TWI233685B - Optical sensor package - Google Patents
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1233685 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於影像與光學感測器及’更具體而言,係關私 一種封裝一光學感測器並產生封裝之感測器產品之方法。、 【先前技術】 一直以來對於更小型與更聰明之工業與商用電子產品,兮 =數位相機、攝錄像機、音響裝置等等’一直有其持續°性: 求。如此之小型化與功能性之增加,係得益於半導體電路遍 晶圓之設計與製造之進步。在電子產品中㈣光學I影像感、 測器亦-直有顯著增加趨勢。如此之感測器裝置係以多樣: :式::。例如一陶曼無引腳晶片載子中之光 盗’具有良好光學品質,但大型封裝構型因子。—較 j 因子與光學品質良好俱全之晶圓層級封裝,是極為昂貴的。 影像感測μ四方平板封裝(QFP)亦為可取得uqfp 具中專成本、低落之光學品質、及大型封裝構型因子。 封Γ一具有低封裝構型因子、中等成本、與高光學品質之 封衣之影像感測器,將有其益處。 【發明内容】 本發明提供一種影像感測器裝 列構裝、接近晶片大小之四方標準高密度陣 千板無·引腳(QFN)封裝組件, 高透光品質。封褒高度之極小容差與獨特之機 體料,提供與模鑄㈣高度吻合之料尺寸。該 衣之感測益裝置,利用多個打線 衡物件,以構裝覆蓋一感測器之有:為具精確-度千 百效£域之一視窗。在封裝 88697 1233685 其間,一位於該裝置下方之真空孔洞被用以構型一凸塊,其 提供在模鑄時之高度補償與避免因高度未吻合之夾鉗損害 等雙重功能。該視窗係被維持與模鑄凹洞表面接觸,其可將 樹脂溢流最小化及利於後-模鑄之清洗。 更具體而言,在一具體實施例中,本發明提供一種影像感 測器裝置’包括一四方平板無引腳(QFN)封裝型態之引線 框’其具有一中央黏晶石板與一具有多個銲線墊之外部銲線 塾。感測器積體電路(1C)被銲線接合至該石板。該1C具有一 有一有效區域之第一表面與一包括多個銲線墊之周邊銲線 塾區域。多條絲線係為銲線接合至各別之IC銲線墊與相對應 之引線框銲線墊,並藉此電連接至該1(:與該引線框。多個打 線凸塊係配置於該1C之第一表面上,及一透明外罩係配置覆 蓋該1C有效區域及安置於該多個打線凸塊上。該外罩容許光 線穿過並技射於該1C有效區域上。一構型於該引線框、多條 銲線、與該外罩一周邊部位之模鑄化合物。 在另一具體實施例中,本發明提供一影像感測器裝置,包 括一四方平板無引腳(QFN)封裝型態之引線框,其具有一中 央黏晶石板與一具有多個銲線墊之外部銲線墊。該石板具有 一周邊環,其構型一高度約與引線框厚度相等之銲線接合 線。一感測器積體電路(IC)係以一配置於石板周邊環内之一 低係數黏合劑被銲線接合至該石板。該IC具有一有一有效區 域之第一表面與一周邊銲線墊區域。該周邊銲線墊區域,包 括多個銲線墊。多條金製絲線係為銲線接合至各別之仄銲線 塾與相對應之引線框銲線墊,並藉此電連接至該㈣該引線 88697 1233685 框。多個金製打線凸塊,係為構型於IC第一表面之有效區域 上。一純淨化合物係配置覆蓋該10:有效區域。一透明玻璃外 罩係配置覆蓋該ic有效區域之純淨化合物上,並及安置於該 夕们打線凸塊上。光線可穿過外罩與純淨化合物,並投射於 該1C有效區域上。一構型於該引線框、多條銲線 '與該外罩 一周邊部位之模鑄化合物。其中該裝置具有一高度約小於 40密爾(mils)。 在又另一具體實施例中,本發明係為一種影像感測器裝 置,包括一四方平板無引腳(QFN)封裝型態之引線框,其具 有一中央黏晶石板與一具有多個銲線墊之外部銲線墊。一感 測1C係銲線接合至該石板。該IC具有一第一表面有效區域、 一非-有效區域、與一包括多個銲線墊之周邊銲線墊區域。 多條絲線係為銲線接合至各別之1<:銲線墊與相對應之引線 框銲線墊,並藉此電連接至該IC與該引線框。一純淨化合物 係配置覆蓋該1C有效區域,及一透明玻璃外罩係配置覆蓋該 1C有效區域之純淨化合物上。光線可穿過外罩與純淨化合 物,並投射於該1C有效區域。一模鑄化合物係構型於該引線 框、多條銲線、多條IC銲線、該IC非-有效區域、與該外罩 一周邊部位。 在又另一具體實施例中’本發明提供一製作一影像感測器 裝置之方法,包括多個步驟為: 提供一四方平板無引腳(QFN)封裝型態之引線框,其具有 一中央黏晶石板與一有多個銲線墊之外部銲線墊,其中該石 板具有一周邊環,其構型一高度約與引線框厚度相等之銲線 接合線; 88697 1233685 配置一黏晶材料於該石板及於該周邊環内; 以該黏晶材料銲線接合一感測器積體電路(Ic)至該石板, 該ic具有弟一表面,其具有一有效區域與一周邊銲線塾區 域’該周邊銲線墊區域包括多個銲線墊; 藉由銲線接合,電連接各別之1(:銲線墊與具有多條絲線之 相對應引線框銲線墊; 於該1C第一表面上,構型多個打線凸塊; 置放透明外罩覆盍I c有效區域,俾使該外罩安置於該等 打線凸塊上,其中光線可穿過該外罩並投射於1(::有效區域 上;及 構型一覆蓋該引線框、多條銲線、與該外罩一周邊部位之 模鑄化合物。 在又一具體實施例中,本發明係為一製作一影像感測器裝 置之方法,包括多個步驟為: 提供一四方平板無引腳(QFN)封裝型態之引線框,其具有 一中央黏晶石板與一具有多個銲線墊之外部銲線墊區域,其 中該石板具有-周邊環,其構型一高度約與引線框厚度相等 之銲線接合線; 配置一黏晶材料於該石板及於該周邊環内; 以該黏晶材料銲線接合一感測器積體電路(IC)至該石板, 4 1C具有-第-表面’其具有一有效區域與一周邊銲線墊區 域’該周邊銲線墊區域包括多個銲線墊; 置放該引線框於一於石板下方之中央位置具有一真空孔 洞之平台硬化處理熱塊; 88697 1233685 藉由銲線接合,電連接各別之ic銲線墊與具有多條絲線之 相對應引線框銲線墊; 施配一純淨化合物於1C有效區域; 置放一透明外罩覆蓋1C有效區域上之該純淨化合物,其中 光線可穿過該外罩與該化合物,並投射於IC有效區域上;及 構型一覆蓋該引線框、多條銲線、與該外罩一周邊部位 之模續化合物。 【實施方式】 下述連帶圖式所示之詳細說明係用以作為本發明目前較 佺具體實施例之一說明,且非意為本發明僅可實施於該等構 聖應瞭解的是,相同或等效之功能可藉由本發明之精神與 範圍内所包含之不同具體實施例完成。 Θ式中之某些特性業經放大以易於圖解,且其中之圖式與 疋件並無必要以適當比例顯示。惟,本技藝所熟知之該等技 術將易於理解此等細節。在該等圖式中,如該等編號,係用 以指明相應之該等元件。 圖1係為符合本發明之一影像感測器裝置1〇 參考圖1與2, 具有多個鲜線㈣之外料線墊區域16。該石板亦且有一周 邊環其構型-銲線接合線。周邊物具有—約與引線框 12厚度相等之高度。 之一放大側視圖,及圖2係為感測器裝置10之一放大分解 圖。感測器裝置10包括一金屬QFN(四方平板無_引腳)引線框 12。該QFN引線框係為較佳,因其具小型之構型因子,低型 材’及低封裝成本。引線框12具有—中央黏晶石板Μ,及一 88697 1233685 感測器積體電路(IC)22係銲線接合至引線框12之石板14, 較佳地具有低應力,低係數沖模接觸黏合劑24則配置於石板 周邊環20之内。積體電路(IC)22具有一有一有效區域26之第 一表面(圖2)與一周邊銲線墊區域28。周邊銲線墊區域28包括 多個銲線墊30。積體電路(IC)22係較佳地為一 cM0S感測器 裝置型態,其如廣為嫻熟本技藝所知者且易於市場取得。積 體電路(IC)22具有一約15密爾(mils)之厚度或高度。積體電路 (IC)22 ’更包括一受光區域(有效區域26),其包括電路與邏 輯1C,諸如一 A/D轉換器與一DSP或用以執行算術型態運算籲 之邏輯1C區域。多條絲線32係為銲線接合至各別之^銲線墊 30與相對應襯墊18,並藉此電連接至積體電路與引線 框12。多條絲線32可以任何導電金屬或金屬化合物,諸如廣 為嫻熟本技藝所知者。適當的銲線接合絲線,典型地包含一 導電金屬諸如銅或金,更可為細絲線(直徑小於5〇 um)或粗絲 線(直徑大於50 um)。在目前較佳具體實施例中,多條絲線32 係為多條金製絲線。 闲彙銲線接合’ 一般意指藉由晶片或基底内之絲線之内部馨 連接。將多條絲線連接至襯㈣常用之方法,係為藉由熱音 波或超音波銲線接合。超音波銲線接合係利用一震動與作用 力之組合,以磨擦介於絲線與銲線墊間之介面,引發一局部 之溫度上升而令分子漫射越界。熱音波銲線接合,除震動 外,更使用熱,其更進一步激使該等材料之徙動。 多個打線凸塊34係為構型於積體電路(Ic)22之第一表面 上。在較佳具體實施例中,多個打線凸塊34係為與多條絲線 88697 -11- 1233685 3 2相同之材料所構型,例如,金。多個打線凸塊3 4具有一高 度為約3密爾(mils),且係位於接近該1(:有效區域26。多個打 線凸塊34係利用執行銲線接合之銲線器之毛細管,構型於積 體電路(IC)22上。多個打線凸塊34係以執行銲線接合之相同 方法,構型或配置於積體電路(IC)22上。亦即,用以構型多 個打線凸塊34之製程,係相當類似於一般熱-音波金球銲線 接合製程,僅其並無環線構型與第二銲線接合構型步驟。更 具體而言,一自由氣球係藉電燃構型並於毛細管内被捕捉, 然後一第一銲線被構型於積體電路(IC)22之表面。在構型第籲 一銲線後,尾部長度被釋放,且尾部分離(自第一銲線拉_離) 被執行。本製程於每一打線凸塊一再重複。 一透明外罩36(圖2)配置覆蓋該ic有效區域26,並安置於多 個打線凸塊34上。在目前較佳具體實施例中,外罩%包括一 純淨化合物38配置覆蓋該IC有效區域26與橫跨該純淨化合 物38之一視囪40,並安置於多個打線凸塊34上。如此,多個 打線凸塊34作用如該視窗4()之_塾片。外罩%容許光線穿過 投射於1C有效區域26之上。 籲 視窗40較佳地為一非-反光光學層級玻璃,且具有一約15 至16密爾㈤18)之厚度。若需要,視窗40可以多樣材料塗裝 以遽光:在銲接前,純淨化合物38可為一液態純淨環氧化 物。純淨化合物38可藉由任何施配系統,被置於感測器有效 區域26上。然後’視窗4G被置放於純淨化合物38(及多個打 線凸,Γ)之頂部。隨後’ 一熱鲜接製程被執行以鮮接並硬 化《X衣氧化物’其因而將該視窗4()銲線接合至該⑴有效區域 88697 -12- 1233685 26 〇 為完成裝置10,一模鑄化合物42被構型覆蓋引線框12、多 條銲線、與該外罩一周邊部位36。多個打線凸塊34作用如一 精確咼度墊片,並支撐視窗4〇於一介於積體電路(ic)22與模 鑄化合物42間之位置。影像感測器裝置10具有一約4〇密爾 (mils)之總高度。 現在參考圖3,所示為一符合本發明替代具體實施例之影 像感測器裝置44之放大側視圖。感測器裝置44係類似感測器 裝置1〇(圖1),僅該感測器裝置44具有一感測器積體電路 (IC)45,其具有一大的非_有效區域。亦即,感測器積體電路 (IC)45具有一頂部表面,其中有一有效、受光區域、一不包 括又光單元之非-有效區域,與一周邊銲線墊區域。純淨化 合物38配置覆蓋該1(:有效區域,與一外罩46,其大小適僅罩 覆該有效區域,並係藉由純淨化合物3 8被黏附於該有效區 域。模鑄化合物48係構型覆蓋引線框12、多條絲線32、該積 體黾路(IC)45之非《•有效區域、與該外罩46之一周邊部位。由 於模鑄化合物48覆蓋積體電路(IC)45之非_有效區域,故僅積 體電路(IC)45之有效區域暴露於光線。如此,若積體電路 (IC)45包括對光線敏感之記憶體單元,該等單元將藉由模鑄 化合物48遮去光線。 其亦須注意的是,感測器裝置44並未包括多個打線凸塊, 雖然有需要時其可包括多個打線凸塊。請瞭解,藉由如廣為 嫻熟本技藝所知者,第一具體實施例(裝置1〇)亦可被構型為 毋須多個打線凸塊34。 88697 -13 - 1233685 現在參考圖4A-4E,其為放大之橫斷面視圖,描繪構型圖1 與2所不之感測器裝置10之多個步驟。圖4A顯示具有一中央 黏晶石板14與一具有多個銲線墊之外部銲線墊之金屬qfn 引線框12。石板14具有一周邊環2〇,其構型一高度約與引線 忙12尽度相專之銲線接合線。一黏晶材料24被配置於石板^ 4 與周邊環20内。亦即,石板14具有一中央開孔以容納一低係 數銲線接合膏或黏晶黏接劑。黏晶材料24為如所熟知型態且 以傳統方法施配於石板14上。感測器積體電路(IC)22係以黏 晶材料24被銲線接合至石板14。引線框12可以模鑄易撕膠帶 黏貼。如先前參考圖1與2所討論,積體電路(1(:)22具有一有 一有效區域之第一表面與一周邊銲線墊區域。該周邊銲線墊 區域,包括多個銲線墊。 在積體電路(IC)22被銲線接合至引線框12之石板14後,該 封裝被傳送至一具有一真空孔洞52之平台硬化處理熱塊 5〇。該封裝被置於熱塊50上,其中石板14覆蓋該孔洞52,如 圖4B所不。一真空作用力被施用,其可令該膠帶與黏晶材料 24崩塌進入真空孔洞。此崩塌作用係藉由施用之真空作用力 大小與孔洞52之大小所控制。實質上同時地,黏晶材料以被 銲接。在το成銲接循環後,一自黏晶層突出之凸塊54被構 I。凸塊54—般為柔軟與降伏的。如以下更進一步討論,凸 塊54係被用以於模鑄步驟期間作為高度補償。 現在蒼考圖4C,該封裝被移往一傳統銲線器。該銲線器包 括—具有一 g大小大於凸塊54之孔洞58之熱塊56,其容許該 封裝得以穩定地平放於熱塊56上。銲線接合以傳統方法被執 88697 -14 - 1233685 行,俾電連接至各別之10:銲線墊與具有多條絲線之相對應引 線框銲線墊。此外,多個打線凸塊34係以銲線器毛細管60被 構型於積體電路(IC)22之第一表面上。如前所討論,多個打 線凸塊34係為以與多條絲線32相同材料所,換言之,金。更 進一步而言,為構型該等打線凸塊34毋須修正毛細管6〇。 現在參考圖4D,一純淨化合物或膠3 8被施配於感測器積體 電路(IC)22之有效區域26。純淨化合物38之銲線接合線厚度 係藉由多個打線凸塊34之高度所決定。依據本發明,多個打 線凸塊34之高度為約3密爾(mils)。然後,一視窗扣,較佳地 為玻璃,係被置放覆蓋10有效區域26以使視窗4〇安置於多個 打線凸塊34上。純淨化合物38將視窗4〇黏附至1(:有效區域 26,其僅視窗4〇係藉多個打線凸塊34與積體電路(π)。間隔 開來孩封裝總厚度係被控制於一極小之容差。例如,引線 框12、積體電路(IC)22、打線凸塊34、與視窗仂之一典型的 南度差異為約+M·5密爾(mils)。視窗40與純淨化合物38容許 光線穿過並投射於1C有效區域26。 ° 最後,如圖4E所示,一頂部模鑄化合物(圖工中之化合物42) 被構型覆蓋、引線框12、多條鋅線、與該外罩4()之—周邊部 位。模鑄凹洞深度A係相等於積體電路(IC)22加上多個打線 凸塊34加上視窗4〇之厚度。凸塊“之高度為等於積體電路 (IC)22、多個打線凸塊34、與視窗4〇總和之容差範圍,其係 =約3密爾(mils)。在構型覆蓋引線框12、多條鲜線、與視 ^周邊。^位之模鑄化合物後,凸塊54被崩塌以引發—作用 力用以支撐視窗40接觸模鑄凹洞62。亦即,當該封裝於模 88697 -15- 1233685 鑄過程接近結束時’玻璃視窗4〇藉由一因崩塌凸塊54所引發 之小型作用力,而被支撐接觸頂部模鑄凹洞62。由於視窗4〇 被支撐於模鑄凹洞62上,樹脂溢流之量係被限制。任何輕微 樹脂溢流於玻璃表面,可以接續之清水予以清洗移除。更進 一步而言,即令未使用保護膠帶,對玻璃視窗4〇之低接觸作 用力亦避免了嚴重的表面刮傷。若多重裝置係為於同一時間 被構型,其係為單一地構型如谓i所示之裝置1〇。該完成裝 置具有'南度約小於40密爾(mils)。 本發明較佳具體實施例之說明,係為圖解與說明之目的, 而非意欲詳盡無疑或限制本發明於所揭露之該等構型。其如 嫻熟本技藝者所知,如上述之該等具體實施例,倶可在不脫 離八中之廣泛發明觀念下予以變更。當然,亦目此,本發明 =限於所揭露之該等具體實施例,而係如前述所提主張,含 蓋於本發明精神與範圍内之修正。 3 【圖式簡單說明】 别述摘要,及下述之本發明詳細說明,透過參閱所附圖式 將更易理解。為描繪本發明之㈣,圖式所示係為目前較佳 之具體實施例。惟,請瞭解,本發明非限於所示之精二 與儀器。該等圖式為: " 圖1係為符合本發明之一光感測器裝置之一放 視圖; 八杈斷面 分解透 圖2係為符合本發明之一光感測器裝置之一放大 視圖; 圖3係為符合本發明 之一光感測器裝置之一 替代具體實施 88697 -16 - 1233685 例之一放大、橫斷面視圖;及 圖4A-4E係為描繪構型圖1與2中之感測器裝置之多個步驟 之放大、橫斷面視圖。 【圖式代表符號說明】 10 感測器裝置 10 裝置 10 影像感測器裝置 12 引線框 14 中央黏晶石板 14 石板 16 外部銲線墊區域 18 銲線墊 20 周邊環 22 積體電路(1C) 24 低係數黏晶黏接劑 24 黏晶材料 26 有效區域 28 周邊銲線墊區域 30 銲線墊 32 多條絲線 34 多個打線凸塊 38 純淨化合物 38 膠 40 視窗 88697 -17- 化合物 模鑄化合物 積體電路(1C) 外罩 模鑄化合物 熱塊 孔洞 真空孔洞 凸塊 熱塊 孔洞 毛細管 模鑄凹洞 -18-
Claims (1)
1233685 拾、申請專利範圍: 1·一種影像感測器裝置,包括·· 一具有一中央黏晶石板之四方平板無引腳(QFN)封裝型 態之引線框,及一具有多個銲線墊之外部銲線墊區域; 一接合至該石板之感測器積體電路(IC),該1(:具有一第 一表面,其具有一有效區域與一周邊銲線墊區域,該周邊 録線塾區域包括多個鲜線塾; 多條絲線,其係銲線接合至各別之IC銲線墊與相對應之 引線框銲線墊,並藉此電連接至該IC與該引線框; 多個位於1C第一表面上之打線凸塊; 一透明外罩配置覆蓋Ic有效區域並安置於打線凸塊 上’该外罩容許光線穿過投射於該1C有效區域;及 一構型於該引線框、多條銲線、與該外罩一周邊部位之 模鑄化合物。 2·如申請專利範圍第1項之該影像感測器裝置,其中該石板 具有一周邊環,其構型一高度約與引線框厚度相等之銲線 接合線。 3·如申請專利範圍第2項之該影像感測器裝置,其中該”係 以一配置於石板周邊環内之一低模數黏合劑接合至石板。 4·如申請專利範圍第1項之該影像感測器裝置,其中該等打 線凸塊係以金構型。 5·如申明專利範圍第4項之該影像感測器裝置,其中該等打 線凸塊具有一高度為約3密爾(mils)。 6’如申巧專利範圍第4項之該影像感測器裝置,其中該多條 88697 1233685 絲線係由金製成。 7·如申請專利範圍第1項之該影像感測器裝置,更包括一純 淨化合物配置介於1C有效區域與外罩之間。 8.如申請專利範圍第7項之該影像感測器裝置,其中該外罩 係由玻璃製成。 9·如申請專利範圍第1項之該影像感測器裝置,其中該等打 線凸塊係構型於1C有效區域上。 1 0.如申請專利範圍第1項之該影像感測器裝置,其中該裝置 具有一南度為約40密爾(mils)。 11·一種影像感測器裝置,包括·· 一四方平板無引腳(QFN)封裝型態之引線框,其具有一 中央黏晶石板與一有多個銲線墊之外部銲線墊區域,其 中該石板具有一周邊環,其構型一高度約與引線框厚度 相荨之鮮線接合線; 感測器積體電路(1C)以一配置於石板周邊環内之一 低模數黏合劑接合至該石板,該IC具有一第一表面,其 具有一有效區域與一周邊銲線墊區域,該周邊銲線墊區 域包括多個銲線墊; 多條金製絲線,其係銲線接合至各別之IC銲線墊與相 對應之引線框銲線墊,並藉此電連接至該Ic與該引線框; 多個構型於1C第一表面上有效區域之金製打線凸塊; 一純淨化合物配置覆蓋1C有效區域; 一透明玻璃外罩配置覆蓋IC有效區域上之該純淨化合 物,亚安置於該多打線凸塊上,其中光線可穿過該外罩 88697 -2 - 1233685 與純淨化合物,並投射於ic有效區域上;及 一構型於該引線框、多條銲線、與該外罩一周邊部位 之模鑄化合物,其中該裝置具有一高度約小於40密爾 (mils)。 12·—種影像感測器裝置,包括: 一四方平板無引腳(QFN)封裝型態之引線框,其具有一 中央黏晶石板與一有多個銲線墊之外部銲線墊區域; 一接合至該石板之感測器積體電路(IC),該IC具有一 有一有效區域、一非-有效區域、與一周邊銲線墊區域之 第一表面,該周邊銲線墊區域包括多個鮮線墊; 多條絲線,其係銲線接合至各別之1(:銲線墊與相對應 之引線框銲線墊,並藉此電連接至該IC與該引線框; 一純淨化合物配置覆蓋1C有效區域; 一透明玻璃外罩配置覆蓋IC有效區域上之該純淨化合 物其中光線可牙過該外罩與純淨化合物,並投射於I c 有效區域上;及 一構型於該引線框、多條銲線、多條IC銲線、IC非-有 效區域、與該外罩一周邊部位之模鑄化合物。 13·一種製作一影像感測器裝置之方法,包括多個步驟為: 提供一四方平板無引腳(QFN)封裝型態之引線框,其具 有一中央黏晶石板與一有多個銲線墊之外部銲線墊區 域,其中該石板具有一周邊環,其構型一高度約與引線 框厚度相等之銲線接合線; 配置一黏晶材料於石板上及於周邊環内; 88697 1233685 以该黏晶材料接合一感測器積體電路(ic)至該石板, 該1C具有一第一表面,其具有一有效區域與一周邊銲線 塾區域,該周邊銲線墊區域包括多個銲線墊; 藉由銲線接合,電連接各別之IC銲線墊與具有多條絲 線之相對應引線框銲線墊; 構型位於1C第一表面上之多個打線凸塊; 置放一透明外罩覆蓋1(:有效區域,俾使該外罩安置於 3等打線凸塊上,其中光線可穿過該外罩並投射於1(:有 效區域上;及 構型一覆蓋該引線框、多條銲線、與該外罩一周邊部 位之模鑄化合物。 14·如申請專利範圍第13項之該製作一影像感測器裝置之方 法’其中該等打線凸塊係以金構型,且具有一高度為約3 密爾(mils)。 15.如申請專利範圍第14項之該製作一影像感測器裝置之方 法,其中該多條絲線係為金。 16·如申請專利範圍第13項之該製作一影像感測器裝置之方 法,更包括步驟為·· 在置放外罩於多個打線凸塊上之前,施配一純淨化合 物於1C有效區域,其中該化合物厚度為約與該等打線凸 塊之高度相等。 17.如申請專利範圍第16項之該製作一影像感測器裝置之方 法,其中該外罩包含玻璃。 1 8 ·如申叫專利範圍第丨3項之該製作一影像感測器裝置之方 88697 -4- 1233685 法,更包括步驟為: 在接合ic至石板之後,置放該引線框於一於石板下方 之中央位置具有一真空孔洞之平台固化處理熱塊上。 19.如申請專利範圍第18項之該製作一影像感測器裝置之方 法,更包括多個步驟為: 引發一真空作用力,其可令黏晶材料崩塌進入該孔 洞;及 固化該黏晶材料。 20·如申請專利範圍第19項之該製作一影像感測器裝置之方 法,其中該真空作用力令該黏晶材料崩塌進入該孔洞, 及该固化步驟構型一自該黏晶材料突出之凸塊。 21. 如申請專利範圍第20項之該製作一影像感測器裝置之方 法,更包括步驟為: 在構型覆盍該引線框、多條銲線、與該外罩一周邊部 位之模鑄化合物之後,崩塌該凸塊以令一作用力用以支 撐該外罩接觸一模鑄凹洞。 22. —種製作一影像感測器裝置之方法,包括多個步驟為: 提供一四方平板無引腳(qFN)封裝型態之引線框,其具 有一中央黏晶石板與一有多個銲線墊之外部銲線墊區 域,其中該石板具有一周邊環,其構型一高度約與引線 框厚度相等之銲線接合線; 配置一黏晶材料於石板上及於周邊#裒内; 以該黏晶材料,接合一感測器積體電路(IC)至該石 板’該1C具有一有一有效區域與一周邊銲線墊區域之第 88697 1233685 一表面,該周邊銲線墊區域包括多個銲線墊; 置放該引線框於一於石板下方之中央位置具有一真处 孔洞之平台固化處理熱塊; 一二 精由銲線接合,電連接各別之1(:銲線塾與具有多條絲 線之相對應引線框銲線墊; x 施配一純淨化合物於ic有效區域; 置放一透明外罩覆蓋10有效區域上之該純淨化合物, ~中光線可牙過該外罩與該化合物,並投射於ic有效區 域上;及 構型一覆蓋該引線框、多條銲線、與該外罩一周邊部 位之模鑄化合物。 23.如申喷專利範圍第22項之該製作一影像感測器裝置之方 法’更包括多個步驟為: 引發一真空作用力,其可令該黏晶材料崩塌進入該孔 洞;及 固化該黏晶材料。 24·如申凊專利範圍第23項之該製作一影像感測器裝置之方 法其中θ亥真空作用力令該黏晶材料崩塌進入該孔洞且 該固化步驟構型一自該黏晶材料突出之凸塊。 25.如申請專利範圍第24項之該製作一影像感測器裝置之方 法’更包括步驟為: 在構型覆盖該引線框、多條銲線、與該外罩一周邊部 位之模鑄化合物之後,崩塌該凸塊以令/作用力用以支 撐該外罩接觸一模鑄凹洞。 88697
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