TW488061B - Apparatus for current ballasting ESD sensitive devices - Google Patents
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Description
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 488061 A7 B7_ 五、發明說明(1 ) 本專利申請案主張美國前專利號碼60/174,326申請於1月 4日2000年之利益,其中之内容以引述之方式併入本文。 發明範圍 此一發明一般係屬於電子設備之電流保護及特別者屬於 全矽化物之靜電靈敏裝置中之電流鎮流。 發明背景 積體電路爲按一電壓形式接收輸入信號及傳送輸出信號 之金屬-氧化半導體(MOS)。此種裝置爲了依積體電路來實 施俾減少電路之量及使電路能在高頻率且具有甚低之電力 需要故製造成非常小之裝置尺寸。此種裝置之問題無論如 何極易遭受施加至積體電路之輸入端子輸出端子或内部電 路節點之過電壓而破壞。用於這些裝置之閘氧化爲一般之 非常的薄及如果所施加之電壓超過即使是相對爲低之電壓 並能使之破壞。此種破壞可能造成立即或快速之電晶體或 其他裝置之損壞。過電壓大多爲由於成靜電放電(ESD)之 形式而造成。如所知,ESD事件,且主要的,可能出現有 相對的較大之可能爲以安培計之電流。爲了對抗此種合併 之ESD事件問題,MOS裝置之製造家設計提供可經通路迅 速將節點放電之保護裝置。該保護裝置放置於一裝置之輸 入緩衝器或一裝置之輸.出緩衝器墊與一參考電位之電源 (如,接地)之間來快速將來自裝置可能有害之ESD電壓予 以導去。注意使用所謂之ESD裝置,ESD保護裝置,及ESD 靈敏裝置在此一文件可以通用。 圖1示出一 ESD裝置之頂視圖。舉例之裝置爲一具有源極 -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線一 A7 B7 五 Λ發明說明(2 及及極區域及在-通道上將源極及没極 —Ν-通道咖電晶體來實施者。 广閉電極如 般來實施,但在ESD保護模式中按如同電晶體 極區域相符之-集極區域,-與源極區域相=射 ,-與通道區域相符之基極區域之 域 在標準之架構中,間電極採用_直接連。 接被連接至參考電壓之電源(如,接地)上電:連 極電晶體之集極與射極間之電位 —二:、’ S雙 電壓即所^田 > 卜土、古 ce馬幸又一預先決定之 回至-較變電壓爲高時,電壓I快速反 #又低艾私壓。孩裝置將電壓嵌位在此—較低 ,如所謂之快速反回電壓。 ' 呈理一亞片Μ、 導%之杈式中,電晶體 見非Ί阻抗’且’如此將任何電流導電至接地。
+ : π斤丁保漠裝置’包括多個溝通使相對高之ESD “丁以導電以便減低裝置上之電壓及電流程度。每一溝 ^由-在電晶體3之没極區域2中之金屬連接端子4及電晶 ^源極6中—相符之金屬連接端子8來界定。連接端子4 連接至固體金屬連接體ljL。金屬開孔或槽口7由於不同之 製程理由有時是有其需要的。理想情形,當在一謂情況 時’在每-對連接端子間所產生有多個非交又及非分離之 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 社 印 製 通路被建立有實質上相斧之,,電流通路"來放電該一esd電 流。 在半導製程中另一趨向爲對M〇S電晶體之源極及汲極區 域加上矽化物以便改善其功能。矽化物之區域一般較形成 源極及汲極區域之摻雜之矽顯示有較低之表面電阻値。 -5- 本紙張尺度適用中關家標準(5^7見格(21G χ 297公髮
經濟部智慧財產局員工消費合作社印副代 五、發明說明(3 ) 對一 ESD保護裝置之閘極及源極加上矽化物,無論如 何,會影響裝置之功能,原因爲矽化物在靠近閘極可能有 一相對粗糙之邊緣,此可能引致該處高電場及高電流密度 (及溫度上相對之增加)而致之邊緣之遞降。原因爲矽化物 具有一相對低之薄板電阻値使全部裝置之電流能互解至一 較小之裝置區域並造成立即之破壞。 ; 曾試圖將ESD保護裝置中之閘極-至-連接之間隔予以增 加’置矽化物遠離熱產生之集極-基極接合區以企劃減少 石夕化物故障之可能。此種裝置之一示於圖2並説明如下。 此種方法,無論如何,用於對ESD保護裝置以選擇用矽化 物加至裝置之源極及汲極之部分來防止,將增加裝置之幾 何面積及需要特別之處理步驟。 如美國專利Νο· 5,763,919所述藉使用具有分散之平行放 電通路之一 M〇S電晶體陣列架構來對ESD保護提供保護之 企圖。此種分散平行放電通路在架構之η -井區域内及在 Ν+汲極區域内被形成。n +之部分至基底接合來靠近當地 氧化或STI。介面可能顯示有機械應力之產生,其中有, 私場I焦,電流洩漏及易受破壞。此一架構由於Ν,井亦具 有非-線性放電通路電阻且架構之功能依擴散/井電阻値而 足此一架構之另一特举爲分散平行放電通路與基底間未 加以分隔,如此造成對基底之電位破壞(分散之Ν +汲極區 域)及加有不需要之外加寄生之電容(分散Ν +區域及井 區域)。 發明簡述 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------% -6-
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明用於鎮流一 ESD保護裝 济泰1¾目丨丨一 1 衣直具祖貫她於本裝置中。韵 t且則㈣合至E㈣護裝置之—共用連接㈣_ 〈夕個成間隔之連接端子間之非交叉導電連 接接㈣咖裝置之連接端予間之各自之鎮流電阻Y成達 桉發明之一方面導電線條由金屬來形成。 按照發明之另一方面導電線條由多晶矽來形成。 按照發明之尚有另—方面導電線條由通道及連接層之一 垂直曲折連接體來形成。 曰 按照發明之另-方面,連接端子間之側面電阻値藉在每 一對端子間分段該處之ESD裝置之汲極區域來增大。 按照發明之尚有之另一方面連接端子間之側面電阻値藉 界定具有平行至ESD裝置之閘電極之一部及導電線條間^ 伸較遠之部分之一較遠之閘電極來增大。 按照發明之另一方面,ESD裝置如同多個部分平行-連接 之ESD裝置般來實施,每一部分ESD具有一汲極區域,一 閘極區域及一源極區域及包括一在一共同電氣導電端子與 在母 ESD裝置之各自之没極區域内一各自多個成間隔之 連接端子間形成一各自之多個鎮流電阻之多個非交又之導 電線條。 應了解,以上概述及0下詳細之説明爲舉例者,非發明 之限制。 圖面重點説明 本發明當在配合所附之圖面及以下詳細之説明加以閱讀 時將能獲得較佳之了解,應強調者按照一般之經驗,圖面 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 11111丨丨丨"·丨丨丨丨丨丨丨訂·丨丨丨丨丨丨丨-線· (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 488061 A7 B7 五、發明說明(5 ) 不同之特點非依尺寸繪出。相反的,不同特徵之尺寸爲求 清晰任意予以延伸及縮小。包括於圖面中者有下列圖面·· 圖1(先前技藝)爲一全矽化物之NMOS裝置之一平面圖; 圖2 (先前技藝)爲實施矽化物本地阻絕之一碎化物之 NMOS裝置; 圖3爲發明顯示有鎮流電阻及側面電阻之一舉例之具體 實施例之部分成平面圖形式之一示意圖; 圖4 A爲發明顯示有應用寄生雙極裝置之一例舉之具體實 施例之一示意圖; 圖4B爲發明顯示有寄生雙極裝置之可變電阻及指出電壓 電源又電壓嵌位能力之一例舉之具體實施例之示意圖(如 圖4 A ); 〜 圖5爲發明顯示有金屬之非交叉線條之一例舉之具體實 施例之平面圖; 圖6爲發明顯示有多晶矽之非交叉線條之一例舉之具體 貫施例之平面圖; 圖7 A爲發明顯示有垂直曲折非交叉之線條之一例舉之具 體實施例之一平面圖; 圖7B爲用於顯示之目的,在圖面7B中所示一垂直曲折 之非X又線條6 0,一單一垂直曲折之線條之橫斷面圖; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖8爲發明顯示有各別之鎮流保護裝置單元之一陣列之 一例舉之具體實施例之平面圖; 圖9爲發明顯示有利用分段之汲極及源極區域提供改良 觸發 < 鎮流保護裝置單元之一具體實施例之一平面圖;及 圖1 0爲發明顯示有提供利用一分段之没極及架構來減低 -8 -
A7 "------ B7__ 五、發明說明(6 ) 當地高電流密度之改良觸發之鎮流保護裝置之一具體實施 例之平面圖。 發明詳述 中雖然本發明用一NMOS ESD裝置其運作如一寄生之NpN 電晶體般來加以説明,但企圖爲發明可使用用於其他之 裝置(如,M0S或雙極)諸如其運作如寄生之pNp電晶 體,二極體(如,齊納二極體,雪崩二極體),矽控制之= 流器之PMOS保護裝置。這些替代之具體實施例中,一 $ E S D保濩裝置具有多個平行之連接。 按以上所述,減低當地化之電氣電流方法之一爲裝置加 上一鎮流電阻。圖2(先前技藝)爲一矽化物之NM〇s裝置之 一平面圖,該一裝置利用矽化物之當地阻絕來導致電流鎮 流。ESD保護裝置示於圖2,包含有分離連接之端子4及^ 具有僅在連接區域2及6被施加有矽化物。剩餘之汲極區域 12及源極區域14未被矽化。電流鎮流由於其中未施加矽化 物(如區域1 2及1 4)架構之寬度與區域之長度之外形比而 得出。所述於圖2之架構缺點之一爲需要來形成被外加有 矽化物裝置僅汲極及/或選擇之M0S裝置之源極電極之一 部分該處外加之處理步驟是非常化費的,及在某些情況, 已知會減少產量及/或減彳氐積體電路處理之功能。 本發明藉外部連接與ESD裝置之連接電極間產生分開之 電氣隔離之鎮流通路或電流載流裝置被加以保護來克服先 前技藝之缺點。此種分開之鎮流電流通路較先前技藝之裝 置可將電流分配的更爲平均。減低電流集中,接著減低 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------線一 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
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五、發明說明(7 ) ESD裝置之當地化之熱量。發明之—例舉之具體實施例中 2顯不在通道間有側面電阻之非交叉電阻之通道大量的界 疋]^SD電流。通遒間電阻通道及側面電阻之合併確保流過 <電流在通道中平均之分配,限定ESD流通電流及大量減 低電流集中。 、原因馬現行發明之鎮流電路通路爲與半導體基底分開, 較先則技藝有數種優點。這些優點包括保護之功能與分散 /、井電阻獨立及不致有本地化及矽間由於材料介面而遭致 上之機械應力。被加上之機械應力之缺點包括增加(1) 兒琢本地化,(2)洩漏電流,(3)破壞之可能。且,本發明 分開^鎮流電流通路提供較先前技藝包括鎮流電阻線性 化,鎮/心電阻較低之値,無增加之接合電容,較緊湊之規 W及”、、額外之裝私步驟(如同具有石夕化物阻絕裝置一樣)之 其他優點。 7 圖3爲發明顯示有鎭流電阻及側面電阻之一例舉之具體 實施例之部分成平面之一示意圖。在此一具體實施例中, 金屬連接1 7代表,例如,一積體電路之外部連接,經多 個乏非父叉〈電阻元件丨8連接至ESD保護裝置3之一汲極 區域2。如以下所説明,每一元件18提供一纟自之鎮流電 阻。在ESD裝置3之汲極·區域2上電阻元件18間爲多個電阻 =件2 0。這些元件之每一個提供一增大之電阻元件1 8之 鎭流影響之側面電阻。側面電阻爲ESD裝置3之汲極2及其 自己提供之電氣分開之架構下之產物。原因爲汲極區域爲 相對时,鄰近之連接端子間存在有相當大之電阻値。此 -10- 本紙張尺度適財關家標準(CNS)A4規格⑵0x 297公 if先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------線·! 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 488061 A7 B7 五、發明說明(8 ) 一電阻沿裝置成相加使得最右連電極與最左之連接器6間 之電阻値爲其間電阻値之總和。ESD裝置3之源極區域亦 包含有鎮流電阻1 8及側面電阻2 0。 雖然發明之例舉之具體實施例ESD裝置耦合至一外部連 接17,亦可視爲ESD裝置耦合至來自保護之電路中之其他 節點使之免於過電壓之情況。例如,ESD裝置可耦合至電 路之正及負之操作之電力連接上。當在圖3所示鎮流電阻 耦合至ESD裝置之源極及汲極二區域之時,可設想爲僅連 接至其源極區域或僅汲極區域。
在非交叉之電阻通道中電流之平均分配產生之原因爲, 如果一通道吸收較其他通道爲多之電流,跨於電阻性通道 1 8之電壓降增加,結果爲外部連接1 7上爲較高之電壓。 比一較高之電壓,接著,引發較大之電流流經其他非交叉 之通道,造成較高之電流在其他通道中之一通道之再分 配。此一分析爲假定該等通道與裝置不同。側面電阻2 0確 保流動在ESD保護裝置之連接端子間之電流得以減低之原 因爲,當一 ESD事件時,經ESD保護裝置之導電通路較之 與連接端子與次一個成之導電通路具有較低之電阻値。理 想情形側面電阻2 0之値可能越大越好。側面電阻之値可藉 增加每一連接4與每一連,接8之距離而增加,無論如何,應 了解,裝置寬度效益當距離增加至某一値時可能會降低。 發明曾得出此一任何値之電阻値約在較ESD保護裝置之’’關 入π電阻値爲高時是可以接收的。如此,鎮流電阻1 8及側 面電阻20之合併使在多個非交叉通路經ESD裝置3之ESD -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
訂---------線J 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 488061 A7 B7 五、發明說明(9 ) 電流成平均之分配。 圖4A爲發明顯示有在ESD裝置之汲極及源極上由流經二 各自之連接端子4及8間之電流通路所形成之寄生雙極電晶 體之一例舉之具體實施例之示意圖。如圖4 A所示,例舉 之ESD裝置之架構形成一具有將集極連接至ESD裝置之没 極連接端子4及射極電極連接至ESD裝置之源極連接端子8 之多個開路基極NPN電晶體。當在跨於電晶體之電壓超過 快速-反回門檻電壓位時每一個多個寄生NPN電晶體進入一 快速-反回模式來導電ESD電流及其他過電壓情形而致之電 流。雖然寄生NPN電晶體如所示如一開路基極裝置,原因 爲基極電極在半導體基底中來實施,裝置則無必要爲開始 基極。基極電位施加至基極電極上,無論如何爲相對的小且 不足以影響寄生NPN電晶體如一保護ESD裝置般之功能。 圖4B爲發明示於圖4A顯示出由NPN電晶體來顯示之可 變電阻之具體實施例之一相等之原理圖。在圖4 B中,示 於圖4 A之NPN電晶體如同可變電阻2 1之例來顯示,該一 可變電阻21具有一由快速反回保持電壓來決定之偏値電壓 電源125。用於每一可變電阻2 1之電阻値爲流經各自之導 電通路ESD電流之函數。理想情形,如先前所述,側面電 阻2 0必需儘可能的大來確保導電通路中ESD電流之平均分 配。此一條件可藉使側面電阻値2 0及鎮流電阻値1 8較可 變電阻値2 1爲大而達成。 圖5爲發明利用金屬2 4及3 4之非交叉線條來形成鎮流電 阻之一第一例舉之具體實施例之頂視平面圖。在圖5中, -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ▼裝 ----訂-------· A7五 、發明說明(10 B7 化物及;上内之T4之線條核合於㈣裝置3之-梦 裝置===子17與分離連接端4之間。在 連接源極區域6至一例如可之源極區域6來 之一雷 月匕馬連接至參考電位(如,接地) 全屬19内李馬合至各自*離之連接端子8。 括伙、、泉條木構成非交又及由間隔36加以分開。金屬34 、,泉條亦架構成爲非交 、 乂及由間隔3 8加以分開。金屬之每一 屬=供ESD電流流動之—通路及提供鎮流電阻。鄰近金
If U之側面電阻由每—金I㈣對㈣之連接點之轉 2顯示出。在發明之例舉中所選之每一金屬線條之長度 旦、度,及汲極區域2之高度用來提供所需要鎮流電阻之 里▲在發明之另一具體實施例中,電流鎮流僅由裝置之一 i、J來k供(即,僅汲極側或源極側)。氧化塗層增加提供金 屬、泉條2 4及3 4及半導體基底間之分隔。線條2 *及3 4之形 成並不需要任何特殊處理步驟但可能由如正常金屬化製程 中之一部分來完成之。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 鎮 此 至 金 區 多 λ 線 圖6爲發明顯示出多晶石夕之非交叉線條之使用來形成 流電阻之一第二例舉之具體實施例之一頂視平面圖。在 具組貫施例中’多晶石夕之線條4 2經一連接器4 1連接 共同端子1 7及經一連接.器4 3連接至短金屬線條5 0。短 屬線條50,接著,藉連接端子4連接至ESD裝置3之汲極 域2。在發明之具體實施例中,利用金屬區域5 〇來連接7 晶矽線條至ESD裝置,原因爲現行情況之技藝製程不允許 多晶矽直接連接至矽化物之擴散區2上。線條4 2架構成 13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 488061 A7 五、發明說明(11 非又叉及藉間隔46予以分隔。在本發明之例舉之1體實施 例中,金屬線條34,在裝置3之源極側上,在=離之 連接端上耦合至矽化物源極區域6。在例舉之具體實施 例中,這些線條連接源極區域6經共同端子1 9至接地。 如示於圖5之具體實施例,線條34架構成爲非交又及藉 間隔3一8被分隔。利用多晶石夕線條42代替金屬線條η之』 點,不於圖5,爲多晶矽線條之薄片電阻値之量約較金屬 薄片電阻値爲高。原因爲此—較高之電阻値,使用㈣物 (多晶碎線條較使用金屬線條可使料更爲緊凑之架構 上。示於圖6中之架構之形成可+需任何外加之製程步 驟。多晶發線條42可當在其他多晶碎層被處理時加以沈 積,如此在線條3 4與42之間可提供分隔之一在了之氧化 層。金屬線條5 0及3 4可爲正常金屬化製程及連接器4 i, 43及連接端子4及8之一部分,例如鎢通道亦可爲正常半 導體製程之一部分。 線 圖7 A爲發明顯示出垂直曲折之非交叉線條之一第三例舉 《具體實施例之-頂視示面圖。在此一具體實施例中,線 条6 0及6 4之每一個藉接合而形成,例如,多晶矽及金屬 線條在積體電路製程中在不同層上與亦爲製程一部分之連 接通道來形成。鎮流電阻6 〇及6 4藉多晶矽通道及金屬之 串聯連接而形成。鎮流電阻6〇及64藉分隔每一鎮流電阻 郅分之相同之機制來加以分隔。垂直曲折之非交叉線條6〇 在裝置之汲極側上藉連接端子4耦合至矽化物之汲極區域 2。垂直曲折之非交叉線條6〇藉間隔”加以分開。垂直曲 -14 本紙張尺度適用中關家標準(CNS)A4規格(210 X 297 488061 A7
訂
I
五、發明說明(13 ) 阻來比較可略而不計,陳述於7 A及7 B之發明例舉之具體 實施例之一優點爲緊湊結合之架構。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 層之數目及曲折之數目僅爲舉例,希望可使用多些或少些 層及/或多些或少些曲折來組立以獲得滿足之鎮流電阻値。 圖8爲發明顯示出分離之鎮流保護裝置單元之一陣列之 第四例舉之具體實施例之一頂視圖。每一基本保護單元9 6 藉各自之非交叉線條1〇〇耦合至一第一端子9〇及一第二端 子94。非交叉線條ι〇〇可包含前述所述或以下所述之使用 i屬’多晶矽,垂直曲折線條,或屬於其中任何合併來形 成鎮流電阻1〇〇之任何具體實施例。在圖8中所述之例舉之 具體實施例之優點爲其可在相對的較小面積上來實施及對 —大數目之ESD裝置平均的分配該ESD電流及因此能處理 相對較大之ESD事件。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖9爲發明之一第五具體實施例之一平面圖,一提供有 外加之側面隔離及藉利用一分段之汲極及源極區域來改善 觸發之ESD保護裝置。示於圖9中之包括藉多晶矽導電元 件104將主動地區1〇6及在下之絕緣及井或基底材料分開。 導電元件104不一定需連接至閘電極,如此,發明之替代 之具體實施例’導電元件爲連接或不連接至閘電極。非交 又線條102提供鎮流電阻非交又之線條丨〇2包含任何先前 所述具體實施例,包含之金屬,矽化物之多晶矽,垂直曲折 、、泉條或屬於其之任何合併。在圖9所示之裝置在ESD裝置 中藉緊凑之結合形成分開之保護裝置單元可有效的利用該 一地區。多晶矽元件104在源極及汲極區域阻礙側面電流如 -16· 本紙張尺度中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公餐)
五、發明說明(14 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此提供非X叉線條1〇2間之隔離保護裝置單元之甚爲靠近 提供改吾〈ESD裝置之觸發。在示於圖9發明之具體實施例 中利用MOS技術,藉增加汲極_接合周邊(即,藉增加寄生 NPN電晶體之dV/dt (瞬時的)來提高觸發。進爾觸發在圖9 所π具體實施例中如增加汲極-閘極重疊電容量般使用電 極經一高歐姆電阻値耦合至接地而獲得改善。此一構想爲 分段汲極區域可藉延長閘極區域以下之通道區域之延伸進 一步來被分開。 圖1 〇爲發明顯示一 ESD裝置架構成進一步減低當地高電 場密度之一第六具體實施例之一平面圖。圖10中所繪之陣 列包含由多晶矽導電元件116分開之主動地區124非2叉線 條114提供鎮泥電阻。非交叉線條i 14可包含前述任何之具 體實施例中包括之金屬,多晶矽,垂直曲折線條,或屬: 其(任何合併。多晶矽元件丨16阻礙流經之側面電流如此 提供非交叉線條114間之隔離。在多晶矽元件112之垂直與 水平分段之X叉處所形成之轉角,無論如何,會造成相對 高之本地電場密度。圖10所示之分裂之閘極架構可減低該 地之電場密度。此-替代之架構中,—主多晶硬線條^ 極)120被成形爲名稱上電晶體閘極之長度。多晶矽元件 116被一狹窄之多晶矽啐條118所耦合,該多晶矽線條 爲在汲極區域内及具有一按要求較用於積體電路製程之最 低設計規則之一閘極長度下按要求被形成者。在多晶矽= 條118及120間之間隔122亦儘可能的如狹窄般來形成。主動 地區124,多晶矽線條118,及主動地區(N+)區域自較今之 --------tr---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -17- 488061 A7 B7 五、發明説明(15 ) MOS/雙極電晶體定位於間隔122中。此一電晶體與ESD裝置 之MOS電晶體成串聯,由於其短的閘極長度故意被作成為 易漏t的。如此,此一較遠之電晶體在主電晶體中工作如同 一將來自汲極連接至閘極邊緣之ESD電流成分路之一電 阻。側面流通電流如以上所述藉多晶碎元件116來阻止, 以避免在裝置中電流之集中。 當在本發明已依多個例舉之具體實施例加以說明之時, 此乃企圖如以上所述應在附屬之申請專利範圍内來加以實 施。 元件符號說明 1 固體金屬連接體 46 間隔 2 汲極區域 50 金屬線條 3 ^ 5 電晶體 60, 64 線條 4 金屬連接端子 72, 76 間隔 6 源極區域 78 多晶矽之分段 7 金屬開孔或槽口 81 通道 8 金屬連接端子 82, 83 金屬層 12 沒極區域 84 通道 14 源極區域 90 第一端子 17 金屬連接 94 贫 —3山工 弟一响亍 18, 20 電阻元件 96 基本保護單元 41 連接器 100, 102 非交叉線條 42 多晶矽之線條 104 導電元件 43 連接器 106 主動地區 _-18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 488061 A7 B7 五、發明説明( 112 多晶碎元件 122 間隔 114 非交叉線條 124 主動地區 116 ^ 導電元件 125 偏值電壓電源 118, 120 多晶矽線條 _-18a- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
- 488061 A B c D 六、申請專利範圍 1. 一種用於一靜電放電(ESD)靈敏裝置之電流鎮流之裝 置,具有一第一區域及一第二區域,用來保護在一電子 韻路中一節點避免過電壓之情況,該裝置包含: 多個在ESD裝置之第一區域内的間隔之連接端子,用 於提供至第一區域之各別電氣連接,第一區域及間隔 之連接端子係構成而呈現一在間隔之連接端子之連續 個之間有一側面電阻;以及 多個隔絕之非交叉導電線條,每一個具有一第一端及 一第二端,每一個隔絕之非交叉導電線條之第一端係 電氣耦合至該節點,且每一個隔絕之非交叉導電線條 之第二端係耦合至多個間隔之連接端子之各別不同之 一個上。 2 ·如申請專利範圍第1項之裝置,尚包含: 多個在ESD靈敏裝置之第二區域内之較遠間隔之連接 端子,用於對第二區域提供各別電氣連接,第二區域 及間隔之連接端子係構成而呈現一在較遠間隔之連接 端子之連續二個之間有一側面電阻;及 多個較遠之非交叉導電線條,每一個具有一第一端及 一第二端,每一個較遠之非交叉導電線條之第一端係 電氣耦合至一各自不同較遠間隔之連接端子之一個上 及每一個較遠之非交叉導電線條之第二端耦合至一參 考電位之電源上。 3 .如申請專利範圍第2項之裝置,其中ESD靈敏裝置包含 形成一寄生雙載子電晶體之NMOS ESD裝置,第一區域 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)488061 A8 B8 C8及延伸至多個較遠間隔之連接端子之相鄰近幾個之個 別對之間的ESD裝置之第二區域内。 為-沒極區域’第二區域為—源極區域,及第三區域 為一閘極區域,該裝置包含多個導電元件,每一導# 充件電氣槁合至ESD裝置之第三區域並延伸至多個間: <連接端子鄭近幾個之各別對之間之第一區域内,以 4.如申請專利範圍第丨項之裝置,其中至少多個隔絕之非 X叉導電線條中之至少一個由金屬做成。 如申請專利範圍第1項之裝置’其中至少多個隔絕之非 交叉導電線條之至少一個為分段的且包含至少一個由 多晶碎做成之區段。 6·如申請專利範圍第5項之裝置,至少一分段之非交叉導 電線條包括多個串聯連接之電阻元件該等電阻元件由 接點通孔,多晶矽薄膜和金屬薄膜的群組中選出。 7·如申請專利範圍第丨項之裝置,其中隔絕之非交叉導電 線條之每一個呈現一電阻及第一區域為多個間隔之連 接端子配置成使得側面電阻值與由至少一非交叉導電 線條所呈現之電阻值來比較為相對的高。 8·如申請專利範圍第7項之裝置,尚包括全部在ESD裝置 之第一區域内之多個導電元件,每一元件具有一第一 端及一第二端,各元件之第一端在ESD裝置之第一區域 内成電氣連接’且第二端在各自二個間隔之連接端子 間延伸跨於ESD裝置之第一區域。 9 .如申凊專利範圍第1項之裝置,其中ESd靈敏裝置選自 -20- 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 48806 A B c D 々、申請專利範圍 由一 NMOS電晶體,一齊納二極體,一崩潰二極體,一 矽控整流器,一PMOS電晶體,一NPN電晶體及一 PNP 電晶體所組成之群組。 10. —種靜電放電(ESD)保護裝置,包含: 一第一半導體型之汲極區域,該汲極區域包括提供各 自至汲極區域之電氣連接的多個間隔之連接端子,其 中汲極區域及間隔之連接端子配置成在連續的間隔之 連接端子間呈現一側面電阻; 一第二半導體型之通道區域,具有一長度及一寬度, 該通道區域沿通道區域之寬度與汲極區域成實體之連 接; 一第一半導體型之源極區域,該源極區域沿通道區域 之寬度與通道區域寬度成實體之連接及藉通道區域之 長度與汲極分開; 一閘電極自通道與其絕緣及定位於其上; 多個隔開之非交叉導電線條,每一個具有一第一端及 一第二端,每一個隔開之非交叉導電線條之第一端電 氣耦合至共用電氣導電端子及每一分開之非交叉導電 線條之第二端耦合至多個間隔之連接端子之各自不同 之一個上。 11. 如申請專利範圍第10項之ESD保護裝置,尚包含: 在ESD裝置之源極區域用於提供至源極區域之各自電 氣連接之多個較遠間隔之連接端子,源極區域及間隔 之連接端子配置成顯示在較遠間隔之連接端子之連續 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)申請專利範圍 一個間隔有一側面電阻;及 個較遠之非交叉導電線條,每一個具有—第一端及 j第二端,每一個較遠之非交叉導電線條之第一端電 氣耦合至一各自不同之一個較遠間隔之連接端子及= 一個較遠之非交叉導電線條之第二端耦合至一參考電 位之電源上。 私 12·如申請專利範圍第i 〇項之esd保護裝置,其中多個隔 開之非交叉導電線條為由金屬做成, 13·如申請專利範圍第1〇項之esd保護裝置,其中多個隔 開之非父叉導電線條為分段者及每一線條包括至少一 由多晶麥做成之區段。 14·如申請專利範圍第1 0項之ESD保護裝置.,其中多個分 段之非叉叉導電線條包括多個串聯連接的垂直曲折之 私阻元件其係由下列組成之群組接點、通孔、多晶矽 薄膜,及金屬薄膜中選出。 15·如申請專利範圍第1 〇項之ESD保護裝置,其中: 沒極區域被分段為多個汲極區域,每一個分段之汲極 區域包括一各自不同之一間隔之連接端子,分段之汲 極區域由一第二型半導體之各自之通遒分開;及 源極區域被分段為多個源極區域,每一個分段之源極 區域包括一個各自較遠間隔之連接端子,該分段之源 極區域藉一第二型半導體之各自之通遒分開。 16·如申請專利範圍第i 〇項之ESD保護裝置,尚包含一較 遠之閘電極,包括: -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 488061 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 多個導電元件,該導電元件與鄰近一個間隔之連接端 子間在汲極區域之各自地區處成絕緣並定位於其上; A 一連接元件,與相鄰閘電極但與閘電極分開之汲極區 域之一地區中之汲極區域上成絕緣及定位於其上方。 17. —種靜電放電(ESD)保護裝置,包含: 多個之部分ESD裝置,每一個ESD裝置包括: 一第一半導體型之汲極區域,該汲極區域包括提 供至汲極區域之各自之電氣連接之多個間隔之連接端 子,其中汲極區域及間隔之連接端子配置成在連續一 個間隔之連接端子間呈現一側面電阻; 一第二半導體型之通道區域,具有一長度及一寬 度,該通道區域與沿通道區域之寬度與汲極區域成實 體之連接; 一第一半體型之源極區域,該源極區域與沿通道 區域之寬度與通道區域成實體之連接及藉通道區域之 長度與源極分開,源極區域包括提供至源極區域之各 自電氣連接之多個較遠間隔之連接端子,其中源極區 域及較遠間隔之連接端子配置成在連續一個間隔之連 接端子間呈現一側面電阻; 一閘電極在通道區域成絕緣及定位於其上; 第一及第二共同電氣導電端子; 多個第一非叉叉導電線條,每一個具有一第一端 及一第二端,每一第一非交叉導電線條之第一端電氣 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)裝 擊 48806: A B c D 六、申請專利範圍 耦合至第一共同電氣導電端子及每一個第一非交叉導 電線條之第二端耦合至多個間隔之連接端子之各自不 Ϊ同之一個上,用於與汲極區域成電氣連接; 多個第二非交叉導電線條,每一個具有一第一端 及一第二端,每一個第二非交叉導電線條之第一端電 氣耦合至第二共同電氣導電端子及每一個第二,非交 叉導電線條之第二端耦合至多個較遠間隔之連接端子 之各自不同之一個上用於與該源極區域做成連接;及 一第一導體連接所有部分ESD裝置之第一共同電氣導 電端子; 一第二導體連接所有部分ESD裝置之第二共同電氣導 電端子。 18. —種靜電放電(ESD)保護裝置,包含: 多個部分ESD裝置,每一部分ESD裝置包含: 一第一半導體型之第一區域,該第一區域包括提 供至汲極區域之各自之電氣連接之多個間隔之連接端 子,其中第一區域及間隔之連接端子架構成顯示在連 接間隔之一個連接端子間有一側面電阻; 一第二半導體型之第二區域,該第二區域包括提 供至第二區域之各自電氣連接之多個較遠間隔之連接 端子,其中第二區域及較遠間隔之連接端子架構成顯 示在連續一個較遠間隔之連接端子間有一側面電阻; 第一及第二共同電氣連接端子; 多個第一非交叉之導電線條,每一個具有一第一 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(2ί〇Χ 297公釐)488061 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 端及一第二端,每一個第一非X叉導電線條之第一端 電氣耦合至第一共同電氣導電端子及每一個第一非交 $叉導電線條之第二端電氣耦合至多個間隔之連接端子 之各自不同之一個上用於與第一區域做成電氣連接; 多個第二非交叉之導電線條,每一個具有一第一 端及一第二端,每一個第二非交叉之導電線條之第一 端電氣耦合至第二共同電氣導電端子及每一個第二非 交叉之導電線條之第二端耦合至多個較遠間隔之連接 端子之一各自不同之一個上用於與第二區域做成連 接;及 一第一導體,連接所有部分ESD裝置之第一共同電氣 導電端子; 一第二導體,連接所有部分ESD裝置之第二共同電氣 導電端子。 -25- 本紙張又度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)
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