JPH09100135A - 無アルカリガラス及びディスプレイ用基板 - Google Patents
無アルカリガラス及びディスプレイ用基板Info
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- JPH09100135A JPH09100135A JP19804296A JP19804296A JPH09100135A JP H09100135 A JPH09100135 A JP H09100135A JP 19804296 A JP19804296 A JP 19804296A JP 19804296 A JP19804296 A JP 19804296A JP H09100135 A JPH09100135 A JP H09100135A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高歪点、低熱膨張係数を有し、バッファードフ
ッ酸及び塩酸の浸漬によるガラスの重量減が少なく、溶
解・成形が容易な無アルカリガラスを得る。 【解決手段】モル％で、ＳｉＯ2 ：６０〜７４、Ａｌ2
Ｏ3 ：１０〜１６、Ｂ2Ｏ3 ：１０〜１２、Ａｌ2 Ｏ3
／Ｂ2 Ｏ3 ：１．０〜１．５、ＭｇＯ：０〜５、Ｃａ
Ｏ：０〜５、ＳｒＯ：０〜１２、ＢａＯ：０〜１２、Ｓ
ｒＯ＋ＢａＯ：６〜１２とし、所定物性値を有するガラ
ス。
ッ酸及び塩酸の浸漬によるガラスの重量減が少なく、溶
解・成形が容易な無アルカリガラスを得る。 【解決手段】モル％で、ＳｉＯ2 ：６０〜７４、Ａｌ2
Ｏ3 ：１０〜１６、Ｂ2Ｏ3 ：１０〜１２、Ａｌ2 Ｏ3
／Ｂ2 Ｏ3 ：１．０〜１．５、ＭｇＯ：０〜５、Ｃａ
Ｏ：０〜５、ＳｒＯ：０〜１２、ＢａＯ：０〜１２、Ｓ
ｒＯ＋ＢａＯ：６〜１２とし、所定物性値を有するガラ
ス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種ディスプレイ
やフォトマスク用基板ガラスとして好適な、アルカリ金
属酸化物を実質上含有しない無アルカリガラスに関す
る。
やフォトマスク用基板ガラスとして好適な、アルカリ金
属酸化物を実質上含有しない無アルカリガラスに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、各種ディスプレイ用基板ガラス、
特に表面に金属ないし酸化物薄膜、薄膜トランジスタ等
を形成させるものでは、以下に示す特性が要求されてい
る。
特に表面に金属ないし酸化物薄膜、薄膜トランジスタ等
を形成させるものでは、以下に示す特性が要求されてい
る。
【０００３】（１）アルカリ金属酸化物を含有している
と、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を
劣化させるため、実質的にアルカリ金属イオンを含まな
いこと。
と、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を
劣化させるため、実質的にアルカリ金属イオンを含まな
いこと。
【０００４】（２）薄膜形成工程で高温にさらされるた
め、ガラスの変形及びガラスの構造安定化に伴う熱変形
や熱収縮を最小限に抑えるように、高い歪点を有するこ
と。
め、ガラスの変形及びガラスの構造安定化に伴う熱変形
や熱収縮を最小限に抑えるように、高い歪点を有するこ
と。
【０００５】（３）半導体形成に用いられる各種薬品に
対して充分な化学耐久性を有すること。特にＳｉＯx や
ＳｉＮx のエッチングのためのフッ酸、フッ化アンモニ
ウム等を主成分とするバッファードフッ酸（ＢＨＦ）及
び透明導電膜（ＩＴＯ膜など）のエッチングに用いられ
る塩酸を含有する薬液に対して、耐久性があること。
対して充分な化学耐久性を有すること。特にＳｉＯx や
ＳｉＮx のエッチングのためのフッ酸、フッ化アンモニ
ウム等を主成分とするバッファードフッ酸（ＢＨＦ）及
び透明導電膜（ＩＴＯ膜など）のエッチングに用いられ
る塩酸を含有する薬液に対して、耐久性があること。
【０００６】（４）内部及び表面に欠点（泡、脈理、イ
ンクルージョン、ピット、傷、等）がないこと。
ンクルージョン、ピット、傷、等）がないこと。
【０００７】現在、各種ディスプレイやフォトマスク用
基板ガラスとして米国コーニング社製の無アルカリガラ
ス（コードＮｏ．７０５９）が広く用いられている。し
かし、このガラスには以下に示すようないくつかの問題
点があった。
基板ガラスとして米国コーニング社製の無アルカリガラ
ス（コードＮｏ．７０５９）が広く用いられている。し
かし、このガラスには以下に示すようないくつかの問題
点があった。
【０００８】（１）歪点が５９３℃と低いため、ディス
プレイ作製工程におけるガラスの収縮を低減するための
前処理を、工程前に行わなければならない。
プレイ作製工程におけるガラスの収縮を低減するための
前処理を、工程前に行わなければならない。
【０００９】（２）金属電極やＩＴＯのエッチングに用
いられる塩酸等への溶出量が多く、ディスプレイ作製工
程中で溶出物が再結晶するなどして、ディスプレイ作製
に困難な点がある。
いられる塩酸等への溶出量が多く、ディスプレイ作製工
程中で溶出物が再結晶するなどして、ディスプレイ作製
に困難な点がある。
【００１０】かかる問題の解決に加えて、近年では、デ
ィスプレイ作製時の昇降温の速度を上げ、生産のスルー
プットを上げるため、熱衝撃性に対して強い、熱膨張係
数の小さなガラスが要求されている。
ィスプレイ作製時の昇降温の速度を上げ、生産のスルー
プットを上げるため、熱衝撃性に対して強い、熱膨張係
数の小さなガラスが要求されている。
【００１１】特開平１−１６０８４４（対応米国特許番
号第４８２４８０８号）には、６２５℃以上の歪点を有
する無アルカリガラスが開示されているが、その歪点は
６５０℃を超えるものではない。
号第４８２４８０８号）には、６２５℃以上の歪点を有
する無アルカリガラスが開示されているが、その歪点は
６５０℃を超えるものではない。
【００１２】特開平４−１６００３０には、ＳｒＯとＢ
ａＯとのそれぞれの量及び合量を所定量以下に制限した
無アルカリガラスが開示されており、一部の実施例は、
６５０℃以上の歪点と３０〜４０×１０-7／℃の熱膨張
係数とを有する。しかし、これらの実施例は、失透温度
が、成形の目安となる１０4 ポイズの粘度を有する温度
に比べて高く、フロート法などによる成形が困難であ
る。
ａＯとのそれぞれの量及び合量を所定量以下に制限した
無アルカリガラスが開示されており、一部の実施例は、
６５０℃以上の歪点と３０〜４０×１０-7／℃の熱膨張
係数とを有する。しかし、これらの実施例は、失透温度
が、成形の目安となる１０4 ポイズの粘度を有する温度
に比べて高く、フロート法などによる成形が困難であ
る。
【００１３】特開平６−２６３４７３（対応米国特許番
号５３７４５９５号）には、６５０℃を超える歪点と３
０〜４０×１０-7／℃の熱膨張係数とを有する無アルカ
リガラスが開示されているが、ＢＨＦに対する耐性につ
いての評価はなされていない。
号５３７４５９５号）には、６５０℃を超える歪点と３
０〜４０×１０-7／℃の熱膨張係数とを有する無アルカ
リガラスが開示されているが、ＢＨＦに対する耐性につ
いての評価はなされていない。
【００１４】特開平１−２０１０４１には、６００℃以
上の歪点と４０〜５０×１０-7／℃の熱膨張係数を有す
る無アルカリガラスが開示されている。
上の歪点と４０〜５０×１０-7／℃の熱膨張係数を有す
る無アルカリガラスが開示されている。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
欠点を解決し、６５０℃を超える歪点と４０×１０-7／
℃以下の平均熱膨張係数（５０〜３００℃）とを有し、
ＢＨＦ、及び塩酸の浸漬によるガラスの重量減が少な
く、溶解・成形が容易な無アルカリガラスを提供するこ
とにある。
欠点を解決し、６５０℃を超える歪点と４０×１０-7／
℃以下の平均熱膨張係数（５０〜３００℃）とを有し、
ＢＨＦ、及び塩酸の浸漬によるガラスの重量減が少な
く、溶解・成形が容易な無アルカリガラスを提供するこ
とにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は、実質的に、 ＳｉＯ2 ：６０〜７４モル％、 Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６モル％、 Ｂ2 Ｏ3 ：１０〜１２モル％、 Ａｌ2 Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ3 ：１．０〜１．５（モル比）、 ＭｇＯ ： ０〜 ５モル％、 ＣａＯ ： ０〜 ５モル％、 ＳｒＯ ： ０〜１２モル％、 ＢａＯ ： ０〜１２モル％、 ＳｒＯ＋ＢａＯ ： ６〜１２モル％、からなる組
成を有し、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず
（０．１モル％以下）、６５０℃を超える歪点、５０〜
３００℃で４０×１０-7／℃以下の平均熱膨張係数を有
し、濃度４０重量％のフッ化アンモニウム水溶液と濃度
５０重量％のフッ酸水溶液とを体積比で９：１に混合し
た液中に２５℃で２０分浸漬した後の単位面積あたりの
重量減少量が０．６０ｍｇ／ｃｍ2 未満、０．１規定の
塩酸水溶液中に９５℃で２０時間浸漬した後の単位面積
あたりの重量減少量が０．２０ｍｇ／ｃｍ2 未満であ
り、失透温度が１０4 ポイズの粘度を有する温度以下で
あることを特徴とする無アルカリガラスである。
成を有し、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず
（０．１モル％以下）、６５０℃を超える歪点、５０〜
３００℃で４０×１０-7／℃以下の平均熱膨張係数を有
し、濃度４０重量％のフッ化アンモニウム水溶液と濃度
５０重量％のフッ酸水溶液とを体積比で９：１に混合し
た液中に２５℃で２０分浸漬した後の単位面積あたりの
重量減少量が０．６０ｍｇ／ｃｍ2 未満、０．１規定の
塩酸水溶液中に９５℃で２０時間浸漬した後の単位面積
あたりの重量減少量が０．２０ｍｇ／ｃｍ2 未満であ
り、失透温度が１０4 ポイズの粘度を有する温度以下で
あることを特徴とする無アルカリガラスである。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に、各成分の組成範囲を前記の
とおり限定した理由について述べる。ＳｉＯ2 は６０モ
ル％未満では、歪点が充分に上がらないとともに、化学
的耐久性が悪化し、熱膨張係数が増大する。７４モル％
超では、溶解性が低下し、失透温度が上昇する。好まし
くは６０〜７２モル％である。
とおり限定した理由について述べる。ＳｉＯ2 は６０モ
ル％未満では、歪点が充分に上がらないとともに、化学
的耐久性が悪化し、熱膨張係数が増大する。７４モル％
超では、溶解性が低下し、失透温度が上昇する。好まし
くは６０〜７２モル％である。
【００１８】Ａｌ2 Ｏ3 及びＢ2 Ｏ3 の含有量並びにこ
れらの量の関係は、ガラスが高い歪点、低い熱膨張係
数、及び高い耐薬品性を併せて備えるために重要であ
る。
れらの量の関係は、ガラスが高い歪点、低い熱膨張係
数、及び高い耐薬品性を併せて備えるために重要であ
る。
【００１９】Ａｌ2 Ｏ3 はガラスの分相性を抑制し、熱
膨張係数を下げ、歪点を上げるが、１０モル％未満では
この効果が現れず、１６モル％超ではガラスの溶解性が
悪くなる。
膨張係数を下げ、歪点を上げるが、１０モル％未満では
この効果が現れず、１６モル％超ではガラスの溶解性が
悪くなる。
【００２０】Ｂ2 Ｏ3 はＢＨＦによるガラスの重量減少
量を抑制し、かつ、白濁発生を防止するが、これが多い
と、塩酸に対して、アルカリ土類の溶出（リーチング）
によるガラスの減少量が多くなる。すなわち、Ｂ2 Ｏ3
は１０モル％未満では耐ＢＨＦ性が悪化し、１２モル％
超では耐ＨＣｌ性が悪くなるとともに歪点が低くなる。
より好ましくは１０．５〜１１．５モル％である。
量を抑制し、かつ、白濁発生を防止するが、これが多い
と、塩酸に対して、アルカリ土類の溶出（リーチング）
によるガラスの減少量が多くなる。すなわち、Ｂ2 Ｏ3
は１０モル％未満では耐ＢＨＦ性が悪化し、１２モル％
超では耐ＨＣｌ性が悪くなるとともに歪点が低くなる。
より好ましくは１０．５〜１１．５モル％である。
【００２１】Ａｌ2 Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ3 （モル比）は、１．
０未満では、相対的にＡｌ2 Ｏ3 の量が低下して、歪点
が低くなる。１．５超では、耐ＢＨＦ性が低下する。
０未満では、相対的にＡｌ2 Ｏ3 の量が低下して、歪点
が低くなる。１．５超では、耐ＢＨＦ性が低下する。
【００２２】ＭｇＯはアルカリ土類中では、膨張を低く
し、かつ歪点が低下しないという特徴を有するため、必
須ではないが添加することが好ましい。しかし５モル％
超では、ＢＨＦによる白濁やガラスの分相、失透温度の
上昇につながる。
し、かつ歪点が低下しないという特徴を有するため、必
須ではないが添加することが好ましい。しかし５モル％
超では、ＢＨＦによる白濁やガラスの分相、失透温度の
上昇につながる。
【００２３】ＣａＯは必須ではないが溶解性の向上のた
め添加することが好ましい。しかし５モル％超では、熱
膨張係数が大きくなり、また失透温度を上昇させる。
め添加することが好ましい。しかし５モル％超では、熱
膨張係数が大きくなり、また失透温度を上昇させる。
【００２４】ＳｒＯは必須ではないが、ガラスの分相を
抑制し、ＢＨＦによる白濁に対し比較的有用な成分であ
るため、含有することができる。１２モル％超では熱膨
張係数が増大する。好ましくは３〜５モル％である。
抑制し、ＢＨＦによる白濁に対し比較的有用な成分であ
るため、含有することができる。１２モル％超では熱膨
張係数が増大する。好ましくは３〜５モル％である。
【００２５】ＢａＯは必須ではないが、ガラスの分相を
抑制し、溶解性を向上させ、失透温度を抑制する効果が
あり、含有することができる。１２モル％超では熱膨張
係数が増大し、耐酸性等の化学的耐久性も劣化する。好
ましくは３〜５モル％である。
抑制し、溶解性を向上させ、失透温度を抑制する効果が
あり、含有することができる。１２モル％超では熱膨張
係数が増大し、耐酸性等の化学的耐久性も劣化する。好
ましくは３〜５モル％である。
【００２６】ＳｒＯとＢａＯとは、失透温度が１０4 ポ
イズの粘度を有する温度以下になるようにして、フロー
ト成形が容易にできるようにするために、合量で最低で
も６モル％含有する必要がある。他方、１２モル％超で
は、熱膨張係数が大きくなりすぎるおそれがある。
イズの粘度を有する温度以下になるようにして、フロー
ト成形が容易にできるようにするために、合量で最低で
も６モル％含有する必要がある。他方、１２モル％超で
は、熱膨張係数が大きくなりすぎるおそれがある。
【００２７】本発明によるガラスは上記成分以外にガラ
スの溶解性、清澄性、成形性を改善するため、ＺｎＯ、
Ｆｅ2 Ｏ3 、ＳＯ3 、Ｆ、Ｃｌを総量で５モル％以下添
加できる。
スの溶解性、清澄性、成形性を改善するため、ＺｎＯ、
Ｆｅ2 Ｏ3 、ＳＯ3 、Ｆ、Ｃｌを総量で５モル％以下添
加できる。
【００２８】本発明のガラスはアルカリ金属酸化物を実
質的に含有しない。また、Ｐ2 Ｏ5、ＰｂＯを実質的に
含有しないことが好ましい。これは、本発明の好ましい
用途であるディスプレイ用途に用いた場合に、基板上に
形成されるトランジスタ等の被膜に悪影響を与えるおそ
れがあるからである。
質的に含有しない。また、Ｐ2 Ｏ5、ＰｂＯを実質的に
含有しないことが好ましい。これは、本発明の好ましい
用途であるディスプレイ用途に用いた場合に、基板上に
形成されるトランジスタ等の被膜に悪影響を与えるおそ
れがあるからである。
【００２９】本発明のガラスは、６５０℃を超える歪点
を有するため、徐冷条件によっては、ディスプレイ作製
工程におけるガラスの収縮を低減するための前処理を、
不要にできる。また、５０〜３００℃で４０×１０-7／
℃以下の平均熱膨張係数を有するため、比較的熱衝撃性
に対して強く、生産のスループットを向上できる。平均
熱膨張係数は、好ましくは５０〜３００℃で３０×１０
-7〜４０×１０-7／℃である。
を有するため、徐冷条件によっては、ディスプレイ作製
工程におけるガラスの収縮を低減するための前処理を、
不要にできる。また、５０〜３００℃で４０×１０-7／
℃以下の平均熱膨張係数を有するため、比較的熱衝撃性
に対して強く、生産のスループットを向上できる。平均
熱膨張係数は、好ましくは５０〜３００℃で３０×１０
-7〜４０×１０-7／℃である。
【００３０】さらに、濃度４０重量％のフッ化アンモニ
ウム水溶液と濃度５０重量％のフッ酸水溶液とを体積比
で９：１に混合した液中に２５℃で２０分浸漬した後の
単位面積あたりの重量減少量が０．６０ｍｇ／ｃｍ2 未
満、０．１規定の塩酸水溶液中に９５℃で２０時間浸漬
した後の単位面積あたりの重量減少量が０．２０ｍｇ／
ｃｍ2 未満であるため、薄膜トランジスタ方式の液晶表
示パネル基板として用いた場合でもパネル製作工程での
薬品処理に充分耐えうる。耐ＨＣｌ性は前記重量減少が
０．１８ｍｇ／ｃｍ2 未満であることがより望ましく、
耐ＢＨＦ性は前記重量減少が０．５８ｍｇ／ｃｍ2 未
満、特に０．５６ｍｇ／ｃｍ2 未満であることがより望
ましい。
ウム水溶液と濃度５０重量％のフッ酸水溶液とを体積比
で９：１に混合した液中に２５℃で２０分浸漬した後の
単位面積あたりの重量減少量が０．６０ｍｇ／ｃｍ2 未
満、０．１規定の塩酸水溶液中に９５℃で２０時間浸漬
した後の単位面積あたりの重量減少量が０．２０ｍｇ／
ｃｍ2 未満であるため、薄膜トランジスタ方式の液晶表
示パネル基板として用いた場合でもパネル製作工程での
薬品処理に充分耐えうる。耐ＨＣｌ性は前記重量減少が
０．１８ｍｇ／ｃｍ2 未満であることがより望ましく、
耐ＢＨＦ性は前記重量減少が０．５８ｍｇ／ｃｍ2 未
満、特に０．５６ｍｇ／ｃｍ2 未満であることがより望
ましい。
【００３１】また、失透温度が１０4 ポイズの粘度を有
する温度以下であるため、成形が容易である。特に、大
量生産に適したフロート法による製造ができる。
する温度以下であるため、成形が容易である。特に、大
量生産に適したフロート法による製造ができる。
【００３２】本発明のガラスは、例えば、次のような方
法で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標成
分になるように調合し、これを溶解炉に連続的に投入し
１５００〜１６００℃に加熱して溶解する。この溶融ガ
ラスをフロート法、ダウンドロー法などにより所定の板
厚に成形し、徐冷後切断する。
法で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標成
分になるように調合し、これを溶解炉に連続的に投入し
１５００〜１６００℃に加熱して溶解する。この溶融ガ
ラスをフロート法、ダウンドロー法などにより所定の板
厚に成形し、徐冷後切断する。
【００３３】
【実施例】表１〜表１０に実験例を示す。表示は各組成
をモル％（ｍｏｌ％）、重量％（ｗｔ％）、カチオン％
（ｃａｔ％）の３種類の表示で併記した。
をモル％（ｍｏｌ％）、重量％（ｗｔ％）、カチオン％
（ｃａｔ％）の３種類の表示で併記した。
【００３４】各成分の原料を目標組成になるように調合
し、白金るつぼを用いて、１５００〜１６００℃の温度
で溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを用い、
撹拌しガラスの均質化を行った。次いで溶解ガラスを流
し出し、板状に成形後徐冷した。表には、ガラス組成
と、熱膨張係数α、高温粘度値（ｌｏｇη＝２．５すな
わち粘度が１０2.5 ポイズとなる温度Ｔ2.5 及びｌｏｇ
η＝４．０すなわち粘度が１０4.0 ポイズとなる温度Ｔ
4.0 ）、失透温度、歪点、密度、耐ＢＨＦ性、耐ＨＣｌ
性を示した。
し、白金るつぼを用いて、１５００〜１６００℃の温度
で溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを用い、
撹拌しガラスの均質化を行った。次いで溶解ガラスを流
し出し、板状に成形後徐冷した。表には、ガラス組成
と、熱膨張係数α、高温粘度値（ｌｏｇη＝２．５すな
わち粘度が１０2.5 ポイズとなる温度Ｔ2.5 及びｌｏｇ
η＝４．０すなわち粘度が１０4.0 ポイズとなる温度Ｔ
4.0 ）、失透温度、歪点、密度、耐ＢＨＦ性、耐ＨＣｌ
性を示した。
【００３５】このうち、ｌｏｇη＝２．５の温度の低さ
は溶解の容易さの目安であり、ｌｏｇη＝４．０の温度
が失透温度よりも高いことは成形の容易さを示す目安で
ある。
は溶解の容易さの目安であり、ｌｏｇη＝４．０の温度
が失透温度よりも高いことは成形の容易さを示す目安で
ある。
【００３６】耐ＨＣｌ性は、０．１規定の塩酸水溶液中
に９５℃で２０時間浸漬した後のガラスの単位面積あた
りの重量減少量（ｍｇ／ｃｍ2 ）を示した。
に９５℃で２０時間浸漬した後のガラスの単位面積あた
りの重量減少量（ｍｇ／ｃｍ2 ）を示した。
【００３７】耐ＢＨＦ性は、濃度４０重量％のフッ化ア
ンモニウム水溶液と、濃度５０重量％のフッ酸水溶液と
を体積比で９：１に混合した液中に２５℃で２０分浸漬
した後の単位面積あたりの重量減少量（ｍｇ／ｃｍ2 ）
を示した。
ンモニウム水溶液と、濃度５０重量％のフッ酸水溶液と
を体積比で９：１に混合した液中に２５℃で２０分浸漬
した後の単位面積あたりの重量減少量（ｍｇ／ｃｍ2 ）
を示した。
【００３８】表１〜表８に記載した例１〜例３９は本発
明の実施例である。一方、表９、表１０の例４０〜例４
６は比較例である。
明の実施例である。一方、表９、表１０の例４０〜例４
６は比較例である。
【００３９】例４０は、過剰のＢ2 Ｏ3 を添加した例で
ある。歪点が低くなるとともに、耐ＨＣｌ性が低下して
いる。一方、例４１、例４２は、Ｂ2 Ｏ3 が不足した例
である。歪点、耐ＨＣｌ性は良好であるが、耐ＢＨＦ性
が低下している。
ある。歪点が低くなるとともに、耐ＨＣｌ性が低下して
いる。一方、例４１、例４２は、Ｂ2 Ｏ3 が不足した例
である。歪点、耐ＨＣｌ性は良好であるが、耐ＢＨＦ性
が低下している。
【００４０】例４３は、Ｂ2 Ｏ3 は適量としたが、相対
的にＡｌ2 Ｏ3 を増やして、Ａｌ2Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ3 比を
過剰に大きくした例である。やはり、耐ＢＨＦ性の低下
が見られる。
的にＡｌ2 Ｏ3 を増やして、Ａｌ2Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ3 比を
過剰に大きくした例である。やはり、耐ＢＨＦ性の低下
が見られる。
【００４１】例４４は、逆にＡｌ2 Ｏ3 は適量とした
が、相対的にＢ2 Ｏ3 を増やして、Ａｌ2 Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ
3 比を不適当に小さくした例である。歪点が低くなると
ともに、耐ＨＣｌ性が低下している。
が、相対的にＢ2 Ｏ3 を増やして、Ａｌ2 Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ
3 比を不適当に小さくした例である。歪点が低くなると
ともに、耐ＨＣｌ性が低下している。
【００４２】例４５、例４６は、ＳｒＯ＋ＢａＯを不適
当に少なくした例である。失透温度が１０4 ポイズの粘
度を有する温度を超えており、成形性に難がある。
当に少なくした例である。失透温度が１０4 ポイズの粘
度を有する温度を超えており、成形性に難がある。
【００４３】
【表１】
【００４４】
【表２】
【００４５】
【表３】
【００４６】
【表４】
【００４７】
【表５】
【００４８】
【表６】
【００４９】
【表７】
【００５０】
【表８】
【００５１】
【表９】
【００５２】
【表１０】
【００５３】
【発明の効果】本発明によれば、ディスプレイの基板用
途に用いた場合に、基板上に形成されるトランジスタ等
の被膜に悪影響を与えるおそれのないガラスが得られ
る。本発明のガラスは、徐冷条件によっては、ディスプ
レイ作製工程におけるガラスの収縮を低減するための前
処理を、不要にできる。また、熱衝撃性に対して強く、
ディスプレイパネル等の生産のスループットを向上でき
る。
途に用いた場合に、基板上に形成されるトランジスタ等
の被膜に悪影響を与えるおそれのないガラスが得られ
る。本発明のガラスは、徐冷条件によっては、ディスプ
レイ作製工程におけるガラスの収縮を低減するための前
処理を、不要にできる。また、熱衝撃性に対して強く、
ディスプレイパネル等の生産のスループットを向上でき
る。
【００５４】さらに、耐ＢＨＦ性、耐ＨＣｌ性も良好
で、薄膜トランジスタ方式の液晶表示パネル基板として
用いた場合でもパネル製作工程での薬品処理に充分耐え
うる。また、溶解、成形が比較的容易である。特に、大
量生産に適したフロート法による製造が可能である。
で、薄膜トランジスタ方式の液晶表示パネル基板として
用いた場合でもパネル製作工程での薬品処理に充分耐え
うる。また、溶解、成形が比較的容易である。特に、大
量生産に適したフロート法による製造が可能である。
Claims (4)
- 【請求項１】実質的に、 ＳｉＯ2 ：６０〜７４モル％、 Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６モル％、 Ｂ2 Ｏ3 ：１０〜１２モル％、 Ａｌ2 Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ3 ：１．０〜１．５（モル比）、 ＭｇＯ ： ０〜 ５モル％、 ＣａＯ ： ０〜 ５モル％、 ＳｒＯ ： ０〜１２モル％、 ＢａＯ ： ０〜１２モル％、 ＳｒＯ＋ＢａＯ ： ６〜１２モル％、からなる組
成を有し、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、６
５０℃を超える歪点、５０〜３００℃で４０×１０-7／
℃以下の平均熱膨張係数を有し、濃度４０重量％のフッ
化アンモニウム水溶液と濃度５０重量％のフッ酸水溶液
とを体積比で９：１に混合した液中に２５℃で２０分浸
漬した後の単位面積あたりの重量減少量が０．６０ｍｇ
／ｃｍ2 未満、０．１規定の塩酸水溶液中に９５℃で２
０時間浸漬した後の単位面積あたりの重量減少量が０．
２０ｍｇ／ｃｍ2 未満であり、失透温度が１０4 ポイズ
の粘度を有する温度以下であることを特徴とする無アル
カリガラス。 - 【請求項２】実質的に、 ＳｉＯ2 ：６０〜７４モル％、 Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６モル％、 Ｂ2 Ｏ3 ：１０〜１２モル％、 Ａｌ2 Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ3 ：１．０〜１．５（モル比）、 ＭｇＯ ： ０〜 ５モル％、 ＣａＯ ： ０〜 ５モル％、 ＳｒＯ ： ３〜 ５モル％、 ＢａＯ ： ３〜 ５モル％、からなる組
成を有する請求項１記載の無アルカリガラス。 - 【請求項３】実質的に、 ＳｉＯ2 ：６０〜７２モル％、 Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６モル％、 Ｂ2 Ｏ3 ：１０．５〜１１．５モル％、 Ａｌ2 Ｏ3 ／Ｂ2 Ｏ3 ：１．０〜１．５（モル比）、 ＭｇＯ ： ０〜 ５モル％、 ＣａＯ ： ０〜 ５モル％、 ＳｒＯ ： ３〜 ５モル％、 ＢａＯ ： ３〜 ５モル％、からなる組
成を有する請求項１記載の無アルカリガラス。 - 【請求項４】請求項１、２又は３記載の無アルカリガラ
スを用いたディスプレイ用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19804296A JP3804111B2 (ja) | 1995-07-28 | 1996-07-26 | 無アルカリガラス及びディスプレイ用基板 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-193441 | 1995-07-28 | ||
| JP19344195 | 1995-07-28 | ||
| JP19804296A JP3804111B2 (ja) | 1995-07-28 | 1996-07-26 | 無アルカリガラス及びディスプレイ用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09100135A true JPH09100135A (ja) | 1997-04-15 |
| JP3804111B2 JP3804111B2 (ja) | 2006-08-02 |
Family
ID=26507890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19804296A Expired - Fee Related JP3804111B2 (ja) | 1995-07-28 | 1996-07-26 | 無アルカリガラス及びディスプレイ用基板 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3804111B2 (ja) |
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-
1996
- 1996-07-26 JP JP19804296A patent/JP3804111B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US6852658B2 (en) | 2000-01-12 | 2005-02-08 | Schott Glas | Flat panel liquid-crystal display, such as for a laptop computer |
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|---|---|
| JP3804111B2 (ja) | 2006-08-02 |
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