TW202005493A - 配線電路基板 - Google Patents

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Abstract

本發明之配線電路基板具備絕緣層、及配置於絕緣層之表面之導體層。導體層具備：第1配線；第1端子，其電性連接於第1配線；第2配線，其與第1配線獨立，且具有相對於第1配線之厚度T1較厚之厚度T2；及第2端子，其電性連接於第2配線。第1端子及第2端子之表面於厚度方向上配置於大致相同之位置。

Description

配線電路基板
本發明係關於一種配線電路基板。
先前，已知有具備平坦之基底絕緣層、及配置於其上表面之導體圖案之附電路之懸架基板等配線電路基板(例如，參照專利文獻1)。
專利文獻1之附電路之懸架基板之導體圖案獨立地具備電源圖案及信號圖案。電源圖案包含電源用端子、及與其連續之電源配線。又，信號圖案包含頭(head)用端子、及與其連續之信號配線。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2015-158963號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，由於電源配線中與信號配線相比流動較大之電流，故而為了降低電源配線中之電氣之傳輸損失，電源配線係與信號配線相比，其寬度較寬且較厚地形成。又，電源用端子係與電源配線同時形成，又，頭用端子係與信號配線同時形成。因此，電源用端子亦與頭用端子相比較厚地形成(換言之，頭用端子係與電源用端子相比較薄地形成)。如此，電源用端子之上表面相對於頭用端子之上表面位於上側。
於將平坦之下表面具備電源電極及頭電極的滑塊以使其下表面變為水平之狀態搭載於附電路之懸架基板之情形時，使電源電極沿上下方向與電源用端子對向，使頭電極沿上下方向與頭用端子對向，繼而，使電源電極接觸於電源用端子。此時，必須使頭電極接觸於頭用端子，但頭電極係由於頭用端子與電源用端子相比較薄，故而不接觸於頭用端子，而是於其等之間隔開間隔。其結果，存在產生頭電極與頭用端子之連接不良的不良情況。
若儘管如此，仍欲使頭電極接觸於頭用端子，而於維持滑塊之水平姿勢之狀態下，將頭電極朝下方強力地下壓，則電源用端子自電源電極受到向下之較大之應力，因此電源用端子產生損傷，其結果，存在產生電源用端子與電源電極之連接不良的不良情況。
另一方面，於專利文獻1中，於滑塊之下表面，對應於電源用端子及頭用端子之上表面之上下位置之不同，而預先使電源電極及頭電極之上下位置不同。但是，於此種專利文獻1中，必須針對每個製品準確地設計滑塊之電源電極及頭電極之上下位置，因此，製造步驟變得複雜，所獲得之連接構造亦變得複雜。
本發明提供一種能夠簡便地構成簡易之連接構造，同時具備連接可靠性優異之第1端子及第2端子之配線電路基板。 [解決問題之技術手段]
本發明(1)包含一種配線電路基板，其具備絕緣層、及配置於上述絕緣層之表面之導體層；且上述導體層具備：第1配線；第1端子，其電性連接於上述第1配線；第2配線，其與上述第1配線獨立，且具有相對於上述第1配線之厚度T1較厚之厚度T2；及第2端子，其電性連接於上述第2配線；上述第1端子及上述第2端子之表面於厚度方向上配置於大致相同之位置。
於將具備與第1端子對應之第1電極及與第2端子對應之第2電極的電子元件一面保持沿著相對於厚度方向正交之方向之姿勢，一面安裝至配線電路基板時，於該配線電路基板中，第1端子及第2端子之表面於厚度方向上配置於大致相同之位置，因此可於使第1端子接觸於第1電極之同時使第2端子接觸於第2電極。因此，能夠抑制第1端子及第2端子中之任一者受到較大之應力，而抑制基於其之損傷。其結果，第1端子及第2端子之相對於電子元件之電性連接可靠性優異。
又，由於能夠使電子元件保持沿著上述方向之姿勢，故而能夠構成簡易之連接構造。
因此，該配線電路基板能夠一面使連接可靠性優異，一面構成簡易之連接構造。
本發明(2)包含如(1)所記載之配線電路基板，其中上述第1端子具備：第1連續部，其與上述第1配線連續，且具有與上述第1配線相同之厚度T1；及第1加高部，其與上述第1連續部於厚度方向上相鄰配置，且具有與上述第2配線相同之厚度T2；且上述第2端子具備：第2連續部，其與上述第2配線連續，且具有與上述第2配線相同之厚度T2；及第2加高部，其與上述第2連續部於厚度方向上相鄰配置，且具有與上述第1配線相同之厚度T1。
於該配線電路基板中，由於第1端子具備具有與第1配線相同之厚度T1之第1連續部、及具有與第2配線相同之厚度T2之第1加高部，故而其厚度為第1連續部之厚度T1與第1加高部之厚度T2之和、即T1＋T2。
另一方面，由於第2端子具備具有與第2配線相同之厚度T2之第2連續部、及具有與第1配線相同之厚度T1之第2加高部，故而其厚度為第2連續部之厚度T2與第2加高部之厚度T1之和、即T2＋T1。
因此，第1端子之厚度(T1＋T2)與第2端子之厚度(T2＋T1)相同。
其結果，能夠將第1端子及第2端子之表面確實地於厚度方向上配置於大致相同之位置。
本發明(3)包含如(2)所記載之配線電路基板，其中上述第1加高部相對於上述第1連續部配置於厚度方向一側及另一側中之任一者，上述第2加高部相對於上述第2連續部配置於厚度方向一側及另一側中之任意另一者。
於該配線電路基板中，第1加高部相對於第1連續部配置於厚度方向一側及另一側中之任一者，第2加高部相對於第2連續部配置於厚度方向一側及另一側中之任意另一者。
因此，於該配線電路基板之製造方法中，只要同時形成具有厚度T1之第1配線、第1連續部及第2加高部，又，同時形成具有厚度T2之第2配線、第2連續部及第1加高部，則能夠以2個步驟簡便地形成具備其等之導體層。
本發明(4)包含如(1)所記載之配線電路基板，其中上述第1端子具備與上述第1配線連續且具有與上述第1配線相同之厚度T1的第1連續部，上述第2端子具備與上述第2配線連續且具有與上述第2配線相同之厚度T2的第2連續部，且上述配線電路基板具備第3加高部，該第3加高部係與上述第1連續部於厚度方向上相鄰配置，且具有自上述第2連續部之厚度T2減去上述第1連續部之厚度T1所得之厚度(T2－T1)。
於該配線電路基板中，第1端子具備具有與第1配線相同之厚度T1之第1連續部，第2端子具備具有與第2配線相同之厚度T2之第2連續部，而且該配線電路基板具備具有自第2連續部之厚度T2減去第1連續部之厚度T1所得之厚度(T2－T1)的第3加高部。
於是，第1端子之厚度為第1連續部之厚度與第3加高部之厚度之和、即T1＋[T2－T1]＝T2。另一方面，第2端子之厚度為第2連續部之厚度即T2。因此，能夠將第1端子及第2端子之表面確實地於厚度方向上配置於大致相同之位置。
本發明(5)包含如(4)所記載之配線電路基板，其中上述第3加高部包含於上述導體層。
於該配線電路基板中，由於第3加高部包含於導體層，故而能夠以較高之精度設定第3加高部之厚度。因此，能夠將第1端子及第2端子之表面更確實地於厚度方向上配置於大致相同之位置。
本發明(6)包含如(4)所記載之配線電路基板，其中上述第3加高部包含於上述絕緣層。
於該配線電路基板中，由於第3加高部包含於絕緣層，故而能夠減少導體層之形成步驟。
本發明(7)包含如(1)所記載之配線電路基板，其中上述第1端子具備與上述第1配線連續且具有與上述第1配線相同之厚度T1的第1連續部，上述第2端子具備與上述第2配線連續且具有與上述第2配線相同之厚度T2的第2連續部，上述配線電路基板具備降高部，該降高部係與上述第2連續部於厚度方向上相鄰配置，且較周圍薄相當於自上述第2連續部之厚度T2減去上述第1連續部之厚度T1所得之厚度(T2－T1)。
由於該配線電路基板具備降高部，故而能夠謀求具備與降高部相鄰配置之第2連續部之第2端子的薄型化，進而能夠謀求表面之位置配置於與第2端子相同之位置之第1端子的薄型化。
本發明(8)包含如(7)所記載之配線電路基板，其中上述降高部包含於上述絕緣層。
於該配線電路基板中，由於降高部包含於絕緣層，故而能夠謀求與第2端子對應之絕緣層之薄型化，能夠降低連接於第2端子之電子元件之高度。
本發明(9)包含如(7)所記載之配線電路基板，其具備配置於絕緣層之背面之金屬層，且降高部包含於金屬層。
於該配線電路基板中，由於降高部包含於金屬層，故而能夠謀求與第2端子對應之金屬層之薄型化，能夠降低連接於第2端子之電子元件之高度。 [發明之效果]
本發明之配線電路基板能夠一面使連接可靠性優異，一面構成簡易之連接構造。
參照圖1～圖3B，對本發明之配線電路基板之一實施形態進行說明。
該配線電路基板1具有沿長度方向延伸且具有厚度之片形狀。具體而言，配線電路基板1具有沿著長度方向之俯視大致矩形平板形狀。再者，配線電路基板1例如包含撓性印刷配線板等。
配線電路基板1具備：基底絕緣層2，其作為絕緣層之一例；導體層3，其配置於基底絕緣層2之厚度方向一面(表面之一例)；及覆蓋絕緣層4，其以局部地被覆導體層3之方式配置於基底絕緣層2之厚度方向一面。較佳為配線電路基板1僅具備基底絕緣層2、導體層3及覆蓋絕緣層4。
基底絕緣層2具有與配線電路基板1相同之外形形狀。基底絕緣層2具有厚度，且具有平坦之厚度方向一面及另一面。作為基底絕緣層2之材料，例如可列舉聚醯亞胺等樹脂(絕緣性樹脂材料)等。基底絕緣層2之厚度並無特別限定，例如為1 μm以上，例如為1000 μm以下。
導體層3具備第1配線5、第1端子6、第2配線7及第2端子8。再者，導體層3於長度方向另一端部具備：第3端子(未圖示)，其與第1配線5連續，且經由第1配線5與第1端子6電性連接；及未圖示之第4端子(未圖示)，其與第2配線7連續，且經由第2配線7與第2端子8電性連接。
第1配線5係沿長度方向延伸，具體而言，具有沿著長度方向之大致直線形狀。第1配線5係於基底絕緣層2之厚度方向一面形成於至少長度方向中央部之區域。例如，第1配線5係於與長度方向及厚度方向正交之寬度方向(相當於短邊方向)上隔開間隔地相鄰配置有複數個(圖1及圖3A中為2個)。
作為第1配線5，可列舉用以傳遞相對較小之電流之小電流配線(例如未達10 A、進而未達1 A之電流)、例如傳送信號之信號配線(差動配線等)、或接地線(ground wire等)等。
第1配線5具有相對較薄之厚度T1。具體而言，第1配線5之厚度T1例如為200 μm以下，較佳為100 μm以下，更佳為50 μm以下，又，例如為1 μm以上。
又，第1配線5具有相對較窄之寬度W1(寬度方向長度)。具體而言，第1配線5之寬度W1例如為1000 μm以下，較佳為500 μm以下，又，例如為1 μm以上，較佳為5 μm以上。第1配線5之剖面面積S1係厚度T1與寬度W1之乘積(T1×W1)，具體而言，例如為0.1 mm2 以下，較佳為0.025 mm2 以下，又，例如為1 μm2 以上，較佳為100 μm2 以上。
第1端子6與第1配線5之長度方向一端連續。因此，第1端子6與第1配線5電性連接。作為第1端子6，可列舉：輸入輸出信號之信號端子、接地端子等。第1端子6具有俯視大致矩形焊盤形狀。具體而言，第1端子6具有與第1配線5相比寬度較寬、且於長度方向上稍長之俯視大致矩形形狀。如圖3B所示，第1端子6配置於基底絕緣層2之厚度方向一面，且於沿著寬度方向之剖面觀察時，具有中央部朝厚度方向一側隆起之第1凸面11。
第1端子6具備第1連續部9及第1加高部10。較佳為第1端子6僅具備第1連續部9及第1加高部10。
如圖1所示，第1連續部9具有與第1端子6相同之俯視時之外形形狀。又，第1連續部9與第1配線5連續。具體而言，第1連續部9具有自第1配線5之長度方向一端緣朝向長度方向一側延伸之俯視大致矩形形狀。如圖2及圖3B所示，第1連續部9於沿著長度方向之剖面觀察、及沿著寬度方向之剖面觀察時，具有大致矩形形狀。
第1連續部9形成第1端子6中之下層。具體而言，第1連續部9形成於基底絕緣層2之厚度方向一面。例如，第1連續部9係與複數個第1配線5對應地於寬度方向上隔開間隔地相鄰配置有複數個(圖1中為2個)。
第1連續部9具有與第1配線5相同之厚度T1。藉此，第1連續部9之厚度方向一面、與第1配線5之厚度方向一面形成1個平坦面(連續面)。
如圖1所示，第1連續部9之寬度W2大於上述第1配線5之寬度W1，例如為10 μm以上，較佳為50 μm以上，更佳為100 μm以上，又，例如為5 mm以下。第1連續部9之寬度W2相對於第1配線5之寬度W1之比(W2/W1)例如為1.5以上，較佳為5以上，更佳為10以上，又，例如為1000以下。
第1連續部9之平面面積係上述寬度W2與長度之乘積，例如為0.01 mm2 以上，較佳為0.1 mm2 以上，又，例如為100 mm2 以下，較佳為10 mm2 以下。
如圖2及圖3B所示，第1加高部10係用以將第1端子6之第1方向一面加高之構件。第1加高部10係相對於第1連續部9於厚度方向上相鄰配置。具體而言，第1加高部10配置於第1連續部9之厚度方向一面(相鄰配置於一側)。第1加高部10形成第1端子6中之上層。因此，第2加高部10之厚度方向一面形成第1端子6之第1方向最一側的面(位於最靠第1方向一側之面)。
如圖1所示，第1加高部10例如於俯視時，具有與第1連續部9相比較小之形狀(具體而言，較小之相似形狀)。第1加高部10配置於第1連續部9中之寬度方向中央部且為長度方向一端部及中央部之區域。藉此，第1加高部10係於進行厚度方向投影時，與第1配線5之長度方向一端緣於長度方向上隔開間隔。但，如圖2所示，第1加高部10經由第1連續部9而與第1配線5電性連接。再者，如圖1及圖3B所示，第1加高部10係使第1連續部9之周端部(除長度方向一端部以外)之厚度方向一面朝向厚度方向一側露出。又，第1加高部10係於沿著長度方向之剖面觀察、及沿著寬度方向之剖面觀察時，具有大致矩形形狀。
第1加高部10具有較第1連續部9之厚度T1厚之厚度T2，更具體而言，具有與下述第2配線7之厚度T2相同之厚度。厚度T2係於第1配線7之說明時進行詳細說明。
第1加高部10之寬度W3係相對於第1連續部9之寬度W2較窄，具體而言，例如為3 mm以下，較佳為1 mm以下，又，例如為6 μm以上，較佳為40 μm以上。第1加高部10之寬度W3相對於第1連續部9之寬度W2之比(W3/W2)例如為1以下，較佳為0.98以下，更佳為0.95以下，又，例如為0.01以上。再者，亦可使第1加高部10之寬度W3相對於第1配線5之寬度W1較寬。
再者，第1加高部10之平面面積係上述寬度W3與長度之乘積。第1加高部10之平面面積相對於第1端子6(第1連續部9)之平面面積之比例如為0.005以上，較佳為0.05以上，又，例如為50以下，較佳為5以下。
第1端子6之厚度係第1端子6之厚度方向之最大長度，具體而言為第1連續部9之厚度T1與第1加高部10之厚度T2之和(T1＋T2)。第1端子6之厚度例如為10 μm以上，較佳為20 μm以上，又，例如為100 μm以下，較佳為50 μm以下。
如圖1及圖3A所示，第2配線7係與第1配線5獨立地(電性獨立地)設置。具體而言，第2配線7係隔開間隔地配置於第1配線5之寬度方向一側。第2配線7係沿長度方向延伸，具體而言，具有沿著長度方向之大致直線形狀。第2配線7係於基底絕緣層2之厚度方向一面，至少形成於長度方向中央部之區域。例如，第2配線7係於寬度方向上隔開間隔地相鄰配置有複數個(圖1中為2個)。
作為第2配線7，例如可列舉用以傳遞與第1配線5相比較大之電流(例如1 A以上、進而10 A以上之大電流)之大電流配線、例如功率配線(電源配線等)等。
如圖2所示，第2配線7具有相對較厚之厚度T2。具體而言，第2配線7之厚度T2係與第1配線5之厚度T1相比較厚。詳細而言，第2配線7之厚度T2例如為2以上，較佳為5以上，更佳為10以上，又，例如為300以下。又，第2配線7之厚度T2相對於第1配線5之厚度T1之比(T2/T1)例如超過1，較佳為1.25以上，更佳為1.5以上，進而較佳為超過1.5，尤佳為1.6以上，又，例如為100以下，較佳為50以下，更佳為20以下。
第2配線7具有與第1配線5之寬度W1相比較寬之寬度W4。更具體而言，第2配線7之寬度W4例如為2 μm以上，較佳為10 μm以上，又，例如為2000 μm以下，較佳為1000 μm以下。又，第2配線7之寬度W4相對於第1配線5之寬度W1之比(W4/W1)例如為1.2以上，較佳為1.5以上，更佳為2以上，又，例如為100以下。
第2配線7之剖面面積S2係厚度T2與寬度W4之乘積(T2×W4)，具體而言，例如為100 μm2 以上，較佳為1000 μm2 以上，又，例如為1 mm2 以下，較佳為0.1 mm2 以下。第2配線7之剖面面積S2相對於第1配線5之剖面面積S1之比(S2/S1)例如為0.01以上，較佳為0.1以上，又，例如為1以下，較佳為0.95以下。
第2端子8係與第2配線7之長度方向一端連續。因此，第2端子8與第2配線7電性連接。作為第2端子8，例如可列舉輸入輸出電源電流之電源端子等。第2端子8具有俯視大致矩形焊盤形狀。具體而言，第2端子8具有與第2配線7相比寬度較寬且於長度方向上稍長之俯視大致矩形形狀。第2端子8係於第1端子6之寬度方向一側隔開間隔地配置有複數個。又，第2端子8配置於基底絕緣層2之厚度方向一面。
如圖3B所示，第2端子8係於沿著寬度方向之剖面觀察時，具有中央部朝厚度方向一側隆起之第2凸面14。
如圖2及圖3B所示，第2端子8具備第2加高部13及第2連續部12。較佳為第2端子8僅具備第2加高部13及第2連續部12。
第2加高部13係用以將第2端子8之第1方向一面加高之構件。第2加高部13形成第2端子8中之下層。
第2加高部13配置於(接觸於)基底絕緣層2之厚度方向一面。如圖1及圖2所示，第2加高部13係於第2端子8中之寬度方向中央部，與第2配線7之長度方向一端緣隔開間隔地配置於長度方向一側。第2加高部13具有沿長度方向延伸之俯視大致矩形形狀。又，如圖2及圖3B所示，第2加高部13係於沿著長度方向之剖面觀察、及沿著寬度方向之剖面觀察時，具有大致矩形形狀。
第2加高部13具有與第1端子6之第1連續部9之厚度T1相同之厚度T1。藉此，如圖3B所示，第2加高部13之厚度方向一面係當於寬度方向投影時，配置於與第1連續部9之厚度方向一面相同之位置，進而配置於與第1配線5之厚度方向一面相同之位置。
第2加高部13之寬度W6係與下述第2連續部12之寬度W5相比較窄地設定，具體而言，例如為5 mm以下，較佳為1 mm以下，又，例如為10 μm以上，較佳為100 μm以上。
第2加高部13之平面面積係上述寬度W6與長度之乘積，且以與下述第2連續部12之平面面積之比成為特定範圍之方式設定。
如圖1及圖3B所示，第2連續部12具有與第2端子8相同之俯視時之外形形狀。又，第2連續部12係與第2配線7連續。具體而言，第2連續部12具有自第2配線7之長度方向一端緣朝向長度方向一側延伸之俯視大致矩形形狀。
如圖2及圖3B所示，第2連續部12形成第2端子8中之上層。又，第2連續部12之厚度方向一面形成第2端子8之第2凸面14。第2連續部12係以被覆第2加高部13之方式配置於基底絕緣層2之厚度方向一面。具體而言，第2連續部12配置於基底絕緣層2中之第2加高部13之外側附近之厚度方向一面、以及第2加高部13之厚度方向一面、長度方向另一側面及寬度方向兩側面。詳細而言，如圖2所示，第2連續部12係於將其寬度方向中央部沿長度方向切斷所得之切斷面中，自第2配線7之長度方向一端緣沿著基底絕緣層2之厚度方向一面朝長度方向一側延伸，繼而，於第2加高部13之長度方向另一側，沿著第2加高部13之長度方向另一側面朝向厚度方向一側折彎(立起)，其後，沿著第2加高部13之厚度方向一面形成。再者，第2連續部12係其寬度方向中央部中之長度方向一端面與第2加高部13之長度方向一端面形成為同一面。藉此，第2連續部12之寬度方向中央部係於沿著長度方向之剖面觀察時，具有大致曲柄形狀。
第2連續部12之寬度方向中央部中之長度方向一端部及中央部配置於第2加高部13之厚度方向一面(相鄰配置於一側)。換言之，第2加高部13配置於第2連續部12之寬度方向中央部中之長度方向一端部及中央部之厚度方向另一面(相鄰配置於另一側)。
如圖3B所示，第2連續部12係於將長度方向中央部沿寬度方向切斷所得之切斷面中，寬度方向兩端部位於(接觸於)基底絕緣層2之厚度方向一面，繼而，沿著基底絕緣層2之厚度方向一面朝向寬度方向中央延伸，於第2加高部13之寬度方向兩外側，沿著第2加高部13之寬度方向兩側面朝向厚度方向一側折彎(立起)，其後，沿著第2加高部13之厚度方向一面形成。
將第2連續部12之長度方向一端部沿寬度方向切斷所得之切斷面之形狀係與將第2連續部12之長度方向中央部沿寬度方向切斷所得之切斷面之形狀相同。因此，第2連續部12之長度方向中央部及一端部係於沿著寬度方向之剖面觀察時，具有朝厚度方向另一側打開之大致帽形狀。再者，將第2連續部12之長度方向另一端部沿寬度方向切斷所得之切斷面之形狀係大致矩形形狀。
第2連續部12具有與第2配線7之厚度T2(即，第1端子6之第1加高部10之厚度)相同之厚度T2。再者，第2連續部12之厚度T2係第2加高部13之厚度方向一面與第2連續部12之厚度方向一面之厚度方向長度。又，第2連續部12之厚度T2與第2配線7之厚度T2相同。
第2連續部12具有相對於第2加高部13之寬度W6較寬之寬度W5。第2連續部12之寬度W5例如為20 μm以上，較佳為120 μm以上，更佳為150 μm以上，又，例如為10 mm以下。第2連續部12之寬度W5相對於第2加高部13之寬度W6之比(W5/W6)例如為0.01以上，較佳為0.1以上，又，例如為1以下，較佳為0.98以下。
第2連續部12之平面面積係上述寬度W5與長度之乘積，具體而言，與第2端子8之平面面積相同。第2連續部12之平面面積例如為0.1 mm2 以上，較佳為0.5 mm2 以上，又，例如為100 mm2 以下，較佳為10 mm2 以下。第2連續部12之平面面積相對於第2加高部13之平面面積之比例如為0.01以上，較佳為0.1以上，又，例如為1以下，較佳為0.98以下。
第2端子8之厚度係第2連續部12之厚度T2與第2加高部13之厚度T1之和(T1＋T2)。於是，第2端子8之厚度[T1＋T2]與第1端子6之厚度[T1＋T2]相同。因此，第1端子6之第1凸面11與第2端子8之第2凸面14係當於寬度方向投影時於厚度方向上配置於大致相同之位置。
再者，如圖1及圖2所示，藉由導體層3，第1配線5及第1端子6構成形成相互導通之電路徑之第1導體圖案15。又，第2配線7及第2端子8構成形成相互導通之電路徑之第2導體圖案16。
又，該導體層3具備具有厚度T1之第1導體層17、及具有厚度T2之第2導體層18。第1導體層17包含第1配線5、第1連續部9及第2加高部13。第2導體層18包含第1加高部10、第2配線7及第2連續部12。
作為導體層3之材料，例如可列舉：銅、銀、金、鐵、鋁、鉻、及其等之合金等。就獲得良好之電氣特性之觀點而言，可較佳地列舉銅、銅合金等包含銅之金屬。
覆蓋絕緣層4係以被覆第1配線5及第2配線7且使第1端子6及第2端子8露出之方式配置於基底絕緣層2之厚度方向一面。作為覆蓋絕緣層4之材料，可列舉與基底絕緣層2之材料相同者。覆蓋絕緣層4之厚度並無特別限定，例如為1 μm以上，例如為1000 μm以下。
其次，參照圖4A～圖4C對該配線電路基板1之製造方法進行說明。
該配線電路基板1之製造方法具備：準備步驟(參照圖4A)，其係準備基底絕緣層2；導體層形成步驟(參照圖4B及圖4C)，其係形成導體層3；及覆蓋步驟，其係形成覆蓋絕緣層4(參照圖4C之假想線)。又，導體層形成步驟例如具備：第1導體層形成步驟，其係形成第1導體層17；及第2導體層形成步驟，其係形成第2導體層18。較佳為該配線電路基板1之製造方法僅具備準備步驟、第1導體層形成步驟、第2導體層形成步驟及覆蓋步驟。
如圖4A所示，於準備步驟中，準備基底絕緣層2。
基底絕緣層2例如係將上述樹脂塗佈於未圖示之支持片材之表面，並視需要藉由光微影法而形成為適當之圖案。或者，可直接準備預先形成為片形狀者作為基底絕緣層2。
如圖4B～圖4C所示，繼而，於導體層形成步驟中，將導體層3形成於基底絕緣層2之厚度方向一面。具體而言，於導體層形成步驟中，依序實施第1導體層形成步驟(參照圖4B)及第2導體層形成步驟(參照圖4C)。
如圖4B所示，於第1導體層形成步驟中，藉由同時形成具有相同之厚度T1之第1配線5、第1連續部9及第2加高部13，而於基底絕緣層2之厚度方向一面形成包含其等之第1導體層17。作為形成第1導體層17之方法，例如可列舉：加成法、減成法等導體圖案形成方法，可較佳地列舉加成法。
如圖4C所示，繼而，於第2導體層形成步驟中，藉由在基底絕緣層2之厚度方向一面、第1連續部9之厚度方向一面、及第2加高部13之厚度方向一面之各者，同時形成具有相同之厚度T2之第2配線7、第1加高部10及第2連續部12之各者，而於基底絕緣層2、第1連續部9及第2加高部13之厚度方向一面形成包含其等之第2導體層18。作為形成第2導體層18之方法，可列舉與形成第1導體層17之方法相同之方法。 可較佳地列舉加成法。
藉此，形成具備第1配線5及第1端子6之第1導體圖案15、與具備第2配線7及第2端子8之第2導體圖案16。藉此，形成具備第1導體圖案15及第2導體圖案16之導體層3。
如圖4之假想線所示，其後，於覆蓋步驟中，於基底絕緣層2之厚度方向一面，以上述圖案形成覆蓋絕緣層4。例如，將樹脂塗佈於基底絕緣層2及導體層3，並藉由光微影法而形成為上述圖案。
藉此，獲得配線電路基板1。
其後，如圖1之假想線及圖4C所示，於該配線電路基板1例如安裝滑塊等電子元件20。電子元件20係呈剖面觀察大致矩形形狀，且具備設置於平坦之厚度方向另一面之第1電極21及第2電極22。第1電極21及第2電極22之各者係自電子元件20之厚度方向另一面朝向厚度方向另一側突出。第1電極21及第2電極22之突出面(厚度方向另一面)係於沿著電子元件20之厚度方向另一面投影時，配置於大致相同之位置。
為了將電子元件20安裝至配線電路基板1，使電子元件20以其厚度方向另一面沿著相對於該另一面正交之方向之方式(以成為所謂之水平之方式)，於厚度方向上隔開間隔地對向配置於配線電路基板1之長度方向一端部，更具體而言，使第1電極21與第1端子6對向配置，並使第2電極22與第2端子8對向配置。
繼而，使電子元件20降下(朝厚度方向另一側移動)，而使第1電極21之突出面接觸於第1端子6之厚度方向一面，同時使第2電極22之突出面接觸於第2端子8之厚度方向一面。
然後，可一面保持具備與第1端子6對應之第1電極21、及與第2端子8對應之第2電極22之電子元件20的水平姿勢，一面將電子元件20安裝於配線電路基板1。亦即，於該配線電路基板1中，由於第1端子6及第2端子8之表面厚度方向上配置於大致相同之位置，故而可使第1端子6接觸於第1電極21，同時使第2端子8接觸於第2電極22。因此，能夠抑制第1端子6及第2端子8中之任一者受到較大之應力，而能夠抑制基於其之損傷。其結果，第1端子6及第2端子8之相對於電子元件20之電性連接可靠性優異。
又，由於能夠一面將電子元件20保持沿著上述方向之姿勢(所謂水平姿勢)，一面同時電性連接第1端子6及第2端子8，故而能夠構成簡易之連接構造。
因此，該配線電路基板1能夠一面使連接可靠性優異，一面構成簡易之連接構造。
又，於該配線電路基板1中，由於第1端子6具備具有與第1配線5相同之厚度T1之第1連續部9、及具有與第2配線7相同之厚度T2之第1加高部10，故而其厚度為第1連續部9之厚度T1與第1加高部10之厚度T2之和、即T1＋T2。
另一方面，由於第2端子8具備具有與第2配線7相同之厚度T2之第2連續部12、及具有與第1配線5相同之厚度T1之第2加高部13，故而其厚度為第2連續部之厚度T2與第2加高部之厚度T1之和、即T2＋T1。
因此，第1端子6之厚度(T1＋T2)與第2端子8之厚度(T2＋T1)相同。
其結果，能夠使第1端子6及第2端子8之表面確實地於厚度方向上配置於大致相同之位置。
進而，於該配線電路基板1中，第1加高部10相對於第1連續部9配置於厚度方向一側，第2加高部13相對於第2加高部12配置於厚度方向另一側。
因此，於該配線電路基板1之製造方法中，藉由在圖4B所示之第1導體層形成步驟中，同時形成具有厚度T1之第1連續部9及第2加高部13，於圖4C所示之第2導體層形成步驟中，同時形成具有厚度T2之第1加高部10及第2連續部12，而能夠以2個步驟(第1導體層形成步驟及第2導體層形成步驟)簡便地形成具備其等之導體層3。
此種配線電路基板1之用途並無特別限定，可用於各種領域。配線電路基板1例如可用於電子設備用配線電路基板(電子零件用配線電路基板)、電氣設備用配線電路基板(電氣零件用配線電路基板)等各種用途。作為電子設備用配線電路基板及電氣設備用配線電路基板，可列舉：例如用於位置資訊感測器、障礙物檢測感測器、溫度感測器等感測器之感測器用配線電路基板；例如用於汽車、電車、航空器、作業車輛等運輸車輛之運輸車輛用配線電路基板；例如用於平板顯示器、撓性顯示器、投影型影像設備等影像設備之影像設備用配線電路基板；例如用於網路設備、大型通信設備等通信中繼設備之通信中繼設備用配線電路基板；例如用於電腦、平板、智慧型手機、家用遊戲機等資訊處理終端之資訊處理終端用配線電路基板；例如用於無人機、機器人等可動型設備之可動型設備用配線電路基板；例如用於可穿戴型醫療用裝置、醫療診斷用裝置等醫療設備之醫療設備用配線電路基板；例如用於冰箱、洗衣機、吸塵器、空調設備等電氣設備之電氣設備用配線電路基板；例如用於數位相機、DVD(Digital Versatile Disc，數位多功能光碟)錄影裝置等錄影電子設備之錄影電子設備用配線電路基板等。
變化例 於以下之各變化例中，對與上述一實施形態相同之構件及步驟標註相同之參照符號，並省略其詳細之說明。又，各變化例係除特別記載以外，可發揮與一實施形態相同之作用效果。進而，可適當組合一實施形態及變化例。
如圖2之假想線所示，配線電路基板1可進而具備作為配置於基底絕緣層2之厚度方向另一面(或背面)之金屬層之一例的金屬系支持層19。金屬系支持層19配置於基底絕緣層2之厚度方向另一面整個面。金屬系支持層19之材料例如可自公知或慣用之金屬系材料(具體而言為金屬材料)中適當選擇加以使用。具體而言，作為金屬系材料，可列舉：週期表中被分類為第1族～第16族之金屬元素、或含有2種以上該等金屬元素之合金等。再者，作為金屬系材料，亦可為過渡金屬、典型金屬中之任一種。更具體而言，作為金屬系材料，例如可列舉：鈣等第2族金屬元素；鈦、鋯等第4族金屬元素；釩等第5族金屬元素；鉻、鉬、鎢等第6族金屬元素；錳等第7族金屬元素；鐵等第8族金屬元素；鈷等第9族金屬元素；鎳、鉑等第10族金屬元素；銅、銀、金等第11族金屬元素；鋅等第12族金屬元素；鋁、鎵等第13族金屬元素；鍺、錫等第14族金屬元素。其等可單獨使用或併用。再者，金屬系支持層19包含材料為金屬之金屬支持層19。金屬系支持層19之厚度並無特別限定。此種配線電路基板1例如包含：具備金屬系支持層19作為補強層之附補強層之撓性印刷配線板、或具備金屬系支持層19作為懸架(彈簧)層之附電路之懸架基板等。
於一實施形態中，依序實施第1導體層形成步驟及第2導體層形成步驟，但亦可相反。又，於一實施形態中，第1加高部10相對於第1連續部9配置於厚度方向一側，第2加高部13相對於第2加高部12配置於厚度方向另一側，但亦可如圖5所示般相反。
具體而言，首先，依序進行第2導體層形成步驟及第1導體層形成步驟。於第2導體層形成步驟中，藉由形成具有厚度T2之第1加高部10、第2配線7及第2連續部12，而形成第2導體層18，繼而，於第1導體層形成步驟中，藉由形成具有厚度T1之第1配線5、第1連續部9及第2加高部13，而形成第1導體層17。
於第1端子6之寬度方向中央部、且為長度方向一端部及中央部，於基底絕緣層2之厚度方向一面，朝向厚度方向一側依序配置有第1加高部10及第1連續部9。亦即，第1加高部10相鄰配置於第1連續部9之厚度方向另一側(配置於另一面)。
又，於第2端子8之寬度方向中央部、且為長度方向一端部及中央部，於基底絕緣層2之厚度方向一面，朝向厚度方向一側依序配置有第2連續部12及第2加高部13。亦即，第2加高部13相鄰配置於第2連續部12之厚度方向一側(配置於一面)。
或者，2個加高部之各者亦可配置於2個連續部之各者之厚度方向上之同一側。例如，如圖6C所示，第1加高部10配置於第1連續部9之厚度方向一面，第2加高部13配置於第2連續部12之厚度方向一面。
於該配線電路基板1之製造方法中，如圖6A～圖6C所示，導體層形成步驟具備3個步驟即第1步驟、第2步驟及第3步驟。
如圖6A所示，於第1步驟中，形成具有厚度T1之第1配線5及第1連續部9。
如圖6B所示，繼而，於第2步驟中，形成具有厚度T2之第1加高部10、第2配線7及第2加高部12，而形成第2導體層18。再者，該第2步驟相當於一實施形態中之第2導體層形成步驟。
如圖6C所示，其後，於第3步驟中，形成具有厚度T1之第2加高部13。
圖4A～圖4C所示之一實施形態係與圖6A～圖6C所示之變化例相比較佳。於圖6A～圖6C所示之變化例中，實施3個步驟即第1步驟、第2步驟及第3步驟，而形成導體層3，另一方面，圖4A～圖4C所示之一實施形態實施2個步驟即第1導體層形成步驟及第2導體層形成步驟，而形成導體層3，因此能夠減少步驟數。
再者，如圖7所示，亦可使第1加高部10配置於第1連續部9之厚度方向另一面，使第2加高部13配置於第2連續部12之厚度方向另一面。
於上述一實施形態及變化例中，第2端子8具備第2加高部13，但亦可如圖8B所示，第2端子8不具備第2加高部13。
第2端子8不具備第2加高部13，而是僅具備第2連續部12。
另一方面，第1端子6包含第3加高部23以代替圖5所示之第1加高部10。第3加高部23具有自第2連續部12之厚度T2減去第1連續部9之厚度T1所得之厚度(T2－T1)。第3加高部23之材料係與第1加高部10之材料相同。因此，第3加高部23包含於導體層3。
形成該變化例之導體層3之導體層形成步驟具備加高步驟(參照圖8A)、第1導體層形成步驟(參照圖8B)及第2導體層形成步驟(參照圖8B)。
如圖8A所示，於加高步驟中，於基底絕緣層2之厚度方向一面，以上述厚度(T2－T1)形成第3加高部23。
如圖8B所示，繼而，於第1導體層形成步驟中，於第3加高部23之厚度方向一面形成具有厚度T1之第1連續部9。同時，於基底絕緣層2之厚度方向一面形成第1配線5。
其後，於第2導體層形成步驟中，於基底絕緣層2之厚度方向一面，與第2配線7同時形成具有厚度T2之第2連續部12。
關於該變化例，於該配線電路基板1中，第1端子6具備具有與第1配線5相同之厚度T1之第1連續部9，第2端子8具備具有與第2配線7相同之厚度T2之第2連續部12，而且，該配線電路基板1具備具有自第2連續部12之厚度T2減去第1連續部9之厚度T1所得之厚度(T2－T1)的第3加高部23。
於是，作為第1連續部9之厚度與第3加高部23之厚度之和之第1端子6之厚度為T1＋[T2－T1]＝T2。另一方面，第2連續部12之厚度即第2端子8之厚度為T2。因此，能夠將第1端子6及第2端子8之表面確實地於厚度方向上配置於大致相同之位置。
進而，於該配線電路基板1中，由於第3加高部23包含於導體層3(第1端子6)，故而能夠以較高之精度設定第3加高部23之厚度。因此，能夠將第1端子6及第2端子8之表面更確實地於厚度方向上配置於大致相同之位置。
又，圖8B所示之變化例係與圖2所示之一實施形態、及圖6A～圖7C所示之變化例相比，第2端子8不具備第2加高部13，因此第2端子8之構成簡單。
又，如圖8B所示，第3加高部23包含於導體層3，但亦可如圖9C所示，包含於基底絕緣層2。於該變化例中，基底絕緣層2具備基底層24及第3加高部23。
基底層24相當於一實施形態之基底絕緣層2，且具有平坦之厚度方向一面及另一面。
第3加高部23為加高絕緣層。第3加高部23之形狀及配置係與導體層3中所包含之圖8B所示之第3加高部23相同。第3加高部23之材料係與基底絕緣層2之材料相同。
如圖9A所示，於配線電路基板1之製造方法中之準備步驟中，首先，將基底層24形成為片形狀，如圖9B所示，其後，將第3加高部23形成於基底層24之厚度方向一面中之長度方向一端部。第3加高部23之形成方法係與基底層24之形成方法之該者相同。
如圖9C所示，其後，形成第1導體圖案15(第1配線5及第1連續部9)，又，形成第2導體圖案16(第2配線7及第2連續部12)。
於該配線電路基板1中，由於第3加高部23包含於絕緣層2，故而能夠減少導體層3之形成步驟。
如圖9A及圖9B所示，將第3加高部23與基底層24分開地形成，雖未圖示，但例如可將其等一體地形成。
又，如圖10及圖11所示，配線電路基板1可具備降高部以代替加高部。
如圖10所示，基底絕緣層2係於與第2連續部12對應之部位，包含作為與周圍相比較薄之降高部之一例的降高基底部25。
降高基底部25形成於第2連續部12之厚度方向另一面。降高基底部25係與周圍相比薄相當於自第2連續部12之厚度T2減去第1連續部之厚度T1所得之厚度(T2－T1)地形成。
藉此，第1端子6之厚度方向一面與第2端子8之厚度方向一面係當於寬度方向投影時配置於大致相同之位置。
於準備具有降高基底部25之基底絕緣層2之準備步驟中，於光微影法之感光中，進行階段曝光。藉此，於基底絕緣層2形成降高基底部25。或者，亦可於形成平坦之片形狀之基底絕緣層2之後，藉由蝕刻(半蝕刻)等去除方法，將基底絕緣層2之厚度方向一側部分去除。進而，亦可形成包含降高基底部25之平坦狀之第1基底絕緣層，繼而，於第1基底絕緣層之厚度方向一面中之除降高基底部25以外之部分積層平坦狀之第2基底絕緣層，而由第1基底絕緣層及第2基底絕緣層構成基底絕緣層2。於該情形時，降高基底部25僅由第1基底絕緣層形成。
圖10所示之配線電路基板1係由於具備降高基底部25，故而能夠謀求具備與降高基底部25相鄰配置之第2連續部12之第2端子8的薄型化，進而謀求表面之位置配置於與第2端子8相同之位置之第1端子6的薄型化。因此，能夠降低連接於第1端子6及第2端子8之電子元件20之厚度方向位置。
又，由於降高基底部25包含於基底絕緣層2，故而能夠謀求基底絕緣層2之薄型化。
又，如圖11所示，於配線電路基板1具備金屬系支持層19之情形時，亦可代替基底絕緣層2，而由金屬系支持層19具備作為降高部之一例之降高金屬部26。
降高金屬部26係隔著基底絕緣層2而形成於第2連續部12之厚度方向另一側。降高金屬部26包含於金屬系支持層19，且與周圍相比薄相當於自第2連續部12之厚度T2減去第1連續部9之厚度T1所得之厚度(T2－T1)地形成。
為了形成降高金屬部26，例如，於形成平坦之片形狀之金屬系支持層19之後，藉由半蝕刻等局部之去除方法，將金屬系支持層19之厚度方向一側部分去除。
於圖11所示之配線電路基板1中，由於降高金屬部26包含於金屬系支持層19，故而能夠謀求金屬系支持層19之薄型化。
於一實施形態中，如圖2所示，第1端子6分開地具備第1連續部9及第1加高部10，例如，雖未圖示，但亦可一體地具備其等。
於一實施形態中，如圖2所示，第2端子8分開地具備第2連續部12及第2加高部13，例如，雖未圖示，但亦可一體地具備其等。
又，於一實施形態中，第1加高部10係使第1連續部9中之除長度方向一端部以外之周端部露出，但例如可如圖12A及圖13A所示，使第1連續部9之全部周端部露出。
又，雖未圖示，但例如第2連續部12亦可使其寬度方向中央部之長度方向一端面偏移至與第2加高部13之長度方向一端面為同一面而配置，具體而言，朝長度方向另一側偏移而配置。
於一實施形態中，如圖1所示，第2加高部13之平面面積小於第2連續部12之平面面積。但是，亦可如圖12A及圖12C所示，第2加高部13之平面面積大於第2連續部12之平面面積。
於該變化例中，於俯視時第2加高部13包含第2連續部12。
又，如圖13A～圖13C所示，第2配線7可具備與第2連續部12連續之第1層31、及與第2加高部13連續之第2層32。
第2層32形成第2配線7之厚度方向另一面之寬度方向中央部。
第1層31形成第2配線7之厚度方向一面。又，第1層31被覆第2層32之側面及厚度方向一面。第1層31係相對於第2層32寬度較寬，且於俯視時包含第2層32。
進而，如圖14A～圖14B所示，第1層31及第2層32可於俯視時相互重疊。具體而言，第1層31之短邊方向兩端緣係與第2層32之短邊方向兩端緣於厚度方向上一致。
第2連續部12及第2加高部13係於俯視時相互重疊，第2連續部12之短邊方向兩端緣係與第2層32之短邊方向兩端緣於厚度方向上一致。
進而，第1連續部9及第1加高部10係於俯視時相互重疊，第1連續部9之短邊方向兩端緣係與第1加高部10之短邊方向兩端緣於厚度方向上一致。
再者，上述發明係作為本發明之例示之實施形態而提供，但其僅為例示，不可限定性地解釋。由該技術領域之業者所明確之本發明之變化例包含於下述申請專利範圍中。 [產業上之可利用性]
配線電路基板可用於電子設備用配線電路基板、電氣設備用配線電路基板等中。
1‧‧‧配線電路基板 2‧‧‧基底絕緣層 3‧‧‧導體層 4‧‧‧覆蓋絕緣層 5‧‧‧第1配線 6‧‧‧第1端子 7‧‧‧第2配線 8‧‧‧第2端子 9‧‧‧第1連續部 10‧‧‧第1加高部 11‧‧‧第1凸面 12‧‧‧第2連續部 13‧‧‧第2加高部 14‧‧‧第2凸面 15‧‧‧第1導體圖案 16‧‧‧第2導體圖案 17‧‧‧第1導體層 18‧‧‧第2導體層 19‧‧‧金屬支持層 20‧‧‧電子元件 21‧‧‧第1電極 22‧‧‧第2電極 23‧‧‧第3加高部 24‧‧‧基底層 25‧‧‧降高基底部 26‧‧‧降高金屬部 31‧‧‧第1層 32‧‧‧第2層 T1‧‧‧厚度 T2‧‧‧厚度 T2－T1‧‧‧厚度 W1‧‧‧寬度 W2‧‧‧寬度 W3‧‧‧寬度 W4‧‧‧寬度 W5‧‧‧寬度 W6‧‧‧寬度
圖1表示本發明之配線電路基板之一實施形態之局部放大俯視圖。 圖2表示圖1所示之配線電路基板之沿著A-A'彎摺線之剖視圖。 圖3A～圖3B係圖1所示之配線電路基板之側剖視圖，圖3A表示沿著B-B線之圖，圖3B表示沿著C-C線之圖。 圖4A～圖4C係圖2所示之配線電路基板之製造步驟圖，圖4A表示準備步驟，圖4B表示第1導體層形成步驟(導體層形成步驟)，圖4C表示第2導體層形成步驟(導體層形成步驟)。 圖5表示圖2所示之配線電路基板之變化例之剖視圖。 圖6A～圖6C係圖4A～圖4C所示之配線電路基板之製造步驟圖之變化例，圖6A表示形成第1配線及第1連續部之第1步驟，圖6B表示形成第2導體層之第2步驟，圖6C表示形成第2加高部之第3步驟。 圖7表示圖6C所示之配線電路基板之變化例之剖視圖。 圖8A～圖8B係圖4A～圖4C所示之配線電路基板之製造步驟圖之變化例，圖8A表示形成導體層中所包含之第3加高部之步驟，圖8B表示形成第1導體圖案及第2導體圖案之步驟。 圖9A～圖9C係圖4A～圖4C所示之配線電路基板之製造步驟圖之變化例，圖9A表示準備步驟，圖9B表示形成基底絕緣層中所包含之第3加高部之步驟，圖9C表示形成第1導體圖案及第2導體圖案之步驟。 圖10表示圖2所示之配線電路基板之變化例(基底絕緣層具備降高基底部之態樣)之剖視圖。 圖11表示圖2所示之配線電路基板之變化例(金屬支持層具備降高金屬部之態樣)之剖視圖。 圖12A～圖12C表示圖1～圖3B所示之配線電路基板之變化例，圖12A表示俯視圖，圖12B表示沿著圖12A中之B-B線之側剖視圖，圖12C表示沿著圖12A中之C-C線之側剖視圖。 圖13A～圖13C表示圖1～圖3B所示之配線電路基板之變化例，圖13A表示俯視圖，圖13B表示沿著圖13A中之B-B線之側剖視圖，圖13C表示沿著圖13A中之C-C線之側剖視圖。 圖14A～圖14B表示圖13B～圖13C所示之配線電路基板之變化例，圖14A表示通過第1配線及第2配線之側剖視圖，圖14B表示通過第1端子及第2端子之側剖視圖。
1‧‧‧配線電路基板
2‧‧‧基底絕緣層
3‧‧‧導體層
4‧‧‧覆蓋絕緣層
5‧‧‧第1配線
6‧‧‧第1端子
7‧‧‧第2配線
8‧‧‧第2端子
9‧‧‧第1連續部
10‧‧‧第1加高部
11‧‧‧第1凸面
12‧‧‧第2連續部
13‧‧‧第2加高部
14‧‧‧第2凸面
15‧‧‧第1導體圖案
16‧‧‧第2導體圖案
17‧‧‧第1導體層
18‧‧‧第2導體層
19‧‧‧金屬支持層
T1‧‧‧厚度
T2‧‧‧厚度

Claims (9)

  1. 一種配線電路基板，其特徵在於：具備絕緣層、及配置於上述絕緣層之表面之導體層；且 上述導體層具備： 第1配線； 第1端子，其電性連接於上述第1配線； 第2配線，其與上述第1配線獨立，且具有相對於上述第1配線之厚度T1較厚之厚度T2；及 第2端子，其電性連接於上述第2配線；且 上述第1端子及上述第2端子之表面於厚度方向上配置於大致相同之位置。
  2. 如請求項1之配線電路基板，其中上述第1端子具備： 第1連續部，其與上述第1配線連續，且具有與上述第1配線相同之厚度T1；及 第1加高部，其與上述第1連續部於厚度方向上相鄰配置，且具有與上述第2配線相同之厚度T2；且 上述第2端子具備： 第2連續部，其與上述第2配線連續，且具有與上述第2配線相同之厚度T2；及 第2加高部，其與上述第2連續部於厚度方向上相鄰配置，且具有與上述第1配線相同之厚度T1。
  3. 如請求項2之配線電路基板，其中上述第1加高部相對於上述第1連續部配置於厚度方向一側及另一側中之任一者， 上述第2加高部相對於上述第2連續部配置於厚度方向一側及另一側中之任意另一者。
  4. 如請求項1之配線電路基板，其中上述第1端子具備與上述第1配線連續且具有與上述第1配線相同之厚度T1的第1連續部， 上述第2端子具備與上述第2配線連續且具有與上述第2配線相同之厚度T2的第2連續部， 上述配線電路基板具備第3加高部，該第3加高部係與上述第1連續部於厚度方向上相鄰配置，且具有自上述第2連續部之厚度T2減去上述第1連續部之厚度T1所得之厚度(T2－T1)。
  5. 如請求項4之配線電路基板，其中上述第3加高部包含於上述導體層。
  6. 如請求項4之配線電路基板，其中上述第3加高部包含於上述絕緣層。
  7. 如請求項1之配線電路基板，其中上述第1端子具備與上述第1配線連續且具有與上述第1配線相同之厚度T1的第1連續部， 上述第2端子具備與上述第2配線連續且具有與上述第2配線相同之厚度T2的第2連續部， 上述配線電路基板具備降高部，該降高部係與上述第2連續部於厚度方向上相鄰配置，且較周圍薄相當於自上述第2連續部之厚度T2減去上述第1連續部之厚度T1所得之厚度(T2－T1)。
  8. 如請求項7之配線電路基板，其中上述降高部包含於上述絕緣層。
  9. 如請求項7之配線電路基板，其具備配置於上述絕緣層之背面之金屬層，且 上述降高部包含於上述金屬層。
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