TW419530B - Nickel or nickel alloy electroplating bath and plating process using the same - Google Patents
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Description
41 郎 3〇 - B7 五、發明説明 發明說明 本發明係關於一種鎳 高分子保護層部份遮蓋之 蓋之印刷電路板,以及使 ,本發明係關於一種鎳或 而不會在電鍍過程中浮動 鎳或鎳合金電鍍浴已 說|在印刷電路板上部份 在印刷電路板的領域中經 保護膜遮蓋以外的部份進 上述電鑪法之進行是 其中主要含硫 電鍍浴的暈投入 電鍍浴,供電 ,被焊料保護 浴之電鍍法, 鍍浴,可電鍍 上述保護層。 印刷電路板上 有機高分子的 焊料保護膜) 合金電鍍。 t t S 型鎳 此種W a t t ,希望能發展 鍍被有機 層部份遮 具體地說 上述導體 ,具體地 保護膜( ,並在被 電鍍浴, s 型鎳 出可促進 \9U\J -ν'— 或鎳合金 導體使用 用此電鍍 線合金電 (剝落) 經備用在 形成一種 常稱其爲 行鎳或鎳 使用W a 鎳,但是 良,因此 浴。',Vv 經濟部中央標準局貝工消費合作社印褽 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ^裝· 訂 -絲化 能力j 大量投入能力之新型電鍍 頃經發現可強化大量投入能力 例如日本專利申請案Η 2 - 2 2 1 6 0, He 2 — 2-4 — 19308 及 Hei 3-19 中,電鍍金屬例如鎳的濃度相當低 性鹽類例如鹼金屬、鹼土金屬或鋁 基磺酸鹽,具體地說,特別是使用 導電性鹽類。 但是上述強化大量投入能力之 缺點,具體地說,在大量情形下當 之鎳或鎳合金電鍍浴,2 2 1 5 8, He i 4 9 1 1、H e i 3 3 0 9,在這些電鍍浴 ,並摻混高濃度之導電 之鹵化物、硫酸鹽或胺 鈉鹽或鉀鹽作爲上述之 鎳或鎳合金電鍍浴具有 使用上述被保護層遮蓋 本紙張尺度通用中國國家標準(CMS > A4規格.{ 210X297公釐) • 4- 4 3〇 A7 ____B7 五、發明説明纟) 特定區域之印刷電路板,並用含鈉鹽或鉀鹽之鎳或鎳合金 電鍍浴進行電鍍時,雖然大量投入之能力沒有疑問地被強 化,但是可能發生保護層浮動(或剝離)之現象,保護層 之浮動導致印刷電路板下層之銅暴露的問題,如此暴露的 銅會產生腐蝕*浮動的保護層無法再保持焊料之抵抗功能 ,導致電銲時發生焊料架橋之現象,這些問題導致印刷電 路板的嚴重缺陷,保護層之浮動還有另一個問題,具體地 說,雖然保護層是在不應該進行電鍍的區域形成,但是有 可能在保護層浮動(剝離)的區域形成電鍍膜》 必須注意上述Watts型電鍍浴不會顯示保護層浮動之現 象,但是如上所述,其大量投入能力不良。 鑑於上述之情形,有需要發展具有高的大量投入能力 但不會浮動保護層之鎳或鎳合金電鍍浴。 發明槪沭 本發明之目的是提供一種鎳或鎳合金電鍍浴,其可在 高的大量投入能力下電鍍被有機高分子保護層部份遮蓋之 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 導體而不會浮動該保護層,以及提供使用此電鍍預知方法 〇 本案發明者進行實驗硏究以達到上述之目的’並發現 供鎳或鎳合金電鍍浴使用之導電性鹽類對於保護層之浮動 有很大的影響,具體地說,頃經發現使用鈉離子或鉀離子 作爲陽離子之導電性鹽類,會造成保護層之浮動,但是使 用銨離子、鎂離子、鋁離子、鈣離子或鋇離子作爲陽離子 本纸張尺度適用中國國家標準(CMS ) A4規格(210X297公釐) -5- 41953〇 五、發明説明纟) 之導電性鹽類,不會造成保護層之浮動,因此,頃經發現 具有高的大量投入能力且不會浮動保護層之鎳或鎳合金電 鍍浴,可經由添加含NH4 +、Mg2 +、Al3 +、Ca2 + .、及/或B a 2 +之高濃度導電性鹽類而獲得,因此蕋於上 述之瞭解而達成本發明。 據此,本發明提供: (1 ) 一種鎳或鎳合金電鍍浴’供電鍍被有機高分子 保護層部份遮蓋之導體,其中鎳電鍍浴含水溶性鎳鹽,且 鎳合金電鍍浴同時含水溶性鎳鹽及可與鎳形成合金之金屬 的水溶性鹽類,其特徵是此鎳合金電鍍浴摻混含至少一種 選自包括錢離子、錶離子、釣離子、錦離子及銀離子之陽 離子的導電性鹽類,此導電性鹽類實質上不含鈉離子或鉀 離子之陽離子; (2 ) —種根據第(1 )項之鎳或鎳合金電鍍浴,其 中鎳電鍍浴的水溶性鎳鹽含量,或鎳合金電鍍浴的水溶性 鎳鹽及可與鎳形成合金之金屬的水溶性鹽類含量在5克/ 升至4 0克/升之間,以鎳離子轉化爲基準; 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .(3 ) —種根據第(1 )或(2 )項之鎳或鎳合金電 鍍浴,其中在使用Haring電池於兩個陰極板與陽極板之間 的距離比例視爲5的情形下,電鍍浴的大量投入能力値爲 1 ϋ %或更大:及 (4 ) 一種鎳或鎳合金的電鍍法,其步驟包括:將被 高分子保護層部份遮蓋之導體浸漬在第(1 )至(3 )項 任一項之電鍍浴中;使用導體作爲陰極並施加電流至電鍍 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210><297公釐) -6- ! A7 B7 4l9S3〇 五、發明説明t ) .(請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 浴中:於是在導體被保護層遮蓋以外之暴露部份形成鎳或 鎳合金膜。 本發明之電鍍浴爲何可防止保護層浮動之機制尙不淸 楚,但是對於含N a +或K+之導電性鹽類之相關技藝的電 鍍浴,可視爲N a +或Κ +在例如電滲之機制原理下透入保 護層內,並提高塗膜之保護層,因此造成保護層之浮動, 在此情形下,其也可視爲在基底物質與保護層之間的金屬 氧化物,由於氫氣之產生而減少,或產生的氫氣透入保護 層下方並汽化,因而提高保護層並因此造成保護層之浮動 ,但是並沒有發現電鍍時產生的氫氣量與保護層的浮動有 任何關係,除此之外,陽離子(ΝΗ4 +、Mg2 +、 經濟部中央標準局員工消費合作社印繁 AI3 +、Ca2 +、Ba2 + )之各氫化分子,不會造成保 護層之浮動,其具有大的體積,因此很難透入保護層內, 結果使得不容易造成保護層之浮動,或者是對於含N a +或 K +的導電性鹽類,當氫氣產生時,在電鍍界面產生 NaOH或ΚΟΗ,使得電鍍界面之鹼性更強;但是對於 含不會造成保護層浮動的陽離子之導電性鹽類,電鍍界面 之鹼性低於含N a +或K —的導電性鹽類,總之,本發明之 電鍍浴爲何可防止保護層浮動之確實機制尙不淸楚。 較佳具體實施例之詳細說明 一種本發明之鎳或鎳合金電鍍浴’其中主要含電鍍金 屬之水溶性鹽類及水溶性導電鹽類。 在鎳電鍍浴之情形下,對於電鍍金屬之水溶性鹽類係 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 4 195 30 Λ7 B7 五、發明説明g ) 使用水溶性鎳鹽例如硫酸鎳、氯化鎳、溴化鎳、胺基磺酸 鎳、或甲基磺酸鎳;在鎳合金電鍍浴之情形下’對於電鍍 金屬之水溶性鹽類除了上述水溶性鎳鹽以外’還使用可與 鎳形成合金之金屬例如鈷或鐵的水溶性鹽類,例如鈷、鐵 等之硫酸鹽、氯化物、溴化物、胺基磺酸鹽、或甲基磺酸 鹽。 上述電鍍金屬之水溶性鹽類含量範圍較宜在5至4 0 克/升,更宜在7至4 0克/升,以鎳離子之轉化爲基準 ,當其低於5克/升時,電鍍所需之陰極電流密度必須很 小而無法實際使用;當其大於40克/升時,電鍍浴之大 量投入能力降低。 水溶性導電鹽類含至少一種選自包括銨離子、鎂離子 、鋁離子、鈣離子及鋇離子之陽離子,必須注意此導電性 鹽類實質上不含鈉離子或鉀離子之陽離子,而且,此水溶 性導電鹽類含至少一種選自包括硫酸、氫氯酸、氫溴酸、 胺基磺酸及甲基磺酸之陰離子,至於水溶性導電鹽類可以 使用至少一種選自上述酸類之銨鹽、鎂鹽、鈣鹽、鋁鹽及 鋇鹽。 上述導電鹽類之含量範圍較宜爲5 0至8 0 0克/升 ,更宜在150至500克/升,當其低於50克/升時 ,電鍍浴之電阻沒有降低很多且因此使得大量投入能力不 足:當其大於800克/升時,額外的效應沒有明顯地增 加,且因此降低其實用性。 本發明之電鍍浴中可摻混緩衝液,緩衝液之特定實例 本紙張尺度適用中國國家禕準(CNS ) A4規格(21〇X:297公釐) (請先閲讀背面之注1!^項再填寫本頁) 、3 4 咖3〇 A7 B7
經濟部中央標準局員工消費合作社印I 五、發明説明g ) 包括硼酸及水溶性有機羧酸類例如檸檬酸、酒石酸、琥珀 酸、及醋酸’以及其鹽類,至於這些鹽類,較宜使用銨鹽 '鎂鹽、鋁鹽、鈣鹽、鋁鹽及鋇鹽,緩衝液之濃度範圔較 宜爲20至1〇〇克/升。 本發明之電鍍浴中也可添加已知的主要或次要鎳電鍍 亮光劑’例如糖精、丁炔二醇或其衍生物,在此情形下, 主要亮光劑之含量範圍較宜爲〇.1至5克/升,且次要 亮光劑之含量範圍較宜爲0 . 〇 1至3克/升,而且,可 加入0.01至10克/升的共沈積形式之亞磷酸、磷酸 、或其鹽類;肼化合物、二甲基胺硼烷、或三甲基胺硼烷 0 本發明之電鍍浴實質上不含鈉離子或鉀離子,"實質 上不含鈉離子或鉀離子"係指鈉離子或鉀離子的含量爲5 克/升或更低,尤其是3克/升或更低》例如,可加入非 常少量之糖精作爲鈉鹽,或加入低於上述限制範圍之羧酸 銷或羧酸鉀作爲緩衝液。 本發明之電鍍浴的pH範圍較宜在3 . 5至5 . 4 ^ .本發明之電鍍浴的大量投入能力,其係使用Hanng電 池於兩個陰極板與陽極板之間的距離比例視爲5的情形下 測量,較宜爲10%或更高,更宜爲15%或更高,使用 Haring電池測量大量投入能力之方法顯示在圖1並係根據 日本專利公告He i 2 - 22158之揭示,在圖1中 ,Haring電池1 0的長度爲2 4 0毫米,寬度爲6 3毫米 且深度爲1 0 0毫米’其中含1 5 0 0毫升之電鍍溶液 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁j 厂裝. .丁 _ 、言 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -9- 4 195 3〇 A7 B7 五、發明説明& ) 1 2,編號1 4爲陽極且編號1 6及1 8爲需要電鍍之陰 極,在本發明中,提供陽極1 4使得陽極1 4與第一個陰 極1 6之距離A及陽極1 4與第二個陰極1 8之距離B 的比例爲5 ( = B/ A),在預先決定之時間內進行電鍍 ,在陰極16及18上沈積電鍍膜’測量沈積在陰極16 及1 8上電鍍膜之重量’從下列公式計算大量投入能力: T ( % )
P-M P +M— 2 X 1 0 0 其中 T:大量投入能力 P :距離比例B / A〔=) Μ :重量比例M1/M2其中Ml爲沈積在第一個陰極 1 6上電鍍膜之重量,且M2爲沈積在第二個陰極1 8上電 鍍膜之重量。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 強化大量投入能力之電 路板等,也就是說,與低的 在相同電鍍情形下,在相同 化小,更特定地說,最小電 能力電鍍浴之情形,使得不 抗腐蝕性及耐熱性,而且最 投入能力電鍍浴之情形,使 線路結合之失敗數下降。 鍍浴適宜用在電鍍例如印刷電 大量投入能力之電鍍浴比較, 部位形成的鎳電鍍膜之厚度變 鍍厚度大於使用低的大量投入 管是否使用銅底層都有良好的 大電鍍厚度小於使用低的大量 得當在上述電鍍膜上鍍金時, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格.(210X297公釐) -10- 4 ^5 3〇 A7 B7 五、發明説明& ) 本發明之電鍍浴是用於電鍍被有機高分子保護層部份 遮蓋之物質(導體),在此情形下,物質之種類沒有特別 的限制,但是較宜使用印刷電路板,形成有機高分子保護 層的方法沒有特別的限制,例如,可以使用塗覆溶劑型態 、熱固性型態或顯像(鹼顯像)型態之保護物質(稱爲焊 料保護物)的方法,並用已知的方法形成保護層:或施加 電鍍遮蓋物質例如遮蓋膠帶之方法β 使用本發明之電鍍浴電鍍上述物質之電鍍情形可以適 當地選擇,例如,電鍍溫度範圍較宜爲4 5至6 5 °C,且 陰極電流密度較宜爲0 . 1至4安培/分米2,攪動較宜在 0 . 2至7米/分鐘的陰極搖動速率下進行,可以使用緩 慢的空氣攪動或螺旋槳攪動之液體攪動,但是不要用強烈 的空氣攪動或強烈的液體攪動,此外,可以使用鎳板等作 爲陽極,其與在已知的鎳或鎳合金電鍍中使用的相同。 經濟部中央榇準局員工消費合作社印製 ,(請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 使用本發明之鎳或鎳合金電鍍浴,可將已知的預先處 理施加在需要電鍍之物質上,從上述浮動保護層之觀點來 看,此預先處理因爲會經由電解而產生氫氣,所以必須避 免,例如不會產生氫氣的浸漬脫脂優於陰極電解脫脂,在 使用電解脫脂器的情形下,可經由不使用N a 4及K W旦使 用 NH〆、Mg2 +、Al3t、Ca2 +、及 / 或 Ba2 + 作 爲陽離子而防止浮動保護層。 上述鎳或鎳合金電鍍後,可進行金_i電鍍、金電鏟、 鈀或鈀合金電鍍、銀電鍍、或鈾電鍍。 本發明之電鑛浴,如上所述,可電鍍被有機高分子保 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS ) A4規格(2i〇x297公釐) -11 - Ο Α7 Β7 五、發明説明 護層部份遮蓋之導體而不會浮動該保護層 實例 參照下列的發明實例及實例比較,將可更淸楚地了解 本發明。 實例 在此實例中,係使用具有下列組成之鎳電鍍浴: M g S 0 4 · 7 Η 2 Ο Ν i C 1 2 · 6 Η a Ο 硼酸 pH : 4 0 0克/升 5 0克/升 4 5克/升 4 6 在印刷電路板的特定區域上,塗覆5至1 0 〇微米厚 度之熱固性型態或顯像(鹼顯像)型態之焊料保護膜’ $ 後使用上述組成之鎳電鍍浴進行鎳電鍍,電鍍情形如下: 請 閲 讀 背 之 注 意 事 項 再 裝 -訂 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -12- 電鍍時間: 陰極電流密度 陽極: 電鍍膜厚度: 4 ^5 3〇 A7 Β7 五、發明説明k )
電鍍溫度: 5 5 °C 攪動:垂直於電鍍表面以1米/分鐘之速率搖動 陰極 3 5分鐘 1安培/分米2 電解鎳 6 — 9微米 結果證實大量投入能力良好且完全沒有發現焊料保護 膜浮動。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫未頁} 訂 實例2 重複實例 鍍浴: 但是使用具有下列組成之鎳_鈷合金電 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 胺基磺酸銨 N i C 1 2 · 6 Η 2 0 CoS〇4.· 7Η2〇 檸檬酸三銨 pH: 2 Ο 0克/升 7 Ο克/升 1克/升 5 0克/升 4 . 6 結果證實電鍍膜之厚度在6至1 0微米之範圍,大量 投入能力良好且完全沒有發現焊料保護膜浮動。 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS ) Α4規格(210X297公釐) -13- 4 30 A7 B7 五、發明説明 實例3 重複實例1,但是在實例1使用的電鍍浴中額外加入 70克/升的MgC 12.6Η2〇,結果證實電鍍膜之厚度 在6 . 7至9微米之範圍,大量投入能力進一步強化且完 全沒有發現焊料保護膜浮動。 實例比較1 重複實例1,但是在實例1使用的硫酸鎂(4 0 0克 /升)用2 0 0克/升的硫酸鈉取代,結果證實電鍍膜之 厚度相同於實例.1在6至9微米之範圍,但是發現焊料保 護膜浮動。 實例比較2 重複實例 鍍浴: 但是使用具有下列組成之Watts型態鎳電 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 N i S Ο 4 * 6 Η 2 Ο N i C 1 2 · 6 Η 2 Ο 硼酸 pH : 2 8 0克/升 5 0克/升 4 6克/升 4.6 結果證實沒有發現焊料保護膜浮動,但是電鍍膜之厚 度在2至2 0微米之範圍,且大量投入能力不良。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ,(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
-14- 4 ^95 30 五、發明説明b ) 其次,在各實例1、 2、 3及實例比較1、 2中的電 鍍浴之大量投入能力,是在2安培的電流並進行空氣攪動 3 0分鐘下,用Haring電池(兩陰極板與陽極板之距離比 例:5 )進行電鍍的方法測量,其結果列在表1。 表1 大量投入能力(% ) 實例1 2 5 實例2 2 3 實例3 3 5 實例比較1 2 5 實例比較2 6 從列在表1之結果,很明顯地看出在實例比較2中使 用Watts型態鎳電鍍浴的大量投入能力明顯地不如實例1、 2、3 ° 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 雖然在頃經揭示的本發明較佳具體實施例中使用特定 之條件,但是必須了解可加以改變及變化而沒有離開下列 申請專利範圍之精神或範圍。 附圖之簡要說明 圖1是測量大量投入能力之Haring電池之截面圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0X297公釐) -15- 附件2(A) 4 195 3〇 第86115397號專利电請案 中文説明書修正頁民國88年I2月修正 Α7 Β7 五、發明説明() 圖式符號之簡單說明 10 Haring 電池 12 電鍍液 14 陽極 16 第一陰極 18 第二陰極 A 陽極與第一陰極間的距離 B 陽極與第二陰極間的距離 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準·( CNS ) Μ規格(210X297公釐) (讀先閱讀背面之注意事項存填寫本育)
Claims (1)
- \ ------------丨充 六、申請專利範圍 ^一-—^ 附件:1 (A) 第86 1 1 5397號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國88年12月修正 1 . 一種鎳或鎳合金電鍍浴,其係用於《鍍被有機高 分子保護層所部份遮蓋之導體, 其中該鎳電鍍浴含有水溶性鎳鹽,且該鎳合金電鍍浴 同時含有水溶性鎳鹽及可與鎳形成合金之金屬的水溶性鹽 類, 該鎳電鍍浴的水溶性鎳鹽含量,或該鎳合金電鍍浴的 水溶性鎳鹽及可與鎳形成合金之金屬的水溶性鹽類含量在 5克/升至40克/升之間(以鎳離子轉化率爲基準), 該鎳或鎳合金電鍍浴摻混含至少一種選自包括銨離子 、鎂離子、鈣離子、鋁離子及鋇離子之陽離子的導電性鹽 類,且 該導電性鹽類實質上不含鈉離子或鉀離子作爲陽離子 〇 2 .如申請專利範圍第1項之鎳或鎳合金電鍍浴,其 中在使用Haring電池於兩個陰極板與陽極板之間的距離比 例視爲5的情形下,電鍍浴的大量投入能力値( macrothrowing power )爲 1 0% 或更高。 3 . —種鎳或鎳合金的電鍍法,其步驟包括: 將被有機高分子保護層所部份遮蓋之導體浸漬在如申 請專利範圍第1項之電鍍浴中:及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) —-----------0^-------Γ --------My (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員JL消費合作社印製 4^5 3〇 8! D8 ^、申請專利範圍 使用該導體作爲陰極並施加電界至電鍍浴中’其中陰 極的電流密度爲0.1至4八/0扣3’溫度爲45至65 t,及電鍍浴的P Η値爲3 . 5至5 ‘ 4 : 、. 於是在該導體被保護層所遮蓋:以外β暴® @部份瑕成 鎳或鎳合金膜,且該保護層不會浮_。 ,-請先閱讀背面ΐ 經濟那智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -2 -
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7794578B2 (en) | 2002-11-26 | 2010-09-14 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method for preparing a circuit board material having a conductive base and a resistance layer |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100360098B1 (ko) * | 1998-12-04 | 2002-12-18 | 주식회사 포스코 | 전기아연도금강판용 크로메이트 전처리용액 |
JP4737790B2 (ja) * | 1999-10-01 | 2011-08-03 | 株式会社シミズ | ほう酸を含まないニッケルめっき浴 |
DE60041713D1 (de) | 1999-11-30 | 2009-04-16 | Scott Schenter | Verfahren zur erzeugung von actinium-225 und töchtern |
US6815126B2 (en) | 2002-04-09 | 2004-11-09 | International Business Machines Corporation | Printed wiring board with conformally plated circuit traces |
KR100654737B1 (ko) * | 2004-07-16 | 2006-12-08 | 일진소재산업주식회사 | 미세회로기판용 표면처리동박의 제조방법 및 그 동박 |
JP5291353B2 (ja) * | 2007-02-08 | 2013-09-18 | 株式会社ボンマーク | メタルマスク及びその製造方法 |
US8425751B1 (en) | 2011-02-03 | 2013-04-23 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Systems and methods for the electrodeposition of a nickel-cobalt alloy |
JP2012162786A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-08-30 | Kanto Gakuin | 電気ニッケルめっき浴、電気ニッケルめっき方法及び電気ニッケルめっき製品 |
JP6024714B2 (ja) * | 2013-10-03 | 2016-11-16 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜用ニッケル溶液およびこれを用いた成膜方法 |
JP6422658B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2018-11-14 | 新光電気工業株式会社 | 電気めっき浴及び電気めっき方法 |
JP6760166B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2020-09-23 | トヨタ自動車株式会社 | ニッケル皮膜の形成方法及び当該方法に使用するためのニッケル溶液 |
US10718059B2 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-21 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Nickel electroplating compositions with cationic polymers and methods of electroplating nickel |
US10711360B2 (en) | 2017-07-14 | 2020-07-14 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Nickel electroplating compositions with copolymers of arginine and bisepoxides and methods of electroplating nickel |
JP7376396B2 (ja) * | 2020-03-10 | 2023-11-08 | トヨタ自動車株式会社 | 全固体電池の製造方法 |
CN112609173A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-06 | 安徽环瑞电热器材有限公司 | 一种抗腐蚀材料及制作方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2191813A (en) * | 1939-12-01 | 1940-02-27 | Udylite Corp | Electrodeposition of nickel from an acid bath |
JPS5267961A (en) * | 1975-12-03 | 1977-06-06 | Mitsubishi Electric Corp | Electrode formation of semiconductor unit |
US4190474A (en) * | 1977-12-22 | 1980-02-26 | Gould Inc. | Method of making a printed circuit board having mutually etchable copper and nickel layers |
JPS55145194A (en) * | 1979-04-27 | 1980-11-12 | Nippon Steel Corp | Manufacture of material for vessel |
US4290858A (en) * | 1980-09-23 | 1981-09-22 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Process for forming a nickel foil with controlled and predetermined permeability to hydrogen |
AU8386982A (en) * | 1981-06-01 | 1982-12-09 | Wiggin Alloys Ltd. | Increasing absorptance of porous film on cr containing iron alloy |
WO1985000045A1 (en) * | 1983-06-17 | 1985-01-03 | Kawasaki Steel Corporation | Zn-ni alloy plating solution based on chloride bath |
JPS6052592A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-25 | Nisshin Steel Co Ltd | Zn−Ni系合金電気めっき鋼板の製造方法 |
DE3414048A1 (de) * | 1984-04-13 | 1985-10-17 | Nisshin Steel Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Verfahren zum herstellen von mit einer zink-nickel-legierung galvanisierten stahlteilen |
IT1206252B (it) * | 1986-03-03 | 1989-04-14 | Omi Int Corp | Elettrolita per l'elettrodeposizione di leghe di zinco |
FR2626873B1 (fr) * | 1988-02-08 | 1992-12-24 | Lafarge Fondu Int | Procede et composition pour accelerer la prise des ciments et supprimer les efflorescences |
JP2700027B2 (ja) * | 1988-07-11 | 1998-01-19 | 長田 武志 | コンクリート劣化抑止組成物 |
JPH0244911A (ja) * | 1988-08-05 | 1990-02-14 | Hitachi Ltd | トランジスタの電流抑制回路 |
US4891480A (en) * | 1989-02-01 | 1990-01-02 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Apparatus including electrical contacts |
US4892628A (en) * | 1989-04-14 | 1990-01-09 | The United States Department Of Energy | Electrodeposition of amorphous ternary nickel-chromium-phosphorus alloy |
JPH0319309A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-28 | Fujitsu Ltd | 位置合わせ方法 |
JPH0319308A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-28 | Hitachi Lighting Ltd | 放電灯用安定器 |
JPH0637711B2 (ja) * | 1989-06-22 | 1994-05-18 | 新日本製鐵株式会社 | 黒色表面処理鋼板の製造方法 |
JPH03153896A (ja) * | 1989-11-09 | 1991-07-01 | Kanto Kasei Kogyo Kk | ニッケルめっき液、そのめっき液を用いた耐食性に優れた銅‐ニッケル‐クロム光沢電気めっき方法並びにそれにより得られためっき皮膜 |
DE69220519T2 (de) * | 1991-03-04 | 1998-02-19 | Toda Kogyo Corp | Verfahren zur Plattierung eines Verbundmagneten sowie Verbundmagnet mit einem Metallüberzug |
-
1997
- 1997-01-29 JP JP02960397A patent/JP3223829B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-18 TW TW086115397A patent/TW419530B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-10-21 US US08/955,110 patent/US5985124A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-17 GB GB9724284A patent/GB2321647B/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-17 KR KR1019970069891A patent/KR100312840B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-01-13 DE DE19800922A patent/DE19800922B4/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7794578B2 (en) | 2002-11-26 | 2010-09-14 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method for preparing a circuit board material having a conductive base and a resistance layer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9724284D0 (en) | 1998-01-14 |
GB2321647A (en) | 1998-08-05 |
KR19980070173A (ko) | 1998-10-26 |
KR100312840B1 (ko) | 2002-02-04 |
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GB2321647B (en) | 2001-10-24 |
US5985124A (en) | 1999-11-16 |
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