+0.0144×(MgOの含有量)+0.0053×(CaOの含有量)+0.0052×(SrOの含有量)+0.0013×(BaOの含有量)+0.0121×(ZnOの含有量)−0.0041×log10Rが1.15〜1.35
条件(5):
0.0368×(Al2O3の含有量)−0.0054×(B2O3の含有量)+0.0244×(MgOの含有量)+0.0143×(CaOの含有量)+0.0182×(SrOの含有量)+0.0097×(BaOの含有量)+0.097×(ZnOの含有量)−0.0032×log10Rが0.30〜1.20[条件(4)および(5)において、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOの含有量は、得られたガラスに含有される酸化物基準のモル百分率表示で表した含有量である。]
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WO2021192700A1 (ja) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | Agc株式会社 | 接合体 |
CN114815341A (zh) * | 2021-01-21 | 2022-07-29 | 深圳晶微峰光电科技有限公司 | 硅基液晶面板及其制备方法 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09100135A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-04-15 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及びディスプレイ用基板 |
JPH09169538A (ja) * | 1994-11-30 | 1997-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及び液晶ディスプレイパネル |
JPH09169539A (ja) * | 1994-11-30 | 1997-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
JPH1072237A (ja) * | 1996-06-03 | 1998-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
JPH11292563A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-10-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス基板 |
JP2001220173A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-08-14 | Carl Zeiss:Fa | アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用 |
JP2002037642A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-02-06 | Hankuk Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
JP2005126311A (ja) * | 2003-02-19 | 2005-05-19 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 半導体パッケージ用カバーガラス及びその製造方法 |
JP2006347796A (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Hoya Corp | ガラス部材、それを用いた製品およびその製造方法 |
WO2007069739A1 (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | 無アルカリガラス基板及びその製造方法 |
JP2008222542A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-25 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 太陽電池用ガラス基板 |
JP2009013049A (ja) * | 2007-06-08 | 2009-01-22 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラス基板 |
JP2009541185A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-11-26 | サン−ゴバン グラス フランス | フラットスクリーン用ガラス基材 |
JP2009286689A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Corning Inc | ボロアルミノシリケートガラス |
Family Cites Families (25)
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---|---|---|---|---|
JP3153710B2 (ja) | 1994-01-21 | 2001-04-09 | ホーヤ株式会社 | シリコン台座用ガラス及びシリコン基材型センサー |
US6169047B1 (en) * | 1994-11-30 | 2001-01-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Alkali-free glass and flat panel display |
DE69508706T2 (de) * | 1994-11-30 | 1999-12-02 | Asahi Glass Co Ltd | Alkalifreies Glas und Flachbildschirm |
US5885914A (en) * | 1995-07-28 | 1999-03-23 | Asahi Glass Company Ltd. | Alkali-free glass and display substrate |
US6537937B1 (en) * | 1999-08-03 | 2003-03-25 | Asahi Glass Company, Limited | Alkali-free glass |
DE10064804C2 (de) * | 2000-12-22 | 2003-03-20 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung |
JP2002308643A (ja) * | 2001-02-01 | 2002-10-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及びディスプレイ用ガラス基板 |
DE112004000553T5 (de) * | 2003-03-31 | 2006-03-02 | Asahi Glass Co., Ltd. | Alkalifreies Glas |
CN1898168B (zh) * | 2003-12-26 | 2012-08-01 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃、其制造方法及液晶显示板 |
JP5703535B2 (ja) * | 2006-05-23 | 2015-04-22 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板 |
JP4457410B2 (ja) * | 2006-09-21 | 2010-04-28 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板 |
WO2009078421A1 (ja) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | ガラス基板 |
CN101959819A (zh) * | 2008-02-27 | 2011-01-26 | 旭硝子株式会社 | 基板用玻璃组合物 |
US8975199B2 (en) * | 2011-08-12 | 2015-03-10 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass |
US8445394B2 (en) * | 2008-10-06 | 2013-05-21 | Corning Incorporated | Intermediate thermal expansion coefficient glass |
CN102448901B (zh) * | 2009-03-19 | 2015-11-25 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
JP3153710U (ja) | 2009-07-03 | 2009-09-17 | モリト株式会社 | 折畳み式包装箱 |
JP5537144B2 (ja) * | 2009-12-16 | 2014-07-02 | AvanStrate株式会社 | ガラス組成物とそれを用いたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板 |
JPWO2013005401A1 (ja) * | 2011-07-01 | 2015-02-23 | AvanStrate株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
KR101654753B1 (ko) * | 2011-12-28 | 2016-09-08 | 아반스트레이트 가부시키가이샤 | 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법 |
TWI614227B (zh) * | 2012-02-29 | 2018-02-11 | 康寧公司 | 低cte之無鹼硼鋁矽酸鹽玻璃組成物及包含其之玻璃物件 |
WO2013183626A1 (ja) * | 2012-06-05 | 2013-12-12 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよびその製造方法 |
KR20150030653A (ko) * | 2012-06-07 | 2015-03-20 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 이것을 사용한 무알칼리 유리판 |
CN106396370B (zh) * | 2013-04-23 | 2018-11-09 | Agc 株式会社 | 无碱玻璃基板及其制造方法 |
JP6578774B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2019-09-25 | Agc株式会社 | 無アルカリガラス |
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Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09169538A (ja) * | 1994-11-30 | 1997-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及び液晶ディスプレイパネル |
JPH09169539A (ja) * | 1994-11-30 | 1997-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
JPH09100135A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-04-15 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及びディスプレイ用基板 |
JPH1072237A (ja) * | 1996-06-03 | 1998-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
JPH11292563A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-10-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス基板 |
JP2001220173A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-08-14 | Carl Zeiss:Fa | アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用 |
JP2002037642A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-02-06 | Hankuk Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
JP2005126311A (ja) * | 2003-02-19 | 2005-05-19 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 半導体パッケージ用カバーガラス及びその製造方法 |
JP2006347796A (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Hoya Corp | ガラス部材、それを用いた製品およびその製造方法 |
WO2007069739A1 (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | 無アルカリガラス基板及びその製造方法 |
JP2009541185A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-11-26 | サン−ゴバン グラス フランス | フラットスクリーン用ガラス基材 |
JP2008222542A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-25 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 太陽電池用ガラス基板 |
JP2009013049A (ja) * | 2007-06-08 | 2009-01-22 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラス基板 |
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