JP3396835B2 - アルカリ金属を含有しないアルミノ硼珪酸ガラスとその用途 - Google Patents

アルカリ金属を含有しないアルミノ硼珪酸ガラスとその用途

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表示技術に用いられる
アルカリ金属を含有しないアルミノ硼珪酸ガラスに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】表示技術において、例えばフラットパネ
ル表示装置（ディスプレー）のフロントスクリーンとし
て使用されるべきガラスに求められる要求条件は、Ｗ．
Ｈ．Ｄｕｍｂａｕｇｈ、Ｐ．Ｌ．Ｂｏｃｋｏ及びＦ．
Ｐ．Ｆｅｈｌｎｅｒにより「高性能ガラス」（”Ｈｉｇ
ｈ−Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｇｌａｓｓｅｓ”，ｅ
ｄ．Ｍ．Ｃａｂｌｅ ａｎｄ Ｊ．Ｍ．Ｐａｒｋｅｒ，
Ｂｌａｃｋｉｅ ａｎｄ Ｓｏｎ Ｌｉｍｉｔｅｄ，Ｇ
ｌａｓｇｏｗａｎｄ Ｌｏｎｄｏｎ，１９９２）におけ
る記事「フラットパネルディスプレー用ガラス」におい
て明示的に記述されている。この種の応用の際に入手可
能なガラスはまた、Ｊ．Ｃ．Ｌａｐｐ、Ｐ．Ｌ．Ｂｏｃ
ｋｏ及びＪ．Ｗ．Ｎｅｌｓｏｎにより１９９４版コーニ
ング・リサーチ（Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，
１９９４）中の記事「フラットパネルディスプレー用高
級ガラス基体」（”Ａｄｖａｎｃｅｄ ｇｌａｓｓ ｓ
ｕｂｓｔｒａｔｅｓ”）で検討されている。平板ガラス
基体に必要で、システムの画像化特性の精度に決定的効
果を及ぼす特性の優良性は、一方においてガラスの組成
により直接、他方においてはガラスの特定の特性、例え
ば厚み輪郭パラメタや平面度パラメタを設定する生産、
処理及び成形方法とその施設により規定され、方法の適
用性はまたガラスの組成により、或いはガラスの特性に
よりしばしば制限される。
【０００３】硼珪酸ガラスは、多数の技術指向ガラス用
途で支配的役割を果たす。特に、周期的且つ差動的な熱
負荷が加えられるとき高い安定性により、低い熱膨張に
より、また腐食性試薬や媒体に対する良好な耐性により
区別される。
【０００４】従って、硼珪酸は表示技術において基体ガ
ラスとしての用途に対し概して重要となるが、ディスプ
レー製造工程、例えば、活動マトリックス液晶ディスプ
レー(AMLCDs)の製造工程と求められる用途は、ガラスの
極めて特殊な特性プロフィールを要求する。即ち、 −多結晶シリコンの要求に合う熱膨張係数α
２０／３００＝３．５−３．８×１０−６／ｋ −製造中、特に冷却相にあるガラスの低圧縮の際のガラ
スの熱処理及び幾何学的安定性を高めるため粘度１０
１４．５ｄＰａｓにおける温度が少なくとも６５０℃で
あること、 −アルカリ金属を含有しないガラス組成。半導体層内に
拡散するアルカリ金属イオンによる微細構造薄膜トラン
ジスタの汚染を阻止するために、アルカリ金属酸化物の
全量ΣＲ２Ｏは最大１０００ｐｐｍまで許容できる。 −微細化工程に用いられる試薬や媒体に関する化学的耐
性、即ち耐加水分解性、耐酸性及び耐アルカリ性が充分
であること。 −特に大型スクリーンフォーマットの場合、ディスプレ
ーの全重量を低く保つため、密度ρが比較的低い、即ち
ρ≦２．６０ｇ／ｃｍ３であること。
【０００５】更に、ガラススクリーンの可視的品質、即
ち結晶混入物、結節及び気泡の無いことでの品質が極め
て良好でなければならない。
【０００６】この複合する、広範な要求プロフィール
は、アルカリ土金属アルミノ硼珪酸ガラス下位からの硼
珪酸ガラスにより最良に満たされる。ＴＦＴ ＡＭＬＣ
Ｄ用途の既知の市場入手可能なガラスはこの種のガラス
に属し、以下に記載の特許又は特許出願のガラスもこの
群を代表するものである。しかしながら、表示用途に現
在知られているガラスは何れも不利があり、要求条件の
全ても満たすものではない。
【０００７】米国特許５５０６１８０には、ＴＦＴディ
スプレー用ガラスとしての用途に対し、就中、熱的に安
定で、化学的耐性のあるガラスが記載されている。Ｂ２
Ｏ３の含有量が１０％と高く、ＳｉＯ２含有量が比較的
低い（４６−５６％）ので、この種のガラスは塩酸に対
する耐性は充分ではない。更に、弗化水素酸を含む溶液
に対するその耐性もまずまずであるに過ぎない。多結晶
シリコンに対する熱膨張の整合も不十分である。１１５
０℃以下の処理温度ＶＡは低すぎて、マイクロシートダ
ウン延伸方式等の延伸方式やフロート工程の代替として
のオーバーフロー溶融方式を用いることができない。更
に、６４２℃又はそれ以下の特定歪み点は低く過ぎ、圧
縮を最小にできない。
【０００８】欧州特許ＥＰ５１０５４４Ｂ１には、フロ
ート方式で製造でき且つ就中種々のディスプレーや写真
マスク用の基体として用いられるアルカリ金属を含有し
ないガラスが記載されている。このガラスはＢａＯやＭ
ｇＯを含まず、Ｂ２Ｏ３を低い含有量で含むに過ぎな
い。４．５−６．０ｘ１０−６／Ｋの熱膨張は低すぎ
て、多結晶シリコンに極めて良く合った高品質ＴＦＴデ
ィスプレー用ガラスの要求条件を満たさない。
【０００９】欧州特許ＥＰ５２７３２０Ｂ１には、スト
ロンチウムアルミノ珪酸ガラス基体を有するフラットデ
ィスプレー装置が記載されている。脱ガラス化安定性の
高いこのガラスのガラス組成は、オーバーフロー溶融延
伸方式で製造される適切さと関係しているようである。
このガラスの密度やその熱膨張係数も高すぎる。
【００１０】日本国特許出願公開公報ＪＰ８−２９５５
３０Ａには、Ｂ２Ｏ３の含有量が高い（１５重量％ま
で）ので、塩酸に対する安定性が低下する、アルカリ金
属を含まないガラス基体が記載されている。
【００１１】ＰＣＴ出願公報ＷＯ９７／１１９１９及び
９７／１１９２０にも、アルカリ金属を含有しないガラ
ス基体が記載されている。記載されたガラスはＭｇＯを
含まないか、その含有量が少ない。各ガラスはそれぞ
れ、重量比でＺｎＯ及びＴｉＯ２を５％まで含む。Ｚｎ
Ｏはフロート浴内でガラス面から蒸発し、引き続いて凝
縮しやすいため、ガラスに欠陥を生ずることがある。Ｔ
ｉＯ２の含有を増やすと、通常の原材料を用いた場合、
ガラスは褐色になろう。通常の原材料に常に含まれてい
るＦｅ３＋がＴｉ４＋と共に、褐色の錯体を形成するか
らである。
【００１２】欧州特許出願ＥＰ７１４８６２Ａ１には、
ＴＦＴフラットディスプレーに用いられる、アルカリ金
属を含まないガラスが記載されている。例示された実施
例は、例えば熱膨張、歪点又はＨＣｌ安定性に付き極め
て良好な表示特性を示している。しかしながら、これ等
のガラスの粘性挙動は、適切と述べられている「フロー
ト」製造方法にとって好ましくない。これは、温度の定
点Ｔ（ｌｏｇη＝４）＝１３１０−１３５０℃及びＴ
（ｌｏｇη＝２）＝１７１０−１８１０℃は溶融及び精
製方法にだけでなく、フロート法にも決定的な影響を及
ぼし、高すぎるからである。ＳｉＯ２の含有が高いこの
種の高粘性のアルミノ珪酸ガラスに対して、効率的な精
製は極めて問題である。従って、記載されたガラスは、
可視品質に関する必要な高要求を満たさない。
【００１３】欧州特許出願ＥＰ６７２６２９Ａ２及び米
国特許５５０８２３７には、フラットディスプレー用ア
ルミノ珪酸ガラスが、異なる膨張係数をもたらす種々の
組成範囲で記載されている。これ等のガラスは、オーバ
ーフロー溶融延伸方式だけでなく、他の平板ガラス製造
方式でも処理できると述べられている。しかしながら、
特に多結晶シリコンに合わせた熱膨張係数のガラスは、
極めて高い処理温度VAを要し、フロート法には適しな
い。前述のガラスの場合と同様、可視品質はここでも高
くない。有効な精製方法、特にフロート法に適合する方
法が全く提示されていないからである。例として述べれ
た精製作用物質Ｓｂ２Ｏ３、Ａｓ２Ｏ３はいずれも、容
易に還元されることから不適切である。これは、光学的
ガラス成分Ｔａ２Ｏ５やＮｂ２Ｏ５に付いても云える。
【００１４】ＪＰ９−４８６３２Ａに記載のＴＦＴ Ａ
ＭＬＣＤ用アルカリ金属非含有ガラス基体でも、単にＳ
ｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＭｇＯ及びＢａＯを含ませるだけな
ので、可視品質は高くないであろう。
【００１５】独国特許ＤＥ３８０８５７３Ｃ２には、Ｓ
ｎＯ２を含み、溶解が容易で、経済的な精製が可能なア
ルカリ金属非含有アルミノ珪酸ガラスが記載されてい
る。このガラスは高い化学的安定性を有し、写真マスク
ガラスとして用いられる。熱膨張係数が４．０ｘ１０
−６／Ｋで、その熱膨張挙動は多結晶シリコンのそれと
は最適には適合しない。Ｂ２Ｏ３を含まず、同時に高い
含有量のＡｌ２Ｏ３を含むことから、同ガラスの温度／
粘性プロフィールは平板ガラス製造方法に適しない。
【００１６】本出願人の名義の独国特許ＤＥ１９６１７
３４４Ｃ１にも、ＳｎＯ２を含むアルカリ金属非含有ガ
ラスが記載されている。このガラスは、ＳｉＯ２の含有
量が比較的低く、Ａｌ２Ｏ３を高含有量で含んでいる。
熱膨張係数が約３．７ｘ１０−６／Ｋで、また極めて良
好な化学的安定性を有するこのガラスはディスプレー技
術で用いるのに適している。しかしながら、フロート法
でも延伸方法でも製造できる、即ち「普遍的に」製造可
能であるためには、改良の余地がある。このことは、本
出願人の名義の他の独国特許ＤＥ１９６０３６９８Ｃ１
に記載されたガラスに付いても同様である。
【００１７】
【発明により解決されるべき課題】本発明の目的は、最
新のＴＦＴディスプレーガラス基体の既述の物理的及び
化学的要求条件を満たすガラス、即ち種々のＴＦＴディ
スプレーの型式に対する特定の用途プロフィールに応じ
てガラスを製造するために、フロート方式又は延伸方式
（アップ延伸及び種々のダウン延伸方式）等の種々の板
ガラス製造方法の採用を可能にする好ましい処理温度範
囲と高い脱ガラス化安定性を有するガラスを提供するこ
とにある。従って、製造が可能な厚みも、３０μｍから
数ｍｍの範囲で変更が可能となる。この種のガラスは容
易に溶融と精錬が可能である必要があり、従って比較的
低い温度、即ち１６００−１６３０℃の範囲の温度で粘
度１０２．０ｄＰａｓの粘性を示す必要がある。
【００１８】硼酸亜鉛、硼酸鉛やアルミノ硼酸バリウム
等の揮発性の高い硼酸化合物の形成は内部のガラス特性
を損なうので、回避するか又は少なくとも最小限度にす
べきである。
【００１９】マイクロシートダウン延伸方法（ＭＤＤ
法）を用い３０から５０μｍの厚み範囲のマイクロシー
トを製造するために、ガラスは同時に高い脱ガラス化安
定性と特定の処理温度ＶＡを有するべきである。
【００２０】適切な温度は、粘度１０４ｄＰａｓの粘性
で１２３０−１２６０℃の温度である。脱ガラス化安定
性又は結晶化安定性の一つの特性は、最大結晶成長速度
ＶＭ ＡＸ［μｍ／ｈ］で、これは温度Ｔに対して結晶の
成長速度ｖのプロット上に形成される結晶の最大観測成
長長さを表し、ＶＭＡＸは最大結晶成長の温度ＫＧＭ
ＡＸで成長速度に対応する。ＶＭＡＸが小さくなればな
るほど、形成される結晶体積は小さくなる。このＶ
ＭＡＸはこの場合、１０μｍ／ｈを越えるべきでない。
【００２１】マイクロフロート方法を用いてディスプレ
ー用途のガラスパネルを、特に大型の型式で製造するた
め、粘度１０４ｄＰａｓの粘性における温度は１２３０
から１２８０℃の間にあるべきである。Ａｓ２Ｏ３、Ｓ
ｂ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、Ｂｉ２Ｏ３、ＰｂＯ、ＣｄＯ及び
ＺｎＯ等の容易に還元されるガラス成分はガラス組成に
含まれるべきではない。なぜならこれ等の成分は、フロ
ート浴内で還元条件下で初期状態に還元され、灰色の金
属面反射又は他の微細面欠陥を生ずる。結晶化安定性の
要求条件はここでは、前記ＭＤＤ方法におけるほど高く
はない。従って、３０μｍ／ｈ以下のＶＭＡＸで尚、充
分である。
【００２２】ダウン延伸方法でもあるオーバーフロー溶
融方法で０．５から１．１ｍｍの厚さの極平坦な薄ガラ
スパネルを製造するためには、ガラスは特に高い脱ガラ
ス化安定性、即ち高々１０μｍ／ｈ、好ましくは高々５
μｍ／ｈでＶＭＡＸと、上方脱ガラス化限界又は液相線
温度（Ｔ ｌｉｑｕｉｄｕｓ）、即ち形成されているこ
とがある結晶が再溶解される温度で、処理温度ＶＡをで
きるだけ下回る温度を有すべきである。ＶＡはこの場
合、１２４０から１３２０℃であるべきである。従来技
術によれば、差ＶＡ−Ｔ ｌｉｑｕｉｄｕｓを大きくす
るために、ＶＡはこの種のガラスでは寧ろ高い。しかし
ながら、これは、処理温度が高くなるとガラス製造のエ
ネルギーの初期コストが増大し、耐火物の腐食が促進さ
れるからである。従って、液相線温度が低いことが望ま
しい。ここで記載した方法にかかわらず、ＶＡはできる
限り１２８０℃を越えないことが望ましい。
【００２３】
【課題を解決する手段及びその作用・効果】前記発明の
目的は、請求項１によるガラスにより達成される。
【００２４】本発明によれば、三つのガラス形成成分Ｓ
ｉＯ２、Ｂ２Ｏ３及びＡｌ２Ｏ３は狭い限定含有率で存
在し、従ってまた狭い相対比で存在する。ＳｉＯ２量は
比較的高く、即ち重量比が少なくとも５７％で、多くと
も６０％である。Ｂ２Ｏ３含有量は寧ろ低く、重量比が
少なくとも６．５％で、多くとも９．５％である。重量
比が９％未満の限定が好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有率は
単に１４と１７．５％の間、好ましくは１４と１７％で
変わるべきである。このようにして始めて、３．５から
３．８ｘ１０−６／Ｋの範囲の望まれる低熱膨張係数α
２０／３００と、同時に高々２．６ｇ／ｃｍ３の低密度
ρを達成することができる。ガラス構造内でＢ２Ｏ３と
Ａｌ２Ｏ３は互いに影響するので、望まれる良好な化学
的及び結晶化安定性はＢ２Ｏ３含有率の上記の狭い範囲
でのみ達成される。Ｂ２Ｏ３の含有率が下がると、ガラ
スは脱ガラス化しやすくなり、配位数５及び６のアルミ
ニウム原子数が増大してＡｌ配位が直接影響され、熱膨
張が増大する。Ｂ２Ｏ３及びＡｌ２Ｏ３の含有量が高す
ぎると、塩酸に対する耐性が低下する。
【００２５】アルカリ土金属酸化物は、全量が少なくと
も１５％の重量比で含まれる。量が少ないと、溶融と成
形に要する粘性での温度が過度に高くなろう。アルカリ
土金属酸化物の小さい陽イオンと大きい陽イオン間の平
衡比は、小さい陽イオン数が半数以上であるとすると、
処理温度に正の効果を及ぼす。従って、ガラスは重量比
で、ＭｇＯを５−８％、ＢａＯを０−３．５％、好まし
くは２−３．５％含み、ＣａＯを１−４％、ＳｒＯを５
−８％含む。この場合、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢ
ａＯの全量は重量％で１７％に制限されるべきである。
そうしないと、化学的耐性が再び低下する。
【００２６】ガラスの密度を低く抑えるために、ＢａＯ
よりＳｒＯを用いるのが好ましい。重い酸化物ＢａＯと
ＳｒＯを全く除くか、含有量を低くし過ぎると、ガラス
はより脱ガラス化しやすくなり、変態温度並びに粘度１
０１４．５ｄＰａｓの粘性における温度が低下する。Ｂ
ａＯとＳｒＯの含有量を過剰に高めると、処理温度が許
容できない程度まで高くなる。
【００２７】ＢａＯを含まないガラスやＢａＯ含有が低
いガラスは好ましくはフロート方法を用いて処理され、
ＢａＯを高含有量で含むガラスは好ましくは延伸方法を
用いて処理される。
【００２８】不可避の不純物を別として、ガラスはＺｎ
Ｏやアルカリ金属酸化物を含まない。
【００２９】ガラスは更にＺｒＯ２を０．４−１．５％
の重量比で含む。ＺｒＯ２は化学的耐性を改善する。そ
の含有量は、その低い溶解度のため制限される。ガラス
はまたＴｉＯ２を０．４−１％の重量比で含む。これに
より、しばしば観測されるアルミノ硼珪酸ガラスのポラ
リゼーション感受性、即ちＵＶ−ＶＩＳ放射線のため生
ずる可視波長での透過の低下に対する感応性が最小に抑
えられる。
【００３０】ＴｉＯ２を、ガラス内にＳｎＯ２／ＳｎＯ
レドックス平衡状態で含まれるようＳｎＯ２と組み合わ
せることは、特に有効である。重量比で０．２−１％が
含まれることにより、ＳｎＯ２として計算され、導入さ
れる、通常の原材料を用いると不可避なＦｅ３＋を低下
する。これにより、ＴｉＯ２を含むガラスの場合、Ｆｅ
３＋を含有するＴｉ錯体のため決まって生じ、透過を損
なう黄色着色の発生が阻止される。こうして、ディスプ
レー装置の基体ガラスとして用いられると、使用期間が
比較的長くても光輝性が極めて高く保持される画像を保
証するガラスが得られる。
【００３１】上記のＳｎＯ２成分以外に、重量比で０．
１−０．５％含まれるＣｅＯ２の含有は本発明に必須で
ある。
【００３２】ＳｎＯ２をＣｅＯ２と組み合わせることに
より、ＳｎＯ２／ＳｎＯレドックス平衡が安定化され、
異常に良好な精製効果がアルミノ硼珪酸ガラスに対し得
られ、本発明によりガラスは要求される高可視特性を示
すようになる。更に、ＳｎＯ２及びＣｅＯ２はＺｒＯ２
と組み合わされてガラスの化学的耐性を安定化する。Ｃ
ｅＯ２の含有を高めると、ＵＶ−吸収が増大し、吸収遮
断がＶＩＳ領域にシフトする。
【００３３】就中、このように精製作用物質Ａｓ２Ｏ３
及びＳｂ２Ｏ３の使用を排除でき、ガラスは不可避の不
純物は別として、これ等の成分も他の容易に還元する成
分を含有しないので、ガラスは種々の延伸方法のみなら
ず、フロート方法を用いても処理が可能となる。後者の
方法を採用しない場合は、ガラスは付加的精製作用物質
としてＡｓ２Ｏ３及び／又はＳｂ２Ｏ３を重量比で１．
５％まで含んでもよい。また、Ｃｌ−（例えばＢａＣｌ
２の形式で）、Ｆ−（例えばＣａＦ２の形式で）又はＳ
Ｏ４ ２−（例えばＢａＳＯ４の形式で）の各々を重量比
で１．５％加えてもよい。しかしながら、Ａｓ２Ｏ３、
Ｓｂ２Ｏ３、Ｃｌ−、Ｆ−及びＳＯ４ ２ −の総量は重量
比で１．５％を越えるべきではない。
【００３４】
【実施例】以下、本発明の例示的実施例を述べる。
【００３５】ガラスを通常の原材料から成るＳｉＯ２製
るつぼ内で１６２０℃で溶融した溶融物は同じ温度で一
時間半かけて精製され、次いで誘導加熱白金製るつぼに
注入され、１５５０℃の温度で３０分撹拌されて均質化
された。
【００３６】表は、本発明によるガラスを例１から５に
おいて組成と最重要特性に付き（表１）、本発明によら
ないガラスを比較例ＡからＪ（表２）で示す。種々の化
学的耐性は次のように与えられる：７０ｍｍｘ５０ｍｍ
ｘ２ｍｍの寸法で、全側面が研磨されたガラス板を表示
の時間、表示の温度でそれぞれの溶液で処理し、損失重
量（エロージョン）が決定され、ｍｇ／ｃｍ２で表示さ
れた。
【００３７】 Ｈ２Ｏ ９５℃で２４時間、水で処理 ＨＣｌ ９５℃で２４時間、濃度５％の塩酸で処理 ＮａＯＨ ９５℃で６時間、濃度５％の苛性ソーダ液で処理 ”ＢＨＦ” ２０℃で２０分、濃度１０％の弗化水素酸溶液で処理
【００３８】結晶化感受性（脱ガラス化感受性）として
表示された特性又は当該安定性は、液相線温度と最大結
晶成長速度ＶＭＡＸである。
【００３９】粘度１０１４．５ｄＰａｓ、１０１３ｄＰ
ａｓ、１０７．６ｄＰａｓ、１０４ｄＰａｓ及び１０２
ｄＰａｓの粘性に対する温度は、各表にＴ １４．５；
Ｔ１３；Ｔ ７．６；Ｔ ４及びＴ ２で示されてい
る。
【００４０】ガラスの表示されている更なる特性は、転
移温度Ｔｇ、熱膨張係数α２０／３ ００［１０−６／
Ｋ］及び密度ρ［ｇ／ｃｍ３］である。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【表２】
【００４３】比較例の例のガラスも個々の特性はかなり
良好であるが、本発明によるガラスと違って比較ガラス
はのいずれもＴＦＴ用途のためのディスプレー基体ガラ
スの全要求条件プロフィールを満たしていない。Ｂ２Ｏ
３の量は少なすぎ、脱ガラス化安定性を低下すると共
に、熱膨張を増大する（例Ａ、Ｃ−Ｈ）。Ｂ２Ｏ３とＡ
ｌ２Ｏ３の含有量が多すぎると、塩酸に対する耐性が低
下する（例Ｂ）。例Ｉと例Ｊの示すところは、アルカリ
土金属イオンは大きなものと小さなものとの比をバラン
スされる必要があることである。即ち、アルカリ土金属
酸化物の全量が「正しくても」、ＭｇＯが少なすぎ、Ｂ
ａＯが多すぎれば（例１）、処理温度は極めて高くな
り、特にフロート処理用には過剰に高くなる。ＢａＯと
ＳｒＯがいずれも含まれないと（例Ｊ）、ＶＭＡＸは極
めて高く、液相線温度は処理温度以上になる。
【００４４】逆に、本発明によるガラスは限定組成範囲
が狭く、既述の特性の全てを組み合わせて以下の通り実
現するものである。 ＊熱膨張係数α２０／３００が多結晶シリコンのそれと
極めて良好に整合する。 ＊密度ρが極めて低い。 ＊化学的耐性が傑出している。 ＊ソラリゼーション安定性が充分である。 ＊処理温度が適切である（ＶＡ≦１２８０℃）。 ＊粘度１０１４．５ｄＰａｓの粘性における温度が少な
くとも６５０℃である。 ＊アルカリ金属を含まないこと。 ＊結晶化安定性が極めて良好であること。 ＊温度／粘性プロフィールの特性のため、また結晶化傾
向が低いので、容易に還元される成分を含まない限り、
ガラスは種々の延伸方法を用い、またフロート方法を用
い、処理してよい。しかしながら、特性プロフィールが
極めて特殊なことから、本発明による組成範囲からのあ
る特定ガラスは他の方法よりある方法により適している
もあるが理解されるべきである。茲に与えられた表示に
基づき当該用途及び特殊要求条件に最適なガラスを選ぶ
ことは、当業者に全く簡単である。 ＊成分、特に精錬作用物質がバランスして組み合わされ
るので、ガラスは極めて良好な可視品質をもつ。
フロントページの続き (72)発明者 クラウス、シュナイダー ドイツ連邦共和国、デェー 99510 ア ポルダ、ロベルト−ビルクナー−ヴェー ク 16 (72)発明者 ペーター、ブリックス ドイツ連邦共和国、デェー 55116 マ インツ、シュタットハウスシュトラーセ 17 (56)参考文献 独国特許出願公開19601922（ＤＥ，Ａ １) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03C 1/00 - 14/00 ＷＰＩ

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次の組成（酸化物に基づく重量％で）： ＳｉＯ２ ５７−６０ Ｂ２Ｏ３ ６．５−９．５ Ａｌ２Ｏ３ １４−１７．５ ＭｇＯ ５−８ ＣａＯ １−４ ＳｒＯ ５−８ ＢａＯ ０−３．５ ここで ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １５−１７
    であり、また ＺｒＯ２ ０．４−１．５ ＴｉＯ２ ０．４−１ ＣｅＯ２ ０．１−０．５ ＳｎＯ２ ０．２−１ を有する、アルカリ金属を含有しないアルミノ硼珪酸ガ
    ラス：
  2. 【請求項２】不可避の不純物を別とし、酸化砒素と酸化
    アンチモンを含有しないことを特徴とする、フロートシ
    ステムで生成される、請求項１によるアルカリ金属を含
    有しないアルミノ硼珪酸ガラス。
  3. 【請求項３】 さらに Ａｓ２Ｏ３ ０−１．５ Ｓｂ２Ｏ３ ０−１．５ Ｃｌ− ０−１．５ Ｆ− ０−１．５ ＳＯ４ ２− ０−１．５ を含み、ここで Ａｓ２ Ｏ ３ ＋Ｓｂ ２ Ｏ ３ ＋Ｃｌ−＋Ｆ−＋ＳＯ４ ２−≦１．５ であることを特徴とする請求項１によるアルカリ金属を
    含有しないアルミノ硼珪酸ガラス。
  4. 【請求項４】 熱膨張係数α２０／３００が３．５−
    ３．８ｘ１０−６／Ｋ、粘度１０１４．５ｄＰａｓにお
    ける温度が少なくとも６５０℃、粘度１０４ｄＰａｓに
    おける温度が≦１２８０℃、密度ρが２．６０ｇ／ｃｍ
    ３ 以下、且つ９５℃における濃度５％の塩酸で２４時間
    の処理後の損失重量が１．０ｍｇ／ｃｍ２以下である請
    求項１から３のいずれかによるアルカリ金属を含有しな
    いアルミノ硼珪酸ガラス。
  5. 【請求項５】表示技術において基体として用いる、請求
    項１から４のいずれかによるアルカリ金属を含有しない
    アルミノ硼珪酸ガラスの用途。
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