JP2002029776A

JP2002029776A - 耐クラック性に優れた無アルカリガラス

Info

Publication number: JP2002029776A
Application number: JP2000213877A
Authority: JP
Inventors: Shinkichi Miwa; 晋吉三和
Original assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date: 2000-07-14
Filing date: 2000-07-14
Publication date: 2002-01-29

Abstract

(57)【要約】【目的】実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、熱
膨張係数と密度が低く、種々の酸やアルカリ等の薬品に
対する高い耐性（耐薬品性）を持ち、歪点が高く、耐ク
ラック性、溶融性及び耐失透性に優れるガラスを提供す
ることを目的とする。【構成】質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５８〜７０％、Ａ
ｌ₂Ｏ₃ １２〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ９〜１５％、ＭｇＯ
０〜１％、ＣａＯ０〜９％、ＳｒＯ０〜６％、Ｂａ
Ｏ０〜６％、ＺｎＯ０〜５％、ＺｒＯ₂ ０〜５
％、ＴｉＯ₂ ０〜５％、Ｐ₂Ｏ₅ ０〜５％、ＳｉＯ₂＋
Ｂ₂Ｏ₃＋Ｐ₂Ｏ₅≧６５％、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃＝１．２〜
２．０の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含
有せず、密度が２．５ｇ／ｃｍ³以下、３０〜３８０℃
における熱膨張係数が２６〜４０×１０^-7／℃、クラッ
ク抵抗値が９．８Ｎ以上である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ、Ｅ
Ｌディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、ハー
ドディスク、フィルター、センサー等の基板として好適
な無アルカリガラスに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子工業の分野では、液晶ディスプレイ
等のフラットパネルディスプレイ、ハードディスク、フ
ィルター、センサーの基板としてガラス基板が広く使用
されている。

【０００３】この種のガラス基板には、用途の応じて様
々な特性が要求され、例えば液晶ディスプレイ基板に
は、以下のような特性が求められる。

【０００４】（１）ガラス中にアルカリ金属酸化物が含
有されていると、熱処理中にアルカリイオンが成膜され
た半導体物質中に拡散し、膜の特性の劣化を招くため、
実質的にアルカリ金属イオンを含有しないこと。

【０００５】（２）フォトリソグラフィーエッチング工
程で使用される種々の酸、アルカリ等の薬品に対する耐
性（耐薬品性）に優れていること。すなわち、液晶ディ
スプレイ基板には透明導電膜、絶縁膜、半導体膜、金属
膜等が成膜され、さらにフォトリソグラフィーエッチン
グ工程においてガラス基板は種々の回路、パターンが形
成される。これらの成膜及びフォトリソグラフィーエッ
チング工程においてガラス基板は種々の熱処理や薬品処
理を受ける。

【０００６】例えばＴＦＴ型アクティブマトリックス液
晶ディスプレイでは、ガラス基板上に絶縁膜や透明導電
膜を成膜し、さらにアモルファスシリコンや多結晶シリ
コンのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）がフォトリソグラフ
ィーエッチング工程を用いてガラス基板上に多数形成さ
れる。このような工程では、ガラス基板は３００〜６０
０℃の熱処理を受けると共に、硫酸、塩酸、アルカリ溶
液、フッ酸、バッファードフッ酸等の種々の薬品による
処理を受ける。特にバッファードフッ酸は、絶縁膜のエ
ッチングに広く用いられるが、ガラスを浸食してその表
面を白濁させやすく、またガラス成分と反応して反応生
成物ができ、これが工程中のフィルターを詰まらせた
り、基板に付着するため、これに対する耐久性は重要で
ある。

【０００７】（３）成膜、アニール等の工程で、ガラス
基板は数百℃に加熱されるが、その際にガラスが熱収縮
しないように歪点が高いこと。現在の多結晶シリコンＴ
ＦＴ−ＬＣＤでは、その工程温度は約４００〜６００℃
であり、これらの用途に用いるガラスには少なくとも６
４０℃以上の歪点を有することが望ましいとされる。

【０００８】（４）ガラス基板の熱膨張係数がガラス基
板上に成膜されるａ−ＳｉあるいはＰ−Ｓｉのそれに近
いこと。具体的には、３０〜３８０℃において２６〜４
０×１０^-7／℃の熱膨張係数であることが必要とされ
る。より望ましい熱膨張係数の範囲は２８〜３８×１０
^-7／℃である。熱膨張係数を４０×１０^-7／℃以下にす
ることは、耐熱衝撃性の向上にも寄与する。

【０００９】またガラスを溶融し、薄板状に成形するに
は、以下の特性が要求される。

【００１０】（５）ガラス中に、泡、ぶつ、脈理等の透
明ガラス基板として好ましくない溶融欠陥が発生しない
様、溶融性に優れていること。

【００１１】（６）ガラス基板中に、溶融時あるいは成
形時に発生する異物が混入するのを避けるため、耐失透
性に優れていること。

【００１２】すなわち無アルカリガラス基板は、一般に
溶融し難く、安価に高品質のガラス基板を大量に供給す
るためには、その溶融性を高めて、泡、異物等による不
良率を軽減することが重要である。

【００１３】また液晶ディスプレイ基板は、一般にダウ
ンドロー法で成形されるため、耐失透性が重要であり、
ガラスの成形温度を考えると、その液相線温度が１２０
０℃以下であることが必要である。

【００１４】さらに近年、フラットパネルディスプレイ
には軽量化の要求が高まっており、ガラス基板にも軽量
化が強く求められている。この要求を満たすためには、
ガラスの低密度化によるガラス基板の軽量化が望まれ
る。特に液晶ディスプレイ様ガラス基板の密度として
は、２．５ｇ／ｃｍ³以下であることが望ましく、さら
に好ましくは、２．４５ｇ／ｃｍ³以下であることが望
ましい。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】現在、液晶ディスプレ
イ等のフラットパネルディスプレイは、パーソナルな分
野への利用が進んでおり、機器の更なる軽量化が図られ
ている。これに伴い、ガラス基板にも軽量化の要求が益
々高まっており、この要求に応えるためにガラス基板の
薄板化が進んでいる。

【００１６】しかしながら、この種の基板は大型化も進
んでおり、ガラス基板としての強度の問題を無視して基
板の薄板化を図ることはできなくなっている。特に液晶
ディスプレイ用ガラス基板に用いられる０．７ｍｍ以下
の板厚のガラス基板では、ディスプレイの製造工程にお
いて、ガラス基板がカセットや装置と接触することによ
り、基板端面にカケやクラックが発生しやすい。電子機
器の軽量化に伴い、現在の液晶ディスプレイでは、基板
の端部に近いところまで、画素が作り込まれているた
め、基板端面でカケ、クラックが発生すると、その部分
のディスプレイ表示が正常に行われなくなる。また基板
端面でのカケやクラックは、その後の工程、あるいはデ
ィスプレイとして製品化した後、徐々にクラックの伸展
を引き起こし、ディスプレイパネルの破壊を招く可能性
が大きい。さらにカケによって発生したガラス片やガラ
ス粉が基板表面を汚染することにより、駆動電極線の断
線など重大なディスプレイの欠陥を引き起こす。これを
防ぐために、一般にガラス基板の端面部分を研削する、
所謂面取りが行われている。また特にカケが発生しやす
い基板のコーナー部分では角取りも行われる。

【００１７】しかし、特に液晶ディスプレイ等では、近
年、大面積の基板に何枚ものディスプレイを作りこむ、
所謂多面取りが行われており、この多面取りによる製造
工程では、ガラス基板を切断した後、２枚のガラス基板
の貼り合わせを行ったり、貼り合わせた後に切断を行っ
て、ディスプレイを完成させるため、基板の周囲に面取
りが施されることなく、エッジ部がそのまま存在する状
態で後工程を流れたり、あるいは最終製品になることが
多い。このような事情からガラスの耐クラック性を向上
することが重要になってきている。

【００１８】ところが現在市販されている液晶ディスプ
レイ用ガラス基板には、上記した全ての要求特性を満足
するものは存在せず、更なる改善が求められている。

【００１９】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、熱膨張
係数と密度が低く、種々の酸やアルカリ等の薬品に対す
る高い耐性（耐薬品性）を持ち、歪点が高く、耐クラッ
ク性、溶融性及び耐失透性に優れるガラスを提供するこ
とを目的とする。

【００２０】

【課題を解決するための手段】一般に窓ガラスに用いら
れているソーダライムガラスは耐クラック性が低く、後
述するクラック抵抗値は５Ｎ程度であるが、本発明者
は、種々の研究を繰り返した結果、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃
−Ｂ₂Ｏ₃−ＲＯ系のガラスにおいて、ＳｉＯ₂、Ｂ ₂Ｏ₃
及びＰ₂Ｏ₅の合量と、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃の比率を厳密に
規制すると、ガラスの耐クラック性が向上し、クラック
抵抗値を９．８Ｎ（窓ガラスの約２倍）以上にすること
が可能であることを見いだし、本発明を提案するに至っ
た。

【００２１】すなわち本発明の耐クラック性に優れた無
アルカリガラスは、質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５８〜７
０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １２〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ９〜１５％、
ＭｇＯ０〜１％、ＣａＯ０〜９％、ＳｒＯ０〜６
％、ＢａＯ０〜６％、ＺｎＯ０〜５％、ＺｒＯ₂
０〜５％、ＴｉＯ₂ ０〜５％、Ｐ₂Ｏ₅ ０〜５％、Ｓ
ｉＯ₂＋Ｂ₂Ｏ₃＋Ｐ₂Ｏ₅≧６５％、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃＝
１．２〜２．０の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸
化物を含有せず、密度が２．５ｇ／ｃｍ³以下、３０〜
３８０℃における熱膨張係数が２６〜４０×１０^-7／
℃、クラック抵抗値が９．８Ｎ以上であることを特徴と
する。

【００２２】

【発明の実施の形態】本発明の無アルカリガラスの組成
を上記のように限定した理由は、次の通りである。

【００２３】ＳｉＯ₂が５８％より少ないと、耐薬品
性、特に耐酸性が低下すると共に低密度化が困難にな
る。一方、７０％より多いと、高温粘度が大きくなり、
溶融性が低下すると共にクリストバライトの失透が出や
すくなり、ガラス中に失透異物の欠陥が生じやすくな
る。ＳｉＯ₂の好ましい含有量は５８〜６７％である。

【００２４】Ａｌ₂Ｏ₃が１２％より少ないと、失透温度
が上昇し、ガラス中にクリストバライトの失透異物が生
じやすくなると共に歪点が低下する。一方、２５％より
多いと、ガラスの耐バッファードフッ酸性が低下し、ガ
ラス表面に白濁を生じやすくなると共にガラスのクラッ
ク抵抗性が低下する。Ａｌ₂Ｏ₃の好ましい含有量は１
４．５〜２５％、より好ましくは１５〜２５％である。

【００２５】Ｂ₂Ｏ₃は、融剤として働き、粘性を下げ、
ガラスの溶融性を改善する成分である。Ｂ₂Ｏ₃が９％よ
り少ないと、融剤としての作用が乏しくなり、また耐バ
ファードフッ酸性が低下すると共に耐クラック性が低下
する。一方、１５％より多いと、ガラスの歪点が低下
し、耐熱性が低下すると共に耐酸性が低下する。Ｂ₂Ｏ₃
の好ましい含有量は１０〜１５％、より好ましくは１１
〜１５％である。

【００２６】ＭｇＯは、ガラスの歪点を低下せずに高温
粘性を下げ、溶融性を改善する。またアルカリ土類金属
酸化物の中では、最も密度を下げる効果があるが、多量
に含有すると、失透温度が上昇する。またＭｇＯは、バ
ッファードフッ酸と反応して生成物を形成し、ガラス基
板表面の素子上に固着したり、ガラス基板に付着して、
これを白濁させる虞れがあるため、含有量を制限すべき
である。従って、その含有量は０〜１％、好ましくは０
〜０．５％である。

【００２７】ＣａＯも、ＭｇＯと同様に歪点を下げずに
高温粘性を下げ、ガラスの溶融性を著しく改善する成分
であるが、９％より多いと、ガラスの耐バッファードフ
ッ酸性が低下し、ガラス基板の表面が浸食されやすくな
ると共に、反応生成物がガラス基板の表面に付着してガ
ラスを白濁させる。

【００２８】ＳｒＯは、ガラスの耐薬品性を向上すると
共に、失透性を改善する成分であるが、多量に含有する
と、溶融性が悪化すると共に、ガラスの密度、熱膨張係
数が上昇するため好ましくない。従って、その含有量
は、０〜６％、好ましくは３〜６％である。

【００２９】ＢａＯは、ガラスの耐薬品性、耐失透性を
向上する成分であるが、多量に含有すると、ガラスの密
度や熱膨張係数が上昇するため好ましくない。また一般
に無アルカリガラス基板は、溶融し難く、安価に高品質
のガラス基板を大量に供給するためには、その溶融性を
高めて、泡や異物等による不良率を低下させることが非
常に重要である。ところがＢａＯは、ガラスの溶融性を
悪化させる成分であるため多量に含有することは好まし
くない。また本発明の組成系のガラスでは、ＳｉＯ₂の
量を減少させることが、溶融性を高めるために最も効果
的であるが、ＳｉＯ₂を減少させると、耐酸性が極端に
低下すると共にガラスの密度、熱膨張係数が上昇するた
め好ましくない。従って、ＢａＯの含有量は、０〜６
％、好ましくは３〜６％である。

【００３０】ＳｒＯとＢａＯは、ガラスの耐クラック性
を高める作用を有している。しかしながらこれらの成分
が多くなりすぎると、ガラスの密度、熱膨張係数が上昇
するため、合量で２．５〜９％、好ましくは３．１〜９
％に規制することが望ましい。

【００３１】ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯといった
アルカリ土類金属酸化物は、これらを混合して用いるこ
とにより、ガラスの失透温度を著しく下げ、ガラス中に
結晶異物を生じさせ難くすることにより、ガラスの溶融
性、成形性を改善する効果がある。しかしながらこれら
の成分が多くなると、ガラスの密度が上昇して基板の軽
量化が図れなくなるため、これらの合量値を３％以上、
１１％未満（好ましくは１０％未満）に規制することが
望ましい。

【００３２】ＺｎＯは、ガラス基板の耐バッファードフ
ッ酸性を改善すると共に、溶融性を改善する成分である
が、５％以上含有するとガラスが失透しやすくなる。ま
た歪点が低下するため耐熱性が得られない。

【００３３】ＺｒＯ₂は、ガラスの耐薬品性、特に耐酸
性を改善する成分であるが、５％以上含有すると、失透
温度が上昇し、ジルコンの失透異物が出やすくなるため
好ましくない。

【００３４】ＴｉＯ₂も、ガラスの耐薬品性、特に耐酸
性を改善し、かつ高温粘性を下げて溶融性を向上する成
分であるが、５％以上含有する成分であるが、５％以上
含有すると、ガラスに着色に生じ、その透過率を減じる
ためディスプレイ用のガラス基板としては好ましくな
い。

【００３５】Ｐ₂Ｏ₅は、ガラスの耐クラック性を向上す
る成分であるが、多量に含有すると、ガラス中に分相、
乳白現象が起こると共に、耐酸性が著しく低下するため
好ましくない。従って、その含有量は０〜５％である。

【００３６】本発明のようなアルカリ土類アルミノシリ
ケート無アルカリガラスの場合、耐クラック性を高める
ためには、ネットワークフォ−マーであるＳｉＯ₂、Ａ
ｌ₂Ｏ ₃、Ｂ₂Ｏ₃、Ｐ₂Ｏ₅を多く含有させることが重要で
ある。特にＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｐ₂Ｏ₅は、耐クラック性
を高める上で有効であり、この３成分を合量で６５％以
上、好ましくは７０％以上含有することが望ましい。

【００３７】またＡｌ₂Ｏ₃は、ネットワークフォーマー
の中では、比較的、耐クラック性を高める作用が小さい
が、低密度、高歪点を達成する上で欠かせない成分であ
る。従って、Ａｌ₂Ｏ₃はＢ₂Ｏ₃に対して、１．２〜２．
０、好ましくは１．２〜１．９、より好ましくは１．３
０〜１．６５の比率となるように、その量を規制すべき
である。このＡｌ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃の比率が、１．２以下で
は、高歪点化が図れず、２．０以上では、耐クラック性
が低下する。

【００３８】さらに本発明では、上記成分以外にも、ガ
ラス特性が損なわれない限り、Ａｓ ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｆ
₂、Ｃｌ₂、ＳＯ₃、ＣあるいはＡｌ、Ｓｉ等の金属粉末
等の清澄剤を用いることができる。またＣｅＯ₂、Ｓｎ
Ｏ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃等も清澄剤として用いることができる。

【００３９】またガラス中にアルカリ金属酸化物が含ま
れると、ガラス基板上に形成される各種の膜や半導体素
子の特性を劣化させるため、実質的に含有しないことが
必要である。

【００４０】

【実施例】以下、本発明の無アルカリガラスを実施例に
基づいて詳細に説明する。

【００４１】表１〜６は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．
１〜３６）及び比較例（試料Ｎｏ．３７〜４２）を示す
ものである。

【００４２】

【表１】

【００４３】

【表２】

【００４４】

【表３】

【００４５】

【表４】

【００４６】

【表５】

【００４７】

【表６】

【００４８】上表の各試料は、次のようにして調製し
た。

【００４９】まず表中の組成となるように原料を調合し
た後、白金坩堝に入れ、１６２０℃で２４時間溶融し、
その後、カーボン板上に流し出し、板状に成形した。こ
うして得られた各ガラス試料を用いて、各種特性を測定
した。

【００５０】表から明らかなように、本発明の実施例
は、密度が２．４７ｇ／ｃｍ³以下であるため、基板の
軽量化を図ることが可能であり、また、熱膨張係数が２
６〜３５×１０^-7／℃であるため、Ｓｉ膜との整合性が
良く、さらにクラック抵抗値が１５Ｎ以上であるため、
非常に耐クラック性に優れていた。しかも、これらの試
料は、歪点が６５４℃以上であるため、熱収縮が小さ
く、また１０^2.5ポイズに相当する温度が１６７８℃以
下、液相温度が１１９０℃以下であるため、溶融性、成
形性に優れているものである。さらに耐ＨＣｌ性、耐Ｂ
ＨＦに優れていた。

【００５１】それに対して、比較例であるＮｏ．３７の
試料は、密度、熱膨張係数が大きく、歪点が低く、耐Ｈ
Ｃｌ性が悪かった。Ｎｏ．３８の試料は、密度、熱膨張
係数が大きく、耐クラック性、耐ＢＨＦ性に劣ってい
た。Ｎｏ．３９の試料は、密度が高く、耐ＢＨＦ性が悪
かった。Ｎｏ．４０の試料は、耐クラック性、耐ＢＨＦ
性が悪く、液相温度が高いため、ガラスが失透しやすい
ものと考えられる。Ｎｏ．４１の試料は、歪点が低く、
耐ＨＣｌ性が悪かった。Ｎｏ．４２の試料は、密度、熱
膨張係数が大きく、液相温度が高く、耐ＢＨＦ性が悪か
った。

【００５２】尚、表中の密度は、周知のアルキメデス法
で求めた。

【００５３】熱膨張係数は、ディラトメーターを用いて
３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測
定した。

【００５４】クラック抵抗値は、ガラス試料の両面を光
学研磨した後、和田らが提案した方法（Ｍ．Ｗａｄａ
ｅｔＡｌ．Ｐｒｏｃ．，ｔｈｅＸｔｈＩＣＧ，ｖ
ｏｌ．１１，Ｃｅｒａｍ．Ｓｏｃ．，ＪＡＰＡＮ，Ｋｙ
ｏｔｏ，１９７４，Ｐ３９）を用いて測定した。この方
法は、ビッカース硬度計のステージにガラス試料を置
き、ガラス表面にビッカース圧子（菱形状のダイヤモン
ド圧子）を種々の荷重で１５秒間押しつける。そして、
徐荷後１５秒までに圧痕の四隅から発生するクラック数
をカウントし、最大発生しうるクラック数（４ヶ）に対
する割合を求め、クラック発生率とする。尚、このクラ
ック発生率は、同一荷重で２０回測定し、その平均値を
求めたものである。このようにしてクラック発生率が５
０％になる時の荷重を「クラック抵抗値」とした。クラ
ック抵抗値が大きいということは、高い荷重でもクラッ
クが発生しにくい、つまり耐クラック性に優れていると
いうことである。尚、クラック抵抗値は、湿度の影響を
受けるため、測定は気温２５℃、湿度３０％の条件で行
った。

【００５５】歪点は、ＡＳＴＭＣ３３６−７１に基づ
いて測定した。

【００５６】１０^2.5ポイズ温度は、高温粘度である１
０^2.5ポイズの温度を記載したものであり、この値が低
いほど溶融性に優れていることになる。

【００５７】液相温度は、ガラス試料を３００〜５００
μｍの粒径に粉砕し、これを白金ボート中に投入し、温
度勾配炉で２４時間熱処理した後、これを取り出し、ガ
ラス中に失透（結晶異物）の見られた温度を示した。

【００５８】耐ＨＣｌ性と耐ＢＨＦ性は、ガラス試料の
両面を光学研磨した後、薬液中に浸漬した後のガラス表
面を観察することによって評価した。耐ＨＣｌ性につい
ては、１０％塩酸を用いて８０℃、３時間の処理を施
し、耐ＢＨＦ性については、６３ＢＨＦ溶液（ＨＦ：６
％、ＮＨ４Ｆ：３０％）を用いて２０℃、３０分間の処
理を施した。処理後にガラス表面が白濁したり、クラッ
クが発生したものは×、弱い白濁や荒れが認められなか
ったものは△、全く変化のないものは○で示した。

【００５９】

【発明の効果】以上のように本発明の無アルカリガラス
は、密度が小さいため、電子機器の軽量化を図ることが
でき、耐クラック性に優れているため、基板にしてもク
ラックが発生し難く、電子機器を歩留まりよく製造で
き、信頼性を高めることができる。

【００６０】また実質的にアルカリ金属酸化物を含有し
ないため、基板上に形成する各種の膜特性を損なうこと
がない。さらに歪点が高く、耐熱性に優れているため、
製造工程でのパターンズレも起こらず、熱膨張係数もＳ
ｉ膜との整合性を持っている。

【００６１】その他にも、耐薬品性に優れているため、
製造工程で基板が変質することがなく、溶融性、成形性
に優れているため、安価にガラス基板を製造することが
できる。

【００６２】従って、本発明の無アルカリガラスは、液
晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイパ
ネル、ハードディスク、フィルター、センサーの基板と
して適している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H090 JB02 JD09 JD10 JD18 LA04 4G062 AA03 BB01 BB06 DA06 DB04 DB05 DC03 DC04 DD01 DD02 DD03 DE01 DE02 DE03 DF01 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 EG03 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM25 NN29 NN33 NN34

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５８〜７０
％、Ａｌ₂Ｏ₃ １２〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ９〜１５％、Ｍ
ｇＯ０〜１％、ＣａＯ０〜９％、ＳｒＯ０〜６
％、ＢａＯ０〜６％、ＺｎＯ０〜５％、ＺｒＯ₂
０〜５％、ＴｉＯ₂０〜５％、Ｐ₂Ｏ₅ ０〜５％、Ｓｉ
Ｏ₂＋Ｂ₂Ｏ₃＋Ｐ₂Ｏ₅≧６５％、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃＝
１．２〜２．０の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸
化物を含有せず、密度が２．５ｇ／ｃｍ³以下、３０〜
３８０℃における熱膨張係数が２６〜４０×１０^-7／
℃、クラック抵抗値が９．８Ｎ以上であることを特徴と
する耐クラック性に優れた無アルカリガラス。
【請求項２】質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５８〜７０
％、Ａｌ₂Ｏ₃ １４．５〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜１５
％、ＭｇＯ０〜０．５％（但し０．５％を含まず）、
ＣａＯ０〜９％、ＳｒＯ０〜６％、ＢａＯ０〜６
％、ＺｎＯ０〜５％、ＺｒＯ₂ ０〜５％、ＴｉＯ₂
０〜５％、Ｐ₂Ｏ₅ ０〜５％、ＳｉＯ₂＋Ｂ₂Ｏ₃＋Ｐ₂Ｏ
₅≧６５％、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃＝１．２〜２．０、Ｍｇ
Ｏ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＝３〜１１％（但し１１％
を含まず）、ＳｒＯ＋ＢａＯ＝２．５〜９．０％の組成
を有することを特徴とする請求項１記載の耐クラック性
に優れた無アルカリガラス。
【請求項３】請求項１、２いずれか１項記載のガラス
を用いたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
【請求項４】請求項１、２いずれか１項記載のガラス
を用いた液晶ディスプレイ用ガラス基板。