KR20190135433A - 편광판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 - Google Patents

편광판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 Download PDF

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KR20190135433A
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Abstract

본 명세서는 편광판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다.

Description

편광판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 화상 표시 장치{POLARIZING PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING SAME AND IMAGE DISPLAY APPARATUS COMPRISING SAME}
본 출원은 2018년 5월 28일 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2018-0060693호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 명세서는 편광판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
기존 액정 표시 장치용 편광판은 일반적인 폴리비닐알코올계 편광자를 사용하고, 그 편광자의 적어도 한쪽 면에 TAC 등의 저투습 기재층을 부착하는 구성으로 되어 있다.
최근 편광판 시장에서는 저빛샘 및 박형화에 따른 요구가 높아지고 있어, 이 물성을 만족하기 위하여 기존의 미리 제막한 보호 기재를 적용하는 대신 편광자 상에 직접 보호막을 형성하는 방법이 검토되고 있다.
다만, 기존 폴리비닐알코올계 연신 타입 폴리비닐알코올계 편광자 상에 직접 보호막을 형성하는 경우, 기존처럼 양면에 보호기재를 적용하는 경우에 비해 고온에서 편광자 수축에 의해 발생되는 응력에 의해 편광자의 찢어짐 현상이 발생되는 문제를 해결하기 어려웠다.
일본 공개 특허 2007-047498 A
본 명세서는 편광판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하고자 한다.
본 명세서는 편광자; 상기 편광자의 일면에 구비된 저투습 기재층; 및 상기 편광자의 타면에 구비된 보호층을 포함하고, 상기 보호층의 두께는 4.5㎛ 이상 10㎛ 이하이고, 상기 보호층은 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 활성 에너지선 경화형 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 수지층인 것인 편광판을 제공한다.
또한, 본 명세서는 편광자를 준비하는 단계; 상기 편광자의 일면에 저투습 기재층을 구비하는 단계; 및 상기 편광자의 타면에 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 상술한 편광판의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 명세서는 상술한 편광판을 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 보호층의 두께가 얇으면서도 고온 및 고습 환경에서 편광자의 크랙 발생이 억제된 장점을 가진다.
또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 고온 및 고습 환경에서의 내구성이 우수하여, 대면적을 갖는 액정표시장치에 적용시 빛샘 현상을 억제할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판을 도시한 것이다.
도 2는 본 명세서의 다른 실시상태에 따른 화상 표시 장치를 도시한 것이다.
도 3은 실험예 1에서 비교예 1에 따른 편광판에 크랙이 발생할 것을 나타낸 것이다.
도 4 및 도 5는 크랙에 해당하는 지 여부를 판정하는 방법을 예시한 것이다.
도 6 내지 도 8은 실험예 2에 따른 평면도 실험 결과를 나타낸 것이다.
이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서는 편광자; 상기 편광자의 일면에 구비된 저투습 기재층; 및 상기 편광자의 타면에 구비된 보호층을 포함하고, 상기 보호층의 두께는 4.5㎛ 이상 10㎛ 이하이고, 상기 보호층은 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 활성 에너지선 경화형 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 수지층인 것인 편광판을 제공한다.
본 명세서에서 용어 「조성물의 경화」는, 상기 조성물의 성분의 물리적 작용 또는 화학적 반응 등에 의하여 조성물이 접착 또는 점착 특성을 발현할 수 있도록 변화하는 과정을 의미한다. 또한, 본 명세서에서 용어 「활성 에너지선」은, 마이크로파(microwaves), 적외선(IR), 자외선(UV), X선 및 γ선은 물론 α 입자선(α particle beam), 프로톤빔(proton beam), 뉴트론빔(neutron beam) 및 전자선(electron beam)과 같은 입자빔 등을 의미할 수 있고, 통상적으로는 자외선 또는 전자선 등일 수 있다. 또한, 상기에서 「활성 에너지선 경화형」이란 상기와 같은 경화가 활성 에너지선의 조사에 의해 유도될 수 있다는 것을 의미할 수 있다. 본 발명의 하나의 예시에서, 상기 활성에너지선 경화형 조성물의 경화는, 활성 에너지선의 조사에 의한 자유 라디칼 중합 또는 양이온 반응을 통하여 수행될 수 있고, 바람직하게는 자유 라디칼 중합 및 양이온 반응이 동시 또는 순차로 함께 진행되어 수행할 수 있다.
상기 편광자는 통상적으로 폴리비닐알코올 등과 같은 친수성 수지로 제조되기 때문에, 일반적으로 수분에 취약한 특성을 나타낸다. 또한, 편광자의 제조 시에는 연신 공정을 거치는 것이 일반적이어서, 가습 조건 하에서는 수축 등이 일어나기 쉽고, 이에 따라 편광판의 광학 특성 등이 악화되는 문제점이 있다. 따라서, 통상적으로는 편광자의 물성 보강 등을 위하여, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 등으로 대표되는 저투습 기재층을 편광자의 양면에 부착되는 것이 일반적이고, 저투습 기재층이 존재하지 않으면, 편광자의 취약한 치수 안정성으로 인해 내구성 및 광학 물성이 크게 떨어지고, 내수성도 현격히 취약하게 되는 문제점이 있다.
이를 위해, 본 발명의 편광판의 하나의 예시적인 구조에서는, 편광자의 일면에 저투습 기재층을 구비하고, 상기 편광자의 타면에 보호층을 포함함으로써, 보다 얇고 가벼운 구조를 구현할 수 있으며, 보호층의 두께를 일정 수준 범위로 조절하고, 보호층을 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 조성물로부터 형성함으로써 편광자에 대한 보호층의 보호 효과를 향상시킴으로써 우수한 고온 내수성을 확보하였다.
본 명세서에서, 상기와 같이 편광자의 적어도 일면에서 저투습 기재층의 부착이 생략된 편광판은 박형 편광판(thin polarizer)으로 호칭될 수도 있다.
도 1은 상기 편광판(100)을 나타내는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 상기 편광판(100)은 편광자(10); 상기 편광자(10)의 일면에 구비된 저투습 기재층(30); 및 상기 편광자(10)의 타면에 구비된 보호층(20)을 포함한다. 또한, 상기 보호층(20)의 편광자(10)에 접하는 면의 타면에 점착층(40)을 더 구비할 수 있다.
상기 보호층의 저장 탄성률과 보호층의 두께의 관계를 일정 범위로 조절하는 경우, 보호층에 의한 편광자 보호 효과가 증대될 수 있다. 구체적으로, 상기 보호층의 하기 수학식 1로 표시되는 강도 계수값이 6,750 이상 60,000 이하, 바람직하게는 8,100 이상 50,000 이하, 더욱 바람직하게는 9,000 이상 40,000 이하일 수 있다. 상기 강도 계수란, 보호층의 강도를 나타내는 파라미터로써, 보호층의 저장 탄성률과 보호층의 두께를 곱하여 산출한다. 상기 보호층의 강도 계수값이 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 상기 편광자에 가해지는 스트레스를 효과적으로 억제하여, 고온 또는 고습 환경에서 편광자의 수축 또는 팽창에 의한 편광자의 크랙 발생을 효과적으로 억제하는 효과가 있다. 또한, 편광자에 대한 우수한 접착력을 확보할 수 있는 장점이 있다.
[수학식 1]
강도 계수(Mpa*㎛) = 보호층의 저장 탄성률 × 보호층의 두께
상기 수학식 1에 있어서, 상기 보호층의 저장 탄성률은 온도 구간 -10℃~160℃, 승온 속도 5℃/min, strain 10% 측정 조건에서, 80℃의 저장탄성률을 의미한다.
상기 편광판의 내열성 확보 또는 편광판의 휨 특성을 개선하기 위하여 상기 보호층의 저장 탄성률을 일정 범위로 조절할 수 있다. 구체적으로, 상기 보호층의 온도 구간 -10℃~160℃, 승온 속도 5℃/min, strain 10% 측정 조건에서, 80℃의 저장탄성률은 1,200 Mpa 이상 10,000Mpa 이하, 바람직하게는 1,400 Mpa 이상 9,000Mpa 이하, 더욱 바람직하게는 1,600 Mpa 이상 7,000Mpa 이하일 수 있다. 상기 범위를 만족할 때, 고온 고습 환경 하에서 편광판을 장기간에 걸쳐 보관할 때에도 편광자를 우수하게 보호할 수 있으므로 편광자에 크랙이 발생하는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
상기 보호층의 저장 탄성률은 상기 보호층과 동일한 조성을 갖는 시편을 제작하여 측정할 수 있다. 구체적으로, 이형필름(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름)에 상기 보호층과 동일한 조성을 갖는 광경화성 조성물을 두께 50 ㎛로 도포하고, 광량 1,000mJ/cm2 이상의 조건에서 자외선을 조사하여 경화시킨 후, 이형 필름을 제거하고, 시편을 일정한 크기로 레이저 재단한다. 이후, DMA(Dynamic Mechanical Analysis)를 통해 저장 탄성률을 측정한다. 이때, 측정온도는 -10℃의 시작 온도에서 5℃/min의 승온 속도로 160℃까지 승온 시키면서 10%의 strain으로 일정하게 인장할 때의 저장 탄성률을 측정하였으며, 80℃일 때의 저장 탄성률 값을 기록하였다.
상기 보호층의 편광자에 대한 보호 효과를 확보하면서, 전체 두께가 얇은 편광판을 제공하기 위하여 상기 보호층의 두께를 일정 범위로 조절할 수 있다. 구체적으로, 상기 보호층의 두께는 4.5㎛ 이상 10㎛ 이하, 바람직하게는 4.5㎛ 이상 8.5㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 4.5㎛ 이상 7㎛ 이하일 수 있다. 보호층의 두께가 4.5㎛ 미만인 경우, 보호층의 편광자 보호 기능이 충분히 확보될 수 없어서, 고온 또는 고습 환경에서 편광자의 크랙이 발생하는 것을 효과적으로 억제하기 어렵다. 또한, 10㎛를 초과하는 경우, 편광판의 박형화 측면에서 적절하지 않으므로, 상기 보호층의 두께를 4.5㎛ 이상 10㎛ 이하로 조절하였다. 상기 보호층의 두께는 편광판의 단면을 주사 전자 현미경 또는 투과 전자 현미경을 통해 측정할 수 있다.
상기 보호층의 80℃에서의 열팽창계수가 100 ppm/K 이하, 85ppm/K 이하, 10ppm/K 이상 100ppm/K 이하, 10ppm/K 이상 85ppm/K 이하일 수 있다. 보호층의 열팽창계수가 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 고온 환경하에서 보호층의 물성이 유지될 수 있는 장점이 있다.
상기 보호층의 열팽창계수의 측정 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 50㎛ 두께를 갖는 경화된 시편을 폭 6mm 및 길이 10mm의 크기로 재단하고, Tension Load를 0.05N으로 유지한 상태에서 온도를 30℃에서 시작하여 150℃까지 상승하면서 길이 변화를 측정 한다. 이때 승은 속도는 5℃/min이며, 측정이 완료된 후 40℃에서 목표 온도까지 변화된 길이로서 열팽창계수(CTE) 값을 계산 한다. 이때, 상기 목표 온도는 80℃이다.
상기 저투습 기재층의 수축력을 조절함으로써, 편광판의 휨 특성을 개선할 수 있다. 구체적으로, 상기 저투습 기재층의 온도 80℃에서 2시간 방치시 TD 방향으로의 수축력이 1N 이상 10N 이하, 3N 이상 10N 이하, 바람직하게는 3.5N 이상 9.5N 이하, 더욱 바람직하게는 4N 이상 9N 이하일 수 있다.
상기 수축력은 TA Instrument 사의 동적 물성 분석기(Dynamic Mechanical Analysis: DMA)를 사용하여 측정될 수 있고, 예를 들어, 상기 분석기는 25℃에서 시작하여, 3분 후 75℃에 도달하고, 7분 후 80℃로 안정화될 수 있다. 측정 시간은 2시간이며, 80℃ 안정화 이후 120분이 지난 후의 값을 측정한다. 측정 방법은 샘플을 클램프에 체결하고 예압(preload) 0.01N 상태에서, 스트레인(strain) 0.1%를 유지하도록 샘플을 잡아당겨 고정시킨 후, 고온에서 스트레인 0.1%를 유지할 때 걸리는 수축력을 측정한다. 한편, 상기 샘플은 약 5.3mm의 폭 및 약 15mm의 길이로 제작될 수 있으며, 상기 샘플의 길이 방향의 양 말단을 측정 장비의 클램프에 고정한 후 수축력을 측정할 수 있다. 상기 샘플의 길이는 클램프에 고정되는 부분을 제외한 길이이다.
상기 MD 방향은 흡수축(machine direction)을 나타내고, TD 방향은 투과축(Traverse direction)을 나타낼 수 있으며, MD 방향과 TD 방향은 서로 직교한다.
상기 저투습 기재층이 수분을 더욱 잘 차단할 수 있도록, 저투습 기재층의 두께를 조절할 수 있다. 구체적으로, 상기 저투습 기재층의 두께는 40㎛ 이상 100㎛ 이하, 40㎛ 이상 80㎛ 이하, 바람직하게는 50㎛ 이상 80㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 60㎛ 이상 80㎛ 이하일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 저투습 기재층의 수분 침투 방지 효과가 증대될 수 있다.
상기 저투습 기재층은 편광자에 수분 등이 침투하는 것을 억제하기 위한 것으로, 수분 투과율이 60g/m2*day 이하, 바람직하게는 55g/m2*day 이하, 더욱 바람직하게는 50g/m2*day 이하일 수 있고, 예를 들면 0.1 g/m2*day 이상 50g/m2*day 이하일 수 있다. 상기 수분 투과율은 일정한 외부 환경에서 단위 시간(day) 및 단위 면적(m2)당 수분이 통과하는 양(g)을 의미하며, 40℃ 또는 37.8℃의 온도 조건 및 저투습 기재층의 내부와 외부의 습도 차이가 90%인 환경 하에서 측정될 수 있다. 상기 수분 투과율의 측정 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예컨대 상술한 조건에서 하루(1day) 동안 저투습 기재층을 투과하는 수분의 무게(g)를 공지의 투습도 측정 장비로 측정할 수 있다. 예를 들어, Labthink 사의 WVTR 장비(장비명: WVTR TSY-T3)를 이용하여 측정할 수 있다. 상기 장비는 밀폐된 챔버 내에 저울이 있는 구조이며, 챔버 내 환경은 40℃ 및 습도 10%로 유지된다. 또한, 투습컵에 물을 부은 후, 그 위에 저투습 기재층과 동일한 저투습 기재 필름을 덮고 고정시킨다. 투습컵 내부의 습도는 물이 가득 차 있어 100% 이므로, 투습컵 내부와 외부의 습도 차이는 90%가 된다. 24시간 경과 후, 투습컵의 무게를 측정하여 초기 무게와의 차이를 통해 증발한 물의 양을 계산할 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 저투습 기재층의 수분 침투 기능이 충분히 수행될 수 있다.
상기 저투습 기재층의 수축력과 저투습 기재층의 두께를 조절하는 경우, 저투습 기재층에 의한 편광판의 전체 내구성이 향상될 수 있다. 구체적으로, 하기 수학식 2로 표시되는 수축 계수값이 60 이상 900 이하, 바람직하게는 100 이상 900 이하, 더욱 바람직하게는 120 이상 800 이하일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 저투습 기재층의 수축력과 저투습 기재층의 두께가 충분히 조절되어 저투습 기재층의 내구성이 향상될 수 있다.
[수학식 2]
수축 계수(N*㎛) = 저투습 기재층의 수축력 × 저투습 기재층의 두께
상기 수학식 1에 있어서, 상기 저투습 기재층의 수축력은 온도 80℃에서 2시간 방치 후 TD 방향으로의 수축력을 의미한다.
상기 저투습 기재층은 수분을 잘 투과하지 않으면서도, 편광판 전체의 광학 특성을 해치지 않는 수준에서의 우수한 광학 특성을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 저투습 기재층의 투과율이 90% 이상 또는 90% 이상 100% 이하일 수 있다.
상기 저투습 기재층의 종류는 상술한 저투습 기재층의 특성을 만족하는 것이라면, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)가 있다.
상기 보호층의 편광자 보호 효과 및 상기 저투습 기재층의 수분 투습 능력을 우수하게 확보하기 위하여, 상기 보호층의 두께와 상기 저투습 기재층의 두께의 비율을 조절할 수 있다. 구체적으로, 상기 보호층 및 상기 저투습 기재층의 두께 비율이 1:3 내지 1:20, 바람직하게는 1:5 내지 1:20, 더욱 바람직하게는 1:7 내지 1:20일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족 하는 경우, 상술한 보호층의 수학식 1에 따른 성능 및 저투습 기재층의 수학식 2에 따른 성능이 우수하게 확보될 수 있다.
상기 편광자의 80℃에서 2시간 방치 시 MD 방향으로의 수축력이 5N 이상 9N 이하, 바람직하게는 7.5N 이상 8.5 이하일 수 있다.
상기 편광판의 온도 80℃에서 2시간 방치 시 MD 방향 또는 TD 방향으로의 수축력이 5N 이상 10N 이하일 수 있다.
상기 편광판은 고온 고습 환경 하에서 내구성이 우수하다. 상기 내구성이 우수하다는 것은 보호층의 편광자 보호 효과가 우수하다는 것을 의미하며, 편광자에 발생하는 크랙의 개수 또는 길이를 세어 판단할 수 있다. 구체적으로, 상기 편광판을 80℃에서 1,000시간 방치하였을 때 편광자에 생성되는 크랙의 길이가 5.0mm 이하, 4.5mm 이하 또는 4.0mm 이하일 수 있다. 상기 크랙의 길이는 크랙으로의 판정 기준이며, 상기 크랙의 길이 방향은 편광판의 MD 방향일 수 있다.
상기 보호층은 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 활성 에너지선 경화형 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 수지층이다. 상기 에폭시 화합물의 에폭시기 및 상기 옥세탄 화합물의 옥세탄 관능기는 보호층의 IR 스펙트럼을 통해 확인할 수 있다.
상기 보호층은 편광자를 지지 및 보호하는 기능을 하는 것으로서, 별도의 접착제층의 개재 없이 직접 편광자에 형성된다. 상기 보호층의 형성 방법은 당해 기술 분야에서 잘 알려진 방법에 의해 형성될 수 있고, 예를 들어, 편광자의 일면에 보호층 형성용 조성물을 도포 및 경화시키는 방법에 의하여 형성될 수 있다.
상기 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 중량비가 9:1 내지 1:9, 바람직하게는 9:1 내지 7:3일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 각각 상이한 기능이 효과적으로 조절되어, 보호층의 저장 탄성률이 우수하여, 편광판의 고온 및 고습 내구성이 효과적으로 확보될 수 있다는 장점이 있다.
상기 에폭시 화합물은 조성물의 경화 후의 열팽창계수를 낮추어 주고, 조성물로부터 형성되는 보호층의 강도(hardness)를 부여하기 위한 것으로서, 지환족 에폭시 화합물 또는 지방족 에폭시 화합물이 있다.
상기 지환족 에폭시 화합물은 지환족 에폭시 고리를 하나 이상 포함하는 것으로서, 에폭시기가 지방족 고리를 구성하는 인접하는 2개의 탄소 원자 사이에 형성되어 있는 화합물을 의미한다. 예를 들면, 디시클로펜타디엔디옥사이드, 리모넨디옥사이드, 4-비닐시클로헥센디옥사이드, 2,4-에폭시시클로헥실메틸, 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 디시클로펜타디엔디옥사이드, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 조성물의 경화 후의 열팽창계수를 낮추어 주고, 조성물로부터 형성되는 접착제층의 강도(hardness)를 부여하기 위한 것으로서, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4'-에폭시시클로헥산카복실레이트가 바람직하다.
상기 지방족 에폭시 화합물의 예시로서는 1,4-시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르, 노볼락 에폭시, 비스페놀 A 계 에폭시, 비스페놀 F 계 에폭시, 브롬화 비스페놀계 에폭시, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, n-부틸 글리시딜 에테르, 알리파틱 글리시딜 에테르(C12-C14), 2-에틸헥실 글리시딜 에테르, 페닐 글리시딜 에테르, o-크레실(Cresyl) 글리시딜 에테르, 및 노닐 페닐 글리시딜 에테르가 있다.
상기 옥세탄 화합물은 분자 내에 적어도 1개의 옥세타닐기를 갖는 것이면, 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에 잘 알려진 다양한 옥세탄 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 상기 옥세탄 화합물로는, 3-에틸-3-〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕벤젠, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,2-비스〔(3-에틸 옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,2'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,7-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕나프탈렌, 비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 비스〔2-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 2,2-비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕프로판, 노볼락형페놀-포름알데히드 수지의 3-클로로메틸-3-에틸옥세탄에 의한 에테르화 변성물, 3(4),8(9)-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕-트리시클 로[5.2.1.0 2,6 ]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕노르보르난, 1,1,1-트리스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕프로판, 1-부톡시-2,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕부탄, 1,2-비스〔{2-(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}에틸티오〕에탄, 비스〔{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐〕술피드, 1,6-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 보호층은 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 활성 에너지선 경화형 조성물로부터 형성될 수 있으며, 상기 활성 에너지선 경화형 조성물은 광개시제 또는 광증감제를 포함할 수 있다.
상기 광개시제의 예로는 알파-히드록시케톤계 화합물(ex. IRGACURE 184, IRGACURE 500, IRGACURE 2959, DAROCUR 1173; Ciba Specialty Chemicals(제)); 페닐글리옥실레이트 (phenylglyoxylate)계 화합물(ex. IRGACURE 754, DAROCUR MBF; Ciba Specialty Chemicals(제)); 벤질디메틸케탈계 화합물(ex. IRGACURE 651; Ciba Specialty Chemicals(제)); α-아미노케톤계 화합물(ex. IRGACURE 369, IRGACURE 907, IRGACURE 1300; Ciba Specialty Chemicals(제)); 모노아실포스핀계 화합물(MAPO)(ex. DAROCUR TPO; Ciba Specialty Chemicals(제)); 비스아실포스펜계 화합물(BAPO)(ex. IRGACURE 819, IRGACURE 819DW; Ciba Specialty Chemicals(제)); 포스핀옥시드계 화합물(ex. IRGACURE 2100; Ciba Specialty Chemicals(제)); 메탈로센계 화합물(ex. IRGACURE 784; Ciba Specialty Chemicals(제)); 아이오도늄염(iodonium salt)(ex. IRGACURE 250; Ciba Specialty Chemicals(제)); 및 상기 중 하나 이상의 혼합물(ex. DAROCUR 4265, IRGACURE 2022, IRGACURE 1300, IRGACURE 2005, IRGACURE 2010, IRGACURE 2020; Ciba Specialty Chemicals(제)) 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 상기 중 일종 또는 이종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 광증감제는 장파장 UV 조사에 의해 활성화되어 요오드계 양이온개시제를 개시할 수 있는 화합물로서, 이오도늄 비스 (4-메틸페닐)헥사플루오르포스페이트, [4-메틸페닐-(4-(2-메틸프로필)페닐)]이오도늄 헥사플루오르포스페이트, 4-이소프로필-4'-메틸디페닐이오도늄-테트라키스 (펜타플루오르페닐)보레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 광증감제의 함량은 편광판용 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 0.01 내지 20 중량부가 바람직하고, 0.01 내지 10 중량부가 보다 바람직하며, 0.01 내지 5 중량부가 가장 바람직하다. 본 명세서에서, 상기 단위 「중량부」는 각 성분 간의 중량의 비율을 의미한다.
상기 광개시제와 광증감제의 중량비는 0.1:1 내지 4:1 또는 2:1 내지 4:1로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 범위를 만족할 경우 광 개시 효율이 증가하는 장점이 있다.
상기 편광자는 상기 수축력을 만족하는 것이라면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 요오드 또는 이색성 염료를 포함하는 폴리비닐알콜(PVA)로 이루어진 필름을 사용할 수 있다. 상기 편광자는 폴리비닐알코올 필름에 요오드 또는 이색성 염료를 염착시켜서 제조될 수 있으나, 이의 제조방법은 특별히 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 편광자는 보호층(또는 저투습 기재층)을 포함하지 않는 상태를 의미하며, 편광판은 편광자와 보호층(또는 저투습 기재층)을 포함하는 상태를 의미한다.
한편, 상기 편광자는 두께가 5㎛ 내지 40㎛, 보다 바람직하게는 5㎛ 내지 25㎛ 정도일 수 있다. 편광자의 두께가 상기 범위보다 얇으면 광학특성이 떨어질 수 있으며, 필름의 박형화가 어렵다는 문제가 있다.
상기 편광자가 폴리비닐알코올계 필름인 경우, 폴리비닐알코올계 필름은 폴리비닐알코올 수지 또는 그 유도체를 포함하는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 이때, 상기 폴리비닐알코올 수지의 유도체로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리비닐포르말 수지, 폴리비닐아세탈 수지 등을 들 수 있다. 또는, 상기 폴리비닐알코올계 필름은 당해 기술분야에 있어서 편광자 제조에 일반적으로 사용되는 시판되는 폴리비닐알코올계 필름, 예컨대, 구라레 사의 P30, PE30, PE60, 일본합성사의 M2000, M3000, M6000, M4504L 등을 사용할 수도 있다. 상기 폴리비닐알코올계 필름은, 이로써 한정되는 것은 아니나, 중합도가 1,000 내지 10,000 정도, 바람직하게는 1,500 내지 5,000 정도인 것이 좋다. 중합도가 상기 범위를 만족할 때, 분자 움직임이 자유롭고, 요오드 또는 이색성 염료 등과 유연하게 혼합될 수 있기 때문이다.
상기 편광자와 저투습 기재층 사이에 두께가 1㎛ 이상 10㎛ 이하 또는 2㎛ 이상 4㎛ 이하인 접착제층을 더 포함할 수 있고, 상기 접착제층은 접착제 조성물의 경화물일 수 있다.
상기 접착제 조성물은 저투습 기재층을 편광자에 접착하기 위한 것이라면, 조성은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 혼합물 등을 들 수 있다. 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에 대한 설명은 상술한 바와 같다.
본 명세서는 편광자를 준비하는 단계; 상기 편광자의 일면에 저투습 기재층을 구비하는 단계; 및 상기 편광자의 타면에 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 상술한 편광판의 제조방법을 제공한다.
상기 보호층을 형성하는 단계는 편광자의 타면에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포하고 이를 경화시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 편광자의 일면에 저투습 기재층을 구비하는 단계는 편광자와 저투습 기재층 사이에 접착제 조성물을 도포하고 이를 경화시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 편광자의 일면에 상기 저투습 기재층을 구비하는 방법은 당해 기술분야에 잘 알려진 방법을 이용하여 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 편광자 및 저투습 기재가 각각의 롤에 감겨진 형태로 공급될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 각 필름의 공급 속도는 제조 공정에 적절한 값이라면 특별히 한정되는 것은 아니나, 예를 들면, 5 meter/min 이상 100 meter/min, 또는 10 meter/min 이상 30 meter/min 이하의 속도로 공급될 수 있다. 이 경우 저투습 기재층의 편광자에 대한 안정적인 접착이 이루어질 수 있는 장점이 있다.
상기 활성 에너지선 경화형 조성물의 점도는 25℃에서 50 cPs 내지 200 cPs, 50 cPs 내지 130 cPs, 바람직하게는 60 cPs 내지 130 cPs, 더욱 바람직하게는 70 cPs 이상 130 cPs 이하일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 조성물의 도포성이 개선되어 공정성이 우수한 장점이 있다.
상기 편광자는 연신된 것일 수 있다. 즉, 본 명세서의 편광판의 제조방법에 따르면, 편광자의 공급 공정 전에 편광자의 연신 공정을 더 거칠 수 있다. 상기 편광자의 연신 공정은 그 조건 등은 특별히 제한되지 않는다.
상기 편광자의 타면에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포하여 보호층을 형성하는 단계는 별도의 캐리어 필름을 이용할 수 있다. 구체적으로, 캐리어 필름을 공급하면서 캐리어 필름과 편광자 사이에 상기 조성물을 도포하고, 조성물이 경화된 후 캐리어 필름을 편광판으로부터 박리하는 공정에 의할 수 있다.
상기 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포하는 면은 한정되지 않으며, 예를 들면, 상기 캐리어 필름의 편광자와의 접합면에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포할 수 있다.
상기 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포하는 방법은 필요한 양의 조성물을 균일하게 도포할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 스핀 코팅, 바 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 블레이드 코팅 등의 방법이 있으며, 연속공정을 위하여 바람직하게는 롤 코팅에 의할 수 있다.
상기 편광판의 제조방법은 각 구성과의 접합력을 확보하기 위하여 편광판을 가압하는 단계를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 가압하는 단계는 0.1Mpa 내지 10Mpa 또는 0.2Mpa 내지 8Mpa의 압력으로 수행될 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 편광자의 손상 없이 안정적인 주행성을 확보하는 동시에, 필름 접합 시 유입되는 기포를 효과적으로 제거할 수 있다는 장점이 있다.
상기 편광판의 제조방법은 활성 에너지선 경화형 조성물을 경화시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 편광판의 제조방법은 상기 접착제층을 경화시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 활성 에너지선 경화형 조성물을 경화시키는 단계와 상기 접착제층을 경화시키는 단계는 활성 에너지선을 조사하여 수행될 수 있다. 상기 활성 에너지선을 조사하는데 사용되는 장치는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 퓨전 램프(Fusion lamp), 아트 램프(Arc lamp), LED 및 저압램프를 들 수 있다.
상기 활성에너지선의 광량은 100mJ/cm2 내지 1,000mJ/cm2, 바람직하게는 500mJ/cm2 내지 1,000mJ/cm2일 수 있고, 상기 조사광의 조사 시간은 1초 내지 10분, 바람직하게는 2초 내지 30초일 수 있다.
상기 활성에너지선의 광량 및 조사 시간 범위를 만족하는 경우, 보호층의 경화 속도가 빠르고, 필름의 외관 특성 및 광학 특성을 저하시키지 않으면서도 광원으로부터 지나치게 열이 전달되는 것을 방지하여, 편광자에 주행 주름이 발생하는 것을 최소화하여 생산성이 우수하다는 장점이 있다.
도 2는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 화상 표시 장치를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2를 참조하면, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 화상 표시 장치는 상술한 편광판을 포함한다. 액정 패널(200)의 일면 또는 양면에 상술한 편광판(100)이 부착될 수 있다. 이때, 상기 편광판(100)은 점착층(40)을 통하여 액정 패널(200)에 부착될 수 있다.
상기 편광판은 표시장치 패널 또는 위상차 필름과 같은 광학 필름과의 부착을 위해, 필요에 따라, 상기 보호층의 편광자에 접하는 면의 타면에 점착층을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 편광판은 보호층의 편광자와 접하는 면의 반대면에 점착층을 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 점착층은 당해 기술 분야에 잘 알려져 있는 다양한 점착제들을 사용하여 형성될 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 점착층은 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제 등을 이용하여 형성될 수 있다. 이 중에서도 투명성 및 내열성 등을 고려할 때, 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
한편, 상기 점착층은 보호층 상부에 점착제를 도포하는 방법으로 형성될 수도 있고, 별도의 이형 시트 상에 점착제를 도포한 후 건조시켜 제조되는 점착 시트를 보호층 상부에 부착하는 방법으로 형성될 수도 있다.
상기와 같은 본 발명의 편광판은 액정표시장치 등과 같은 화상 표시 장치에 유용하게 적용될 수 있다.
상기 화상 표시 장치는 액정 패널; 상기 액정 패널의 상면에 구비되는 상부 편광판; 및 상기 액정 패널의 하면에 구비되는 하부 편광판을 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 화상 표시 장치는 액정 패널; 상기 액정 패널의 상면에 구비되는 상부 편광판; 및 상기 액정 패널의 하면에 구비되는 하부 편광판으로서 본 명세서에 따른 편광판을 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 화상 표시 장치는 액정 패널; 상기 액정 패널의 상면에 구비되는 상부 편광판으로서 본 명세서에 따른 편광판; 및 상기 액정 패널의 하면에 구비되는 하부 편광판을 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 화상 표시 장치는 액정 패널; 상기 액정 패널의 상면에 구비되는 상부 편광판; 및 상기 액정 패널의 하면에 구비되는 하부 편광판을 포함하고, 상기 상부 편광판 및 하부 편광판은 본 명세서에 따른 편광판이다.
이때, 상기 액정표시장치에 포함되는 액정 패널의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 그 종류에 제한되지 않고, TN(twisted nematic)형, STN(super twisted nematic)형, F(ferroelectic)형 또는 PD(polymer dispersed)형과 같은 수동 행렬 방식의 패널; 2단자형(two terminal) 또는 3단자형(three terminal)과 같은 능동행렬 방식의 패널; 횡전계형(IPS; In Plane Switching) 패널 및 수직배향형(VA; Vertical Alignment) 패널 등의 공지의 패널이 모두 적용될 수 있다. 또한, 액정표시장치를 구성하는 기타 구성, 예를 들면, 상부 및 하부 기판(ex. 컬러 필터 기판 또는 어레이 기판) 등의 종류 역시 특별히 제한되지 않고, 이 분야에 공지되어 있는 구성이 제한 없이 채용될 수 있다.
이하에서, 실시예를 통하여 본 명세서를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 명세서를 예시하기 위한 것이며, 이에 의하여 본 명세서의 범위가 한정되는 것은 아니다.
<제조예: 활성 에너지선 경화형 조성물 제조>
<제조예 1: 보호층 형성용 조성물 1의 제조>
에폭시 화합물로서 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트(상품명 셀록사이드-2021) 65 중량부, 1,4-시클로헥실 디메탄올 디글리시딜에테르(CHDMDGE) 15 중량부 및 옥세탄 화합물로서 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄(도아 고세이 아론 옥세탄 OXT-221) 20 중량부를 혼합하여 혼합물을 제조하고, 상기 혼합물 100 중량부에 대하여 광개시제(상품명: Irgacure 250) 3 중량부 및 광증감제(상품명:ESACURE ITX) 1 중량부를 첨가하여 보호층 형성용 조성물 1을 제조하였다.
<제조예 2: 보호층 형성용 조성물 2의 제조>
에폭시 화합물로서 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트(상품명 셀록사이드-2021) 42 중량부, 1,4-시클로헥실 디메탄올 디글리시딜에테르(CHDMDGE) 28 중량부 및 옥세탄 화합물로서 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄(도아 고세이 아론 옥세탄 OXT-221) 30 중량부를 혼합하여 혼합물을 제조하고, 상기 혼합물 100 중량부에 대하여 광개시제(상품명: Irgacure 250) 3 중량부 및 광증감제(상품명:ESACURE ITX) 1 중량부를 첨가하여 보호층 형성용 조성물 2를 제조하였다.
<제조예 3: 보호층 형성용 조성물 3의 제조>
에폭시 화합물로서 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트(상품명 셀록사이드-2021) 80 중량부 및 옥세탄 화합물로서 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄(도아 고세이 아론 옥세탄 OXT-221) 20 중량부를 혼합하여 혼합물을 제조하고, 상기 혼합물 100 중량부에 대하여 광개시제(상품명: Irgacure 250) 3 중량부 및 광증감제(상품명:ESACURE ITX) 1 중량부를 첨가하여 보호층 형성용 조성물 3을 제조하였다.
<제조예 2: 편광판 제조>
<비교예 1: 편광판 제조>
편광자(두께 17㎛의 폴리비닐알코올계 연신 필름, 제조사: 일본합성사)의 일면에 접착제 조성물을 도포하여 저투습 기재층(두께 80㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 일본 토요보사 제조)을 라미네이트하였다. 이어서, 상기 편광자의 저투습 기재층이 적층 되지 않은 면에 상기 보호층 형성용 조성물 1을 도포하고 라미네이트하여 편광판을 제조하였다. 그 후, 퓨전 램프(Fusion lamp)을 이용하여, 자외선을 조사하여 보호층 형성용 조성물 및 접착제를 경화시켜 편광판을 제조하였다. 이때, 보호층의 두께는 4.1㎛ 이었다.
<참고예 1: 편광판 제조>
상기 비교예 1에서 보호층 형성용 조성물 1 대신 보호층 형성용 조성물 2를 사용하고, 보호층의 두께를 4.5 내지 5㎛로 변경한 것 외에는 비교예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
<참고예 2: 편광판 제조>
편광자(두께 17㎛의 폴리비닐알코올계 연신 필름, 제조사: 일본합성사)의 일면에 접착제 조성물을 도포하여 저투습 기재 (두께 60㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 일본 토요보사 제조)를 라미네이트하였다. 이어서, 상기 편광자의 저투습 기재층이 적층 되지 않은 면에 상기 보호층 형성용 조성물 1을 도포하고 라미네이트하여 편광판을 제조하였다. 그 후, 퓨전 램프(Fusion lamp)을 이용하여, 자외선을 조사하여 보호층 형성용 조성물 및 접착제를 경화시켜 편광판을 제조하였다. 이때, 보호층의 두께는 5.9㎛ 이었다.
<참고예 3: 편광판 제조>
상기 참고예 2에서 60㎛ 저투습 기재 대신 80㎛ 저투습 기재로 변경한 것 외에는 참고예 2와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
<실시예 1: 편광판 제조>
상기 비교예 1에서 보호층의 두께를 4.5~5㎛로 변경한 것 외에는 비교예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
<실시예 2: 편광판 제조>
상기 비교예 1에서 보호층의 두께를 5.9㎛로 변경한 것 외에는 비교예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
<실시예 3: 편광판 제조>
상기 비교예 1에서 보호층의 두께를 6.5㎛로 변경한 것 외에는 비교예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
<실시예 4: 편광판 제조>
상기 비교예 1에서 보호층 형성용 조성물 1 대신 보호층 형성용 조성물 3을 사용하고, 보호층의 두께를 4.5 내지 5㎛로 변경한 것 외에는 비교예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
<실험예 1: 내열성 평가>
편광판에 대하여 고온 내구성을 평가하는 실험을 진행하였다. 두께 2.7T, 대각선 길이 55인치 이상의 유리의 상면 및 하면에 점착제를 매개로 하여 편광판을 부착하였다.
편광판이 부착된 유리를 챔버에 투입하여, 80℃에서 100시간, 250 시간 500시간 및 1,000 시간(즉, 최종 방치 시간은 1,000 시간)에서 각각 방치한 후 꺼내어 크랙의 발생 유무를 확인하였고, 하나 이상의 크랙이 발생한 경우를 "크랙 발생"으로 평가하였으며, 결과를 하기 표 1에 정리하였다. 이때, 크랙으로의 판정 기준은 길이가 5.0mm 초과인 크랙을 의미한다.
크랙에의 해당 여부를 평가하는 방법은 도 4 및 도 5에 나타내었다.
크랙이 발생하더라도 Scratch 등 외부 요인에 의하여 크랙이 발생한 것이라면 최종 크랙 미발생(OK)으로 판정하고, 크랙이 외부 요인에 의하지 않은 내열성 문제 때문에 발생한 것이라면 최종 크랙 발생(NG)으로 판정하였다.
실험 결과, 비교예 1에 따른 편광판은 크랙이 발생한 것을 확인할 수 있었으며 이를 도 3에 나타내었다.
그러나, 실시예 1 내지 3에 따른 편광판은 보호층 두께가 충분히 두꺼우므로, 보호층에 의한 편광자의 보호 효과가 우수하여, 편광자의 응력을 적절히 제어하여, 크랙이 발생하지 않은 것을 확인할 수 있었다.
<실험예 2: 평면도 평가>
상기 제조된 편광판을 32인치의 0.7T 두께의 유리의 상면 및 하면에 각각 부착하여 적층체를 제조하였다. 상기 적층체를 60℃의 온도의 챔버 내에 72시간 동안 투입한 후 꺼내어 24시간 경과 시점에서 평면도 변화량을 측정하였다. 용어 평면도는 상부 편광판 측으로 가장 많이 휜 부분과 하부 편광판 측으로 가장 많이 휜 부분의 차이값이고, 상기 평면도는 덕인사의 3D 측정 장비를 이용하여 측정하였다. 한편, 측정 시 결과를 도 6(참고예 2), 도 7(참고예 3) 및 도 8(실시예 4)에 나타내었다.
초기 휨: 저투습 기재층 합지 직후의 25℃, RH 50% 환경에서 측정
후기 휨: 저투습 기재층 합지 후 60℃의 챔버 내에 72시간 방치 후, 챔버 외부에서 25℃, RH 50% 환경에서 2시간 방치한 후 측정
상기 비교예 및 실시예의 편광판에 대한 구성과 실험 결과를 아래 표 1에 나타내었다. 보호층의 두께 및 저장 탄성률로부터 강도 계수를 산출하였으며, 저투습 기재층의 수축력 및 두께로부터 수축 계수를 산출하였다.
Figure pat00001
상기 결과로부터, 보호층의 두께를 조절할 때 고온 내구성(내열성)이 향상되는 결과를 확인하였다. 구체적으로, 비교예 1과 실시예 1 내지 3을 비교해 보면 보호층의 두께가 4.5㎛에 미달하는 경우 내열성이 저하되는 결과를 확인하였다.보호층의 강도 계수값의 범위를 조절할 때, 보호층의 고온 내구성이 향상되는 결과를 확인하였다. 구체적으로, 참고예 1과 실시예 1 내지 4를 비교해 보면, 보호층의 강도 계수가 6,750(Mpa*㎛)에 미달하는 경우 내열성이 저하되는 결과를 확인하였다.저투습층의 수축 계수값의 범위를 조절할 때, 편광판 전체의 고온 내구성이 저하하여 평면도가 감소하는 결과를 확인하였다. 구체적으로, 참고예 2 및 3과 실시예 4를 비교해보면, 수축 계수가 60(N*㎛)에 미달하는 경우 평면도 변화량이 큰 것을 확인할 수 있었다.
상기 결과로부터, 보호층의 두께, 보호층의 강도 계수값 및 저투습 기재층의 수축 계수값을 조절할 때, 고온 내구성이 우수한 편광판의 제공이 가능함을 확인하였다.
<실험예 3: 조성물의 공정성 평가>
상기 제조예 1에서 제조된 보호층 형성용 조성물 1 내지 3에 대하여 공정성 테스트를 진행하였다. 편광자의 일면에 상기 보호층 형성용 조성물을 도포하고, 0.4 Mpa의 라미압으로 라미네이트 하였으며, 이때 필름의 공급 속도는 18 meter/min이었으며, 형성되는 보호층의 두께를 편광판의 중심(Center)와 사이드 부분(Side)에 대하여 측정한 후 이를 기록하였다.
점도 보호층 두께(㎛)
Center Side
조성물 1 100cPs 8.3 8
조성물 2 60cPs 5.57 5.3
조성물 3 120cPs 7.5~7.6 7.6~7.7
상기 표 2를 참고하면, 점도가 60cPs에 불과한 조성물 2의 경우, 코팅성이 현저히 떨어지기 때문에, 높은 두께의 보호층을 형성하기가 어려웠다. 반면에, 점도가 높은 조성물 1 및 3의 경우에는 높은 두께의 보호층 형성이 유리하였다.
10: 편광자
20: 보호층
30: 저투습 기재층
40: 점착층
100: 편광판
200: 화상 표시 장치

Claims (15)

  1. 편광자;
    상기 편광자의 일면에 구비된 저투습 기재층; 및
    상기 편광자의 타면에 구비된 보호층을 포함하고,
    상기 보호층의 두께는 4.5㎛ 이상 10㎛ 이하이고,
    상기 보호층은 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 활성 에너지선 경화형 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 수지층인 것인 편광판.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층의 하기 수학식 1로 표시되는 강도 계수값이 6,750 이상 60,000 이하인 것인 편광판:
    [수학식 1]
    강도 계수(Mpa*㎛) = 보호층의 저장 탄성률 × 보호층의 두께
    상기 수학식 1에 있어서, 상기 보호층의 저장 탄성률은 온도 구간 -10℃~160℃, 승온 속도 5℃/min, strain 10% 측정 조건에서, 80℃의 저장탄성률을 의미한다.
  3. 청구항 1에 있어서, 하기 수학식 2로 표시되는 수축 계수값이 60 이상 900 이하인 것인 편광판:
    [수학식 2]
    수축 계수(N*㎛) = 저투습 기재층의 수축력 × 저투습 기재층의 두께
    상기 수학식 2에 있어서, 상기 저투습 기재층의 수축력은 온도 80℃에서 2시간 방치 후 TD 방향으로의 수축력을 의미한다.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층의 온도 구간 -10℃~160℃, 승온 속도 5℃/min, strain 10% 측정 조건에서, 80℃의 저장탄성률은 1,200 Mpa 이상 10,000Mpa 이하인 것인 편광판.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층의 두께가 4.5㎛ 이상 8.5㎛ 이하인 것인 편광판.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 저투습 기재층의 온도 80℃에서 2시간 방치시 TD 방향으로의 수축력이 1N 이상 10N 이하인 것인 편광판.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 저투습 기재층의 두께는 40㎛ 이상 100㎛ 이하인 것인 편광판.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 저투습 기재층의 수분 투과율이 60g/m2*day 이하인 것인 편광판.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층 및 상기 저투습 기재층의 두께 비율이 1:3 내지 1:20인 것인 편광판.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 편광판의 온도 80℃에서 2시간 방치 시 MD 방향 또는 TD 방향으로의 수축력이 5N 이상 10N 이하인 것인 편광판.
  11. 청구항 1에 있어서, 상기 편광판을 80℃에서 1,000시간 방치하였을 때 편광자에 생성되는 크랙의 길이가 5.0mm 이하인 것인 편광판.
  12. 청구항 1에 있어서, 상기 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 중량비가 9:1 내지 1:9인 것인 편광판.
  13. 편광자를 준비하는 단계;
    상기 편광자의 일면에 저투습 기재층을 구비하는 단계; 및
    상기 편광자의 타면에 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 따른 편광판의 제조방법.
  14. 청구항 13에 있어서, 상기 보호층을 형성하는 단계는 편광자의 타면에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포하고 이를 경화시키는 단계를 포함하고,
    상기 활성 에너지선 경화형 조성물의 점도는 25℃에서 50 cPs 내지 200 cPs인 것인 편광판의 제조방법.
  15. 액정 패널;
    상기 액정 패널의 상면에 구비된 제1 편광판; 및
    상기 액정 패널의 하면에 구비된 제2 편광판을 포함하고,
    상기 제1 편광판 및 제2 편광판은 상기 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 따른 편광판인 것인 화상 표시 장치.
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