JPH01201041A - ディスプレイ基板用無アルカリガラス - Google Patents
ディスプレイ基板用無アルカリガラスInfo
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- JPH01201041A JPH01201041A JP63221315A JP22131588A JPH01201041A JP H01201041 A JPH01201041 A JP H01201041A JP 63221315 A JP63221315 A JP 63221315A JP 22131588 A JP22131588 A JP 22131588A JP H01201041 A JPH01201041 A JP H01201041A
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 239000003513 alkali Substances 0.000 title abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 claims description 6
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 30
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 8
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 abstract description 6
- 229910011255 B2O3 Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 abstract 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005091 Si3N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020169 SiOa Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、各種デイスプレィやフォトマスク用基板ガラ
スとして好適な、アルカリ金属酸化物及び亜鉛酸化物を
実質上含有しない、無アルカリガラスに関するものであ
る。
スとして好適な、アルカリ金属酸化物及び亜鉛酸化物を
実質上含有しない、無アルカリガラスに関するものであ
る。
[従来の技術]
従来、各種デイスプレィ用ガラス、特に表面に金属薄膜
等を形成させるものでは、以下に示す高度な特性が要求
されている。
等を形成させるものでは、以下に示す高度な特性が要求
されている。
・薄膜形成工程で高温にさらされるため、600℃以上
の高い歪点を有していること。
の高い歪点を有していること。
・アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ金属
イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を劣化させてしまう
ため、実質的にアルカリイオンを含まないこと。
イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を劣化させてしまう
ため、実質的にアルカリイオンを含まないこと。
・内部及び表面に欠点(泡、脈理、インクルージヨン、
ビット、キズ、etc)をもたないこと。
ビット、キズ、etc)をもたないこと。
・洗浄工程などに耐えるように優れた化学耐久性を有す
ること。
ること。
しかしながら、近年、ガラス基板上に半導体トランジス
タ等を形成するいわゆるTFT (ThinFilm
Transistor )タイプのデイスプレィがふえ
てきている。これらに用いられるデイスプレィ基板は、
半導体形成工程において、5iOaやSi3N+の絶縁
膜のエツチングのためフッ酸を含有したエッチャントに
さらされることが多い。
タ等を形成するいわゆるTFT (ThinFilm
Transistor )タイプのデイスプレィがふえ
てきている。これらに用いられるデイスプレィ基板は、
半導体形成工程において、5iOaやSi3N+の絶縁
膜のエツチングのためフッ酸を含有したエッチャントに
さらされることが多い。
元来、ガラスは、フッ酸に対しては非常に弱いため、こ
れらのエッチャントにさらされると従来の無アルカリガ
ラスでは、表面が白濁し使用に耐えなくなるものが多か
った。
れらのエッチャントにさらされると従来の無アルカリガ
ラスでは、表面が白濁し使用に耐えなくなるものが多か
った。
これらに耐えるものとしては、石英ガラス、コーニング
社の#7059ガラス等があげられるが、石英ガラスに
関しては、非常に高粘性で溶解が困難であり製造コスト
も高くなる。#7059ガラスに関しては歪点が低いと
いう問題があった。
社の#7059ガラス等があげられるが、石英ガラスに
関しては、非常に高粘性で溶解が困難であり製造コスト
も高くなる。#7059ガラスに関しては歪点が低いと
いう問題があった。
かかる点を解決したガラスとして特開昭61−2810
41号公報にはZnOを含有するものが開示されている
。このガラスをフロート法により、ガラスリボンに成形
すると、フロートバスの雰囲気によりガラスリボンの表
層部の亜鉛酸化物が還元され蒸発する。その結果、ガラ
スリボンの表層部と下層部が異なる組成となり、反りを
生じたりデイスト−ジョンを生ずる。従ってかかるガラ
スは生産性に優れたフロート法を適用し難いという問題
点があった。
41号公報にはZnOを含有するものが開示されている
。このガラスをフロート法により、ガラスリボンに成形
すると、フロートバスの雰囲気によりガラスリボンの表
層部の亜鉛酸化物が還元され蒸発する。その結果、ガラ
スリボンの表層部と下層部が異なる組成となり、反りを
生じたりデイスト−ジョンを生ずる。従ってかかるガラ
スは生産性に優れたフロート法を適用し難いという問題
点があった。
[本発明の解決しようとする問題点]
本発明の目的は、上記欠点を解決し
・フッ酸により白濁をおこさず
・他の化学耐久性もすぐれ
・溶解、成形が容易で
・高い歪点を有し
・フロート法による成形が可能で
・低膨張な
・無アルカリガラスを提示することにある。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、モルパーセント表示で実質的にSi0□
55〜70 A1□035〜15 B、0,10〜25 Si02+BJs 72〜80 Mg0 l〜6 Ca0 0〜6Sr0
3〜12Ba0
3〜12からなり、アルカリ金属酸化物及び亜鉛酸化
物を実質的に含有しない無アルカリガラスを提供するも
のである。
55〜70 A1□035〜15 B、0,10〜25 Si02+BJs 72〜80 Mg0 l〜6 Ca0 0〜6Sr0
3〜12Ba0
3〜12からなり、アルカリ金属酸化物及び亜鉛酸化
物を実質的に含有しない無アルカリガラスを提供するも
のである。
次に上記の通り各成分の組成範囲を限定した理由につい
て述べる。
て述べる。
5iOzは55モル%(以下%と記載する。)未満では
、ガラスの化学耐久性が不充分であり、また70%をこ
えると溶解性が低下し、失透温度が上界するのでいずれ
も好ましくない。
、ガラスの化学耐久性が不充分であり、また70%をこ
えると溶解性が低下し、失透温度が上界するのでいずれ
も好ましくない。
A1□0.はガラスの分相性を抑制、熱膨張係数を下げ
、歪点を上げる働きがあるが5%未満ではこの効果が少
なく、15%をこえるとガラスの溶解性が悪(なるので
いずれも好ましくないゆB2O3はフッ酸による白濁発
生の防止効果があり、膨張係数を低下し溶解性を向上す
る成分である。B2O3が10%未満ではその効果は少
なく、25%をこえると歪点が低くなり溶解時の揮故に
より組成変動をおこしやすくなるのでいずれも好ましく
ない。
、歪点を上げる働きがあるが5%未満ではこの効果が少
なく、15%をこえるとガラスの溶解性が悪(なるので
いずれも好ましくないゆB2O3はフッ酸による白濁発
生の防止効果があり、膨張係数を低下し溶解性を向上す
る成分である。B2O3が10%未満ではその効果は少
なく、25%をこえると歪点が低くなり溶解時の揮故に
より組成変動をおこしやすくなるのでいずれも好ましく
ない。
本発明者が得た知見によればフッ酸に対する白濁は主と
してSiOx+ BJsffiによっており、SiO□
+Bd)sfflは72%以上であることが好ましく、
5i01+BJs毒が80%を越えると溶解性が低下す
るので好ましくない。
してSiOx+ BJsffiによっており、SiO□
+Bd)sfflは72%以上であることが好ましく、
5i01+BJs毒が80%を越えると溶解性が低下す
るので好ましくない。
MgOは、熱膨張係数を下げるガラスの溶解性を向上す
る成分である。
る成分である。
MgOは、他のアルカリ土類金属酸化物に比べ溶解性の
向上効果が特に大きく、しかも歪点が低下しないという
特徴を有するので、少なくとも1%含有される。一方M
gOが6%をこえると、フッ酸による白濁、ガラスの分
相が生じ易くなるので好ましくない。
向上効果が特に大きく、しかも歪点が低下しないという
特徴を有するので、少なくとも1%含有される。一方M
gOが6%をこえると、フッ酸による白濁、ガラスの分
相が生じ易くなるので好ましくない。
CaOもほぼMgOと同様の働きをし6%をこえるとフ
ッ酸白濁性、ガラスの分相が生じ易くなるので好ましく
ない。
ッ酸白濁性、ガラスの分相が生じ易くなるので好ましく
ない。
SrOはガラスの分相を抑制し、フッ酸による白濁の防
止に比較的有用な成分である。SrOが3%未満ではそ
の効果は少なく、12%をこえると熱膨張係数が増大し
、耐水性等の化学耐久性が劣化するのでいずれも好まし
くない。
止に比較的有用な成分である。SrOが3%未満ではそ
の効果は少なく、12%をこえると熱膨張係数が増大し
、耐水性等の化学耐久性が劣化するのでいずれも好まし
くない。
BaOもSrOと似た働きをし、3%未満ではその効果
は少なく12%をこえると熱膨張係数が増大し耐水性等
の化学耐久性が劣化するのでいずれも好ましくない。
は少なく12%をこえると熱膨張係数が増大し耐水性等
の化学耐久性が劣化するのでいずれも好ましくない。
本発明によるガラスは上記成分以外にガラスの溶解性、
清澄性、成形性を改丹するため、Zr0a、Pa03.
T10a、S03.AS203.5b20s、F、CI
を総量で5%以下添加することができる。
清澄性、成形性を改丹するため、Zr0a、Pa03.
T10a、S03.AS203.5b20s、F、CI
を総量で5%以下添加することができる。
ZnOはフロートバス中で還元され蒸発し表層部に異質
層を形成し、フロート成形が難しくなるので実質的に含
有されない。
層を形成し、フロート成形が難しくなるので実質的に含
有されない。
上記範囲中より好ましい範囲は次の通りである。
5iOa 59〜70
A1.0. 5〜15
BJs l O〜20
SiOa+ BJs 72〜80Mg0
1〜5 Ca0 2〜5S「0
3〜10Ba0
4〜lO本発明のガラスは、例えば次のような方
法で製造できる。
1〜5 Ca0 2〜5S「0
3〜10Ba0
4〜lO本発明のガラスは、例えば次のような方
法で製造できる。
通常使用される各成分の原料を目標成分になるように調
合し、これを溶融炉に連続的に投入し、1500〜16
00℃に加熱して熔融する。この熔融ガラスをフロート
法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断する。
合し、これを溶融炉に連続的に投入し、1500〜16
00℃に加熱して熔融する。この熔融ガラスをフロート
法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断する。
[実施例]
表1.2 (NCLI〜6)に本発明の実施例を示す。
各成分の原料を目標組成になるように調合し、白金坩堝
を用いて、1450〜1450℃の温度で3〜4時間加
熱し熔融した。熔融に当たっては、白金スターラーを挿
入し1〜2時間攪拌しガラスの均質化を行った。次いで
熔融ガラスを流出し、板状に成形後徐冷した。
を用いて、1450〜1450℃の温度で3〜4時間加
熱し熔融した。熔融に当たっては、白金スターラーを挿
入し1〜2時間攪拌しガラスの均質化を行った。次いで
熔融ガラスを流出し、板状に成形後徐冷した。
表1には、ガラス組成を示し、表2にはガラスの熱膨張
係数、高温粘度、失透温度、歪点、耐水性、耐酸性、耐
フツ酸性を示した。
係数、高温粘度、失透温度、歪点、耐水性、耐酸性、耐
フツ酸性を示した。
耐水性は、95℃のイオン交換水中に40時間侵漬した
後、重量減を測定し、それをガラスの単位表面積当たり
に換算して示した。
後、重量減を測定し、それをガラスの単位表面積当たり
に換算して示した。
耐酸性は、95℃の1/100規定のII N O、中
に20時間侵漬した後、重量減を測定し、それをガラス
の単位表面積当たりに換算して示した。
に20時間侵漬した後、重量減を測定し、それをガラス
の単位表面積当たりに換算して示した。
耐フツ酸性は、N11.F、IIF混液(40重量%フ
ッ化アンモニウム水溶液と47重量%フッ酸水溶液とを
重量で6=1に混合した液)中に室温で20分間侵消し
た後、目視観察し外観の良好なものO印、不良なものX
印として示した。
ッ化アンモニウム水溶液と47重量%フッ酸水溶液とを
重量で6=1に混合した液)中に室温で20分間侵消し
た後、目視観察し外観の良好なものO印、不良なものX
印として示した。
表2からも明らかなように、実施例のいずれのガラスも
、熱膨張係数は40〜50X 10−’/”Cで低い値
を示し、溶解の容易性の目安となるlogη=2.5!
但しηはボイスで表わしたガラス粘度、以下同じ)にな
る温度も低く、溶解が容易であることがわかる。
、熱膨張係数は40〜50X 10−’/”Cで低い値
を示し、溶解の容易性の目安となるlogη=2.5!
但しηはボイスで表わしたガラス粘度、以下同じ)にな
る温度も低く、溶解が容易であることがわかる。
また成形性も目安となる logη=4になる温度と失
透温度との差が充分に大きく、成形時に失透が生成する
などのトラブルがないと考えられる。
透温度との差が充分に大きく、成形時に失透が生成する
などのトラブルがないと考えられる。
歪点も500℃以上と高い値を示しており、高温での熱
処理に充分耐えられるものであることがわかる。
処理に充分耐えられるものであることがわかる。
化学的特性に関しても耐水性、耐酸性にすぐれ、フッ酸
により白濁を生じ難い。
により白濁を生じ難い。
一方、阻7〜8には比較例を示した。患7は、溶解温度
の目安となる logη=2.5になる温度が比較的低
く溶解性はよいと思われるが、耐フツ酸により白濁し易
い。また、隘8は、フッ酸白濁を生じ難いが、歪点の温
度が低く熱変形し易いことが予想される。
の目安となる logη=2.5になる温度が比較的低
く溶解性はよいと思われるが、耐フツ酸により白濁し易
い。また、隘8は、フッ酸白濁を生じ難いが、歪点の温
度が低く熱変形し易いことが予想される。
[゛発明の効果]
本発明によるガラスは、フロート法による成形が可能で
ある。
ある。
また、フッ酸による白濁が生じ難く、
熔融、成形性に優れ、
耐熱性に優れ、
かつ低い熱膨張係数を有しているのでデイスプレィ用基
板、フォトマスク基板、T F Tタイプのデイスプレ
ィ基板笠かかる特性を要求する用途に好適である。
板、フォトマスク基板、T F Tタイプのデイスプレ
ィ基板笠かかる特性を要求する用途に好適である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 モルパーセント表示で実質的に SiO_255〜70 Al_2O_35〜15 B_2O_310〜25 SiO_2+B_2O_372〜80 MgO1〜6 CaO0〜6 SrO3〜12 BaO3〜12 からなり、アルカリ金属酸化物及び亜鉛酸化物を実質的
に含有しない無アルカリガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63221315A JP2707625B2 (ja) | 1987-10-01 | 1988-09-06 | ディスプレイ基板用無アルカリガラス |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-245863 | 1987-10-01 | ||
JP24586387 | 1987-10-01 | ||
JP63221315A JP2707625B2 (ja) | 1987-10-01 | 1988-09-06 | ディスプレイ基板用無アルカリガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01201041A true JPH01201041A (ja) | 1989-08-14 |
JP2707625B2 JP2707625B2 (ja) | 1998-02-04 |
Family
ID=26524220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63221315A Expired - Lifetime JP2707625B2 (ja) | 1987-10-01 | 1988-09-06 | ディスプレイ基板用無アルカリガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2707625B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2008273782A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Ohara Inc | ガラス |
EP2646379A1 (en) * | 2010-11-30 | 2013-10-09 | Corning Incorporated | Alkaline earth alumino-borosilicate crack resistant glass |
JP2015512852A (ja) * | 2012-02-29 | 2015-04-30 | コーニング インコーポレイテッド | 低cteアルカリ非含有ボロアルミノケイ酸塩ガラス組成物及びこれからなるガラス物品 |
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