JP2001089191A - ディスプレイ用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造されたディスプレイ用ガラス基板 - Google Patents
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造されたディスプレイ用ガラス基板Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フロート法によって製造されたガラス基板の
表面に形成された還元性異質層を効率的に且つ低コスト
で除去することが可能なディスプレイ用ガラス基板の製
造方法、及び該製造方法により製造されたディスプレイ
用ガラス基板を提供する。 【解決手段】 浴槽１はフッ酸液から成るエッチング液
２で満たされている。このエッチング液２の中に、フロ
ート法により製造された複数のガラス基板３を夫々直立
状態で浸漬することにより、ガラス基板３の表面に形成
された還元性異質層（錫を含む）をエッチングによって
除去する。
表面に形成された還元性異質層を効率的に且つ低コスト
で除去することが可能なディスプレイ用ガラス基板の製
造方法、及び該製造方法により製造されたディスプレイ
用ガラス基板を提供する。 【解決手段】 浴槽１はフッ酸液から成るエッチング液
２で満たされている。このエッチング液２の中に、フロ
ート法により製造された複数のガラス基板３を夫々直立
状態で浸漬することにより、ガラス基板３の表面に形成
された還元性異質層（錫を含む）をエッチングによって
除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ用ガ
ラス基板の製造方法及び該製造方法により製造されたデ
ィスプレイ用ガラス基板に関する。
ラス基板の製造方法及び該製造方法により製造されたデ
ィスプレイ用ガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）、電子線励起ディスプレイ（ＦＥＤ、表面伝導型放
出素子（ＳＥＤ）を含む）等に用いられるディスプレイ
用ガラス基板は、フロート法により製造された板ガラス
から作製される。このフロート法は、錫等の溶融錫浴の
上に溶融ガラスを浮かべて板ガラスを製造するものであ
り、大面積の板ガラスを安定的にしかも安価に大量生産
することができるため、例えば、４０インチのように大
きな表示面積が要求され、且つ大量生産がなされる上記
のＰＤＰやＦＥＤに用いられるディスプレイ用ガラス基
板を作製するための板ガラスの製造に適している。
Ｐ）、電子線励起ディスプレイ（ＦＥＤ、表面伝導型放
出素子（ＳＥＤ）を含む）等に用いられるディスプレイ
用ガラス基板は、フロート法により製造された板ガラス
から作製される。このフロート法は、錫等の溶融錫浴の
上に溶融ガラスを浮かべて板ガラスを製造するものであ
り、大面積の板ガラスを安定的にしかも安価に大量生産
することができるため、例えば、４０インチのように大
きな表示面積が要求され、且つ大量生産がなされる上記
のＰＤＰやＦＥＤに用いられるディスプレイ用ガラス基
板を作製するための板ガラスの製造に適している。
【０００３】また、板ガラスをフロート法によって製造
する場合、製板工程においてボトム面（板ガラスの下
面）がフロートバス中で溶融錫浴と接触すると共にトッ
プ面（板ガラスの上面）がフロートバス中で溶融錫の蒸
気に晒されるので、ボトム面及びトップ面共に金属成分
がイオンとして表面層に侵入する。
する場合、製板工程においてボトム面（板ガラスの下
面）がフロートバス中で溶融錫浴と接触すると共にトッ
プ面（板ガラスの上面）がフロートバス中で溶融錫の蒸
気に晒されるので、ボトム面及びトップ面共に金属成分
がイオンとして表面層に侵入する。
【０００４】一方、上記のＰＤＰやＦＥＤに用いられる
ディスプレイ用ガラス基板の作製方法としては、まず、
前面用ガラス基板と背面用ガラス基板とを対向配置し、
これらのガラス基板の内側面上に銀（Ａｇ）等の金属ペ
ーストや絶縁ペーストを塗布・焼成することによって、
銀等の金属電極、誘電体層、隔壁、蛍光体等を形成し、
次いで、前面用ガラス基板と背面用ガラス基板を低融点
封着ガラスでシールし、内部にキセノンと主放電ガスの
ネオンとの混合ガスを封入し気密封止する方法が採られ
る。
ディスプレイ用ガラス基板の作製方法としては、まず、
前面用ガラス基板と背面用ガラス基板とを対向配置し、
これらのガラス基板の内側面上に銀（Ａｇ）等の金属ペ
ーストや絶縁ペーストを塗布・焼成することによって、
銀等の金属電極、誘電体層、隔壁、蛍光体等を形成し、
次いで、前面用ガラス基板と背面用ガラス基板を低融点
封着ガラスでシールし、内部にキセノンと主放電ガスの
ネオンとの混合ガスを封入し気密封止する方法が採られ
る。
【０００５】一般に、上記ガラス基板の内側面への金属
電極、例えば銀電極の形成は、安価なスクリーン印刷法
等により成膜の形で行われるが、その際、銀電極の銀成
分がガラス基板表面の還元性異質層に存在する錫と反応
して金属コロイド化するため電極部のみならずその周辺
部に発色が現れ、これにより、例えば透明性、色バラン
ス等のプラズマディスプレイの表示性能が損なわれる。
電極、例えば銀電極の形成は、安価なスクリーン印刷法
等により成膜の形で行われるが、その際、銀電極の銀成
分がガラス基板表面の還元性異質層に存在する錫と反応
して金属コロイド化するため電極部のみならずその周辺
部に発色が現れ、これにより、例えば透明性、色バラン
ス等のプラズマディスプレイの表示性能が損なわれる。
【０００６】そこで、従来、上記銀電極の成膜の際の発
色を防止するために、該還元性異質層の上にスパッタリ
ングやＣＶＤによりＳｉＯ2のバリア層を形成して銀の
影響を抑制したり、フロート法による製板時に還元性異
質層が形成されないような特別なガラス組成のガラス基
板を使用したりしている。しかしながら、上記バリア層
を形成する場合には、スパッタリング装置、ＣＶＤ装置
等の設備を必要とし製造コストや保守コストが高いばか
りでなく、バリア層の信頼性が不確実で発色を確実に防
止することができず、また、バリア層と銀電極との密着
性が十分でない場合があるという問題がある。さらに、
例えばアルカリ成分が少ない上記特別なガラス組成のガ
ラス基板を使用する場合には、組成の検討が必要で且つ
フロート窯のガラス素地を変更しなければならず製造コ
ストが高いという問題がある。
色を防止するために、該還元性異質層の上にスパッタリ
ングやＣＶＤによりＳｉＯ2のバリア層を形成して銀の
影響を抑制したり、フロート法による製板時に還元性異
質層が形成されないような特別なガラス組成のガラス基
板を使用したりしている。しかしながら、上記バリア層
を形成する場合には、スパッタリング装置、ＣＶＤ装置
等の設備を必要とし製造コストや保守コストが高いばか
りでなく、バリア層の信頼性が不確実で発色を確実に防
止することができず、また、バリア層と銀電極との密着
性が十分でない場合があるという問題がある。さらに、
例えばアルカリ成分が少ない上記特別なガラス組成のガ
ラス基板を使用する場合には、組成の検討が必要で且つ
フロート窯のガラス素地を変更しなければならず製造コ
ストが高いという問題がある。
【０００７】このため、通常は、フロート法によって製
造されたガラス基板の面であって、銀電極が成膜される
面に形成された還元性異質層を研磨機によって１０〜１
００μｍ程度研磨することにより除去する方法が用いら
れている（例えば、特開平１０−２５５６６９号公
報）。
造されたガラス基板の面であって、銀電極が成膜される
面に形成された還元性異質層を研磨機によって１０〜１
００μｍ程度研磨することにより除去する方法が用いら
れている（例えば、特開平１０−２５５６６９号公
報）。
【０００８】また、特開平１０−１４４２０８号公報に
は、上記の機械的研磨の代わりに化学的研磨法、すなわ
ち過酸化水素と１水素２弗化アンモニウムの混合水溶液
を用いるエッチング法により、ガラス表面の還元異質層
（錫含有層）を除去する方法が記載されている（例え
ば、特開平１０−１４４２０８号公報）。
は、上記の機械的研磨の代わりに化学的研磨法、すなわ
ち過酸化水素と１水素２弗化アンモニウムの混合水溶液
を用いるエッチング法により、ガラス表面の還元異質層
（錫含有層）を除去する方法が記載されている（例え
ば、特開平１０−１４４２０８号公報）。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記研
磨機によりガラス基板を研磨する際には、例えば、研磨
剤として酸化セリウムを使用する場合、１０μｍ研磨す
るのに少なくとも３０分という長い時間を必要し、ま
た、例えば、研磨機としてオスカー式研磨機を使用する
場合は、研磨しようとするガラス基板の大きさの２倍以
上の研磨定盤を必要とし、その結果この研磨定盤の平坦
性を維持するのが困難であり、且つガラス基板の周辺部
は研磨され易いが中央部は研磨されにくいため、ガラス
基板全体を均一に研磨するのが困難であるという問題が
ある。
磨機によりガラス基板を研磨する際には、例えば、研磨
剤として酸化セリウムを使用する場合、１０μｍ研磨す
るのに少なくとも３０分という長い時間を必要し、ま
た、例えば、研磨機としてオスカー式研磨機を使用する
場合は、研磨しようとするガラス基板の大きさの２倍以
上の研磨定盤を必要とし、その結果この研磨定盤の平坦
性を維持するのが困難であり、且つガラス基板の周辺部
は研磨され易いが中央部は研磨されにくいため、ガラス
基板全体を均一に研磨するのが困難であるという問題が
ある。
【００１０】また、上記化学的研磨法によれば、ガラス
のエッチング除去速度が約０．５μｍ／分と小さいので
異質層の除去に長時間を要し、除去加工の経済性がよく
ないという問題点があった。さらに、反応活性である過
酸化水素をエッチング液に使用するので、エッチング液
の安定性がよくなく、また、１水素２弗化アンモニウム
の混合水溶液をエッチング液に用いるので、ガラス表面
にフッ化物が生成し易いという問題があった。
のエッチング除去速度が約０．５μｍ／分と小さいので
異質層の除去に長時間を要し、除去加工の経済性がよく
ないという問題点があった。さらに、反応活性である過
酸化水素をエッチング液に使用するので、エッチング液
の安定性がよくなく、また、１水素２弗化アンモニウム
の混合水溶液をエッチング液に用いるので、ガラス表面
にフッ化物が生成し易いという問題があった。
【００１１】本発明の目的は、上記問題点を解決するた
めに、フロート法によって製造されたガラス基板の表面
に形成された還元性異質層を効率的に且つ低コストで除
去することが可能なディスプレイ用ガラス基板の製造方
法、及び該製造方法により製造されたディスプレイ用ガ
ラス基板を提供することにある。
めに、フロート法によって製造されたガラス基板の表面
に形成された還元性異質層を効率的に且つ低コストで除
去することが可能なディスプレイ用ガラス基板の製造方
法、及び該製造方法により製造されたディスプレイ用ガ
ラス基板を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方
法は、フロート法によって製造されたガラス基板の表面
に形成された還元性異質層のうち、前記ガラス基板の少
なくともトップ面に形成された還元性異質層を主成分が
フッ酸であるエッチング液を用いたエッチングによって
除去することを特徴とする。
に、請求項１記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方
法は、フロート法によって製造されたガラス基板の表面
に形成された還元性異質層のうち、前記ガラス基板の少
なくともトップ面に形成された還元性異質層を主成分が
フッ酸であるエッチング液を用いたエッチングによって
除去することを特徴とする。
【００１３】一般的に、ボトム面（ガラス基板の下面）
においては厚さが少なくとも１００μｍ、トップ面（ガ
ラス基板の上面）においては厚さが少なくとも５μｍの
還元性異質層（錫等の金属を含む）が形成され、製造さ
れたガラス基板を所定のサイズに切断することによりデ
ィスプレイ用ガラス基板が作製される。この際、ボトム
面は還元性異質層の厚さが厚いのに加えて傷や異物等の
付着が多いことから、還元性異質層の厚さが薄いトップ
面がディスプレイの金属電極形成用の面として使用され
る。
においては厚さが少なくとも１００μｍ、トップ面（ガ
ラス基板の上面）においては厚さが少なくとも５μｍの
還元性異質層（錫等の金属を含む）が形成され、製造さ
れたガラス基板を所定のサイズに切断することによりデ
ィスプレイ用ガラス基板が作製される。この際、ボトム
面は還元性異質層の厚さが厚いのに加えて傷や異物等の
付着が多いことから、還元性異質層の厚さが薄いトップ
面がディスプレイの金属電極形成用の面として使用され
る。
【００１４】請求項１記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、フロート法によって製造されたガ
ラス基板の表面に形成された還元性異質層のうち、前記
ガラス基板の少なくともトップ面に形成された還元性異
質層を主成分がフッ酸であるエッチング液を用いるエッ
チングによって除去するので、研磨機を使用することな
く、ガラス基板の少なくともトップ面から還元性異質層
を効率的に除去することができると共に、還元性異質層
の除去を研磨機に比べて簡単な設備で行うことができ
る。さらに、還元性異質層の除去深さを容易に変更する
ことができる。
の製造方法によれば、フロート法によって製造されたガ
ラス基板の表面に形成された還元性異質層のうち、前記
ガラス基板の少なくともトップ面に形成された還元性異
質層を主成分がフッ酸であるエッチング液を用いるエッ
チングによって除去するので、研磨機を使用することな
く、ガラス基板の少なくともトップ面から還元性異質層
を効率的に除去することができると共に、還元性異質層
の除去を研磨機に比べて簡単な設備で行うことができ
る。さらに、還元性異質層の除去深さを容易に変更する
ことができる。
【００１５】請求項２記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法は、請求項１記載のディスプレイ用ガラス基
板の製造方法において、前記還元性異質層を５〜１４μ
ｍ除去することを特徴とする。
の製造方法は、請求項１記載のディスプレイ用ガラス基
板の製造方法において、前記還元性異質層を５〜１４μ
ｍ除去することを特徴とする。
【００１６】請求項２記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、還元性異質層を５〜１４μｍ除去
するので、トップ面上の還元性異質層を完全に除去する
ことができ、ガラス基板表面の荒れを防止することがで
きる。
の製造方法によれば、還元性異質層を５〜１４μｍ除去
するので、トップ面上の還元性異質層を完全に除去する
ことができ、ガラス基板表面の荒れを防止することがで
きる。
【００１７】請求項３記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法は、請求項２記載のディスプレイ用ガラス基
板の製造方法において、前記還元性異質層を６〜１１μ
ｍ除去することを特徴とする。
の製造方法は、請求項２記載のディスプレイ用ガラス基
板の製造方法において、前記還元性異質層を６〜１１μ
ｍ除去することを特徴とする。
【００１８】請求項３記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、還元性異質層を６〜１１μｍ除去
するので、トップ面の還元性異質層を確実に除去するこ
とができ、ガラス基板の表面が荒れるのを確実に防止す
ることができる。
の製造方法によれば、還元性異質層を６〜１１μｍ除去
するので、トップ面の還元性異質層を確実に除去するこ
とができ、ガラス基板の表面が荒れるのを確実に防止す
ることができる。
【００１９】請求項４記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記エ
ッチングは、前記ガラス基板を前記エッチング液に浸漬
することにより行うことを特徴とする。
の製造方法は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記エ
ッチングは、前記ガラス基板を前記エッチング液に浸漬
することにより行うことを特徴とする。
【００２０】請求項４記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、エッチングは、ガラス基板をエッ
チング液に浸漬することにより行うので、ガラス基板の
全面に亘って還元性異質層の除去を簡単なエッチング設
備で効率的に行うことができる。
の製造方法によれば、エッチングは、ガラス基板をエッ
チング液に浸漬することにより行うので、ガラス基板の
全面に亘って還元性異質層の除去を簡単なエッチング設
備で効率的に行うことができる。
【００２１】請求項５記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法は、請求項４記載のディスプレイ用ガラス基
板の製造方法において、前記エッチング液は、温度が１
０〜３０℃であることを特徴とする。
の製造方法は、請求項４記載のディスプレイ用ガラス基
板の製造方法において、前記エッチング液は、温度が１
０〜３０℃であることを特徴とする。
【００２２】請求項５記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、エッチング液は温度が１０〜３０
℃であるので、エッチングレートを適切な値に維持しつ
つエッチングのムラの発生を防止することができる。
の製造方法によれば、エッチング液は温度が１０〜３０
℃であるので、エッチングレートを適切な値に維持しつ
つエッチングのムラの発生を防止することができる。
【００２３】請求項６記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記エ
ッチングは、前記ガラス基板の少なくともトップ面にエ
ッチング液を散布することにより行うことを特徴とす
る。
の製造方法は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記エ
ッチングは、前記ガラス基板の少なくともトップ面にエ
ッチング液を散布することにより行うことを特徴とす
る。
【００２４】請求項６記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、エッチングは、ガラス基板の少な
くともトップ面にエッチング液を散布することにより行
うので、ガラス基板の少なくともトップ面からの還元性
異質層の除去を簡単な設備で効率的に行うことができ
る。
の製造方法によれば、エッチングは、ガラス基板の少な
くともトップ面にエッチング液を散布することにより行
うので、ガラス基板の少なくともトップ面からの還元性
異質層の除去を簡単な設備で効率的に行うことができ
る。
【００２５】請求項７記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法は、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記ガ
ラス基板のボトム面をフィルム貼付けにより被覆するこ
とにより、前記ガラス基板のトップ面に形成された還元
性異質層のみを除去することを特徴とする。
の製造方法は、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記ガ
ラス基板のボトム面をフィルム貼付けにより被覆するこ
とにより、前記ガラス基板のトップ面に形成された還元
性異質層のみを除去することを特徴とする。
【００２６】請求項７記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、ガラス基板のトップ面をエッチン
グするに際し、フィルム貼付けによりガラス基板のボト
ム面がフッ酸のエッチング液に接触するのを防止するこ
とにより、ボトム面にエッチングにより微小の傷が発生
するのを防止し、ガラス基板の機械的強度が低下するの
を防止することができる。
の製造方法によれば、ガラス基板のトップ面をエッチン
グするに際し、フィルム貼付けによりガラス基板のボト
ム面がフッ酸のエッチング液に接触するのを防止するこ
とにより、ボトム面にエッチングにより微小の傷が発生
するのを防止し、ガラス基板の機械的強度が低下するの
を防止することができる。
【００２７】請求項８記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法は、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記エ
ッチング液は、フッ酸濃度１〜２５％のフッ酸溶液であ
ることを特徴とする。
の製造方法は、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記エ
ッチング液は、フッ酸濃度１〜２５％のフッ酸溶液であ
ることを特徴とする。
【００２８】請求項８記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、エッチングレートを適切に維持し
つつ反応が激しくなるのを防止することができ、また、
設備まわりの環境の悪化を防止することができる。
の製造方法によれば、エッチングレートを適切に維持し
つつ反応が激しくなるのを防止することができ、また、
設備まわりの環境の悪化を防止することができる。
【００２９】請求項９記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法は、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記ガ
ラス基板が、重量％で、ＳｉＯ2：５０〜７５％、Ｒ
Ｏ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１〜１５％、及びＮａ2
Ｏ：２〜１５％の組成を有することを特徴とする。
の製造方法は、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の
ディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記ガ
ラス基板が、重量％で、ＳｉＯ2：５０〜７５％、Ｒ
Ｏ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１〜１５％、及びＮａ2
Ｏ：２〜１５％の組成を有することを特徴とする。
【００３０】請求項９記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、ガラス基板が、重量％で、ＳｉＯ
2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１
〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有するの
で、フロートバスで表面が平坦な板状にすることができ
ると共に、ガラス基板の表面を滑らかに維持した状態で
還元性異質層を除去することができる。
の製造方法によれば、ガラス基板が、重量％で、ＳｉＯ
2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１
〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有するの
で、フロートバスで表面が平坦な板状にすることができ
ると共に、ガラス基板の表面を滑らかに維持した状態で
還元性異質層を除去することができる。
【００３１】上記目的を達成するために、請求項１０記
載のディスプレイ用ガラス基板は、フロート法によって
製造されたガラス基板の表面に形成された表還元性異質
層のうち、前記ガラス基板の少なくともトップ面に形成
された還元性異質層を主成分がフッ酸であるエッチング
液を用いたエッチングによって除去して成ることを特徴
とする。
載のディスプレイ用ガラス基板は、フロート法によって
製造されたガラス基板の表面に形成された表還元性異質
層のうち、前記ガラス基板の少なくともトップ面に形成
された還元性異質層を主成分がフッ酸であるエッチング
液を用いたエッチングによって除去して成ることを特徴
とする。
【００３２】請求項１０記載のディスプレイ用ガラス基
板によれば、ガラス基板の少なくともトップ面に形成さ
れた還元性異質層を主成分がフッ酸であるエッチング液
を用いたエッチングによって除去して成るので、表面が
平滑なディスプレイ用ガラス基板を低コストで提供する
ことができる。
板によれば、ガラス基板の少なくともトップ面に形成さ
れた還元性異質層を主成分がフッ酸であるエッチング液
を用いたエッチングによって除去して成るので、表面が
平滑なディスプレイ用ガラス基板を低コストで提供する
ことができる。
【００３３】請求項１１記載のディスプレイ用ガラス基
板は、請求項１０記載のディスプレイ用ガラス基板にお
いて、前記ガラス基板のトップ面に形成された還元性異
質層のみが除去されたことを特徴とする。
板は、請求項１０記載のディスプレイ用ガラス基板にお
いて、前記ガラス基板のトップ面に形成された還元性異
質層のみが除去されたことを特徴とする。
【００３４】請求項１１記載のディスプレイ用ガラス基
板によれば、ガラス基板のトップ面に形成された還元性
異質層のみが除去されたディスプレイ用ガラス基板を提
供することができる。
板によれば、ガラス基板のトップ面に形成された還元性
異質層のみが除去されたディスプレイ用ガラス基板を提
供することができる。
【００３５】請求項１２記載のディスプレイ用ガラス基
板は、請求項１０又は１１記載のディスプレイ用ガラス
基板において、前記ガラス基板が、重量％で、 Ｓｉ
Ｏ2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：
１〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有する
ことを特徴とする。
板は、請求項１０又は１１記載のディスプレイ用ガラス
基板において、前記ガラス基板が、重量％で、 Ｓｉ
Ｏ2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：
１〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有する
ことを特徴とする。
【００３６】請求項１２記載のディスプレイ用ガラス基
板によれば、上記請求項９記載のディスプレイ用ガラス
の製造方法と同等の効果を奏することができる。
板によれば、上記請求項９記載のディスプレイ用ガラス
の製造方法と同等の効果を奏することができる。
【００３７】請求項１３記載のディスプレイ用ガラス基
板は、請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載のディ
スプレイ用ガラス基板において、プラズマディスプレイ
パネルに用いられることを特徴とする。
板は、請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載のディ
スプレイ用ガラス基板において、プラズマディスプレイ
パネルに用いられることを特徴とする。
【００３８】請求項１３記載のディスプレイ用ガラス基
板によれば、プラズマディスプレイパネルに適したガラ
ス基板を提供することができる。
板によれば、プラズマディスプレイパネルに適したガラ
ス基板を提供することができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】本発明者等は、上記目的を達成す
べく鋭意研究を行った結果、フロート法によって製造さ
れたガラス基板の表面に形成された還元性異質層のう
ち、ガラス基板の少なくともトップ面に形成された還元
性異質層を主成分がフッ酸であるエッチング液を用いる
エッチングによって除去することにより、研磨機を使用
することなく、ガラス基板の少なくともトップ面から還
元性異質層を効率的に除去することができると共に、還
元性異質層の除去を研磨機に比べて簡単な設備で行うこ
とができる。さらに、還元性異質層の除去深さを容易に
変更することができることを見い出した。
べく鋭意研究を行った結果、フロート法によって製造さ
れたガラス基板の表面に形成された還元性異質層のう
ち、ガラス基板の少なくともトップ面に形成された還元
性異質層を主成分がフッ酸であるエッチング液を用いる
エッチングによって除去することにより、研磨機を使用
することなく、ガラス基板の少なくともトップ面から還
元性異質層を効率的に除去することができると共に、還
元性異質層の除去を研磨機に比べて簡単な設備で行うこ
とができる。さらに、還元性異質層の除去深さを容易に
変更することができることを見い出した。
【００４０】本発明は、上記研究の結果に基づいてなさ
れたものである。
れたものである。
【００４１】以下、本発明の実施の形態に係るディスプ
レイ用ガラス基板の製造方法を図面を参照して説明す
る。
レイ用ガラス基板の製造方法を図面を参照して説明す
る。
【００４２】本発明の実施の形態に係るディスプレイ用
ガラス基板の製造方法に使用されるガラス基板はフロー
ト法により製造される。このフロート法は、溶融錫浴の
上に溶融ガラスを浮かべて板ガラスを製造するので、こ
のフロート法による製板工程において、ガラス基板は、
その下面（ボトム面）が溶融錫浴と接触すると共にその
上面（トップ面）が錫蒸気含有還元雰囲気下に晒される
ことにより、ボトム面においては厚さが少なくとも１０
０μｍ、トップ面においては厚さが少なくとも５μｍの
還元性異質層（錫を含む）が形成される。このように製
造された板ガラスを所定のサイズに切断することにより
ディスプレイ用ガラス基板が作製される。
ガラス基板の製造方法に使用されるガラス基板はフロー
ト法により製造される。このフロート法は、溶融錫浴の
上に溶融ガラスを浮かべて板ガラスを製造するので、こ
のフロート法による製板工程において、ガラス基板は、
その下面（ボトム面）が溶融錫浴と接触すると共にその
上面（トップ面）が錫蒸気含有還元雰囲気下に晒される
ことにより、ボトム面においては厚さが少なくとも１０
０μｍ、トップ面においては厚さが少なくとも５μｍの
還元性異質層（錫を含む）が形成される。このように製
造された板ガラスを所定のサイズに切断することにより
ディスプレイ用ガラス基板が作製される。
【００４３】上記ディスプレイ用基板において、ボトム
面は還元性異質層の厚さが厚いのに加えて傷や異物等の
付着が多いことから、還元性異質層の厚さが薄いトップ
面がディスプレイの金属電極形成用の面として有用であ
ることを見い出した。
面は還元性異質層の厚さが厚いのに加えて傷や異物等の
付着が多いことから、還元性異質層の厚さが薄いトップ
面がディスプレイの金属電極形成用の面として有用であ
ることを見い出した。
【００４４】一方、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）等に用いられるディスプレイ用ガラス基板の作製方
法としては、まず、前面用ガラス基板と背面用ガラス基
板とを対向配置し、これらのガラス基板の内側面上に銀
（Ａｇ）等の金属ペーストや絶縁ペーストを塗布・焼成
することによって、銀等の金属電極、誘電体層、隔壁、
蛍光体等を形成し、次いで、前面用ガラス基板と背面用
ガラス基板を低融点封着ガラスでシールし、内部にキセ
ノンと主放電ガスのネオンとの混合ガスを封入し気密封
止する方法が採られる。
Ｐ）等に用いられるディスプレイ用ガラス基板の作製方
法としては、まず、前面用ガラス基板と背面用ガラス基
板とを対向配置し、これらのガラス基板の内側面上に銀
（Ａｇ）等の金属ペーストや絶縁ペーストを塗布・焼成
することによって、銀等の金属電極、誘電体層、隔壁、
蛍光体等を形成し、次いで、前面用ガラス基板と背面用
ガラス基板を低融点封着ガラスでシールし、内部にキセ
ノンと主放電ガスのネオンとの混合ガスを封入し気密封
止する方法が採られる。
【００４５】一般に、上記ガラス基板の内側面への金属
電極、例えば銀電極の形成は、安価なスクリーン印刷法
等により成膜の形で行われるが、その際、銀電極の銀成
分がガラス基板表面の還元性異質層（錫を含む）により
下記式のように還元されて金属コロイド化するため電極
部のみならずその周辺部に発色が現れる。
電極、例えば銀電極の形成は、安価なスクリーン印刷法
等により成膜の形で行われるが、その際、銀電極の銀成
分がガラス基板表面の還元性異質層（錫を含む）により
下記式のように還元されて金属コロイド化するため電極
部のみならずその周辺部に発色が現れる。
【００４６】２Ａｇ+ ＋ Ｓｎ2+ → Ａｇ（コロイ
ド）＋ Ｓｎ4+ これにより、プラズマディスプレイパネルの、例えば透
明性、色バランス等の表示性能が損なわれる。
ド）＋ Ｓｎ4+ これにより、プラズマディスプレイパネルの、例えば透
明性、色バランス等の表示性能が損なわれる。
【００４７】そこで、本実施の形態おいては、銀電極の
成膜の際の発色を防止するために、フロート法により製
造されたガラス基板の面であって、銀電極が成膜される
面に形成された還元性異質層を下記に詳述する条件でエ
ッチングすることにより除去するものである。
成膜の際の発色を防止するために、フロート法により製
造されたガラス基板の面であって、銀電極が成膜される
面に形成された還元性異質層を下記に詳述する条件でエ
ッチングすることにより除去するものである。
【００４８】図１は、本発明の実施の形態に係るディス
プレイ用ガラス基板の製造方法で使用されるエッチング
液浸漬装置の説明図である。
プレイ用ガラス基板の製造方法で使用されるエッチング
液浸漬装置の説明図である。
【００４９】図１において、浴槽１は、フッ酸溶液から
成るエッチング液２で満たされている。このエッチング
液２の中に、上記のようにフロート法によって製造され
た複数のガラス基板３を夫々直立状態で浸漬する。
成るエッチング液２で満たされている。このエッチング
液２の中に、上記のようにフロート法によって製造され
た複数のガラス基板３を夫々直立状態で浸漬する。
【００５０】上記エッチングにより、ガラス基板３の還
元性異質層を深さ５〜１４μｍ、好ましくは６〜１１μ
ｍ除去するのが好ましい。５μｍ以下では、還元性異質
層をほぼ完全に除去できず、１４μｍ以上エッチングし
ても発色抑制効果がさらに増大することはなく、むしろ
ガラス基板３の表面が荒れるので好ましくない。
元性異質層を深さ５〜１４μｍ、好ましくは６〜１１μ
ｍ除去するのが好ましい。５μｍ以下では、還元性異質
層をほぼ完全に除去できず、１４μｍ以上エッチングし
ても発色抑制効果がさらに増大することはなく、むしろ
ガラス基板３の表面が荒れるので好ましくない。
【００５１】エッチング液２は、温度が１０〜３０℃で
あるのが好ましい。エッチング液の温度が高い方がエッ
チングレートが大きくなり迅速に所定量の除去ができる
ので好ましいが、３０℃を超えるとエッチング液２から
ガラス基板３を取り出した後、ガラス基板３の表面の乾
燥によりエッチングのムラが生じ易い。
あるのが好ましい。エッチング液の温度が高い方がエッ
チングレートが大きくなり迅速に所定量の除去ができる
ので好ましいが、３０℃を超えるとエッチング液２から
ガラス基板３を取り出した後、ガラス基板３の表面の乾
燥によりエッチングのムラが生じ易い。
【００５２】エッチング液２は、フッ酸濃度１〜２５％
のフッ酸溶液であるのが好ましい。また、フッ酸エッチ
ング液としては、硫酸溶液、硝酸溶液、及び酢酸溶液の
少なくとも１種の溶液を加えたものを用いてもよい。
のフッ酸溶液であるのが好ましい。また、フッ酸エッチ
ング液としては、硫酸溶液、硝酸溶液、及び酢酸溶液の
少なくとも１種の溶液を加えたものを用いてもよい。
【００５３】また、ガラス基板３は、重量％で、ＳｉＯ
2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１
〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有するの
が好ましい。
2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１
〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有するの
が好ましい。
【００５４】ガラス基板３の組成範囲を上記のように限
定した理由は、次の通りである（以下、％は重量％を示
す）。
定した理由は、次の通りである（以下、％は重量％を示
す）。
【００５５】ＳｉＯ2は、ガラスのネットワークフォー
マーであり、その含有量は、５０〜７５％であるのが好
ましい。５０％より少ないと、ガラスの歪み点が低下
し、ガラス基板をプラズマディスプレイの製造工程にお
いて熱処理する際の熱収縮が大きくなり、ガラス基板３
の面に形成されるパターンの位置ずれが発生するため好
ましくなく、一方、７５％より多いと、熱膨張係数が小
さくなり、絶縁ペーストやシーリングフリットのそれと
整合しなくなるため反りが発生し易くなる。
マーであり、その含有量は、５０〜７５％であるのが好
ましい。５０％より少ないと、ガラスの歪み点が低下
し、ガラス基板をプラズマディスプレイの製造工程にお
いて熱処理する際の熱収縮が大きくなり、ガラス基板３
の面に形成されるパターンの位置ずれが発生するため好
ましくなく、一方、７５％より多いと、熱膨張係数が小
さくなり、絶縁ペーストやシーリングフリットのそれと
整合しなくなるため反りが発生し易くなる。
【００５６】ＲＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ）
は、ガラスを溶融し易くすると共に熱膨張係数を調整す
る作用を有し、その含有量は、１０〜２７％である。１
０％より少ないと、歪み点が低くなってプラズマディス
プレイの製造工程で変形し易くなり、一方、２７％より
多いと、ガラスが失透し易くなってフロート法での成形
が困難となる。
は、ガラスを溶融し易くすると共に熱膨張係数を調整す
る作用を有し、その含有量は、１０〜２７％である。１
０％より少ないと、歪み点が低くなってプラズマディス
プレイの製造工程で変形し易くなり、一方、２７％より
多いと、ガラスが失透し易くなってフロート法での成形
が困難となる。
【００５７】Ａｌ2Ｏ3は、ガラスの歪み点を高める成分
であり、その含有量は、１〜１５％が好ましい。１％よ
り少ないと、歪み点が低くなりすぎ、一方、１５％より
多いと、熱膨張係数が小さくなり過ぎる。
であり、その含有量は、１〜１５％が好ましい。１％よ
り少ないと、歪み点が低くなりすぎ、一方、１５％より
多いと、熱膨張係数が小さくなり過ぎる。
【００５８】Ｎａ2Ｏは、熱膨張係数を調整するための
成分であり、２％より少ないと、熱膨張係数が小さくな
りすぎ、１５％より大きいと、歪み点が低くなりすぎ
る。
成分であり、２％より少ないと、熱膨張係数が小さくな
りすぎ、１５％より大きいと、歪み点が低くなりすぎ
る。
【００５９】また、上記成分以外に、ガラスの化学的耐
久性を向上させるために、ＺｒＯ2を、熱膨張係数を調
整するために、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏを、また、消泡剤として
Ｃｌ、ＳＯ3、ＳｎＯ2等の成分を、ガラス特性を損なわ
ない範囲で含有させることもできる。
久性を向上させるために、ＺｒＯ2を、熱膨張係数を調
整するために、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏを、また、消泡剤として
Ｃｌ、ＳＯ3、ＳｎＯ2等の成分を、ガラス特性を損なわ
ない範囲で含有させることもできる。
【００６０】上記実施の形態では、ガラス基板３の表面
上の還元性異質層の除去をガラス基板をエッチング液２
に浸漬することによって行っているが、図２に示すよう
に、吊り具１１により固定棒１０に吊るされたガラス基
板１２の一方の面にスプレーノズル１３により上記エッ
チング液を散布してもよく、これにより上記と同様の作
用効果が得られる。
上の還元性異質層の除去をガラス基板をエッチング液２
に浸漬することによって行っているが、図２に示すよう
に、吊り具１１により固定棒１０に吊るされたガラス基
板１２の一方の面にスプレーノズル１３により上記エッ
チング液を散布してもよく、これにより上記と同様の作
用効果が得られる。
【００６１】また、図３に示すように、ローラ３０上を
搬送されるガラス基板３１の上面に、その上方に設けら
れたエッチング液散布ヘッダ３２により上記エッチング
液を散布してもよく、これにより上記と同様の作用効果
を得ることができる。
搬送されるガラス基板３１の上面に、その上方に設けら
れたエッチング液散布ヘッダ３２により上記エッチング
液を散布してもよく、これにより上記と同様の作用効果
を得ることができる。
【００６２】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。
【００６３】表１は、本実施例で使用されるガラス基板
Ａ，Ｂの組成と特性を示すものである。
Ａ，Ｂの組成と特性を示すものである。
【００６４】
【表１】 表１のガラス基板Ａ，Ｂは、表中の組成となるように原
料を調合した後、フロート法で厚さ３ｍｍの板ガラスを
製造し、得られた板ガラスを縦１０ｍｍ、横１０ｍｍの
大きさに切断加工することによって作製した。
料を調合した後、フロート法で厚さ３ｍｍの板ガラスを
製造し、得られた板ガラスを縦１０ｍｍ、横１０ｍｍの
大きさに切断加工することによって作製した。
【００６５】ガラス基板Ａは歪み点が５７５℃と高く、
歪み点が５００℃のガラス基板Ｂに比べて熱処理を受け
たときの熱収縮が小さい。ガラス基板Ａ，Ｂは、ガラス
の液相温度が１０５０℃以下であるため失透しにくく、
熱膨張係数が８５〜８６×１０-7／℃であるため絶縁ペ
ーストやシーリングフリットのそれと整合し、プラズマ
ディスプレイパネル用ガラス基板として適している。
歪み点が５００℃のガラス基板Ｂに比べて熱処理を受け
たときの熱収縮が小さい。ガラス基板Ａ，Ｂは、ガラス
の液相温度が１０５０℃以下であるため失透しにくく、
熱膨張係数が８５〜８６×１０-7／℃であるため絶縁ペ
ーストやシーリングフリットのそれと整合し、プラズマ
ディスプレイパネル用ガラス基板として適している。
【００６６】なお、表中の歪点は、ＡＳＴＭ Ｃ３３６
−７１の方法に基づいて測定し、ガラスの液相温度は、
白金ボートに２９７〜５００μｍの粒径を有するガラス
粉末を入れ、温度勾配炉に４８時間保持した後の失透観
察によって求めたものである。また、熱膨張係数は、デ
ィラトメーターによって３０〜３８０℃における平均熱
膨張係数を測定したものである。
−７１の方法に基づいて測定し、ガラスの液相温度は、
白金ボートに２９７〜５００μｍの粒径を有するガラス
粉末を入れ、温度勾配炉に４８時間保持した後の失透観
察によって求めたものである。また、熱膨張係数は、デ
ィラトメーターによって３０〜３８０℃における平均熱
膨張係数を測定したものである。
【００６７】次に、表１の各ガラス基板Ａ，Ｂについ
て、図１に示す浸漬装置により、ガラス基板Ａ，Ｂをエ
ッチング液２に浸漬することによりガラス基板Ａ，Ｂの
ボトム面及びトップ面上の還元性異質層を除去した。
て、図１に示す浸漬装置により、ガラス基板Ａ，Ｂをエ
ッチング液２に浸漬することによりガラス基板Ａ，Ｂの
ボトム面及びトップ面上の還元性異質層を除去した。
【００６８】本実施例において、エッチング液２のフッ
酸濃度（ＨＦ濃度）、表２に示すように、処理温度１５
℃のとき、５０，２５，１０，２，０．５％、処理温度
３０℃のとき、２５，１０，２％と変化させた。
酸濃度（ＨＦ濃度）、表２に示すように、処理温度１５
℃のとき、５０，２５，１０，２，０．５％、処理温度
３０℃のとき、２５，１０，２％と変化させた。
【００６９】
【表２】 エッチング処理結果をエッチングレート（μｍ／ｍｉ
ｎ）で評価すると表２に示すような結果が得られた。表
２において、フッ酸濃度が５０％（処理温度１５℃）の
ときは反応が激しく、０．５％（同１５℃）のときは処
理時間が長くかかりすぎるので、フッ酸濃度１〜２５％
の範囲、さらには２〜２５％の範囲が好ましい。
ｎ）で評価すると表２に示すような結果が得られた。表
２において、フッ酸濃度が５０％（処理温度１５℃）の
ときは反応が激しく、０．５％（同１５℃）のときは処
理時間が長くかかりすぎるので、フッ酸濃度１〜２５％
の範囲、さらには２〜２５％の範囲が好ましい。
【００７０】エッチング液２としては、フッ酸液に硫酸
溶液を加えたものでもよく、フッ酸溶液０．５〜２５％
に、硫酸溶液５０％を加えた場合、硫酸溶液２０％を加
えた場合、硫酸溶液１０％を加えた場合の各エッチング
処理結果を表３に示す。
溶液を加えたものでもよく、フッ酸溶液０．５〜２５％
に、硫酸溶液５０％を加えた場合、硫酸溶液２０％を加
えた場合、硫酸溶液１０％を加えた場合の各エッチング
処理結果を表３に示す。
【００７１】
【表３】 いずれの場合も、滑らかな表面を維持した状態で錫を実
質的に除去することができた。
質的に除去することができた。
【００７２】また、エッチング液２として、フッ酸液に
硝酸液を加えたものでもよく、フッ酸液０．５〜２５％
に、硝酸液２０％を加えた場合、硝酸液１０％を加えた
場合の各エッチング処理結果を表４に示す。
硝酸液を加えたものでもよく、フッ酸液０．５〜２５％
に、硝酸液２０％を加えた場合、硝酸液１０％を加えた
場合の各エッチング処理結果を表４に示す。
【００７３】
【表４】 いずれの場合も、滑らかな表面を維持した状態で錫を実
質的に除去することができた。
質的に除去することができた。
【００７４】ここで、ガラス基板Ｂのトップ面について
その表面近傍に存在する錫（Ｓｎ）を２次イオン質量分
離スペクトル（ＳＩＭＳ）分析法により測定した結果を
図４に示す。ここに、ＳＩＭＳ法は、ガラス基板の表面
をアルゴンのスパッタリング照射により切削しつつＮａ
イオン数をカウントすることにより成分分析を行うもの
である。
その表面近傍に存在する錫（Ｓｎ）を２次イオン質量分
離スペクトル（ＳＩＭＳ）分析法により測定した結果を
図４に示す。ここに、ＳＩＭＳ法は、ガラス基板の表面
をアルゴンのスパッタリング照射により切削しつつＮａ
イオン数をカウントすることにより成分分析を行うもの
である。
【００７５】図４において、ガラス基板Ｂの表面で、錫
は、０．０４〜０．０５重量％含有され、表面から６μ
の深さで０．００５重量％（この値は分析装置の検出限
界でバックグラウンドレベルと解釈される）で実質的に
錫はない状態と考えられる。このガラス基板Ｂへの侵入
拡散の程度は、ガラス基板Ｂがフロート法製板装置の溶
融錫浴内にあるときの粘性やガラス組成及び錫の量によ
る。
は、０．０４〜０．０５重量％含有され、表面から６μ
の深さで０．００５重量％（この値は分析装置の検出限
界でバックグラウンドレベルと解釈される）で実質的に
錫はない状態と考えられる。このガラス基板Ｂへの侵入
拡散の程度は、ガラス基板Ｂがフロート法製板装置の溶
融錫浴内にあるときの粘性やガラス組成及び錫の量によ
る。
【００７６】ガラス基板は、ガラス基板のトップ面のエ
ッチングに先立ち、そのボトム面をポリエチレンやポリ
プロピレン製の粘着フィルムで被覆した上でエッチング
を施す。ボトム面は、通常、フロート法製板装置の溶融
金属浴を出た後徐冷工程や切断工程を通過するに際しロ
ーラーで搬送されるため目では見えないような微小な傷
が多くついているが、上記のようにボトム面を粘着フィ
ルムで覆うことにより該微小な傷がフッ酸によるエッチ
ングでその幅及び長さが拡大して目視できるまでに成長
するのを防止することができる。
ッチングに先立ち、そのボトム面をポリエチレンやポリ
プロピレン製の粘着フィルムで被覆した上でエッチング
を施す。ボトム面は、通常、フロート法製板装置の溶融
金属浴を出た後徐冷工程や切断工程を通過するに際しロ
ーラーで搬送されるため目では見えないような微小な傷
が多くついているが、上記のようにボトム面を粘着フィ
ルムで覆うことにより該微小な傷がフッ酸によるエッチ
ングでその幅及び長さが拡大して目視できるまでに成長
するのを防止することができる。
【００７７】エッチング後ガラス基板を水洗し、上記粘
着フィルムを剥離する。
着フィルムを剥離する。
【００７８】その後、フッ酸濃度５％のエッチング液に
よりガラス基板Ａ，Ｂの表面を種々の深さにエッチング
して、エッチング除去面上に間隔約１ｍｍで約１ｍｍ幅
の銀ペーストをスクリーン印刷法により印刷し、５５０
℃で１時間熱処理することによって銀電極膜を形成し
て、そのガラス基板の発色状態を調べた。
よりガラス基板Ａ，Ｂの表面を種々の深さにエッチング
して、エッチング除去面上に間隔約１ｍｍで約１ｍｍ幅
の銀ペーストをスクリーン印刷法により印刷し、５５０
℃で１時間熱処理することによって銀電極膜を形成し
て、そのガラス基板の発色状態を調べた。
【００７９】各ガラス基板のエッチング除去面の深さと
銀電極の発色の関係を表５に示す。
銀電極の発色の関係を表５に示す。
【００８０】
【表５】 なお、発色の程度は、ガラス基板を銀電極を形成しない
ガラス面側から透かして銀電極の発色状態を観察するこ
とにより評価し、○（発色なし）、△（わずかに発
色）、×（発色）の３段階で示した。○及び△が、ＰＤ
Ｐ用のガラス基板として実用的に使用できるレベルであ
る。
ガラス面側から透かして銀電極の発色状態を観察するこ
とにより評価し、○（発色なし）、△（わずかに発
色）、×（発色）の３段階で示した。○及び△が、ＰＤ
Ｐ用のガラス基板として実用的に使用できるレベルであ
る。
【００８１】表５によれば、エッチングによって深さ６
μｍ以上除去したガラス基板Ａ，Ｂには、いずれも発色
しなかったが、ガラス基板Ａについては５μｍ除去した
ときは、発色しなかったが、ガラス基板Ｂについては５
μｍ除去したときは、わずかに発色した。また、２μｍ
除去したガラス基板Ａ，Ｂには、いずれも明らかに発色
が認められた。
μｍ以上除去したガラス基板Ａ，Ｂには、いずれも発色
しなかったが、ガラス基板Ａについては５μｍ除去した
ときは、発色しなかったが、ガラス基板Ｂについては５
μｍ除去したときは、わずかに発色した。また、２μｍ
除去したガラス基板Ａ，Ｂには、いずれも明らかに発色
が認められた。
【００８２】これらのデータから、これらのガラス基板
の表面に形成された還元性異質層の厚みは、平均厚さで
５乃至６μｍ以下であることが推察される。
の表面に形成された還元性異質層の厚みは、平均厚さで
５乃至６μｍ以下であることが推察される。
【００８３】また、表１のガラス基板Ａ，Ｂのトップ面
をエッチングにより深さ６μｍ除去した２枚のガラス基
板を夫々トップ面を内側に向けて対向配置し、これらの
ガラス基板上に銀ペーストや絶縁ペーストを塗布、焼成
することによって、銀電極、誘電体層、隔壁、蛍光体等
を形成した。次いで、これらのガラス基板を低融点封着
ガラスでシールし、内部にキセノンと主放電ガスのネオ
ンとの混合ガスを封入し気密封止することによってプラ
ズマディスプレイの放電テスト装置を作製した。
をエッチングにより深さ６μｍ除去した２枚のガラス基
板を夫々トップ面を内側に向けて対向配置し、これらの
ガラス基板上に銀ペーストや絶縁ペーストを塗布、焼成
することによって、銀電極、誘電体層、隔壁、蛍光体等
を形成した。次いで、これらのガラス基板を低融点封着
ガラスでシールし、内部にキセノンと主放電ガスのネオ
ンとの混合ガスを封入し気密封止することによってプラ
ズマディスプレイの放電テスト装置を作製した。
【００８４】こうして作製されたテスト装置を作動させ
たところ、透明性と色バランスに優れた画像を得ること
ができた。
たところ、透明性と色バランスに優れた画像を得ること
ができた。
【００８５】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、請求項１
記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法によれば、
フロート法によって製造されたガラス基板の表面に形成
された還元性異質層のうち、前記ガラス基板の少なくと
もトップ面に形成された還元性異質層を主成分がフッ酸
であるエッチング液を用いるエッチングによって除去す
るので、研磨機を使用することなく、ガラス基板の少な
くともトップ面から還元性異質層を効率的に除去するこ
とができると共に、還元性異質層の除去を研磨機に比べ
て簡単な設備で行うことができる。さらに、還元性異質
層の除去深さを容易に変更することができる。
記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法によれば、
フロート法によって製造されたガラス基板の表面に形成
された還元性異質層のうち、前記ガラス基板の少なくと
もトップ面に形成された還元性異質層を主成分がフッ酸
であるエッチング液を用いるエッチングによって除去す
るので、研磨機を使用することなく、ガラス基板の少な
くともトップ面から還元性異質層を効率的に除去するこ
とができると共に、還元性異質層の除去を研磨機に比べ
て簡単な設備で行うことができる。さらに、還元性異質
層の除去深さを容易に変更することができる。
【００８６】請求項２記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、還元性異質層を５〜１４μｍ除去
するので、トップ面上の還元性異質層を完全に除去する
ことができ、ガラス基板表面の荒れを防止することがで
きる。
の製造方法によれば、還元性異質層を５〜１４μｍ除去
するので、トップ面上の還元性異質層を完全に除去する
ことができ、ガラス基板表面の荒れを防止することがで
きる。
【００８７】請求項３記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、還元性異質層を６〜１１μｍ除去
するので、トップ面の還元性異質層を確実に除去するこ
とができ、ガラス基板の表面が荒れるのを確実に防止す
ることができる。
の製造方法によれば、還元性異質層を６〜１１μｍ除去
するので、トップ面の還元性異質層を確実に除去するこ
とができ、ガラス基板の表面が荒れるのを確実に防止す
ることができる。
【００８８】請求項４記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、エッチングは、ガラス基板をエッ
チング液に浸漬することにより行うので、ガラス基板の
全面に亘って還元性異質層の除去を簡単なエッチング設
備で効率的に行うことができる。
の製造方法によれば、エッチングは、ガラス基板をエッ
チング液に浸漬することにより行うので、ガラス基板の
全面に亘って還元性異質層の除去を簡単なエッチング設
備で効率的に行うことができる。
【００８９】請求項５記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、エッチング液は温度が１０〜３０
℃であるので、エッチングレートを適切な値に維持しつ
つエッチングのムラの発生を防止することができる。
の製造方法によれば、エッチング液は温度が１０〜３０
℃であるので、エッチングレートを適切な値に維持しつ
つエッチングのムラの発生を防止することができる。
【００９０】請求項６記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、エッチングは、ガラス基板の少な
くともトップ面にエッチング液を散布することにより行
うので、ガラス基板の少なくともトップ面からの還元性
異質層の除去を簡単な設備で効率的に行うことができ
る。
の製造方法によれば、エッチングは、ガラス基板の少な
くともトップ面にエッチング液を散布することにより行
うので、ガラス基板の少なくともトップ面からの還元性
異質層の除去を簡単な設備で効率的に行うことができ
る。
【００９１】請求項７記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、ガラス基板のトップ面をエッチン
グするに際し、フィルム貼付けによりガラス基板のボト
ム面がフッ酸のエッチング液に接触するのを防止するこ
とにより、ボトム面にエッチングにより微小の傷が発生
するのを防止し、ガラス基板の機械的強度が低下するの
を防止することができる。
の製造方法によれば、ガラス基板のトップ面をエッチン
グするに際し、フィルム貼付けによりガラス基板のボト
ム面がフッ酸のエッチング液に接触するのを防止するこ
とにより、ボトム面にエッチングにより微小の傷が発生
するのを防止し、ガラス基板の機械的強度が低下するの
を防止することができる。
【００９２】請求項８記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、エッチングレートを適切に維持し
つつ反応が激しくなるのを防止することができ、また、
設備まわりの環境の悪化を防止することができる。
の製造方法によれば、エッチングレートを適切に維持し
つつ反応が激しくなるのを防止することができ、また、
設備まわりの環境の悪化を防止することができる。
【００９３】請求項９記載のディスプレイ用ガラス基板
の製造方法によれば、ガラス基板が、重量％で、ＳｉＯ
2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１
〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有するの
で、フロートバスで表面が平坦な板状にすることができ
ると共に、ガラス基板の表面を滑らかに維持した状態で
還元性異質層を除去することができる。
の製造方法によれば、ガラス基板が、重量％で、ＳｉＯ
2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１
〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有するの
で、フロートバスで表面が平坦な板状にすることができ
ると共に、ガラス基板の表面を滑らかに維持した状態で
還元性異質層を除去することができる。
【００９４】請求項１０記載のディスプレイ用ガラス基
板によれば、ガラス基板の少なくともトップ面に形成さ
れた還元性異質層を主成分がフッ酸であるエッチング液
を用いたエッチングによって除去して成るので、表面が
平滑なディスプレイ用ガラス基板を低コストで提供する
ことができる。
板によれば、ガラス基板の少なくともトップ面に形成さ
れた還元性異質層を主成分がフッ酸であるエッチング液
を用いたエッチングによって除去して成るので、表面が
平滑なディスプレイ用ガラス基板を低コストで提供する
ことができる。
【００９５】請求項１１記載のディスプレイ用ガラス基
板によれば、ガラス基板のトップ面に形成された還元性
異質層のみが除去されたディスプレイ用ガラス基板を提
供することができる。
板によれば、ガラス基板のトップ面に形成された還元性
異質層のみが除去されたディスプレイ用ガラス基板を提
供することができる。
【００９６】請求項１２記載のディスプレイ用ガラス基
板によれば、上記請求項９記載のディスプレイ用ガラス
の製造方法と同等の効果を奏することができる。
板によれば、上記請求項９記載のディスプレイ用ガラス
の製造方法と同等の効果を奏することができる。
【００９７】請求項１３記載のディスプレイ用ガラス基
板によれば、プラズマディスプレイパネルに適したガラ
ス基板を提供することができる。
板によれば、プラズマディスプレイパネルに適したガラ
ス基板を提供することができる。
【図１】本発明の実施の形態に係るディスプレイ用ガラ
ス基板の製造方法で使用されるエッチング液浸漬装置の
説明図である。
ス基板の製造方法で使用されるエッチング液浸漬装置の
説明図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るディスプレイ用ガラ
ス基板の製造方法で使用されるエッチング液散布装置の
説明図である。
ス基板の製造方法で使用されるエッチング液散布装置の
説明図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るディスプレイ用ガラ
ス基板の製造方法で使用される別のエッチング液散布装
置の説明図である。
ス基板の製造方法で使用される別のエッチング液散布装
置の説明図である。
【図４】ガラス基板Ｂのトップ面についてその表面近傍
に存在する錫（Ｓｎ）の濃度を２次イオン質量分離スペ
クトル（ＳＩＭＳ）分析法により測定した結果に示すグ
ラフである。
に存在する錫（Ｓｎ）の濃度を２次イオン質量分離スペ
クトル（ＳＩＭＳ）分析法により測定した結果に示すグ
ラフである。
１ 浴槽 ２ エッチング液 ３ ガラス基板 １０ 固定棒 １１ 吊り具 １２ ガラス基板 １３ スプレーノズル
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G059 AA08 AB06 AC15 BB04 BB14 BB16 5C012 AA09 BD04 5C040 JA23 KA07 KA10 5C058 AA11 BA35
Claims (13)
- 【請求項１】 フロート法によって製造されたガラス基
板の表面に形成された還元性異質層のうち、前記ガラス
基板の少なくともトップ面に形成された還元性異質層を
主成分がフッ酸であるエッチング液を用いたエッチング
によって除去することを特徴とするディスプレイ用ガラ
ス基板の製造方法。 - 【請求項２】 前記還元性異質層を深さ５〜１４μｍ除
去することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用
ガラス基板の製造方法。 - 【請求項３】 前記還元性異質層を深さ６〜１１μｍ除
去することを特徴とする請求項２記載のディスプレイ用
ガラス基板の製造方法。 - 【請求項４】 前記エッチングは、前記ガラス基板を前
記エッチング液に浸漬することにより行うことを特徴と
する請求項１乃至３のいずれか１項に記載のディスプレ
イ用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項５】 前記エッチング液は、温度が１０〜３０
℃であることを特徴とする請求項４記載のディスプレイ
用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項６】 前記エッチングは、前記ガラス基板の少
なくともトップ面に前記エッチング液を散布することに
より行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１
項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項７】 前記ガラス基板のボトム面をフィルム貼
付けにより被覆することにより、前記ガラス基板のトッ
プ面に形成された還元性異質層のみを除去することを特
徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のディス
プレイ用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項８】 前記エッチング液は、フッ酸濃度１〜２
５％のフッ酸溶液であることを特徴とする請求項１乃至
７のいずれか１項に記載のディスプレイ用ガラス基板の
製造方法。 - 【請求項９】 前記ガラス基板が、重量％で、Ｓｉ
Ｏ2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：
１〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有する
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載
のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項１０】 フロート法によって製造されたガラス
基板の表面に形成された還元性異質層のうち、前記ガラ
ス基板の少なくともトップ面に形成された還元性異質層
を主成分がフッ酸であるエッチング液を用いたエッチン
グによって除去して成ることを特徴とするディスプレイ
用ガラス基板。 - 【請求項１１】 前記ガラス基板のトップ面に形成され
た還元性異質層のみが除去されたことを特徴とする請求
項１０記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 【請求項１２】 前記ガラス基板が、重量％で、ＳｉＯ
2：５０〜７５％、ＲＯ：１０〜２７％、Ａｌ2Ｏ3：１
〜１５％、及びＮａ2Ｏ：２〜１５％の組成を有するこ
とを特徴とする請求項１０又は１１記載のディスプレイ
用ガラス基板。 - 【請求項１３】 プラズマディスプレイパネルに用いら
れることを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか１
項に記載のディスプレイ用ガラス基板。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP27199799A JP2001089191A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | ディスプレイ用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造されたディスプレイ用ガラス基板 |
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| TW089119841A TW480514B (en) | 1999-09-27 | 2000-09-26 | Method of manufacturing a glass substrate for displays and a glass substrate for displays manufactured by same |
| KR1020000056708A KR20010070107A (ko) | 1999-09-27 | 2000-09-27 | 디스플레이용 글래스 기판의 제조방법 및 이 제조방법에의해 제조된 디스플레이용 글래스 기판 |
| CN00129572A CN1297219A (zh) | 1999-09-27 | 2000-09-27 | 显示器用玻璃基板的制法及由此制得的显示器用玻璃基板 |
| US10/426,357 US20030205558A1 (en) | 1999-09-27 | 2003-04-30 | Method of manufacturing a glass substrate for displays and a glass substrate for displays manufactured by same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27199799A JP2001089191A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | ディスプレイ用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造されたディスプレイ用ガラス基板 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001089191A true JP2001089191A (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=17507720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27199799A Pending JP2001089191A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | ディスプレイ用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造されたディスプレイ用ガラス基板 |
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| EP (1) | EP1086931A1 (ja) |
| JP (1) | JP2001089191A (ja) |
| KR (1) | KR20010070107A (ja) |
| CN (1) | CN1297219A (ja) |
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-
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-
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- 2000-09-25 EP EP00402646A patent/EP1086931A1/en not_active Withdrawn
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- 2000-09-27 CN CN00129572A patent/CN1297219A/zh active Pending
-
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- 2003-04-30 US US10/426,357 patent/US20030205558A1/en not_active Abandoned
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