JP4944354B2 - アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用方法 - Google Patents
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Description
回避できない不純物を除いて本質的にアルカリ金属不含の従来の原料物質から、1620℃でガラスをPt/Ir坩堝中で溶融した。溶融液を1時間半この温度で純化し、引続き誘導加熱される白金坩堝中に再び注入し、均質化のために1550℃で30分間攪拌した。溶融液を予め加熱された黒鉛金型内に注入し、室温に冷却した。
・熱膨張係数α20/300[10−6/K]
・密度ρ[g/cm3]
・DIN52324による膨張計測による転移温度Tg[℃]
・粘度104dPasでの温度(T4[℃]と呼称される)
・弾性率E[GPa]
・95℃で24時間、5%の塩酸を用いての処理後の寸法50mm×50mm×2mmの全面が研磨されたガラス板の質量損失(摩耗値)としての"HClに対する耐酸性"[mg/cm2]。
・95℃で6時間、5%の苛性ソーダ液を用いての処理後の寸法50mm×50mm×2mmの全面が研磨されたガラス板の質量損失(摩耗値)としてのアルカリ液安定性"NaOH"(mg/cm2)。
・23℃で20分間、10%のNH4F・HFを用いての処理後の寸法50mm×50mm×2mmの全面が研磨されたガラス板の質量損失(摩耗値)としての緩衝弗化水素酸に対する安定性"BHF"[mg/cm2]。
・それによって、多結晶性シリコンの膨張挙動に適合した、熱膨張係数α20/3002.8・10−6/K〜3.9・10−6/K。
・710℃を上廻るTgで高い転移温度、即ち高い温度安定性。これは、できるだけ少ない製造に応じた収縮("圧密化")ならびに無定形のSi層での被覆および引続く温度処理のための支持体としてのガラスの使用にとって本質的なことである。
・ρ2.55g/cm3未満で僅かな密度。
・80GPaを上廻る高い弾性率E。この弾性率または高い比弾性率E/ρは、殊に"弛み"の問題に関連して十分な機械的強度を保証する。
・最大1300℃の粘度104dPasでの温度(加工温度VA)。それによっておよび最大1700℃の粘度102dPasでの温度で、ガラスは、熱成形ならびに常用の技術での溶融可能性に関連して適当な粘度特性曲線を有する。
・高い化学的安定性は、なかんずく塩酸溶液に対する卓越した安定性によって試験結果で証明されており、このことは、この高い化学的安定性が平面画像スクリーンの製造の際に使用される化学薬品に対して十分に不活性の作用をもたらすことである。
Claims (7)
- 次の組成(酸化物に対して質量%で):
SiO2 58を上廻り65.5まで
B2O3 2.5ないし9未満
Al2O3 15.9〜24
MgO 8を上廻り11まで
CaO 2ないし7未満
を有し、かつ質量比MgO/B 2 O 3 が1.35以上である、アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 - 付加的に(酸化物に対して質量%で)
SrO 0〜3未満
BaO 0〜2未満および
SnO2 0〜1.5未満
を含有する、請求項1記載のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 - 熱膨張係数α20/3002.8×10-6/K〜3.9×10-6/K、710℃を上廻る転移温度Tg、密度ρ2.55g/cm3未満および0.5mg/cm2未満の"HClに対する耐酸性"を有する、請求項1または2記載のアルミノホウケイ酸塩ガラス。
- 80GPaを上廻る弾性率を有する、請求項1から3までのいずれか1項に記載のアルミノホウケイ酸塩ガラス。
- TFTディスプレイのための支持体ガラスへの請求項1から4までのいずれか1項に記載のアルミノホウケイ酸塩ガラスの使用方法。
- 薄膜−光起電力技術における支持体ガラスへの請求項1から4までのいずれか1項に記載のアルミノホウケイ酸塩ガラスの使用方法。
- ハードディスクのための支持ガラスへの請求項1から4までのいずれか1項に記載のアルミノホウケイ酸塩ガラスの使用方法。
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