DE19959084B4 - Organisches LED-Display und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents

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Abstract

Organisches LED-Display (1) mit einem flächigen Grundsubstrat (2) aus Glas,
– auf dem ein flächiger Schichtkörper bestehend aus einer äußeren metallischen Elektrodenschicht (5) als Kathode, einer inneren, transparenten und leitfähigen Elektrodenschicht (3) als Anode und einer zwischen beiden Elektrodenschichten (3, 5) befindlichen, organische Leuchtstoffe enthaltende, bei Anlegen einer Spannung an die Elektrodenschichten (3, 5) lichtemittierende Schicht (4) aufgebracht ist,
– das ein unpoliertes alkaliarmes Glas mit einem Natriumoxidgehalt von 0,01 bis 6,5 Gew.-% ist, und
– das einen quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0,2 bis 1,0 nm besitzt.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein organisches LED-Display mit einem flächigen Grundsubstrat aus Glas, auf dem ein flächiger Schichtkörper, bestehend aus einer äußeren metallischen Elektrodenschicht als Kathode, einer inneren, transparenten und leitfähigen Elektrodenschicht als Anode und einer zwischen beiden Elektrodenschichten befindlichen, organische Leuchtstoffe enthaltenden, bei Anlegen einer Spannung an die Elektrodenschichten lichtemittierenden Schicht, aufgebracht ist.
  • Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zu seiner Herstellung.
  • Elektronisch angesteuerte Anzeigesysteme, sogenannte Displays, sind in verschiedenen Ausführungsformen auf der Basis verschiedener Prinzipien bekannt und weit verbreitet.
  • Ein modernes Prinzip bezieht sich auf organische LED-Displays, wobei dieser Begriff aus dem englischsprachigen Begriff "Organic Light Emitting Diodes (OLED)"-Displays abgeleitet ist.
  • Diese organischen LED-Displays werden typischerweise unter Verwendung von Glas als Substratmaterial hergestellt und bestehen aus mindestens einer organischen Schicht, die zwischen einer transparenten leitfähigen, direkt auf das Glassubstrat aufgebrachten Schicht als Anode und einer äußeren Metallelektrode, typischerweise bestehend aus Calcium, Aluminium, Magnesium oder einer Legierung aus unedlen Metallen, als Kathode, eingebettet ist, und die bei Anlegen einer Gleichspannung oder einer gepulsten Spannung Licht emittiert.
  • Die transparente leitfähige Schicht besteht typischerweise aus Indium-Zinn-Oxid, und wird üblicherweise als ITO-Schicht bezeichnet.
  • Der prinzipiell Aufbau dieser Displays ist bekannt und beispielsweise beschrieben in De Jule, R.: "Directions in Flat Panel Displays", Semiconductor International, August 1999, S. 76.
  • Als Glassubstrat für diese organischen LED-Displays werden meistens Floatglas, typischerweise natriumhaltige Floatgläser, sogenannte Sodalime-Gläser eingesetzt. Aufgrund der herstellungsbedingten Kontamination dieser Gläser mit Zinn und Zinnoxid müssen diese Gläser unbedingt poliert werden. Dabei nimmt der Quadratische Mittenrauhwert (RMS) Rq der Glasoberfläche um den Faktor 2-4 zu. Aufgrund des hohen Natriumgehaltes müssen Sodalime-Gläser ferner mit einer Siliciumoxidschicht beschichtet werden, die als Natriumbarriere wirkt. Aufgrund dieser Beschichtung steigt die Oberflächenrauheit des Glassubstrates nochmals um den Faktor 2-4. Verwendet man daher Float- bzw. Sodalime-Gläser als Ausgangsprodukt, nimmt die Rauheit des fertigen Glassubstrates um den Faktor 4-16 gegenüber dem Ausgangssubstrat zu.
  • Dies führt aus nachfolgenden Gründen zu Problemen bei der Herstellung der organischen LED-Displays. Im Hinblick darauf, daß die einzelnen Funktionsschichten zum Aufbau eines organischen LED-Displays nur wenige zehn Nanometer betragen, hängt ihre Funktionsfähigkeit, Fehlerfreiheit und Lebensdauer im starken Maße von der Oberflächengüte der verwendeten Glassubstrate ab, da sich die Oberflächenmorphologie des Substratmaterials auf diesen dünnen Funktionsschichten abbildet. Dies hängt auch damit zusammen, daß zur Herstellung der elektroneninjizierenden Kathodenschicht und der löcherinjizierenden Anodenschicht physikalische Beschichtungsprozesse, wie z.B. das Aufdampfen oder das Zerstäuben (Sputtern), eingesetzt werden. Die physikalischen Prozesse führen bei der Beschichtung schließlich zu Schichten, deren Rauheit beträchtlich über der Rauheit des Glassubstrates liegt. Dies deshalb, weil die physikalischen Beschichtungsprozesse stark gerichtet sind und daher keine konforme Beschichtung der Glasoberfläche möglich ist. Die physikalischen Mechanismen sowohl des amorphen als auch kristallinen Schichtwachstums führen also stets zu einer rauheitserhöhenden Schichtmorphologie, die wesentlich von der als Wachstumskeime wirkenden Rauheit des Glassubstrates abhängt. Diese Zusammenhänge sind beispielsweise beschrieben in den Schriften:
    • A. G. Dirks et al. "Columnar Microstructure in Vapor-Deposited Thin Films", Thin Solid Films 47, 219-233 (1977), D.O. Smith et al. "Obligue-Incidence Anisotropy in Evaporated Permalloy Films", In Journal of Applied Physics 31, 1755 (1960).
  • Durch den zum Teil kristallinen Charakter der Einzelschichten wird die Rauheit zudem noch weiter erhöht. Insbesondere die als Natriumbarriere bei Sodalime-Gläsern aufgebrachte Schicht aus Siliciumoxid verstärkt die Rauheit des Grundsubstrates. Denn auch diese Beschichtung findet unter Einsatz der o. g. physikalischen Prozesse statt.
  • Eine hohe Rauheit der transparenten leitfähigen ITO-Schicht führt jedoch bei der nachfolgenden Beschichtung mit polymeren, oligomeren oder monomeren lichtemittierenden Materialien zu einem ungleichmäßigen Dickenprofil dieser Schicht. Dies deshalb, weil das Polymermaterial als Lösung in flüssiger Form aufgeschleudert wird bzw. oligomere und monomere organische, lichtemittierende Materialien mittels physikalischer Aufdampfprozesse im Hochvakuum auf die ITO-Schicht aufgebracht werden. Bei einer zu hohen Rauheit der ITO-Schicht kann es deshalb vorkommen, daß keine geschlossene Leuchtschicht erzeugt werden kann und somit Pixelfehler auftreten.
  • Aufgrund des ungleichmäßigen Dickenprofils dieser "Leuchtpolymer"-Schicht und des dadurch bedingten unterschiedlichen Abstandes von Kathode zu Anode treten ferner Inhomogenitäten im elektrischen Feldstärkeverlauf auf, die dazu führen, daß das "Leuchtpolymer" verschieden stark angeregt wird. An den kleinen Radien der Spitzen der rauben Elektroden treten zudem lokal überhöhte Feldstärken auf. Bei entsprechenden Feldstärkespitzen wird ein so hoher Elektronen- und Löcherstrom injiziert, daß das Polymer an diesen Stellen schnell degradiert. Im Extremfall kann die überhöhte Feldstärke zu einem elektrischen Durchbruch und damit zu einem Kurzschluß, d.h. zu einem Totalausfall des Leuchtelementes fuhren. Im anderen Fall der zu niedrigen Feldstärke wird das Polymer zu wenig angeregt, so daß insgesamt eine inhomogene Lumineszenz resultiert.
  • Dieses Problem wird in Scharf, R.: "Leuchtende Polymere-Dispalys mit Zukunft", Physikalische Blätter 55 (1999), Nr. 6, Seite 38, beschrieben. Dort wird von Ausfällen von organischen LED-Displays berichtet, die durch die Rauheit der ITO-Oberflächen, die Nadeln von einigen 10 nm aufweisen können, bedingt sind. In der JP 61 09 6609 A wird daher vorgeschlagen, anstelle von ITO einen aluminiumdotierten Zinkoxidfilm zu verwenden, dessen Rauheit niedriger liegen soll. Diese ZnO:Al-Filme sind technisch jedoch nicht etabliert, da diese eine geringere Beständigkeit als ITO aufweisen.
  • Hinzu kommt, daß Sodalime-Gläser nach einem Floatverfahren nicht mit den notwendigen Dicken von < 0,3 mm hergestellt werden können, wie es für flexible Glassubstrate notwendig wäre. Außerdem liessen sich derart dünne Gläser mit mechanischen Verfahren wirtschaftlich nicht mehr polieren, da diese sonst zerbrechen. Somit lassen sich auf der Basis der bekannten Überlegungen flexible Displays auf Glasbasis nur mit entsprechend dünnen feuerpolierten natriumarmen Glassubstraten mit einer Dicke von 0,2 bis 0,010 mm herstellen. Feuerpoliert bedeutet dabei, daß eine sehr glatte Oberfläche bei der Erstarrung des Glasbandes an der Grenzfläche zu Luft erzeugt wird. Es sind zwar Schriften bekannt, die sich mit Teilaspekten der Problematik beschäftigen. So beschreibt die JP 11052344 A die Verwendung eines organischen Filmes unter Verwendung von Halo- oder Alkoxy-silanen, um die Rauheit der ITO-Schicht für LCDs (Liquid Crystal Diplays) zu vermindern. Das bedeutet, daß hier ein zusätzlicher Prozeßschritt eingesetzt wird und das verwendete Schichtmaterial bei Anwendung von OLEDs die Löcherinjektion behindert. Die JP 10255975 A beschreibt die Abscheidung einer besonders glatten Aluminiumschicht auf der organischen Leuchtschicht, um Inhomogenitäten der elektischen Feldstärke zu vermeiden.
  • In beiden Schriften ist die Bedeutung der Glasmorphologie für die Zuverlässigkeit und Leistungsfähigkeit des LCD- bzw. OLED-Displays jedoch nicht erwähnt.
    •
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das eingangs bezeichnete organische LED-Display so auszubilden, daß es fehlerfrei und langlebig ist und insbesondere keine Pixeldefekte durch Kurzschlüsse oder überhöhte Feldstärken auftreten.
  • Die Lösung dieser Aufgabe gelingt erfindungsgemäß mit einem organischen LED-Display mit einem flächigen Grundsubstrat aus Glas,
    • – auf dem ein flächiger Schichtkörper, bestehend aus einer äußeren metallischen Elektrodenschicht als Kathode, einer inneren, transparenten und leitfähigen Elektrodenschicht als Anode und einer zwischen beiden Elektrodenschichten befindlichen, organische Leuchtstoffe enthaltende, bei Anlegen einer Spannung an die Elektrodenschichten lichtemittierende Schicht, aufgebracht ist,
    • – das ein unpoliertes alkaliarmes Glas mit einem Natriumoxidgehalt von 0,01 bis 6,5 Gew.-% ist, und
    • – das einen quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0,2 bis 1,0 nm besitzt.
  • Die WO 90/13148 A1 beschreibt eine organische Elektrolumineszenzanordnung mit einem flächigen Grundsubstrat aus Borosilikatglas, bei der, anders als im Fall der Erfindung, die Elektronen injizierende, d.h. die Kathodenschicht auf Aluminiumbasis „innen", d.h. direkt auf dem Glassubstrat und die Löcher injizierende, d.h. die Anodenschicht „außen", d.h. abgewandt von dem Glassubstrat außen auf der Leuchtschicht, liegt. Dies hat den Nachteil, daß die Kathodenschicht, die chemisch sehr sensitiv ist, insbesondere gegen Sauerstoff, betrieblich chemisch ständig vom Glas beeinträchtigt wird, wogegen eine außen liegende Kathodenschicht sofort nach ihrer Aufbringung chemisch versiegelt werden kann.
  • Wenn das Grundsubstrat ein Borosilikatglas ist, ist damit nicht zwingend ausgesagt, daß es ein „unpoliertes" Glas ist, da Borosilikatgläser typischerweise gefloatet werden, um dann nachträglich poliert werden zu müssen. Ferner ist damit nicht zwingend ausgesagt, daß das Borosilikatglas alkaliarm ist. Bei den im Rahmen der Erfindung eingesetzten alkaliarmen Borosilikatgläsern handelt es sich um eine spezielle Gattung von Borosilikatgläsern, d.h. das „normale" Borosilikatglas, ist nicht „alkaliarm".
  • Die vorgenannte WO-Druckschrift wird beherrscht von dem Problem der chemischen bzw. verfahrensmäßigen Zurverfügungsstellung der lichtemittierenden Schicht mit polymeren Materialien. Sie schweigt sich völlig aus über die Probleme, die von der Rauheit der Oberfläche des Glassubstrats ausgehen, die zentrale Problemstellung der Erfindung.
  • Verfahrensmäßig gelingt die Lösung der Aufgabe hinsichtlich der Herstellung eines organisches LED-Display mit einem flächigen Grundsubstrat aus Glas, auf dem ein flächiger Schichtkörper, bestehend aus einer äußeren metallischen Elektrodenschicht als Kathode, einer inneren, transparenten und leitfähigen Elektrodenschicht als Anode und einer zwischen beiden Elektrodenschichten befindlichen, organische Leuchtstoffe enthaltende, bei Anlegen einer Spannung an die Elektrodenschichten lichtemittierende Schicht, aufgebracht ist mit den Schritten:
    • – Bereitstellen eines Grundsubstrates aus unpoliertem, alkaliarmen Glas mit einem Natriumoxidgehalt von 0,01 bis 6,5 Gew.-% und einem quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0,2 bis 1,0 nm,
    • – Aufbringen der Elektrodenschichten durch physikalische Beschichtungsprozesse wie Aufdampfen oder Zerstäuben (Sputtern), und
    • – Aufbringen der lichtemittierenden Schicht durch Aufschleudern von polymeren, lichtemittierenden organischen Materialien oder durch Aufdampfen von oligomeren und monomeren lichtemittierenden organischen Materialien auf die transparente Elektrodenschicht.
  • Unpoliert im Sinne der Erfindung bedeutet dabei, daß das Glassubstrat nach der Heißformgebung aus der Glasschmelze, d.h. im erstarrten Zustand, nicht mehr gesondert "poliert" werden muß.
  • Durch die erfindungsgemäße Ausbildung des Glassubstrates des organischen LED-Displays aus einem unpolierten, alkaliarmen Glas, gelingt es, den quadratischen Mittenrauhwert so gering zu halten, so daß relativ glatte Elektrodenschichten und damit eine gleichmäßige lichtemittierende Schicht aufgebaut werden können, so daß das Display fehlerfrei und langlebig ist, und insbesondere keine Pixeldefekte durch Kurzschlüsse oder überhöhte Feldstärken auftreten.
  • Dies soll im folgenden am Beispiel von Borosilikatglas dargestellt werden, das nach einer Weiterbildung der Erfindung ein bevorzugtes unpoliertes alkaliarmes Glas ist, und das gemäß einer weiteren Ausgestaltung vorzugsweise nach dem Down-draw- oder Overflowfusionverfahren hergestellt ist.
  • Die vorgenannten Borosilikatgläser besitzen eine sogenannte feuerpolierte Oberfläche und müssen nicht aufgrund etwaiger Verunreinigungen poliert werden. Feuerpoliert bedeutet dabei, daß sich die Glasoberfläche beim Erstarren des Glases während der Heißformgebung nur durch die Grenzfläche zur Luft ausbildet und danach weder mechanisch noch chemisch verändert wird. Der Qualitätsbereich des so hergestellten Glasbandes hat also während der Heißformgebung keinerlei Kontakt zu anderen festen oder flüssigen Materialien. Beide oben erwähnten Glasziehverfahren führen zu Glasoberflächen mit einem Quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von typischerweise 0,2–0,4 nm und einer gemittelten Rauhtiefe Rz von 0,5–1,5 nm gemessen auf einer Meßlänge von 670 μm. Polierte Sodalime-Gläser besitzen dagegen einen Quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 1,0–2 nm und eine gemittelte Rauhtiefe Rz von 1,5–6,0 nm auf einer Meßlänge von 670 μm. Generell kann das verwendete unpolierte alkaliarme Glas einen Quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rg von 0,2–1,0 nm haben.
  • Außerdem können diese Borosilikatgläser in einer natriumarmen Zusammensetzung hergestellt werden, so daß keine weitere Aufrauhungen bewirkende Barrierenschicht aus Siliziumoxid aufgebracht werden muß. Alkaliarmes Borosilikatglas ist z.B. unter der Bezeichnung D 263 von der Schott Displayglas GmbH erhältlich. Dieses Glas besitzt einen Natriumoxidgehalt von 6,4 Gew.-%, während ein Sodalime-Glas einen Natriumoxidgehalt von 13 Gew.-% aufweist. Ferner ist ein sog. natriumfreies Borosilikatglas z.B. unter der Bezeichnung AF45 von der Schott Displayglas GmbH erhältlich. Dieses Glas besitzt einen Natriumoxidgehalt von nur 0,08 Gew.-%. Generell kann der Natriumoxidgehalt des verwendeten unpolierten alkaliarmen Glases im Bereich von 0,01–6,5 Gew.-% liegen.
  • Verwendet man daher unpolierte, natriumarme Borosilikatgläser als Glassubstrate für org. LED-Displays, so gelingt es, auf diesen relativ glatte ITO-Schichten zu erzeugen. Der Quadratische Mittenrauhwert (RMS) Rq dieser Schichten liegt beispielsweise bei einem Oberflächenwiderstand von 13 ohm/sq. bei 0,5 – 1,5 nm, während der Quadratische Mittenrauhwert (RMS) Rq von ITO-Schichten mit einem Oberflächenwiderstand von 13 ohm/sq bei polierten Sodalime-Gläsern mit Siliziumoxidbarriereschicht beispielsweise bei 3,0–10,0 nm liegt. Somit liegt der Quadratische Mittenrauhwert (RMS) einer vergleichbaren ITO-Schicht bei Verwendung von polierfreiem Borosilikatglas deutlich niedriger als bei Verwendung eines polierten Sodalime-Glases, welches mit Siliziumoxid als Natriumbarriere beschichtet ist.
  • Beispielsweise liegt die maximale Rauhtiefe Rmax einer ITO-Beschichtung auf poliertem Sodalime-Glas bei 95 nm auf einer Fläche von 50 μm × 50 μm gemessen mit dem Rasterkraftmikroskop, während eine vergleichbare ITO-Schicht auf einem unpolierten natriumarmen Borosilikatglas bei 55 nm auf einer Fläche von 50 μm × 50 μm gemessen mit dem Rasterkraftmikrokop liegt. Somit ist die maximale Rauhtiefe Rmax um einen Faktor 1,7 im Falle des polierten Sodalime-Glases höher.
  • Durch eine entsprechende Vorbehandlung des Glases z.B. durch Waschen, Anätzen, Plasmaaktivierung und Bekeimungsverfahren und durch eine vorteilhafte Prozeßführung der ITO Abscheidung, können sogar noch geringere Rauheiten bei Verwendung von unpolierten Borosilikatgläsern erzielt werden.
  • Die Dicke des Glassubstrates liegt gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung im Bereich von 1,1 bis 0,05 mm.
  • Verwendet man ein sehr dünnes Borosilikatglas mit einer Dicke von 0,01 mm bis 0,2 mm, lassen sich mit der Erfindung auch flexible organische LED-Displays mit den geschilderten Vorteilen herstellen.
  • Es kann auch ein derartig dünnes Glas eingesetzt werden, das auf einer Seite und an den Kanten mit einer Polymerschicht beschichtet ist, wobei die Polymerschicht aus einem Folienmaterial oder aus einem auf dem Glassubstrat ausgehärteten Polymer bestehen kann.
    •
  • Anhand von drei Beispielen in Verbindung mit der den prinzipiellen, d.h. unmaßstäblichen Aufbau eines organischen LED-Dislays zeigenden einzigen Figur der Zeichnung wird die Erfindung näher erläutert.
  • Beispiel 1
  • Ein Glassubstrat 2 aus Borosilikatglas AF45 (natriumarmes modifiziertes Borosilikatglas mit einem hohen Anteil an Bariumoxid und Aluminiumoxid) der Schott Displayglas GmbH (Dicke 0,2 mm) mit den Abmessungen 340 × 320 mm mit einem quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0,3 nm wird nach einer wäßrigen Reinigung in eine In-Line Sputteranlage ZV6000 der Fa. Leybold geschleust. Dort befindet sich ein PK 500 ITO Target, an dem das Glassubstrat 2 insgesamt 4 mal mit einer Geschwindigkeit von 0,28 m/min vertikal vorbeibewegt wird. Die Substrattemperatur beträgt 270°C. Bei einer Leistungsdichte von 1,7 W/qcm (500 W), einem Sauerstoffgehalt von 0,7 Vol.-% bei einem Totaldruck von 5,3 μbar (Gesamtgasfluß 50 sccm) erhält man eine ITO-Schicht mit einem quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0, 8 nm. Diese ITO-Schicht 3 besitzt einen Oberflächenwiderstand von 15 ohm/sq.
  • Auf diese ITO-Schicht 3, die als anodische Elektronenschicht dient, wird mit den üblichen Methoden die organische Leuchtstoffe enthaltene, lichtemittierende Schicht 4 aufgebracht, die wegen des geringen quadratischen Mittenrauhwertes der ITO-Schicht 3 sehr gleichmäßg ist, so daß keine Pixeldefekte durch innere Kurzschlüsse oder überhöhe Feldstärken auftreten können.
  • Auf diese Leuchtschicht 4 wird, ebenfalls mit üblichen Methoden, eine metallische als kathodische Elektrodenschicht dienende Schicht 5, abgeschieden.
  • Der aus den Schichten 3 bis 5 bestehende Schichtkörper in Verbindung mit dem Glassubstrat 2 aus unpoliertem alkaliarmen Glas bildet das erfindungsgemäße organische LED-Display 1.
  • Beispiel 2
  • Ein Glassubstrat aus Borosilikatglas AF45 der Dicke 0,1 mm mit den Abmessungen 340 × 320 mm und mit einem quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0,2 nm, wird nach einer wäßrigen Reinigung in eine In-line Sputteranlage ZV6000 der Fa. Leybold geschleust. Dort befindet sich ein PK 500 ITO Target, an dem das Substrat insgesamt 4 mal mit einer Geschwindigkeit von 0,28 m/min vertikal vorbeibewegt wird. Die Substrattemperatur beträgt 300°C. Bei einer Leistungsdichte von 1,9 W/qcm (560 W), einem Sauerstoffgehalt von 0,6 Vol.-% bei einem Totaldruck von 5,3 μbar erhält man eine ITO-Schicht 3 mit einem quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0,4 nm. Diese ITO-Schicht besitzt einen Oberflächenwiderstand von 12 ohm/sq und eine Transmission von 92 %.
  • Wie zum Beispiel 1 beschrieben, werden anschließend die Schichten 4 und 5 aufgebracht.
  • Beispiel 3
  • Ein Glassubstrat 2 aus Borosilikatglas AF45 der Dicke 0,05 mm mit den Abmessungen 340 × 320 mm und mit einem quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0,3 mm, wird nach einer wäßrigen Reinigung in eine In-Line Sputteranlage ZV6000 der Fa. Leybold geschleust. Dort befindet sich ein PK 500 ITO-Target, an dem das Substrat insgesamt 4 mal mit einer Geschwindigkeit von 0,28 m/min vertikal vorbeibewegt wird. Die Substrattemperatur beträgt 320°C. Bei einer Leistungsdichte von 1,5 W/qcm (440 W), einem Sauerstoffgehalt von 0,8 Vol.-% bei einem Totaldruck von 5,3 μbar erhält man eine ITO-Schicht 3 mit einem quadratischen Mittenrauhwert (IRMS) Rq von 0,6 nm. Diese ITO-Schicht besitzt einen Oberflächenwiderstand von 14 ohm/sq und eine Transmission von 90% Anschließend werden, wie beschrieben, die Schichten 4 und 5 aufgebracht.

Claims (7)

  1. Organisches LED-Display (1) mit einem flächigen Grundsubstrat (2) aus Glas, – auf dem ein flächiger Schichtkörper bestehend aus einer äußeren metallischen Elektrodenschicht (5) als Kathode, einer inneren, transparenten und leitfähigen Elektrodenschicht (3) als Anode und einer zwischen beiden Elektrodenschichten (3, 5) befindlichen, organische Leuchtstoffe enthaltende, bei Anlegen einer Spannung an die Elektrodenschichten (3, 5) lichtemittierende Schicht (4) aufgebracht ist, – das ein unpoliertes alkaliarmes Glas mit einem Natriumoxidgehalt von 0,01 bis 6,5 Gew.-% ist, und – das einen quadratischen Mittenrauhwert (RMS) Rq von 0,2 bis 1,0 nm besitzt.
  2. Display nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das unpolierte, alkaliarme Glas des Grundsubstrates (2) nach dem Down-draw- oder Overflowfusionsverfahren hergestellt ist.
  3. Display nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das unpolierte alkaliarme Glas des Grundsubstrates (2) ein Borosilikat- oder Aluminoborosilikat- oder ein Erdalkalialuminoborosilikatglas ist.
  4. Display nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasdicke des Grundsubstates (2) im Bereich von 1,1 bis 0,05 mm liegt.
  5. Display nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Grundsubstrat (2) ein flexibles Dünnglassubstrat ist, mit einer Dicke von 0,2 bis 0,01 mm.
  6. Display nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Seite und die Kanten des Dünnglassubstrates (2) mit einer Polymerschicht zur mechanischen Stabilisierung des Glassubstrates versehen ist.
  7. Verfahren zum Herstellen eines organischen LED-Display (1) mit einem flächigen Grundsubstrat (2) aus Glas, auf dem ein flächiger Schichtkörper, bestehend aus einer äußeren metallischen Elektrodenschicht (5) als Kathode, einer inneren transparenten, leitfähigen Elektrodenschicht (3) als Anode und einer zwischen beiden Elektrodenschichten (3, 5) befindlichen, organische Leuchtstoffe enthaltene, bei Anlegen einer Spannung an die Elektrodenschichten (3, 5) lichtemittierende Schicht (4), aufgebracht ist, mit den Schritten: – Bereitstellen eines Grundsubstrates (2) aus unpoliertem, alkaliarmen Glas mit einem Natriumoxidgehalt von 0,01 bis 6,5 Gew.-% und einem quadratischen Mittenrauwert (RMS) Rq von 0,2 bis 1,0 nm, – Aufbringen der Elektrodenschichten (3, 5) durch physikalische Beschichtungsprozesse wie Aufdampfen oder Zerstäuben (Sputtern), und – Aufbringen der lichtemittierenden Schicht (4) durch Aufschleudern von polymeren, lichtemittierenden organischen Materialien oder durch Aufdampfen von oligomeren und monomeren lichtemittierenden organischen Materialien auf die transparente Elektrodenschicht.
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