CN104276755B - 一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃 - Google Patents
一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104276755B CN104276755B CN201310528623.1A CN201310528623A CN104276755B CN 104276755 B CN104276755 B CN 104276755B CN 201310528623 A CN201310528623 A CN 201310528623A CN 104276755 B CN104276755 B CN 104276755B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glass
- alkali
- high chemical
- zno
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 15
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 title abstract 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 69
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 16
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims description 14
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 18
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 abstract 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 16
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010018612 Gonorrhoea Diseases 0.000 description 2
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 241001269238 Data Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000007499 fusion processing Methods 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/20—Compositions for glass with special properties for chemical resistant glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，所述的玻璃中各化学组分的质量百分含量为：SiO2 60~70%，Al2O3 15~25%，B2O3 0.05~5%，MgO 2~10%，ZnO 0.1~3%，ZrO2 0.1~5%，CdO 0.001~0.1%，SnO2 0.1~1.5%。利用本发明配方制得的无碱硼铝硅酸盐玻璃具有高化学稳定性、高应变点、高杨氏模量、低膨胀系数、低熔化温度、低液相线温度等优点，该配方组成中的ZnO、MgO，能显著降低高温粘度，具有较低的熔化温度。此材料可广泛适用于制作平面显示器、光伏器件或者其他光电器件的玻璃基板，特别适用使用低温多晶硅LTPS技术的TFT‑LCD、OEL的玻璃基板等。
Description
技术领域
本发明属于玻璃生产技术领域，涉及一种可广泛适用于平板显示器基板玻璃、尤其是薄膜晶体管显示器（TFT-LCD）的玻璃基板的配方，具体地说是一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃。
背景技术
21世纪以来，平板显示技术及其产品以其轻薄化的优点，在电子显示产品（笔记本电脑、液晶台式电脑、液晶电视）等方面得到了迅猛发展，高清晰度、大屏幕等电视机已经进入了家庭。
TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display），即薄膜晶体管液晶显示器，有源矩阵类型液晶显示器(AM-LCD)是目前最好的彩色显示设备，是目前唯一在亮度、对比度、功耗、寿命、体积和重量等综合性能上全面赶上和超过CRT的显示器件，它的性能优良、大规模生产特性好，自动化程度高，原材料成本低廉，发展空间广阔，将迅速成为新世纪的主流产品，是21世纪全球经济增长的一个亮点。
TFT-LCD面板所需的两片基板玻璃，分别作为底层基板玻璃及彩色滤光片的底板使用，在后期面板商加工过程中要在表面上形成金属或氧化物薄膜等。其玻璃基板本身的性能有如下几点：
（1）实质上不含有碱金属氧化物，由于如果含有碱金属氧化物，则碱金属离子成膜的半导体物质中扩散，导致膜特性的劣化。
（2）要求对半导体形成所用的各种化学品具有足够的化学耐久性：
a、要求对SiOx和SiNx的蚀刻所使用的缓冲氢氟酸；
b、ITO、金属电极的蚀刻所用的各种酸（盐酸、硝酸、硫酸等）；
c、对碱性抗蚀膜剥离液具有耐久性。
（3）在后续TFT-LCD的形成工序中，因玻璃基板要暴露于高温中，会造成玻璃基板变形、收缩，因此玻璃基板要具有高应变点。
（4）在玻璃基板的内部和表面没有影响显示器显示的缺点，比如气泡、波筋、夹杂物、未熔物、划伤等。
（5）由于显示器在制作过程中，要加快热处理的升降温速度，提高生产性，或提高耐热冲击性，与Si匹配的热膨胀系数，热膨胀系数小。
（6）气泡、表面品质优良。
（7）由于显示器逐渐轻量化，薄板化，所以要求基板密度小。
（8）防止基板在搬运时玻璃因自重产生的弯曲量小，要求基板杨氏模量高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，具备高化学耐久性（耐酸、耐碱），具有较高的应变点，具有较低的熔化温度，具有较低的液相线温度，具有较低的密度，无表面缺陷，符合平板显示行业发展趋势。
本发明采用的技术方案是：一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，所述的玻璃中各化学组分的质量百分含量为：
SiO2 60~70%，
Al2O3 15~25%，
B2O3 0.05~5%，
MgO 2~10%，
ZnO 0.1~3%，
ZrO2 0.1~5%，
CdO 0.001~0.1%，
SnO2 0.1~1.5%。
本发明的有益效果是：借助于本发明提供的玻璃组分配方生产的玻璃基板经检测可以达到以下的技术指标：密度小于2.45g/cm3；在20-380℃的热膨胀系数为30-38×10-7/℃；应变点在710℃以上，熔化温度低于1650℃。在浓度为5%NaOH溶液中，85±5℃下侵蚀6h，侵蚀量小于1.0 mg/cm2，其表现为没有白浊、变色、裂纹等；在浓度为10%HF溶液中，25±5℃下侵蚀20min，侵蚀量小于5.0 mg/cm2；在浓度为10%HCl溶液中，85±5℃下侵蚀24h，侵蚀量小于0.5 mg/cm2，其表现没有出现白浊、变色、裂纹等。
具体实施方式
一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，所述的玻璃中各化学组分的质量百分含量为：
SiO2 60~70%，
Al2O3 15~25%，
B2O3 0.05~5%，
MgO 2~10%，
ZnO 0.1~3%，
ZrO2 0.1~5%，
CdO 0.001~0.1%，
SnO2 0.1~1.5%。
SiO2、Al2O3及B2O3的质量百分含量之和为82~90%。
0.06%≤（MgO+ ZrO2+ZnO+ CdO）/ SiO2≤0.24%。
优选的，CdO的质量百分含量为0.005~0.06%。
优选的，ZrO2的质量百分含量为1~4.5%。
优选的，ZnO的质量百分含量为1~2.5%。
优选的，MgO的质量百分含量为4.2~8%。
优选的，B2O3的质量百分含量为2~4.5%。
优选的，Al2O3的质量百分含量为17~24%。
优选的，SnO2的质量百分含量为0.5~1.2%。
具体实施时：按照表1、表2中给出的配方称量各组分，充分混合，使其均匀，将混合料倒入坩埚中，高温炉下1610℃-1650℃下保温8-12h。为了使玻璃成分均匀，高温下使用铂金棒搅拌。将熔制好的玻璃液降温至成型所需要的温度范围，制作出平面显示器需要的玻璃基板的厚度，再对成型的玻璃基板进行简单的冷加工处理，最后对玻璃基板的基本物理特性进行测试。可分别得到热膨胀系数、应变点、高温粘度、密度等特性数据。
表1、表2中的实施例所列玻璃性质按照玻璃领域常用的技术测定。线性热膨胀系数采用卧式膨胀仪测定，在20-380℃范围内的线性热膨胀系数（CTE）用×10-7/℃表示；应变点采用弯曲梁粘度计测试，单位用℃表示；密度采用阿基米德法测定，单位为g/cm3；高温粘度采用圆筒式旋转高温粘度计测定，利用VFT公式计算熔化温度，单位为℃（熔化温度指玻璃熔体粘度达到200泊时的温度）。
下面给出配方中各组份以质量百分比计量的具体实施例：
表1
表2
在本发明中，SiO2含量为60~70%，该成分是构成玻璃骨架的成分，网络形成体，含量的提高可以有助于玻璃轻量化，耐化学性的改进；SiO2含量过高，会增加玻璃的高温粘度，易产生失透；含量过低，易导致应变点降低，热膨胀系数增大，耐酸性、耐碱性下降，另外，SiO2的优选质量百分含量为63~68%。
Al2O3含量为15~25%，用以提高玻璃结构的强度，若含量低于15%，玻璃容易失透，也容易受到外界水气及化学试剂的侵蚀。高含量的A12O3有助于玻璃应变点、抗弯强度的增高，但过高玻璃容易出现析晶现象，同时会使得玻璃难以熔解，具体实施时，Al2O3的优选质量百分含量为17~24%。
B2O3含量为0.05-5%，B2O3的作用比较特殊，它能单独生成玻璃，也是一种很好的助熔剂，高温熔化条件下B2O3难于形成[BO4]，可降低高温粘度，低温时B有夺取游离氧形成[BO4]的趋势，使结构趋于紧密，提高玻璃的低温粘度，防止析晶现象的发生。但是过多的B2O3会使玻璃应变点大幅降低，具体实施时，B2O3的优选质量百分含量为2~4.5%。
MgO含量为2-10%，具有不降低应变点的情况下降低高温粘度，使玻璃易于熔化的特点。当无碱硅酸盐玻璃中碱土金属合量较少时，引入电场强度较大的网络外体离子Mg+，容易在结构中产生局部积聚作用，使短程有序范围增加。在这种情况下引入较多的Al2O3、B2O3等氧化物，以[AlO4]、[BO4]状态存在时，由于这些多面体带有负电，吸引了部分网络外阳离子，使玻璃的积聚程度、析晶能力下降；当碱土金属合量较多、网络断裂比较严重的情况下，引入中间体氧化物MgO，可使断裂的硅氧四面体重新连接而使玻璃析晶能力下降。因此在添加MgO时要注意与Al2O3、B2O3的配合比例。相对于其他碱土金属氧化物，MgO的存在会带来较低的膨胀系数和密度，较高的耐化学、应变点和弹性模量。如果MgO的质量百分比大于10%，玻璃耐化性会变差，同时玻璃容易失透，具体实施时，MgO的优选质量百分含量为4.2~8%。
ZnO含量为0.1~3%，二价金属氧化物根据它在元素周期表中地位与对性质影响不同，可以分为两类：一类是位于主族的碱土金属氧化物，其离子R2+具有8个外电子结构；第二类位于周期表副族（如ZnO、CdO等），其离子R2+具有18个外层电子结构，在玻璃中两者的结构状态与对玻璃性质影响是不同的。ZnO可以降低玻璃高温粘度，有利于消除气泡；同时在软化点以下有提升强度、硬度、增加玻璃的耐化学性，降低玻璃热膨胀系数的作用。在无碱玻璃体系中，添加适量ZnO有助于抑制析晶，可以降低析晶温度。在理论上，ZnO在无碱玻璃中，作为网络外体引入玻璃后，高温下一般以[ZnO4]的形式存在，较[ZnO6]玻璃结构更加疏松，与不含ZnO的玻璃处于相同的高温状态下比较，含ZnO的玻璃粘度更小，原子运动速度更大，无法形成晶核，需要进一步降低温度，才有利于晶核的形成，因而，降低了玻璃的析晶上限温度。ZnO含量过多会使玻璃的应变点大幅度降低，具体实施时，ZnO的优选质量百分含量为1~2.5%。
ZrO2含量为0.1~5%，为网络外体，最大的特点是能显著提高玻璃的耐碱性，但是过量，会增大玻璃的粘度，具体实施时，ZrO2的优选质量百分含量为1~4.5%。
CdO含量为0.001~0.1%，为网络改性体，镉具有较高的键强，具有强化玻璃网络结构的作用，其助熔作用与同族氧化锌相似，但其助熔作用更强，明显降低低温粘度，降低热膨胀系数，增加机械强度，能显著提高玻璃的耐化学腐蚀性，尤其是耐碱性。过量会使玻璃密度增大，而且在熔化过程中易导致沉底、熔化不均等，具体实施时，CdO的优选质量百分含量为0.005~0.06%。
SnO2含量为0.01~1.5，作为玻璃熔解时的澄清剂或除泡剂，以提高玻璃的熔解质量，具体实施时，SnO2的优选质量百分含量为0. 5~1.2%。
由表1、表2可以看出，通过各个实施例可以再一次证明：借助于本发明提供的玻璃组分原则生产的玻璃基板经检测可以达到以下的技术指标：密度小于2.45g/cm3；在20-380℃的热膨胀系数为30-38×10-7/℃；应变点在710℃以上，熔化温度（粘度为200泊时对应的温度）低于1650℃，浸湿在5%NaOH溶液中侵蚀量小于1 mg/cm2；浸湿在10%HF溶液中侵蚀量小于5mg/cm2；浸湿在10%HCl溶液中侵蚀量小于0.5mg/cm2。无碱玻璃符合环保要求，具有高化学稳定性、高应变点、高杨氏模量、低膨胀系数、低熔化温度、低液相线温度等优点。
Claims (8)
1.一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于：所述的玻璃中各化学组分的质量百分含量为：
SiO2 60~70%，
Al2O3 15~25%，
B2O3 2.5~4.5%，
MgO 2~10%，
ZnO 0.1~3%，
ZrO2 0.1~5%，
CdO 0.001~0.1%，
SnO2 0.1~1.5%，
0.06%≤（MgO+ ZrO2+ZnO+ CdO）/ SiO2≤0.24%。
2.根据权利要求1所述的一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于：SiO2、Al2O3及B2O3的质量百分含量之和为82~90%。
3.根据权利要求1所述的一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于：CdO的质量百分含量为0.005~0.06%。
4.根据权利要求1所述的一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于：ZrO2的质量百分含量为1~4.5%。
5.根据权利要求1所述的一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于：ZnO的质量百分含量为1~2.5%。
6.根据权利要求1所述的一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于：MgO的质量百分含量为4.2~8%。
7.根据权利要求1所述的一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于：Al2O3的质量百分含量为17~24%。
8.根据权利要求1所述的一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于：SnO2的质量百分含量为0.5~1.2%。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310528623.1A CN104276755B (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310528623.1A CN104276755B (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104276755A CN104276755A (zh) | 2015-01-14 |
| CN104276755B true CN104276755B (zh) | 2017-02-15 |
Family
ID=52252168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310528623.1A Active CN104276755B (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN104276755B (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105837030B (zh) * | 2016-04-06 | 2019-04-19 | 东旭科技集团有限公司 | 一种玻璃用组合物和玻璃及其制备方法和应用 |
| CN110818251A (zh) * | 2019-11-19 | 2020-02-21 | 蚌埠中光电科技有限公司 | 一种玻璃组合物及玻璃的制备方法 |
| CN112250306B (zh) * | 2020-10-22 | 2022-07-19 | 淄博宝特化工科技有限公司 | 一种高温高压耐酸碱瓷釉及其制备方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0577119A2 (en) * | 1992-07-02 | 1994-01-05 | Corning Incorporated | Process for vitrifying incinerator ash |
| EP0787693A1 (de) * | 1996-02-02 | 1997-08-06 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| DE19617344C1 (de) * | 1996-04-30 | 1997-08-07 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und seine Verwendung |
| CN1224699A (zh) * | 1997-09-11 | 1999-08-04 | 肖特玻璃厂 | 无碱金属的铝硼硅酸盐玻璃及其用途 |
| DE19601922C2 (de) * | 1996-01-13 | 2001-05-17 | Schott Glas | Zinn- und zirkonoxidhaltige, alkalifreie Erdalkali-Alumo-Borosilicatgläser und deren Verwendung |
| CN1443143A (zh) * | 2000-07-19 | 2003-09-17 | 肖特玻璃制造厂 | 铝硅酸盐玻璃的生产方法 |
| CN1192982C (zh) * | 1999-08-21 | 2005-03-16 | 肖特玻璃制造厂 | 无碱铝硼硅酸盐玻璃及其应用 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3666610B2 (ja) * | 1995-08-02 | 2005-06-29 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板 |
| JP3861271B2 (ja) * | 1996-08-21 | 2006-12-20 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス及びその製造方法 |
-
2013
- 2013-10-31 CN CN201310528623.1A patent/CN104276755B/zh active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0577119A2 (en) * | 1992-07-02 | 1994-01-05 | Corning Incorporated | Process for vitrifying incinerator ash |
| DE19601922C2 (de) * | 1996-01-13 | 2001-05-17 | Schott Glas | Zinn- und zirkonoxidhaltige, alkalifreie Erdalkali-Alumo-Borosilicatgläser und deren Verwendung |
| EP0787693A1 (de) * | 1996-02-02 | 1997-08-06 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| DE19617344C1 (de) * | 1996-04-30 | 1997-08-07 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und seine Verwendung |
| CN1224699A (zh) * | 1997-09-11 | 1999-08-04 | 肖特玻璃厂 | 无碱金属的铝硼硅酸盐玻璃及其用途 |
| CN1192982C (zh) * | 1999-08-21 | 2005-03-16 | 肖特玻璃制造厂 | 无碱铝硼硅酸盐玻璃及其应用 |
| CN1443143A (zh) * | 2000-07-19 | 2003-09-17 | 肖特玻璃制造厂 | 铝硅酸盐玻璃的生产方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN104276755A (zh) | 2015-01-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102282396B1 (ko) | 유리용 조성물, 알칼리 토류 알루미늄 규산염 유리 및 그 제조 방법과 적용 | |
| CN103261109B (zh) | 无碱玻璃和无碱玻璃的制造方法 | |
| CN102471134B (zh) | 无碱玻璃及其制造方法 | |
| US9242890B2 (en) | Glass composition, glass substrate for flat panel display using the same, flat panel display, and method for producing glass substrate for flat panel display | |
| JP2017007939A (ja) | 無アルカリガラス | |
| CN109678341B (zh) | 无碱玻璃组合物和无碱玻璃及应用 | |
| JP6663010B2 (ja) | 低ホウ素とバリウムフリーのアルカリ土類アルミノシリケートガラス及びその応用 | |
| JPWO2013183681A1 (ja) | 無アルカリガラスおよびこれを用いた無アルカリガラス板 | |
| CN104326662B (zh) | 一种不含硼的无碱铝硅酸盐玻璃 | |
| CN104276756B (zh) | 一种无碱玻璃 | |
| CN105621882A (zh) | 一种玻璃用组合物、低脆性化学强化玻璃及其制备方法和应用 | |
| CN104276755B (zh) | 一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃 | |
| CN104326667A (zh) | 一种含硼的tft-lcd基板玻璃的原料配方 | |
| CN102690056B (zh) | 一种平板显示器用的玻璃基板的配方 | |
| CN101891382A (zh) | 一种高应变点铝硼硅酸盐玻璃 | |
| JP3460298B2 (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
| CN104276757A (zh) | 平面显示器基板玻璃的组成 | |
| CN102584008B (zh) | 一种用于lcd的轻质环保型无碱硼铝硅酸盐玻璃的配方 | |
| CN107117814B (zh) | 一种含碱高应变点玻璃及其制备方法 | |
| CN104211300A (zh) | 一种高比模数的玻璃基板的配方 | |
| CN102690055A (zh) | 一种基于浮法工艺的等离子显示器用的硅铝酸盐玻璃 | |
| CN104150767A (zh) | 碱土铝硅酸盐玻璃基板及其组成 | |
| CN105731790A (zh) | 一种无碱铝硅酸盐玻璃用组合物、无碱铝硅酸盐玻璃及其制备方法和应用 | |
| CN102584007B (zh) | 一种环保型tft-lcd基板玻璃的配方 | |
| CN114716143B (zh) | 用于液晶玻璃基板的无碱硼铝硅酸盐玻璃 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Shen Yuguo Inventor after: Xu Xingjun Inventor after: Zhang Guangtao Inventor after: Li Heran Inventor after: Li Junfeng Inventor after: Yan Dongcheng Inventor after: Wang Lihong Inventor after: Hou Jianwei Inventor before: Shen Yuguo Inventor before: Xu Xingjun Inventor before: Zhang Guangtao Inventor before: Li Junfeng Inventor before: Yan Dongcheng Inventor before: Wang Lihong Inventor before: Hou Jianwei |
|
| COR | Change of bibliographic data | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PP01 | Preservation of patent right | ||
| PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20191212 Granted publication date: 20170215 |
|
| PD01 | Discharge of preservation of patent | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent |
Date of cancellation: 20221212 Granted publication date: 20170215 |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20230417 Address after: 102200 201, floor 2, No. 2, yard 91, shashun Road, Changping District, Beijing Patentee after: Beijing Yuanda Xinda Technology Co.,Ltd. Address before: 050000 no.369 Zhujiang Avenue, hi tech Zone, Shijiazhuang City, Hebei Province Patentee before: TUNGHSU GROUP Co.,Ltd. |