TW202004234A - 偏光板、其製備方法以及包含其的影像顯示器件 - Google Patents

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Abstract

本說明書提供一種偏光板、其製備方法以及包含其的影像顯示器件。

Description

偏光板、其製備方法以及包含其的影像顯示裝置
本申請案主張於2018年5月28日在韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2018-0060693號的優先權及權益，所述韓國專利申請案的全部內容併入本案供參考。
本說明書是有關於一種偏光板、其製備方法以及包含其的影像顯示器件。
用於液晶顯示器件的現有偏光板使用一般的聚乙烯醇系偏光器，並且具有將例如TAC等低透濕性基板層附接於偏光器的至少一個側表面上的構造。
在最近的偏光板市場中，對低光洩漏（low light leakage）及薄化的需求已增加，並且為了滿足該些性質，已測試了一種在偏光器上直接形成保護膜的方法來代替使用預先形成為膜的現有保護基板。
然而，當直接在現有的聚乙烯醇系細長型聚乙烯醇系偏光器上形成保護膜時，相較於如在此項技術中在兩個表面上使用保護基板時，偏光器因自高溫下偏光器收縮產生的應力而被撕裂的問題難以解決。
[現有技術文獻] [專利文獻] 日本專利特開第2007-047498 A號公報
[技術問題] 本說明書是有關於提供一種偏光板、其製備方法以及包含其的影像顯示器件。
[技術解決方案] 本說明書的一個實施例提供一種偏光板，所述偏光板包括：偏光器；低透濕性基板層，設置在所述偏光器的一個表面上；以及保護層，設置在所述偏光器的另一表面上，其中所述保護層的厚度大於或等於4.5微米（µm）且小於或等於10微米，且所述保護層是包含活性能量射線固化性組成物（active energy ray-curable composition）的樹脂層，所述組成物包括環氧化合物及氧雜環丁烷化合物或其固化材料。
本說明書的另一實施例提供一種製備上述偏光板的方法，所述方法包括：製備偏光器；在所述偏光器的一個表面上提供低透濕性基板層；以及在所述偏光器的另一表面上形成保護層。
本說明書的另一實施例提供一種包括上述偏光板的影像顯示器件。
[有利效果] 根據本說明書的一個實施例的偏光板具有以下優點：在具有小的保護層厚度的同時，在高溫度及高濕度環境下抑制在偏光器上出現裂紋。
此外，根據本說明書的一個實施例的偏光板在高溫度及高濕度環境下具有優異的耐久性，且因此在用於具有大面積的液晶顯示器件中時具有抑制光洩漏的優點。
在下文中，將更詳細地闡述本說明書。
本說明書的一個實施例提供一種偏光板，所述偏光板包括：偏光器；低透濕性基板層，設置在所述偏光器的一個表面上；以及保護層，設置在所述偏光器的另一表面上，其中所述保護層的厚度大於或等於4.5微米且小於或等於10微米，且所述保護層是包含活性能量射線固化性組成物的樹脂層，所述組成物包括環氧化合物及氧雜環丁烷化合物或其固化材料。
在本說明書中，術語「組成物的固化」意指藉由組成物的各組分的物理作用或化學反應改變組成物以顯示出黏著或膠黏性質的製程。此外，本說明書中的術語「活性能量射線」可指粒子束，例如α粒子束（α particle beam）、質子束（proton beam）、中子束（neutron beam）及電子束（electron beam）以及微波（microwave）、紅外線（infrared ray，IR）、紫外線（ultraviolet ray，UV）、X射線及γ射線，並且通常可為紫外線、電子束等。此外，「活性能量射線固化性」可意指可藉由活性能量射線的照射來誘發此種固化。在本揭露的一個實施例中，活性能量射線固化性組成物的固化可藉由照射活性能量射線進行自由基聚合或陽離子反應來進行，且較佳地，自由基聚合及陽離子反應可一起同時進行或連續進行。
偏光器通常由例如聚乙烯醇等親水性樹脂製備，且因此一般易受潮。此外，由於偏光器一般在製備中經歷伸長製程，因此在濕度條件下容易發生收縮等，此導致偏光板的光學性質等劣化的問題。因此，為了增強偏光器的性質，一般在偏光器的兩個表面上附接以聚對苯二甲酸乙二醇酯（polyethylene terephthalate，PET）膜等為代表的低透濕性基板層，並且缺乏低透濕性基板層會因偏光器的尺寸穩定性差而導致耐久性及光學性質大大降低的問題並且會導致顯著削弱耐水性的問題。
為此，在本揭露的偏光板的一個示例性結構中，可藉由在偏光器的一個表面上提供低透濕性基板層並在偏光器的另一表面上包括保護層來獲得更薄及更輕的結構，且因此，藉由將保護層的厚度調整至某一水準範圍並藉由自包括環氧化合物及氧雜環丁烷化合物的組成物形成保護層，會藉由增強保護層對偏光器的保護效應而確保優異的高溫耐水性。
在本說明書中，其中低透濕性基板層未附接於如上所述偏光器的至少一個表面上的偏光板亦可被稱為薄偏光板（薄偏光器（thin polarizer））。
圖1是示出偏光板（100）的剖視圖。當參照圖1時，偏光板（100）包括：偏光器（10）；低透濕性基板層（30），設置在偏光器（10）的一個表面上；以及保護層（20），設置在偏光器（10）的另一表面上。此外，可進一步在偏光器（10）的另一側—保護層（20）的鄰接表面上設置膠黏層（40）。
在將保護層的儲存模數與保護層的厚度之間的關係調整至一定範圍時，保護層的偏光器保護效應可增強。具體而言，由以下數學公式1表示的保護層的強度係數值可大於或等於6,750且小於或等於60,000，較佳地大於或等於8,100且小於或等於50,000，並且更佳地大於或等於9,000且小於或等於40,000。強度係數是表示保護層的強度的參數，並且藉由乘以保護層的儲存模數及保護層的厚度來計算。當保護層的強度係數值滿足上述數值範圍時，會有效地抑制施加至偏光器的應力，此在有效地抑制由偏光器在高溫度或高濕度環境下的收縮或膨脹導致在偏光器上出現裂紋方面有效。此外，還具有確保偏光器的優異黏著強度的優點。
[數學公式1] 強度係數（百萬帕*微米（Mpa*µm））=保護層的儲存模數×保護層的厚度
在數學公式1中，保護層的儲存模數意指在溫度範圍為-10℃至160℃、升溫速率為5℃/分鐘（℃/min）且應變（strain）為10%的量測條件下，在80℃下的儲存模數。
為了確保偏光板的耐熱性或改善偏光板的彎曲性質，可將保護層的儲存模數調整至一定範圍。具體而言，在溫度範圍為-10℃至160℃、升溫速率為5℃/分鐘且應變（strain）為10%的量測條件下，保護層可具有在80℃下大於或等於1,200百萬帕（Mpa）且小於或等於10,000百萬帕、較佳地大於或等於1,400百萬帕且小於或等於9,000百萬帕、且更佳地大於或等於1,600百萬帕且小於或等於7,000百萬帕的儲存模數。當滿足上述範圍時，即使當在高溫度及高濕度環境下長時間儲存偏光板時，偏光器亦可得到很好的保護，且因此，可有效地防止在偏光器上出現裂紋。
可藉由製備具有與保護層相同組成的樣品來量測保護層的儲存模數。具體而言，將具有與保護層相同組成的光固化性組成物塗佈在剝離膜（例如，聚對苯二甲酸乙二醇酯膜）上至50微米的厚度，並且在1000毫焦耳/平方厘米（mJ/cm2 ）或大於1000毫焦耳/平方厘米的光強條件下藉由照射紫外線而固化所述結果之後，移除剝離膜，並且將所述樣品雷射切割成一定尺寸。之後，藉由動態機械分析儀（dynamic mechanical analysis，DMA）量測儲存模數。在本文中，量測了當以10%應變（strain）恆定拉伸同時作為量測溫度以5℃/分鐘的升溫速率將溫度自-10℃的開始溫度升高至160℃時的儲存模數，並且記錄在80℃下的儲存模數值。
保護層的厚度可被調整至一定範圍，以便提供在確保保護層對偏光器的保護效應的同時具有小的整體厚度的偏光板。具體而言，保護層的厚度可大於或等於4.5微米且小於或等於10微米，較佳地大於或等於4.5微米且小於或等於8.5微米，且更佳地大於或等於4.5微米且小於或等於7微米。當保護層的厚度小於4.5微米時，保護層的偏光器保護功能可能未得到充分保證，並且難以有效抑制在高溫度或高濕度環境下在偏光器上出現裂紋。此外，厚度大於10微米不適合偏光板的薄化，且因此，保護層的厚度被調整為大於或等於4.5微米且小於或等於10微米。可藉由掃描電子顯微鏡或透射式電子顯微鏡（transmission electron microscope）量測偏光板的橫截面來獲得保護層的厚度。
保護層可具有在80℃下為百萬分之100/開氏度（100 ppm/K）或小於100 ppm/K、85 ppm/K或小於85 ppm/K、大於或等於10 ppm/K且小於或等於100 ppm/K、或大於或等於10 ppm/K且小於或等於85 ppm/K的熱膨脹係數。當保護層具有滿足上述範圍的熱膨脹係數時，保護層的性質在高溫條件下得以保持。
對量測保護層的熱膨脹係數的方法無特別限制，且舉例而言，將厚度為50微米的固化樣品切割成寬度為6毫米（mm）且長度為10毫米的尺寸，並且在將拉伸載荷（tension load）保持在0.05牛（N）的同時將溫度自30℃升高至150℃時量測長度的變化。在本文中，升溫速率為5℃/分鐘，且在完成量測之後，計算熱膨脹係數（thermal expansion coefficient，CTE）值作為自40℃至目標溫度變化的長度。在本文中，目標溫度為80℃。
可藉由調整低透濕性基板層的收縮力來改善偏光板的彎曲性質。具體而言，當低透濕性基板層在80℃的溫度下靜置2小時時，在橫向方向（TD）上的收縮力可大於或等於1牛且小於或等於10牛，大於或等於3牛且小於或等於10牛，較佳地大於或等於3.5牛且小於或等於9.5牛，且更佳地大於或等於4牛且小於或等於9牛。
可使用由TA儀器公司（TA Instruments, Inc.）製造的動態機械分析儀（dynamic mechanical analysis，DMA）來量測收縮力，且舉例而言，分析儀可在自25℃開始3分鐘後達到75℃，並且可在7分鐘後穩定在80℃。量測時間為2小時，且穩定在80℃後，量測120分鐘後的值。至於量測方法，將樣品夾在夾具上，且在藉由拉動樣品以在0.01牛的預載荷（preload）下將應變（strain）保持在0.1%來固定樣品之後，量測在高溫下將應變保持在0.1%時施加的收縮力。同時，可將樣品製備成具有大約5.3毫米的寬度及大約15毫米的長度，並且可在將樣品長度方向上的兩端固定至量測器件的夾具之後量測收縮力。樣品長度為不包括固定至夾具的部分的長度。
縱向方向（MD）可表示吸收軸（縱向（machine direction）），且橫向方向（TD）可表示透射軸（橫向（traverse direction）），且縱向方向與橫向方向彼此正交。
可對低透濕性基板層的厚度進行調整使得低透濕性基板層更容易阻擋水分。具體而言，低透濕性基板層可具有大於或等於40微米且小於或等於100微米、大於或等於40微米且小於或等於80微米、較佳地大於或等於50微米且小於或等於80微米、且更佳地大於或等於60微米且小於或等於80微米的厚度。當厚度滿足上述數值範圍時，可增強低透濕性基板層的防濕效應。
低透濕性基板層用於抑制水分等滲透至偏光器，並且可具有60克/平方米*天（g/m2 *day）或小於60克/平方米*天、較佳地55克/平方米*天或小於55克/平方米*天、且更佳地50克/平方米*天或小於50克/平方米*天、且例如大於或等於0.1克/平方米*天且小於或等於50克/平方米*天的透濕性。透濕性意指在恆定的外部環境下，每單位時間（天（day））及單位面積（平方米（m2 ））水分通過量（克），並且可在40℃或37.8℃的溫度條件下以及低透濕性基板層內外之間的濕度差為90%的環境下量測。量測透濕性的方法不受特別限制，且舉例而言，可使用習知的透濕性量測器件來量測在上述條件下一天（1day）通過低透濕性基板層的水分重量（克（g））。舉例而言，可使用由蘭光儀器有限公司（Labthink Instruments Co., Ltd.）製造的WVTR器件（器件名稱：WVTR TSY-T3）來量測透濕性。所述器件具有在封閉室中具有刻度的結構，且室內的環境保持在40℃及10%的濕度下。此外，在將水倒入透濕杯中之後，與低透濕性基板層相同的低透濕性基板膜覆蓋杯並固定在上面。由於透濕杯充滿水，因此透濕杯內的濕度為100%，且因此透濕杯內外之間的濕度差變為90%。在24小時後，在藉由與初始重量的差值量測透濕杯的重量之後，可計算蒸發的水量。當滿足上述數值範圍時，可充分執行低透濕性基板層的透濕功能。
當調整低透濕性基板層的收縮力及低透濕性基板層的厚度時，偏光板的整體耐久性可藉由低透濕性基板層而得以增強。具體而言，由以下數學公式2表示的收縮係數值可大於或等於60且小於或等於900，較佳地大於或等於100且小於或等於900，且更佳地大於或等於120且小於或等於800。當滿足上述數值範圍時，低透濕性基板層的收縮力及低透濕性基板層的厚度被充分調整，並且可增強低透濕性基板層的耐久性。
[數學公式2] 收縮係數（牛*微米（N*µm））=低透濕性基板層的收縮力×低透濕性基板層的厚度
在數學公式1中，低透濕性基板層的收縮力意指在80℃下靜置2小時後在橫向方向（TD）上的收縮力。
低透濕性基板層可在不損害偏光板的整體光學性質的水準上具有優異的光學性質，而不會有利於滲透水分。具體而言，低透濕性基板層可具有90%或大於90%、或大於或等於90%且小於或等於100%的滲透率。
低透濕性基板層的類型不受特別限制，只要其滿足上述低透濕性基板層的性質即可。其實例可包括聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET）。
為了確保保護層的優異偏光器保護效應及低透濕性基板層的優異透濕性，可調整保護層的厚度與低透濕性基板層的厚度之間的比率。具體而言，保護層與低透濕性基板層可具有1:3至1:20、較佳地1:5至1:20、且更佳地1:7至1:20的厚度比。當滿足上述數值範圍時，上述保護層的根據數學公式1的效能及低透濕性基板層的根據數學公式2的效能可被確保處於優異的水準下。
當在80℃下靜置2小時時，偏光器在縱向方向（MD）上的收縮力可大於或等於5牛且小於或等於9牛，且較佳地大於或等於7.5牛且小於或等於8.5牛。
當在80℃的溫度下靜置2小時時，偏光板在縱向方向（MD）或橫向方向（TD）上的收縮力可大於或等於5牛且小於或等於10牛。
偏光板在高溫度及高濕度環境下具有優異的耐久性。具有優異的耐久性意指保護層具有優異的偏光器保護效應，並且可藉由對在偏光器上產生的裂紋的數量及長度進行計數來確定所述耐久性。具體而言，當在80℃下將偏光板靜置1,000小時時，在偏光器上產生的裂紋的長度可為5.0毫米或小於5.0毫米、4.5毫米或小於4.5毫米、或4.0毫米或小於4.0毫米。裂紋的長度是確定裂紋的標準，並且裂紋的長度方向可為偏光板的縱向方向。
保護層是包含活性能量射線固化性組成物的樹脂層，所述組成物包括環氧化合物及氧雜環丁烷化合物或其固化材料。可藉由保護層的紅外光（IR）譜來辨識環氧化合物的環氧基及氧雜環丁烷化合物的氧雜環丁烷官能基。
保護層執行支撐及保護偏光器的功能，並且直接形成在偏光器上，而在所述兩者之間不提供單獨的黏著層。形成保護層的方法可使用此項技術中眾所習知的方法，且舉例而言，可使用一種在偏光器的一個表面上塗佈用於形成保護層的組成物並固化所述結果的方法。
環氧化合物與氧雜環丁烷化合物的重量比可為9:1至1:9，且較佳地為9:1至7:3。當滿足上述數值範圍時，環氧化合物及氧雜環丁烷化合物的不同功能得到有效控制，從而使保護層具有優異的儲存模數，並且會獲得有效確保偏光板的高溫度及高濕度耐久性的優點。
環氧化合物用於降低固化後組成物的熱膨脹係數，並用於提供由所述組成物形成的保護層的強度（硬度（hardness）），並且可包括脂環族環氧化合物或脂族環氧化合物。
脂環族環氧化合物包括一或多個脂環族環氧環（alicyclic epoxy ring），且意指在形成脂族環的相鄰兩個碳原子之間形成具有環氧基的化合物。其實例可包括雙環戊二烯二氧化物、檸檬烯二氧化物、4-乙烯基環己烯二氧化物（4-vinylcyclohexene dioxide）、2,4-環氧環己基甲基（2,4-epoxycyclohexylmethyl）、3,4-環氧環己烷甲酸酯（3,4-epoxycyclohexanecarboxylate）、雙環戊二烯二氧化物、己二酸雙(3,4-環氧環己基甲基)酯（bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate）等，但並非僅限於此。此外，為了降低固化後組成物的熱膨脹係數並提供由組成物形成的黏著劑層的強度（硬度（hardness）），3,4-環氧環己基甲基-3,4'-環氧環己烷甲酸酯是較佳的。
脂族環氧化合物的實例可包括1,4-環己烷二甲醇二縮水甘油醚（1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether）、酚醛環氧樹脂（novolac epoxy）、雙酚A系環氧樹脂、雙酚F系環氧樹脂、溴化雙酚系環氧樹脂、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、正丁基縮水甘油醚、脂族縮水甘油醚（C12-C14）、2-乙基己基縮水甘油醚、苯基縮水甘油醚、鄰甲苯基縮水甘油醚（o-cresyl glycidyl ether）及壬基苯基縮水甘油醚。
氧雜環丁烷化合物不受特別限制，只要其在分子中具有至少一個氧雜環丁烷基即可，並且可使用此項技術中眾所習知的各種氧雜環丁烷化合物。本揭露的氧雜環丁烷化合物的實例可包括3-乙基-3-〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基〕氧雜環丁烷、1,4-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基〕苯、1,4-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基〕苯、1,3-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基〕苯、1,2-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基〕苯、4,4'-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基〕聯苯基、2,2'-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基〕聯苯基、3,3',5,5'-四甲基-4,4'-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基〕聯苯基、2,7-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基〕萘、雙〔4-{(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基}苯基〕甲烷、雙〔2-{(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基}苯基〕甲烷、2,2-雙〔4-{(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基}苯基〕丙烷、藉由以下產生的酚醛清漆型苯酚甲醛樹脂（novolac-type phenol-formaldehyde resin）的醚化變性產物（etherified denatured product）：3-氯甲基-3-乙基氧雜環丁烷、3(4),8(9)-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基〕-三環[5.2.1.0 2,6〕癸烷、2,3-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基〕降冰片烷、1,1,1-三〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基〕丙烷、1-丁氧基-2,2-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基〕丁烷、1,2-雙〔{2-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基}乙硫基〕乙烷、雙〔{4-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲硫基}苯基〕硫化物、1,6-雙〔(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基〕-2,2,3,3,4,4,5,5-八氟己烷（1,6-bis〔(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy〕-2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane）等，但並非僅限於此。
保護層可由包括環氧化合物及氧雜環丁烷化合物的活性能量射線固化性組成物形成，並且活性能量射線固化性組成物可包含光起始劑或光敏劑。
光起始劑的實例可包括α-羥基酮系化合物（例如，易璐佳（IRGACURE）184、IRGACURE 500、IRGACURE 2959、達羅卡（DAROCUR）1173；汽巴精化（Ciba Specialty Chemicals）（製造商））；苯甲醯甲酸酯（phenylglyoxylate）系化合物（例如，IRGACURE 754、DAROCUR MBF；汽巴精化（製造商））；苄基二甲基縮酮系化合物（例如，IRGACURE 651；汽巴精化（製造商））；α-胺基酮系化合物（例如，IRGACURE 369、IRGACURE 907、IRGACURE 1300；汽巴精化（製造商））；單醯基膦系化合物（MAPO）（例如，DAROCUR TPO；汽巴精化（製造商））；雙醯基磷雜環戊二烯系化合物（bisacyl phosphene-based compound）（BAPO）（例如，IRGACURE 819、IRGACURE 819DW；汽巴精化（製造商））；氧化膦系化合物（例如，IRGACURE 2100；汽巴精化（製造商））；茂金屬系化合物（例如，IRGACURE 784；汽巴精化（製造商））；碘鎓鹽（iodonium salt）（例如，IRGACURE 250；汽巴精化（製造商））；其中一或多種的混合物（例如，DAROCUR 4265、IRGACURE 2022、IRGACURE 1300、IRGACURE 2005、IRGACURE 2010、IRGACURE 2020；汽巴精化（製造商））等。在本揭露中，可使用其中的一種類型、或者二或更多種類型，然而，光起始劑並非僅限於此。
光敏劑是一種能夠藉由利用長波長紫外線（UV）照射被活化而起始碘系陽離子起始劑的化合物。其實例可包括碘鎓雙(4-甲基苯基)六氟磷酸鹽、[4-甲基苯基-(4-(2-甲基丙基)苯基)]碘鎓六氟磷酸鹽、4-異丙基-4'-甲基二苯基碘鎓-四(五氟苯基)硼酸鹽等，但並非僅限於此。相對於100重量份的用於偏光板的黏著劑組成物，光敏劑的含量較佳地為0.01重量份至20重量份，更佳地為0.01重量份至10重量份，且最佳地為0.01重量份至5重量份。在本說明書中，單位「重量份」意指各組分之間的重量比。
較佳地以0.1:1至4:1或2:1至4:1的重量比包含光起始劑及光敏劑。滿足上述範圍具有提高光起始效率的優點。
偏光器不受特別限制，只要其滿足所述收縮力即可，且舉例而言，可使用由包含碘或二色性染料的聚乙烯醇（polyvinyl alcohol，PVA）形成的膜。可藉由用碘或二色性染料對聚乙烯醇膜進行染色來製備偏光器，然而，製備所述偏光器的方法不受特別限制。在本說明書中，偏光器意指不包括保護層（或低透濕性基板層）的狀態，且偏光板意指包括偏光器及保護層（或低透濕性基板層）的狀態。
同時，偏光器可具有大約5微米至40微米、且更佳地5微米至25微米的厚度。當偏光器的厚度小於上述範圍時，光學性質可能下降，並且存在難以製備薄膜的問題。
當偏光器是聚乙烯醇系膜時，可不受特別限制地使用聚乙烯醇系膜，只要其包括聚乙烯醇樹脂或其衍生物即可。在本文中，聚乙烯醇的衍生物可包括但不限於聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚乙烯醇縮醛樹脂（polyvinyl acetal resin）等。或者，作為聚乙烯醇系膜，亦可使用在此項技術中一般用於偏光器製備的市售聚乙烯醇系膜，例如可樂麗有限公司（Kuraray Co., Ltd.）的P30、PE30及PE60以及日本合成有限公司（Nippon Gohsei Co., Ltd.）的M2000、M3000、M6000及M4504L。儘管並非僅限於此，但聚乙烯醇系膜有利地具有大約1,000至10,000、且較佳地大約1,500至5,000的聚合度。當聚合度滿足上述範圍時，分子運動是自由的，並且與碘、二色性染料等的混合是順暢的。
在偏光器與低透濕性基板層之間，可更包括厚度大於或等於1微米且小於或等於10微米或大於或等於2微米且小於或等於4微米的黏著劑層，並且所述黏著劑層可為黏著劑組成物的固化材料。
黏著劑組成物的組成不受特別限制，只要其用於將低透濕性基板層黏附在偏光器上即可，並且其實例可包括環氧化合物與氧雜環丁烷化合物的混合物。對環氧化合物及氧雜環丁烷化合物的說明與上述相同。
本說明書的一個實施例提供一種製備上述偏光板的方法，所述方法包括：製備偏光器；在所述偏光器的一個表面上提供低透濕性基板層；以及在所述偏光器的另一表面上形成保護層。
形成保護層可包括在偏光器的另一表面上塗佈活性能量射線固化性組成物並固化所述結果。
在偏光器的一個表面上提供低透濕性基板層可包括在偏光器與低透濕性基板層之間塗佈黏著劑組成物並固化所述結果。
可使用此項技術中眾所習知的方法在偏光器的一個表面上提供低透濕性基板層。舉例而言，可在捲繞在每個輥上的同時供應偏光器及低透濕性基板，然而，所述方法並非僅限於此。每個膜的供應速率不受特別限制，只要其對於製備製程而言為合適的值即可，但其可為例如大於或等於5米/分鐘（meter/min）且小於或等於100米/分鐘，或者大於或等於10米/分鐘且小於或等於30米/分鐘。此具有低透濕性基板層穩定地黏附至偏光器的優點。
在25℃下，活性能量射線固化性組成物可具有50厘泊（cPs）至200厘泊、50厘泊至130厘泊、較佳地60厘泊至130厘泊、且更佳地大於或等於70厘泊且小於或等於130厘泊的黏度。滿足上述數值範圍會改善組成物可塗佈性，從而具有可加工性（processability）優異的優點。
偏光器可為細長的。換言之，根據用於製備根據本說明書的偏光板的方法，偏光器可在偏光器的供應製程之前進一步經歷伸長製程。偏光器的伸長製程在條件等方面不受特別限制。
藉由在偏光器的另一表面上塗佈活性能量射線固化性組成物來形成保護層可使用單獨的載體膜。具體而言，在供應載體膜的同時，組成物被塗佈在載體膜與偏光器之間，並且在組成物固化之後，可自偏光板剝離載體膜。
上面塗佈活性能量射線固化性組成物的表面不受限制，且舉例而言，活性能量射線固化性組成物可塗佈在載體膜的偏光器鄰接表面上。
塗佈活性能量射線固化性組成物的方法不受特別限制，只要其能夠均勻地塗佈必要量的組成物即可。舉例而言，可使用旋塗法、棒塗法（bar coating）、輥塗法、凹版塗佈法、刮刀塗佈法等方法，且對於連續製程而言，較佳地使用輥塗。
製備偏光板的方法可包括對偏光板加壓，以確保與每種構造的結合強度。具體而言，加壓可在0.1百萬帕至10百萬帕或0.2百萬帕至8百萬帕的壓力下進行。滿足上述數值範圍的優點在於：有效地移除了在結合膜時引入的氣泡，同時確保了穩定的運行性質（running property）而不損壞偏光器。
製備偏光板的方法可包括固化活性能量射線固化性組成物。
製備偏光板的方法可包括固化黏著劑層。
活性能量射線固化性組成物的固化及黏著劑層的固化可藉由照射活性能量射線來進行。用於照射活性能量射線的器件不受特別限制，且其實例可包括融合燈（fusion lamp）、弧光燈（arc lamp）、發光二極體（LED）及低壓燈。
活性能量射線可具有100毫焦耳/平方厘米至1,000毫焦耳/平方厘米、且較佳地500毫焦耳/平方厘米至1,000毫焦耳/平方厘米的光強，並且照射光的照射時間可為1秒至10分鐘，且較佳地為2秒至30秒。
當滿足活性能量射線的光強範圍及照射時間範圍時，保護層的固化速率高，並且防止了自光源的過度熱傳遞，而不會降低膜的外觀性質及光學性質，並且其使在偏光器上出現運行褶皺（running wrinkle）最小化，從而具有生產率優越的優點。
圖2為示出根據本說明書的一個實施例的影像顯示器件的示意性剖視圖。
當參照圖2時，根據本說明書的一個實施例的影像顯示器件包括上述偏光板。上述偏光板（100）可附接在液晶面板（200）的一個表面或兩個表面上。在本文中，偏光板（100）可藉由膠黏層（40）附接至液晶面板（200）。
為了附接至顯示器件面板或例如延遲膜等光學膜，偏光板可更視需要在保護層的偏光器鄰接表面的另一表面上包括膠黏層。具體而言，偏光板可更在與保護層的偏光器鄰接表面相對的表面上包括膠黏層。
在本文中，可使用此項技術中眾所習知的各種膠黏劑形成膠黏層，並且類型不受特別限制。舉例而言，黏著層可使用橡膠系黏著劑、丙烯酸系膠黏劑、矽酮系膠黏劑、胺基甲酸酯系膠黏劑、聚乙烯醇系膠黏劑、聚乙烯吡咯啶酮系膠黏劑、聚丙烯醯胺系膠黏劑、纖維素系膠黏劑、乙烯基烷基醚系膠黏劑等形成。考量到透明度、耐熱性等，在該些膠黏劑中，尤其較佳的是使用丙烯酸系膠黏劑。
同時，膠黏層可使用在保護層頂部塗佈膠黏劑的方法形成，或者亦可使用在保護層頂部附接膠黏片的方法形成，所述膠黏片是藉由在單獨的剝離片（release sheet）上塗佈膠黏劑且然後乾燥所述結果而製備的。
本揭露的此種偏光板可用於影像顯示器件，例如液晶顯示器件。
影像顯示器件包括：液晶面板；上偏光板，設置在液晶面板的上表面上；以及下偏光板，設置在液晶面板的下表面上。
根據本說明書的一個實施例的影像顯示器件包括：液晶面板；上偏光板，設置在液晶面板的上表面上；以及根據本說明書的偏光板，作為設置在液晶面板的下表面上的下偏光板。
根據本說明書的一個實施例的影像顯示器件包括：液晶面板；根據本說明書的偏光板，作為設置在液晶面板的上表面上的上偏光板；以及下偏光板，設置在液晶面板的下表面上。
根據本說明書的一個實施例的影像顯示器件包括：液晶面板；上偏光板，設置在液晶面板的上表面上；以及下偏光板，設置在液晶面板的下表面上，且所述上偏光板及所述下偏光板為根據本說明書的偏光板。
在本文中，液晶顯示器件中所包括的液晶面板的類型不受特別限制。舉例而言，在類型不受限制的情況下，包括以下面板的習知面板皆可使用：被動矩陣型面板，例如扭曲向列（twisted nematic，TN）型、超扭曲向列（super twisted nematic，STN）型、鐵電（ferroelectric，F）型或聚合物分散（polymer dispersed，PD）型；主動矩陣型面板，例如雙端子（two terminal）型或三端子（three terminal）型；面內切換（in plane switching，IPS）型面板及垂直對準（vertical alignment，VA）型面板。此外，形成液晶顯示器件的其他構造的類型（例如，上基板及下基板（例如，濾色片基板或陣列基板））亦不受特別限制，並且可使用此項技術中習知的構造，對此並無限制。
在下文中，將參照實例更詳細地描述本說明書。然而，以下實例僅用於說明目的，並且本說明書的範圍不受限於此。> 製備例：製備活性能量射線固化性組成物 > > 製備例 1 ：製備用於形成保護層的組成物 >
藉由混合65重量份的3,4-環氧環己基甲基-3',4'-環氧環己烷甲酸酯（產品名稱賽羅西德（Celloxide）-2021）及15重量份的作為環氧化合物的1,4-環己基二甲醇二縮水甘油醚（錢德麥吉（CHDMDGE））以及20重量份的作為氧雜環丁烷化合物的3-乙基-3-[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基]氧雜環丁烷（東亞合成有限公司（TOAGOSEI Co., Ltd.），阿倫氧雜環丁烷OXT-221（ARON OXETANE OXT-221））而製備了混合物，且相對於100重量份的所述混合物向其中添加了3重量份的光起始劑（產品名稱：IRGACURE 250）以及1重量份的光敏劑（產品名稱：易曬固ITX（ESACURE ITX）），以製備用於形成保護層1的組成物。> 製備例 2 ：製備用於形成保護層 2 的組成物 >
藉由混合42重量份的3,4-環氧環己基甲基-3',4'-環氧環己烷甲酸酯（產品名稱Celloxide-2021）及28重量份的作為環氧化合物的1,4-環己基二甲醇二縮水甘油醚（CHDMDGE）以及30重量份的作為氧雜環丁烷化合物的3-乙基-3-[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基]氧雜環丁烷（東亞合成有限公司，阿倫氧雜環丁烷OXT-221）而製備了混合物，且相對於100重量份的所述混合物向其中添加了3重量份的光起始劑（產品名稱：IRGACURE 250）以及1重量份的光敏劑（產品名稱：ESACURE ITX），以製備用於形成保護層2的組成物。> 製備例 3 ：用於形成保護層 3 的組成物的製備 >
藉由混合80重量份的作為環氧化合物的3,4-環氧環己基甲基-3',4'-環氧環己烷甲酸酯（產品名稱Celloxide-2021）及20重量份的作為氧雜環丁烷化合物的3-乙基-3-[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基]氧雜環丁烷（東亞合成有限公司，阿倫氧雜環丁烷OXT-221）而製備了混合物，且相對於100重量份的所述混合物向其中添加了3重量份的光起始劑（產品名稱：IRGACURE 250）以及1重量份的光敏劑（產品名稱：ESACURE ITX），以製備用於形成保護層3的組成物。> 製備例 2 ：製備偏光板 > > 比較例 1 ：製備偏光板 >
將黏著劑組成物塗佈在了偏光器（厚度為17微米的聚乙烯醇系細長膜，製造商：日本合成有限公司）的一個表面上，以層壓低透濕性基板層（厚度為80微米的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜，由日本東洋有限公司（Toyobo Co., Ltd.）製造）。然後，將用於形成保護層1的組成物塗佈並層壓在了偏光器的上面未層壓低透濕性基板層的表面上，以製備偏光板。此後，藉由使用融合燈（fusion lamp）照射紫外線來固化用於形成保護層的組成物及黏著劑而製備了偏光板。在本文中，保護層的厚度為4.1微米。> 參照例 1 ：製備偏光板 >
除了使用用於形成保護層2的組成物代替用於形成保護層1的組成物並將保護層的厚度改變為4.5微米至5微米以外，以與比較例1中相同的方式製備了偏光板。> 參照例 2 ：製備偏光板 >
將黏著劑組成物塗佈在了偏光器（厚度為17微米的聚乙烯醇系細長膜，製造商：日本合成有限公司）的一個表面上，以層壓低透濕性基板層（厚度為60微米的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜，由日本東洋有限公司製造）。然後，將用於形成保護層1的組成物塗佈並層壓在了偏光器的上面未層壓低透濕性基板層的表面上，以製備偏光板。此後，藉由使用融合燈（fusion lamp）照射紫外線來固化用於形成保護層的組成物及黏著劑而製備了偏光板。在本文中，保護層的厚度為5.9微米。> 參照例 3 ：製備偏光板 >
除了將60微米低透濕性基板改變為80微米低透濕性基板以外，以與參照例2相同的方式製備了偏光板。> 實例 1 ：製備偏光板 >
除了將保護層的厚度改變為4.5微米至5微米以外，以與比較例1相同的方式製備了偏光板。> 實例 2 ：製備偏光板 >
除了將保護層的厚度改變為5.9微米以外，以與比較例1相同的方式製備了偏光板。> 實例 3 ：製備偏光板 >
除了將保護層的厚度改變為6.5微米以外，以與比較例1相同的方式製備了偏光板。> 實例 4 ：製備偏光板 >
除了使用用於形成保護層3的組成物代替用於形成保護層1的組成物並將保護層的厚度改變為4.5微米至5微米以外，以與比較例1中相同的方式製備了偏光板。> 實驗例 1 ：耐熱性評估 >
對於每個偏光板，進行了評估高溫耐久性的實驗。使用膠黏劑作為介質，將偏光板附接在了厚度為2.7 T且對角線長度為55英吋（inch）或大於55英吋的玻璃的上表面及下表面上。
將附接有偏光板的玻璃引入室中，並且在80℃下將所述玻璃靜置100小時、250小時、500小時及1,000小時（亦即，最終留置時間（final leaving time）為1,000小時）後，取出所述玻璃以辨識是否出現裂紋。當產生一或多個裂紋時，將其評估為「出現裂紋」，且結果總結於下表1中。在本文中，長度長於5.0毫米的裂紋被確定為裂紋。
圖4及圖5示出了評估是否對應於裂紋的方法。
即使在出現裂紋時，當裂紋是由於例如刮擦（scratch）等外部因素而產生的時，亦將其確定為未出現最終裂紋（良（OK）），而當裂紋是由於耐熱性問題而產生且並非是由外部因素導致的時，將其確定為出現最終裂紋（不良（NG））。
作為實驗的結果，辨識出根據比較例1的偏光板已出現裂紋，且此示於圖3中。
然而，根據實例1至實例3的偏光板具有足夠厚的保護層，並且藉由保護層具有優異的偏光器保護效應，並且藉由適當控制偏光器應力，已辨識出未出現裂紋。> 實驗例 2 ：評估平面度 >
將所製備的偏光板附接在了厚度為0.7 T的32英吋玻璃的上表面及下表面中的每一者上，以製備層壓體。將所述層壓體引入溫度為60℃的室中達72小時，且然後在經過24小時後取出以量測平面度的變化。術語平面度是最彎曲部分與上偏光板側之間以及最彎曲部分與下偏光板之間的差，且所述平面度是使用德科因公司（Duck-In Corporation）的3D量測器件而量測的。同時，量測結果示於圖6（參照例2）、圖7（參照例3）及圖8（實例4）中。
初始彎曲：在25℃及相對濕度（RH）50%的環境下層壓低透濕性基板層後立即量測
後期彎曲：在層壓低透濕性基板層、將結果留置於60℃的室中72小時且然後在室外25℃及相對濕度50%的環境下將所述結果留置2小時後量測
比較例及實例的偏光板的構造及實驗結果示於下表1中。自保護層的厚度及儲存模數計算了強度係數，且自低透濕性基板層的收縮力及厚度計算了收縮係數。
[表1]
Figure 108118447-A0304-0001
自上述結果辨識出，當調整保護層的厚度時，高溫耐久性（耐熱性）得到增強。具體而言，在將比較例1與實例1至實例3進行比較時，辨識出當保護層具有小於4.5微米的厚度時耐熱性降低。當調整保護層的強度係數值的範圍時，辨識出增強保護層的高溫耐久性的結果。具體而言，在將參照例1與實例1至實例4進行比較時，辨識出當保護層具有小於6,750（百萬帕*微米）的強度係數時，耐熱性降低。當調整低透濕性層的收縮係數值的範圍時，辨識出平面度藉由降低偏光板的整體高溫耐久性而降低。具體而言，在將參照例2及參照例3與實例4進行比較時，辨識出當收縮係數小於60（牛*微米）時，平面度的變化為大。自上述結果辨識出，當調整保護層的厚度、保護層的強度係數值及低透濕性基板層的收縮係數值時，能夠提供具有優異高溫耐久性的偏光板。> 實驗例 3 ：組成物可加工性評估 >
對在製備例1中製備的用於形成保護層1至保護層3的組成物進行了可加工性測試。將用於形成保護層的組成物塗佈在了偏光器的一個表面上，並且以0.4百萬帕的層壓壓力對所述組成物進行了層壓，並且在本文中，膜的供應速率為18米/分鐘。針對偏光板的中心（center）及側面（side）量測了所形成的保護層的厚度，並記錄了結果。
[表2]
Figure 108118447-A0304-0002
當參照表2時，黏度僅為60厘泊的組成物2具有顯著降低的可塗佈性，且因此難以形成具有大的厚度的保護層。另一方面，具有高黏度的組成物1及組成物3有利於形成具有大的厚度的保護層。
10‧‧‧偏光器 20‧‧‧保護層 30‧‧‧低透濕性基板層 40‧‧‧膠黏層 100‧‧‧偏光板 200‧‧‧影像顯示裝置
圖1示出根據本說明書的一個實施例的偏光板。 圖2示出根據本說明書的另一實施例的影像顯示器件。 圖3示出在根據實驗例1中的比較例1的偏光板上出現裂紋。 圖4及圖5示出判斷其是否對應於裂紋的方法。 圖6至圖8示出根據實驗例2的平面度實驗的結果。
10‧‧‧偏光器
20‧‧‧保護層
30‧‧‧低透濕性基板層
40‧‧‧膠黏層

Claims (15)

  1. 一種偏光板，包括： 偏光器； 低透濕性基板層，設置在所述偏光器的一個表面上；以及 保護層，設置在所述偏光器的另一表面上， 其中所述保護層的厚度大於或等於4.5微米且小於或等於10微米；且 所述保護層是包含活性能量射線固化性組成物的樹脂層，所述組成物包括環氧化合物及氧雜環丁烷化合物或其固化材料。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述保護層具有大於或等於6,750且小於或等於60,000的強度係數值，所述強度係數值由以下數學公式1表示： [數學公式1] 強度係數（百萬帕*微米）=保護層的儲存模數×保護層的厚度 在數學公式1中， 所述保護層的所述儲存模數意指在溫度範圍為-10℃至160℃、升溫速率為5℃/分鐘且應變為10%的量測條件下，在80℃下的儲存模數。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中由以下數學公式2表示的收縮係數值大於或等於60且小於或等於900： [數學公式2] 收縮係數（牛*微米）=低透濕性基板層的收縮力×低透濕性基板層的厚度 在數學公式2中， 所述低透濕性基板層的所述收縮力意指在80℃下靜置2小時後在橫向方向上的收縮力。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中在溫度範圍為-10℃至160℃、升溫速率為5℃/分鐘且應變為10%的量測條件下，所述保護層的儲存模數在80℃下大於或等於1,200百萬帕並且小於或等於10,000百萬帕。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述保護層的厚度大於或等於4.5微米且小於或等於8.5微米。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中當在80℃的溫度下靜置2小時時，所述低透濕性基板層在橫向方向上的收縮力大於或等於1牛且小於或等於10牛。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述低透濕性基板層具有大於或等於40微米且小於或等於100微米的厚度。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述低透濕性基板層具有60克/平方米*天或小於60克/平方米*天的透濕性。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述保護層與所述低透濕性基板層具有1:3至1:20的厚度比。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中當在80℃的溫度下靜置2小時時，所述偏光板在縱向方向或橫向方向上的收縮力大於或等於5牛且小於或等於10牛。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中當在80℃下將所述偏光板靜置1,000小時時，在所述偏光器上產生的裂紋的長度為5.0毫米或小於5.0毫米。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述環氧化合物與所述氧雜環丁烷化合物具有9:1至1:9的重量比。
  13. 一種製備如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述的偏光板的方法，所述方法包括： 製備偏光器； 在所述偏光器的一個表面上提供低透濕性基板層；以及 在所述偏光器的另一表面上形成保護層。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的製備偏光板的方法，其中所述形成保護層包括在所述偏光器的所述另一表面上塗佈活性能量射線固化性組成物並固化所述結果，並且所述活性能量射線固化性組成物在25℃下具有50厘泊至200厘泊的黏度。
  15. 一種影像顯示器件，包括： 液晶面板； 第一偏光板，設置在所述液晶面板的上表面上；以及 第二偏光板，設置在所述液晶面板的下表面上， 其中所述第一偏光板及所述第二偏光板為如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述的偏光板。
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