JP2021523422A - 偏光板、その製造方法およびこれを含む画像表示装置 - Google Patents

Abstract

本明細書は、偏光板、その製造方法およびこれを含む画像表示装置を提供する。

Description

本出願は、２０１８年５月２８日付で韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１８−００６０６９３号の出願日の利益を主張し、その内容のすべては本明細書に組み込まれる。

本明細書は、偏光板、その製造方法およびこれを含む画像表示装置に関する。

既存の液晶表示装置用偏光板は、一般的なポリビニルアルコール系偏光子を用い、その偏光子の少なくとも一方の面にＴＡＣなどの低透湿基材層を付着させる構成となっている。

最近、偏光板市場では低光漏れおよび薄型化による要求が高まっていて、この物性を満足するために、既存の予め製膜した保護基材を適用する代わりに、偏光子上に直接保護膜を形成する方法が検討されている。

ただし、既存のポリビニルアルコール系延伸タイプのポリビニルアルコール系偏光子上に直接保護膜を形成する場合、既存のような両面に保護基材を適用する場合に比べて、高温で偏光子の収縮によって発生する応力によって偏光子の破れ現象が発生する問題を解決しにくかった。

日本国特開２００７−０４７４９８Ａ

本明細書は、偏光板、その製造方法およびこれを含む画像表示装置を提供しようとする。

本明細書は、偏光子と、前記偏光子の一面に備えられた低透湿基材層と、前記偏光子の他面に備えられた保護層とを含み、前記保護層の厚さは、４．５μｍ以上１０μｍ以下であり、前記保護層は、エポキシ化合物およびオキセタン化合物を含む活性エネルギー線硬化型組成物またはその硬化物を含む樹脂層である、偏光板を提供する。

また、本明細書は、偏光子を用意するステップと、前記偏光子の一面に低透湿基材層を備えるステップと、前記偏光子の他面に保護層を形成するステップとを含む、前述した偏光板の製造方法を提供する。

さらに、本明細書は、前述した偏光板を含む画像表示装置を提供する。

本明細書の一実施態様に係る偏光板は、保護層の厚さが薄いながらも、高温および高湿環境で偏光子のクラックの発生が抑制されるという利点を有する。

また、本明細書の一実施態様に係る偏光板は、高温および高湿環境での耐久性に優れていて、大面積を有する液晶表示装置への適用時、光漏れ現象を抑制できるという利点がある。

本明細書の一実施態様に係る偏光板を示す図である。 本明細書の他の実施態様に係る画像表示装置を示す図である。 実験例１において比較例１による偏光板にクラックが発生することを示す図である。 クラックに該当するか否かを判定する方法を例示する図である。 クラックに該当するか否かを判定する方法を例示する図である。 実験例２による平面度実験の結果を示す図である。 実験例２による平面度実験の結果を示す図である。 実験例２による平面度実験の結果を示す図である。

以下、本明細書についてさらに詳細に説明する。

本明細書は、偏光子と、前記偏光子の一面に備えられた低透湿基材層と、前記偏光子の他面に備えられた保護層とを含み、前記保護層の厚さは、４．５μｍ以上１０μｍ以下であり、前記保護層は、エポキシ化合物およびオキセタン化合物を含む活性エネルギー線硬化型組成物またはその硬化物を含む樹脂層である、偏光板を提供する。

本明細書において、用語「組成物の硬化」は、前記組成物の成分の物理的作用または化学的反応などによって組成物が接着または粘着特性を発現できるように変化する過程を意味する。また、本明細書において、用語「活性エネルギー線」は、マイクロ波（ｍｉｃｒｏｗａｖｅｓ）、赤外線（ＩＲ）、紫外線（ＵＶ）、Ｘ線およびγ線はもちろん、α粒子線（α ｐａｒｔｉｃｌｅ ｂｅａｍ）、プロトンビーム（ｐｒｏｔｏｎ ｂｅａｍ）、ニュートロンビーム（ｎｅｕｔｒｏｎ ｂｅａｍ）、および電子線（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ）のような粒子ビームなどを意味することができ、通常、紫外線または電子線などであってもよい。また、前記「活性エネルギー線硬化型」とは、前記のような硬化が活性エネルギー線の照射によって誘導できることを意味することができる。本発明の一つの例示において、前記活性エネルギー線硬化型組成物の硬化は、活性エネルギー線の照射による自由ラジカル重合または陽イオン反応により行われ、好ましくは、自由ラジカル重合および陽イオン反応が同時または順次に一緒に進められて行うことができる。

前記偏光子は、通常、ポリビニルアルコールなどのような親水性樹脂で製造されるため、一般的に水分に弱い特性を示す。また、偏光子の製造時には延伸工程を経ることが一般的であるので、加湿条件下では収縮などが起こりやすく、これによって、偏光板の光学特性などが悪化する問題点がある。したがって、通常は、偏光子の物性補強などのために、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどに代表される低透湿基材層を偏光子の両面に付着させることが一般的であり、低透湿基材層が存在しなければ、偏光子の弱い寸法安定性によって耐久性および光学物性が大きく低下し、耐水性も格段に弱くなる問題点がある。

このために、本発明の偏光板の一つの例示的な構造では、偏光子の一面に低透湿基材層を備え、前記偏光子の他面に保護層を含むことでより薄くて軽い構造を実現することができ、保護層の厚さを一定水準の範囲に調節し、保護層をエポキシ化合物およびオキセタン化合物を含む組成物から形成することで偏光子に対する保護層の保護効果を向上させることにより、優れた高温耐水性を確保した。

本明細書において、前記のように偏光子の少なくとも一面において低透湿基材層の付着が省略された偏光板は、薄型偏光板（ｔｈｉｎ ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）と称することもある。

図１は、前記偏光板１００を示す断面図である。図１を参照すれば、前記偏光板１００は、偏光子１０と、前記偏光子１０の一面に備えられた低透湿基材層３０と、前記偏光子１０の他面に備えられた保護層２０とを含む。また、前記保護層２０の偏光子１０に接する面の他面に粘着層４０をさらに備えることができる。

前記保護層の貯蔵弾性率と保護層の厚さとの関係を一定の範囲に調節する場合、保護層による偏光子の保護効果が増大できる。具体的には、前記保護層の下記数式１で表される強度係数値が６，７５０以上６０，０００以下、好ましくは８，１００以上５０，０００以下、さらに好ましくは９，０００以上４０，０００以下であってもよい。前記強度係数とは、保護層の強度を示すパラメータであって、保護層の貯蔵弾性率と保護層の厚さとを乗じて算出する。前記保護層の強度係数値が前記数値範囲を満足する場合、前記偏光子に加えられるストレスを効果的に抑制して、高温または高湿環境で偏光子の収縮または膨張による偏光子のクラックの発生を効果的に抑制する効果がある。また、偏光子に対する優れた接着力を確保できるという利点がある。

［数式１］
強度係数（Ｍｐａ×μｍ）＝保護層の貯蔵弾性率×保護層の厚さ

前記数式１中、前記保護層の貯蔵弾性率は、温度区間−１０℃〜１６０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎ、歪み（ｓｔｒａｉｎ）１０％の測定条件における、８０℃の貯蔵弾性率を意味する。

前記偏光板の耐熱性の確保または偏光板の反り特性を改善するために、前記保護層の貯蔵弾性率を一定の範囲に調節することができる。具体的には、前記保護層の温度区間−１０℃〜１６０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎ、ｓｔｒａｉｎ１０％の測定条件における、８０℃の貯蔵弾性率は、１，２００Ｍｐａ以上１０，０００Ｍｐａ以下、好ましくは１，４００Ｍｐａ以上９，０００Ｍｐａ以下、さらに好ましくは１，６００Ｍｐａ以上７，０００Ｍｐａ以下であってもよい。前記範囲を満足するとき、高温高湿環境下で偏光板を長期間にわたって保管するときにも偏光子を優れたものに保護できるため、偏光子にクラックが発生するのを効果的に防止することができる。

前記保護層の貯蔵弾性率は、前記保護層と同じ組成を有する試験片を作製して測定することができる。具体的には、離型フィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）に前記保護層と同じ組成を有する光硬化性組成物を厚さ５０μｍに塗布し、光量１，０００ｍＪ／ｃｍ^２以上の条件で紫外線を照射して硬化させた後、離型フィルムを除去し、試験片を一定の大きさにレーザ裁断する。この後、ＤＭＡ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）により貯蔵弾性率を測定する。このとき、測定温度は、−１０℃の開始温度から５℃／ｍｉｎの昇温速度で１６０℃まで昇温させながら、１０％のｓｔｒａｉｎで一定に引張するときの貯蔵弾性率を測定し、８０℃のときの貯蔵弾性率値を記した。

前記保護層の偏光子に対する保護効果を確保しながら、全厚が薄い偏光板を提供するために、前記保護層の厚さを一定の範囲に調節することができる。具体的には、前記保護層の厚さは、４．５μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは４．５μｍ以上８．５μｍ以下、さらに好ましくは４．５μｍ以上７μｍ以下であってもよい。保護層の厚さが４．５μｍ未満の場合、保護層の偏光子の保護機能が十分に確保できず、高温または高湿環境で偏光子のクラックが発生することを効果的に抑制しにくい。また、１０μｍを超える場合、偏光板の薄型化の面で適切でないので、前記保護層の厚さを４．５μｍ以上１０μｍ以下に調節した。前記保護層の厚さは、偏光板の断面を走査電子顕微鏡または透過電子顕微鏡により測定することができる。

前記保護層の８０℃における熱膨張係数が１００ｐｐｍ／Ｋ以下、８５ｐｐｍ／Ｋ以下、１０ｐｐｍ／Ｋ以上１００ｐｐｍ／Ｋ以下、１０ｐｐｍ／Ｋ以上８５ｐｐｍ／Ｋ以下であってもよい。保護層の熱膨張係数が前記数値範囲を満足する場合、高温環境下で保護層の物性が維持できるという利点がある。

前記保護層の熱膨張係数の測定方法は特に限定されず、例えば、５０μｍの厚さを有する硬化された試験片を幅６ｍｍおよび長さ１０ｍｍの大きさに裁断し、Ｔｅｎｓｉｏｎ Ｌｏａｄを０．０５Ｎに維持した状態で、温度を３０℃から始めて１５０℃まで上昇させながら長さの変化を測定する。このとき、昇温速度は５℃／ｍｉｎであり、測定が完了した後、４０℃から目標温度まで変化した長さとして熱膨張係数（ＣＴＥ）値を計算する。このとき、前記目標温度は８０℃である。

前記低透湿基材層の収縮力を調節することにより、偏光板の反り特性を改善することができる。具体的には、前記低透湿基材層の温度８０℃で２時間放置時、ＴＤ方向への収縮力が１Ｎ以上１０Ｎ以下、３Ｎ以上１０Ｎ以下、好ましくは３．５Ｎ以上９．５Ｎ以下、さらに好ましくは４Ｎ以上９Ｎ以下であってもよい。

前記収縮力は、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社の動的物性分析器（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ：ＤＭＡ）を用いて測定され、例えば、前記分析器は、２５℃から始めて、３分後７５℃に到達し、７分後８０℃に安定化される。測定時間は２時間であり、８０℃安定化後１２０分経過後の値を測定する。測定方法は、サンプルをクランプに締結し、予圧（ｐｒｅｌｏａｄ）０．０１Ｎの状態で、歪み（ｓｔｒａｉｎ）０．１％を維持するようにサンプルを引っ張って固定させた後、高温で歪み０．１％を維持するときにかかる収縮力を測定する。一方、前記サンプルは約５．３ｍｍの幅および約１５ｍｍの長さに作製され、前記サンプルの長手方向の両末端を測定装置のクランプに固定した後、収縮力を測定することができる。前記サンプルの長さは、クランプに固定される部分を除いた長さである。

前記ＭＤ方向は、吸収軸（ｍａｃｈｉｎｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）を示し、ＴＤ方向は、透過軸（Ｔｒａｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）を示すことができ、ＭＤ方向とＴＤ方向は互いに直交する。

前記低透湿基材層が水分をより良く遮断できるように、低透湿基材層の厚さを調節することができる。具体的には、前記低透湿基材層の厚さは、４０μｍ以上１００μｍ以下、４０μｍ以上８０μｍ以下、好ましくは５０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは６０μｍ以上８０μｍ以下であってもよい。前記数値範囲を満足する場合、低透湿基材層の水分浸透防止効果が増大できる。

前記低透湿基材層は、偏光子に水分などが浸透することを抑制するためのもので、水分透過率が６０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、好ましくは５５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、さらに好ましくは５０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であってもよく、例えば、０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上５０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であってもよい。前記水分透過率は、一定の外部環境で単位時間（ｄａｙ）および単位面積（ｍ^２）あたりに水分の通過する量（ｇ）を意味し、４０℃または３７．８℃の温度条件、および低透湿基材層の内部と外部との湿度差が９０％である環境下で測定される。前記水分透過率の測定方法は特に限定されず、例えば、前述した条件で１日（１ｄａｙ）間低透湿基材層を透過する水分の重量（ｇ）を公知の透湿度測定装置で測定することができる。例えば、Ｌａｂｔｈｉｎｋ社のＷＶＴＲ装置（装置名：ＷＶＴＲ ＴＳＹ−Ｔ３）を用いて測定することができる。前記装置は密閉されたチャンバ内に秤がある構造であり、チャンバ内の環境は４０℃および湿度１０％に維持される。また、透湿カップに水を注いだ後、その上に低透湿基材層と同一の低透湿基材フィルムを覆って固定させる。透湿カップの内部の湿度は水が満たされていて１００％であるので、透湿カップの内部と外部との湿度差は９０％になる。２４時間経過後、透湿カップの重量を測定して初期重量との差を通して、蒸発した水の量を計算することができる。前記数値範囲を満足する場合、低透湿基材層の水分浸透機能が十分に行われる。

前記低透湿基材層の収縮力と低透湿基材層の厚さを調節する場合、低透湿基材層による偏光板の全体耐久性が向上できる。具体的には、下記数式２で表される収縮係数値が６０以上９００以下、好ましくは１００以上９００以下、さらに好ましくは１２０以上８００以下であってもよい。前記数値範囲を満足する場合、低透湿基材層の収縮力と低透湿基材層の厚さが十分に調節され、低透湿基材層の耐久性が向上できる。

［数式２］
収縮係数（Ｎ×μｍ）＝低透湿基材層の収縮力×低透湿基材層の厚さ

前記数式1中、前記低透湿基材層の収縮力は、温度８０℃で２時間放置後の、ＴＤ方向への収縮力を意味する。

前記低透湿基材層は、水分をよく透過せずかつ、偏光板全体の光学特性を損なわない水準での優れた光学特性を有することができる。具体的には、前記低透湿基材層の透過率が９０％以上、または９０％以上１００％以下であってもよい。

前記低透湿基材層の種類は、前述した低透湿基材層の特性を満足するものであれば、特に限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）がある。

前記保護層の偏光子保護効果および前記低透湿基材層の水分透湿能力を優れたものに確保するために、前記保護層の厚さと前記低透湿基材層の厚さの比率を調節することができる。具体的には、前記保護層および前記低透湿基材層の厚さの比率が１：３〜１：２０、好ましくは１：５〜１：２０、さらに好ましくは１：７〜１：２０であってもよい。前記数値範囲を満足する場合、前述した保護層の数式１による性能、および低透湿基材層の数式２による性能が優れたものに確保できる。

前記偏光子の、８０℃で２時間放置時の、ＭＤ方向への収縮力が５Ｎ以上９Ｎ以下、好ましくは７．５Ｎ以上８．５以下であってもよい。

前記偏光板の、温度８０℃で２時間放置時の、ＭＤ方向またはＴＤ方向への収縮力が５Ｎ以上１０Ｎ以下であってもよい。

前記偏光板は、高温高湿環境下で耐久性に優れている。前記耐久性に優れているというのは、保護層の偏光子保護効果に優れることを意味し、偏光子に発生するクラックの個数または長さを数えて判断することができる。具体的には、前記偏光板を８０℃で１，０００時間放置したとき、偏光子に生成されるクラックの長さが５．０ｍｍ以下、４．５ｍｍ以下、または４．０ｍｍ以下であってもよい。前記クラックの長さは、クラックへの判定基準であり、前記クラックの長手方向は、偏光板のＭＤ方向であってもよい。

前記保護層は、エポキシ化合物およびオキセタン化合物を含む活性エネルギー線硬化型組成物またはその硬化物を含む樹脂層である。前記エポキシ化合物のエポキシ基および前記オキセタン化合物のオキセタン官能基は、保護層のＩＲスペクトルを通して確認することができる。

前記保護層は、偏光子を支持および保護する機能をするものであって、別の接着剤層の介在なく直接偏光子に形成される。前記保護層の形成方法は、当該技術分野でよく知られた方法によって形成可能であり、例えば、偏光子の一面に保護層形成用組成物を塗布および硬化させる方法によって形成可能である。

前記エポキシ化合物およびオキセタン化合物の重量比が９：１〜１：９、好ましくは９：１〜７：３であってもよい。前記数値範囲を満足する場合、エポキシ化合物およびオキセタン化合物のそれぞれ異なる機能が効果的に調節されて、保護層の貯蔵弾性率に優れていて、偏光板の高温および高湿耐久性が効果的に確保できるという利点がある。

前記エポキシ化合物は、組成物の硬化後の熱膨張係数を低下させ、組成物から形成される保護層の強度（ｈａｒｄｎｅｓｓ）を付与するためのものであって、脂環族エポキシ化合物または脂肪族エポキシ化合物がある。

前記脂環族エポキシ化合物は、脂環族エポキシ環を１つ以上含むものであって、エポキシ基が脂肪族環を構成する隣接する２つの炭素原子の間に形成されている化合物を意味する。例えば、ジシクロペンタジエンジオキシド、リモネンジオキシド、４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、２，４−エポキシシクロヘキシルメチル、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロペンタジエンジオキシド、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペートなどがあるが、これらに限定されるものではない。また、組成物の硬化後の熱膨張係数を低下させ、組成物から形成される接着剤層の強度（ｈａｒｄｎｅｓｓ）を付与するためのものであって、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。

前記脂肪族エポキシ化合物の例示としては、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ノボラックエポキシ、ビスフェノールＡ系エポキシ、ビスフェノールＦ系エポキシ、ブロム化ビスフェノール系エポキシ、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、アリファティックグリシジルエーテル（Ｃ１２−Ｃ１４）、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｏ−クレシル（Ｃｒｅｓｙｌ）グリシジルエーテル、およびノニルフェニルグリシジルエーテルがある。

前記オキセタン化合物は、分子内に少なくとも１つのオキセタニル基を有するものであれば特に限定されず、当該技術分野でよく知られた多様なオキセタン化合物を使用することができる。例えば、本発明の前記オキセタン化合物としては、３−エチル−３−〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル〕オキセタン、１，４−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル〕ベンゼン、１，４−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ベンゼン、１，３−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ベンゼン、１，２−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ベンゼン、４，４’−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ビフェニル、２，２’−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ビフェニル、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ビフェニル、２，７−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ナフタレン、ビス〔４−｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝フェニル〕メタン、ビス〔２−｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝フェニル〕プロパン、ノボラック型フェノール−ホルムアルデヒド樹脂の３−クロロメチル−３−エチルオキセタンによるエーテル化変性物、３（４），８（９）−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル〕−トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、２，３−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル〕ノルボルナン、１，１，１−トリス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル〕プロパン、１−ブトキシ−２，２−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル〕ブタン、１，２−ビス〔｛２−（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝エチルチオ〕エタン、ビス〔｛４−（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルチオ｝フェニル〕スルフィド、１，６−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロヘキサンなどがあるが、これらに限定されるものではない。

前記保護層は、エポキシ化合物およびオキセタン化合物を含む活性エネルギー線硬化型組成物から形成され、前記活性エネルギー線硬化型組成物は、光開始剤または光増感剤を含むことができる。

前記光開始剤の例としては、アルファ−ヒドロキシケトン系化合物（ｅｘ．ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；フェニルグリオキシレート（ｐｈｅｎｙｌｇｌｙｏｘｙｌａｔｅ）系化合物（ｅｘ．ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４、ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；ベンジルジメチルケタール系化合物（ｅｘ．ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；α−アミノケトン系化合物（ｅｘ．ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１３００；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；モノアシルホスフィン系化合物（ＭＡＰＯ）（ｅｘ．ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；ビスアシルホスフィン系化合物（ＢＡＰＯ）（ｅｘ．ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９ＤＷ；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；ホスフィンオキシド系化合物（ｅｘ．ＩＲＧＡＣＵＲＥ２１００；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；メタロセン系化合物（ｅｘ．ＩＲＧＡＣＵＲＥ７８４；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；ヨードニウム塩（ｉｏｄｏｎｉｕｍ ｓａｌｔ）（ｅｘ．ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））；および前記のうちの１つ以上の混合物（ｅｘ．ＤＡＲＯＣＵＲ４２６５、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２０２２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１３００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２００５、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２０１０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２０２０；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（製））などが挙げられる。本発明では、前記のうちの１種または２種以上を使用することができるが、これに限定されるものではない。

前記光増感剤は、長波長ＵＶ照射によって活性化されてヨード系陽イオン開始剤を開始可能な化合物であって、ヨードニウムビス（４−メチルフェニル）ヘキサフルオルホスフェート、［４−メチルチルフェニル−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）］ヨードニウムヘキサフルオルホスフェート、４−イソプロピル−４’−メチルジフェニルヨードニウム−テトラキス（ペンタフルオルフェニル）ボレートなどがあるが、これらに限定されるものではない。前記光増感剤の含有量は、偏光板用接着剤組成物１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部が好ましく、０．０１〜１０重量部がより好ましく、０．０１〜５重量部が最も好ましい。本明細書において、前記単位「重量部」は、各成分間の重量の比率を意味する。

前記光開始剤と光増感剤との重量比は、０．１：１〜４：１または２：１〜４：１で含まれることが好ましい。前記範囲を満足する場合、光開始効率が増加するという利点がある。

前記偏光子は、前記収縮力を満足するものであれば特に限定されず、例えば、ヨードまたは二色性染料を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなるフィルムを用いることができる。前記偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムにヨードまたは二色性染料を染着させて製造できるが、その製造方法は特に限定されない。本明細書において、偏光子は、保護層（または低透湿基材層）を含まない状態を意味し、偏光板は、偏光子と保護層（または低透湿基材層）とを含む状態を意味する。

一方、前記偏光子は、厚さが５μｍ〜４０μｍ、より好ましくは５μｍ〜２５μｍ程度であってもよい。偏光子の厚さが前記範囲より薄ければ、光学特性が低下することがあり、フィルムの薄型化が難しい問題がある。

前記偏光子がポリビニルアルコール系フィルムの場合、ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール樹脂またはその誘導体を含むものであれば特別な制限なく使用可能である。このとき、前記ポリビニルアルコール樹脂の誘導体としては、これに限定されるものではないが、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などが挙げられる。あるいは、前記ポリビニルアルコール系フィルムは、当該技術分野において偏光子の製造に一般的に用いられる市販のポリビニルアルコール系フィルム、例えば、クラレ社のＰ３０、ＰＥ３０、ＰＥ６０、日本合成社のＭ２０００、Ｍ３０００、Ｍ６０００、Ｍ４５０４Ｌなどを用いることもできる。前記ポリビニルアルコール系フィルムは、これに限定されるものではないが、重合度が１，０００〜１０，０００程度、好ましくは１，５００〜５，０００程度であるのが良い。重合度が前記範囲を満足するとき、分子の動きが自由で、ヨウ素または二色性染料などと柔軟に混合できるからである。

前記偏光子と低透湿基材層との間に、厚さが１μｍ以上１０μｍ以下または２μｍ以上４μｍ以下の接着剤層をさらに含んでもよく、前記接着剤層は、接着剤組成物の硬化物であってもよい。

前記接着剤組成物は、低透湿基材層を偏光子に接着するためのものであれば、組成は特に限定されず、例えば、エポキシ化合物およびオキセタン化合物の混合物などが挙げられる。エポキシ化合物およびオキセタン化合物に関する説明は上述した通りである。

本明細書は、偏光子を用意するステップと、前記偏光子の一面に低透湿基材層を備えるステップと、前記偏光子の他面に保護層を形成するステップとを含む前述した偏光板の製造方法を提供する。

前記保護層を形成するステップは、偏光子の他面に活性エネルギー線硬化型組成物を塗布し、これを硬化させるステップを含むことができる。

前記偏光子の一面に低透湿基材層を備えるステップは、偏光子と低透湿基材層との間に接着剤組成物を塗布し、これを硬化させるステップを含むことができる。

前記偏光子の一面に前記低透湿基材層を備える方法は、当該技術分野でよく知られた方法を利用して行われる。例えば、前記偏光子および低透湿基材がそれぞれのロールに巻かれた形態で供給できるが、これに限定されるものではない。前記各フィルムの供給速度は、製造工程に適切な値であれば、特に限定されるものではないが、例えば、５ｍ／ｍｉｎ以上１００ｍ／ｍｉｎ、または１０ｍ／ｍｉｎ以上３０ｍ／ｍｉｎ以下の速度で供給されてもよい。この場合、低透湿基材層の偏光子に対する安定した接着が行われるという利点がある。

前記活性エネルギー線硬化型組成物の粘度は、２５℃で５０ｃＰｓ〜２００ｃＰｓ、５０ｃＰｓ〜１３０ｃＰｓ、好ましくは６０ｃＰｓ〜１３０ｃＰｓ、さらに好ましくは７０ｃＰｓ以上１３０ｃＰｓ以下であってもよい。前記数値範囲を満足する場合、組成物の塗布性が改善されて工程性に優れるという利点がある。

前記偏光子は、延伸されたものであってもよい。すなわち、本明細書の偏光板の製造方法によれば、偏光子の供給工程の前に、偏光子の延伸工程をさらに経てもよい。前記偏光子の延伸工程は、その条件などは特に限定されない。

前記偏光子の他面に活性エネルギー線硬化型組成物を塗布して保護層を形成するステップは、別のキャリアフィルムを用いることができる。具体的には、キャリアフィルムを供給しながらキャリアフィルムと偏光子との間に前記組成物を塗布し、組成物が硬化された後、キャリアフィルムを偏光板から剥離する工程によれば良い。

前記活性エネルギー線硬化型組成物を塗布する面は限定されず、例えば、前記キャリアフィルムの偏光子との接合面に活性エネルギー線硬化型組成物を塗布することができる。

前記活性エネルギー線硬化型組成物を塗布する方法は、必要な量の組成物を均一に塗布できれば特に限定されない。例えば、スピンコーティング、バーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ブレードコーティングなどの方法があり、連続工程のために、好ましくは、ロールコーティングによれば良い。

前記偏光板の製造方法は、各構成との接合力を確保するために、偏光板を加圧するステップを含むことができる。具体的には、前記加圧するステップは、０．１Ｍｐａ〜１０Ｍｐａまたは０．２Ｍｐａ〜８Ｍｐａの圧力で行われる。前記数値範囲を満足する場合、偏光子の損傷なく安定した走行性を確保すると同時に、フィルムの接合時に流入する気泡を効果的に除去できるという利点がある。

前記偏光板の製造方法は、活性エネルギー線硬化型組成物を硬化させるステップを含むことができる。

前記偏光板の製造方法は、前記接着剤層を硬化させるステップを含むことができる。

前記活性エネルギー線硬化型組成物を硬化させるステップと前記接着剤層を硬化させるステップは、活性エネルギー線を照射して行われる。前記活性エネルギー線を照射するのに用いられる装置は特に限定されず、例えば、フュージョンランプ（Ｆｕｓｉｏｎ ｌａｍｐ）、アークランプ（Ａｒｃ ｌａｍｐ）、ＬＥＤ、および低圧ランプが挙げられる。

前記活性エネルギー線の光量は、１００ｍＪ／ｃｍ^２〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ^２〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２であってもよく、前記照射光の照射時間は、１秒〜１０分、好ましくは２秒〜３０秒であってもよい。

前記活性エネルギー線の光量および照射時間の範囲を満足する場合、保護層の硬化速度が速く、フィルムの外観特性および光学特性を低下させることなく光源から過度に熱が伝達されるのを防止して、偏光子に走行シワが発生することを最小化して生産性に優れるという利点がある。

図２は、本明細書の一実施態様に係る画像表示装置を示す概略断面図である。

図２を参照すれば、本明細書の一実施態様に係る画像表示装置は、前述した偏光板を含む。液晶パネル２００の一面または両面に前述した偏光板１００が付着できる。このとき、前記偏光板１００は、粘着層４０を介して液晶パネル２００に付着できる。

前記偏光板は、表示装置パネルまたは位相差フィルムのような光学フィルムとの付着のために、必要に応じて、前記保護層の偏光子に接する面の他面に粘着層を含むことができる。具体的には、前記偏光板は、保護層の偏光子と接する面の反対面に粘着層をさらに含んでもよい。

このとき、前記粘着層は、当該技術分野でよく知られている多様な粘着剤を用いて形成され、その種類が特に限定されるものではない。例えば、前記粘着層は、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤などを用いて形成される。なかでも、透明性および耐熱性などを考慮するとき、アクリル系粘着剤を使用することが特に好ましい。

一方、前記粘着層は、保護層の上部に粘着剤を塗布する方法で形成されてもよく、別の離型シート上に粘着剤を塗布した後、乾燥させて製造される粘着シートを、保護層の上部に付着させる方法で形成されてもよい。

前記のような本発明の偏光板は、液晶表示装置などのような画像表示装置に有用に適用可能である。

前記画像表示装置は、液晶パネルと、前記液晶パネルの上面に備えられる上部偏光板と、前記液晶パネルの下面に備えられる下部偏光板とを含む。

本明細書の一実施態様に係る画像表示装置は、液晶パネルと、前記液晶パネルの上面に備えられる上部偏光板と、前記液晶パネルの下面に備えられる下部偏光板として本明細書に係る偏光板とを含む。

本明細書の一実施態様に係る画像表示装置は、液晶パネルと、前記液晶パネルの上面に備えられる上部偏光板として本明細書に係る偏光板と、前記液晶パネルの下面に備えられる下部偏光板とを含む。

本明細書の一実施態様に係る画像表示装置は、液晶パネルと、前記液晶パネルの上面に備えられる上部偏光板と、前記液晶パネルの下面に備えられる下部偏光板とを含み、前記上部偏光板および下部偏光板は、本明細書に係る偏光板である。

このとき、前記液晶表示装置に含まれる液晶パネルの種類は特に限定されない。例えば、その種類に限定されず、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（ｓｕｐｅｒ ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）型、Ｆ（ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｉｃ）型、またはＰＤ（ｐｏｌｙｍｅｒ ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ）型のようなパッシブマトリクス方式のパネル；２端子型（ｔｗｏ ｔｅｒｍｉｎａｌ）または３端子型（ｔｈｒｅｅ ｔｅｒｍｉｎａｌ）のようなアクティブマトリクス方式のパネル；横電界型（ＩＰＳ；Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）パネルおよび垂直配向型（ＶＡ；Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）パネルなどの公知のパネルがすべて適用可能である。また、液晶表示装置を構成するその他の構成、例えば、上部および下部基板（ｅｘ．カラーフィルタ基板またはアレイ基板）などの種類も特に限定されず、この分野で公知の構成が制限なく採用可能である。

以下、実施例を通じて本明細書をさらに詳細に説明する。しかし、以下の実施例は本明細書を例示するためのものであり、これによって本明細書の範囲が限定されるものではない。

＜製造例：活性エネルギー線硬化型組成物の製造＞
＜製造例１：保護層形成用組成物１の製造＞
エポキシ化合物として３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名セロキサイド−２０２１）６５重量部、１，４−シクロヘキシルジメタノールジグリシジルエーテル（ＣＨＤＭＤＧＥ）１５重量部、およびオキセタン化合物として３−エチル−３−［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル］オキセタン（東亜合成社のアロンオキセタンＯＸＴ−２２１）２０重量部を混合して混合物を製造し、前記混合物１００重量部に対して、光開始剤（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０）３重量部および光増感剤（商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＩＴＸ）１重量部を添加して、保護層形成用組成物１を製造した。

＜製造例２：保護層形成用組成物２の製造＞
エポキシ化合物として３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名セロキサイド−２０２１）４２重量部、１，４−シクロヘキシルジメタノールジグリシジルエーテル（ＣＨＤＭＤＧＥ）２８重量部、およびオキセタン化合物として３−エチル−３−［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル］オキセタン（東亜合成社のアロンオキセタンＯＸＴ−２２１）３０重量部を混合して混合物を製造し、前記混合物１００重量部に対して、光開始剤（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０）３重量部および光増感剤（商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＩＴＸ）１重量部を添加して、保護層形成用組成物２を製造した。

＜製造例３：保護層形成用組成物３の製造＞
エポキシ化合物として３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名セロキサイド−２０２１）８０重量部、およびオキセタン化合物として３−エチル−３−［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル］オキセタン（東亜合成社のアロンオキセタンＯＸＴ−２２１）２０重量部を混合して混合物を製造し、前記混合物１００重量部に対して、光開始剤（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０）３重量部および光増感剤（商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＩＴＸ）１重量部を添加して、保護層形成用組成物３を製造した。

＜製造例：偏光板の製造＞
＜比較例１：偏光板の製造＞
偏光子（厚さ１７μｍのポリビニルアルコール系延伸フィルム、製造会社：日本合成社）の一面に接着剤組成物を塗布し、低透湿基材層（厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、日本東洋紡社製）をラミネートした。次いで、前記偏光子の低透湿基材層が積層されていない面に前記保護層形成用組成物１を塗布し、ラミネートして偏光板を製造した。その後、フュージョンランプ（Ｆｕｓｉｏｎ ｌａｍｐ）を用いて、紫外線を照射して保護層形成用組成物および接着剤を硬化させて偏光板を製造した。このとき、保護層の厚さは４．１μｍであった。

＜参考例１：偏光板の製造＞
前記比較例１において、保護層形成用組成物１の代わりに保護層形成用組成物２を用い、保護層の厚さを４．５〜５μｍに変更した以外は、比較例１と同様の方法で偏光板を製造した。

＜参考例２：偏光板の製造＞
偏光子（厚さ１７μｍのポリビニルアルコール系延伸フィルム、製造会社：日本合成社）の一面に接着剤組成物を塗布し、低透湿基材（厚さ６０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、日本東洋紡社製）をラミネートした。次いで、前記偏光子の低透湿基材層が積層されていない面に前記保護層形成用組成物１を塗布し、ラミネートして偏光板を製造した。その後、フュージョンランプ（Ｆｕｓｉｏｎ ｌａｍｐ）を用いて、紫外線を照射して保護層形成用組成物および接着剤を硬化させて偏光板を製造した。このとき、保護層の厚さは５．９μｍであった。

＜参考例３：偏光板の製造＞
前記参考例２において、６０μｍの低透湿基材の代わりに８０μｍの低透湿基材に変更した以外は、参考例２と同様の方法で偏光板を製造した。

＜実施例１：偏光板の製造＞
前記比較例１において、保護層の厚さを４．５〜５μｍに変更した以外は、比較例１と同様の方法で偏光板を製造した。

＜実施例２：偏光板の製造＞
前記比較例１において、保護層の厚さを５．９μｍに変更した以外は、比較例１と同様の方法で偏光板を製造した。

＜実施例３：偏光板の製造＞
前記比較例１において、保護層の厚さを６．５μｍに変更した以外は、比較例１と同様の方法で偏光板を製造した。

＜実施例４：偏光板の製造＞
前記比較例１において、保護層形成用組成物１の代わりに保護層形成用組成物３を用い、保護層の厚さを４．５〜５μｍに変更した以外は、比較例１と同様の方法で偏光板を製造した。

＜実験例１：耐熱性評価＞
偏光板に対して高温耐久性を評価する実験を行った。厚さ２．７Ｔ、対角線の長さ５５インチ以上のガラスの上面および下面に粘着剤を介在して偏光板を付着させた。

偏光板の付着したガラスをチャンバに投入して、８０℃で１００時間、２５０時間、５００時間、および１，０００時間（すなわち、最終放置時間は１，０００時間）それぞれ放置した後、取り出してクラックの発生の有無を確認し、１つ以上のクラックが発生した場合を「クラック発生」と評価し、結果を下記表１にまとめた。このとき、クラックへの判定基準は、長さが５．０ｍｍ超過のクラックを意味する。

クラックに該当するか否かを評価する方法は、図４および図５に示した。

クラックが発生しても、Ｓｃｒａｔｃｈなどの外部要因によってクラックが発生したのであれば、最終クラック未発生（ＯＫ）と判定し、クラックが外部要因によらない耐熱性問題のために発生したのであれば、最終クラック発生（ＮＧ）と判定した。

実験の結果、比較例１による偏光板は、クラックが発生したことを確認することができ、これを図３に示した。

しかし、実施例１〜３による偏光板は、保護層の厚さが十分に厚いので、保護層による偏光子の保護効果に優れていて、偏光子の応力を適切に制御して、クラックが発生しないことを確認することができた。

＜実験例２：平面度評価＞
前記製造された偏光板を３２インチの０．７Ｔの厚さのガラスの上面および下面にそれぞれ付着させて積層体を製造した。前記積層体を６０℃の温度のチャンバ内に７２時間投入した後、取り出して２４時間経過時点で平面度の変化量を測定した。用語、平面度は、上部偏光板側に最も多く反った部分と、下部偏光板側に最も多く反った部分との差値であり、前記平面度は、Ｄｕｋｉｎ社の３Ｄ測定装置を用いて測定した。一方、測定時の結果を図６（参考例２）、図７（参考例３）および図８（実施例４）に示した。
初期反り：低透湿基材層の貼り合わせ直後の、２５℃、ＲＨ５０％環境で測定
後期反り：低透湿基材層の貼り合わせ後、６０℃のチャンバ内に７２時間放置後、チャンバの外部で２５℃、ＲＨ５０％環境で２時間放置した後に測定

前記比較例および実施例の偏光板に関する構成と実験の結果を下記表１に示した。保護層の厚さおよび貯蔵弾性率から強度係数を算出し、低透湿基材層の収縮力および厚さから収縮係数を算出した。

前記結果から、保護層の厚さを調節するとき、高温耐久性（耐熱性）が向上する結果を確認した。具体的には、比較例１と実施例１〜３とを比較すれば、保護層の厚さが４．５μｍに達していない場合、耐熱性が低下する結果を確認した。保護層の強度係数値の範囲を調節するとき、保護層の高温耐久性が向上する結果を確認した。具体的には、参考例１と実施例１〜４とを比較すれば、保護層の強度係数が６，７５０（Ｍｐａ×μｍ）に達していない場合、耐熱性が低下する結果を確認した。低透湿層の収縮係数値の範囲を調節するとき、偏光板全体の高温耐久性が低下して平面度が減少する結果を確認した。具体的には、参考例２および３と実施例４とを比較すれば、収縮係数が６０（Ｎ×μｍ）に達していない場合、平面度の変化量が大きいことを確認することができた。前記結果から、保護層の厚さ、保護層の強度係数値および低透湿基材層の収縮係数値を調節するとき、高温耐久性に優れた偏光板の提供が可能であることを確認した。

＜実験例３：組成物の工程性評価＞
前記製造例１で製造された保護層形成用組成物１〜３に対して工程性テストを行った。偏光子の一面に前記保護層形成用組成物を塗布し、０．４Ｍｐａのラミネート圧でラミネートし、このときのフィルムの供給速度は１８ｍ／ｍｉｎであり、形成される保護層の厚さを偏光板の中心（Ｃｅｎｔｅｒ）とサイド部分（Ｓｉｄｅ）に対して測定した後、これを記した。

前記表２を参照すれば、粘度が６０ｃＰｓに過ぎない組成物２の場合、コーティング性が著しく低下するため、厚い保護層を形成しにくかった。これに対し、粘度が高い組成物１および３の場合には、厚い保護層の形成に有利であった。

１０：偏光子
２０：保護層
３０：低透湿基材層
４０：粘着層
１００：偏光板
２００：液晶パネル

Claims (15)

1. 偏光子と、
   前記偏光子の一面に備えられた低透湿基材層と、
   前記偏光子の他面に備えられた保護層とを含み、
   前記保護層の厚さは、４．５μｍ以上１０μｍ以下であり、
   前記保護層は、エポキシ化合物およびオキセタン化合物を含む活性エネルギー線硬化型組成物またはその硬化物を含む樹脂層である、偏光板。
2. 前記保護層の下記数式１で表される強度係数値が６，７５０以上６０，０００以下である、請求項１に記載の偏光板：
   ［数式１］
   強度係数（Ｍｐａ×μｍ）＝保護層の貯蔵弾性率×保護層の厚さ
   前記数式１中、前記保護層の貯蔵弾性率は、温度区間−１０℃〜１６０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎ、歪み（ｓｔｒａｉｎ）１０％の測定条件における、８０℃の貯蔵弾性率を意味する。
3. 下記数式２で表される収縮係数値が６０以上９００以下である、請求項１または２に記載の偏光板：
   ［数式２］
   収縮係数（Ｎ×μｍ）＝低透湿基材層の収縮力×低透湿基材層の厚さ
   前記数式２中、前記低透湿基材層の収縮力は、温度８０℃で２時間放置後の、ＴＤ方向への収縮力を意味する。
4. 前記保護層の温度区間−１０℃〜１６０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎ、歪み（ｓｔｒａｉｎ）１０％の測定条件における、８０℃の貯蔵弾性率は、１，２００Ｍｐａ以上１０，０００Ｍｐａ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の偏光板。
5. 前記保護層の厚さが４．５μｍ以上８．５μｍ以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光板。
6. 前記低透湿基材層の温度８０℃で２時間放置時の、ＴＤ方向への収縮力が１Ｎ以上１０Ｎ以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の偏光板。
7. 前記低透湿基材層の厚さは、４０μｍ以上１００μｍ以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の偏光板。
8. 前記低透湿基材層の水分透過率が６０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の偏光板。
9. 前記保護層および前記低透湿基材層の厚さの比率が１：３〜１：２０である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の偏光板。
10. 前記偏光板の温度８０℃で２時間放置時の、ＭＤ方向またはＴＤ方向への収縮力が５Ｎ以上１０Ｎ以下である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の偏光板。
11. 前記偏光板を８０℃で１，０００時間放置した時、偏光子に生成されるクラックの長さが５．０ｍｍ以下である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の偏光板。
12. 前記エポキシ化合物およびオキセタン化合物の重量比が９：１〜１：９である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の偏光板。
13. 偏光子を用意するステップと、
    前記偏光子の一面に低透湿基材層を備えるステップと、
    前記偏光子の他面に保護層を形成するステップとを含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法。
14. 前記保護層を形成するステップは、偏光子の他面に活性エネルギー線硬化型組成物を塗布し、これを硬化させるステップを含み、
    前記活性エネルギー線硬化型組成物の粘度は、２５℃で５０ｃＰｓ〜２００ｃＰｓである、請求項１３に記載の偏光板の製造方法。
15. 液晶パネルと、
    前記液晶パネルの上面に備えられた第１偏光板と、
    前記液晶パネルの下面に備えられた第２偏光板とを含み、
    前記第１偏光板および第２偏光板は、前記請求項１〜１２のいずれか１項に記載の偏光板である、画像表示装置。

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