TW201721194A

TW201721194A - 複合偏光板及使用該偏光板之液晶面板

Info

Publication number: TW201721194A
Application number: TW105128419A
Authority: TW
Inventors: 松本寿和
Original assignee: 住友化學股份有限公司
Priority date: 2015-09-18
Filing date: 2016-09-02
Publication date: 2017-06-16
Also published as: WO2017047408A1; JPWO2017047408A1; TWI690738B

Abstract

本發明係提供一種在高溫、高溫高濕度環境下之偏光度降低程度小之複合偏光板，以及一種耐熱性及耐濕熱性高之液晶面板。本發明係關於一種複合偏光板，其係將第1偏光板與第2偏光板積層而成，該第1偏光板依序積層第1保護膜、厚度15μm以下之第1偏光膜、第2保護膜而成，該第2偏光板依序積層第3保護膜、厚度15μm以下之第2偏光膜、第4保護膜而成，並且前述第1偏光板之吸收軸與前述第2偏光板之吸收軸略呈平行，存在於前述第1偏光膜與前述第2偏光膜之間的前述第2保護膜及前述第3保護膜滿足下述式(1)及(2)。Re2(590)+Re3(590)≦15nm (1) Rth2(590)+Rth3(590)≦20nm (2)

Description

複合偏光板及使用該偏光板之液晶面板

本發明係關於耐久性優異之複合偏光板、以及使用該偏光板之液晶面板。

近年來，液晶顯示裝置係活用其消費電力少、於低電壓下運作、輕量且薄型之優點，作為行動電話、攜帶式情報終端、電腦用顯示器、電視等情報用顯示裝置而迅速地普及。伴隨液晶技術的發展，提案有多種模式之液晶顯示裝置，響應速度及對比、窄視角等液晶顯示之問題點逐漸被解決。如此情況之中，液晶顯示裝置也在車載用途等要求有高耐久性之領域發展。然而，對於如溫度95℃、溫度65℃/濕度95%(以下，記載為65℃/95%RH)之嚴苛耐久試驗，在使用以往的經碘將聚乙烯醇系樹脂染色之偏光板時會有偏光度降低程度大之問題。

日本特開2002-072162號公報(專利文獻1)中，揭示在投影型顯示裝置之光射出側使用2片偏光板之構成，但為了將偏光板冷卻而將2片偏光板以空間上分離之方式配置。當採用使冷卻用氣體通過2片偏光板之間、或者將熱傳導度高之藍寶石或水晶夾在2片偏光板之間之構成時，在空氣層或水晶等界面中，由折射率差所致之反射大，會有光的利用效率降低之問題。

又，日本特開平10-133196號公報(專利文獻2)中，揭示一種液晶投影機用而直接積層有耐熱性經提升之偏光板之複合偏光板。然而，於厚度20至30μm之偏光膜的雙面配置有作為保護層之三乙醯纖維素膜之偏光板中，加熱時之偏光膜的收縮力大，有時會產生液晶面板彎曲、偏光板剝離等問題。又，使用熱傳導度成為0.8W/m‧K以上之玻璃等材料作為偏光膜之保護層時，會有裁切等加工不易且生產效率低之問題。由於如此情形，也有不易藉由在複合偏光板表面設置表面處理層來賦予功能性之問題。

上述專利文獻中，雖考慮到針對高溫環境下之對策，但仍有改善的空間，故在使用以往的經碘將聚乙烯醇系樹脂染色之偏光板時，其在如65℃/95%RH之高溫高濕度環境下之耐久性依然不充分。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2002-072162號公報

[專利文獻2]日本特開平10-133196號公報

本發明之目的係提供在高溫及高溫高濕度環境下的偏光度降低程度小之複合偏光板。本發明之另一個目的係提供耐熱性及耐濕熱性高的液晶面板。

亦即，若依據本發明，提供一種複合偏光板，其係依序積層第1偏光板與第2偏光板而成，該第1偏光板依序積層第1保護膜、厚度15μm以下之第1偏光膜、第2保護膜而成，該第2偏光板依序積層第3保護膜、厚度15μm以下之第2偏光膜、第4保護膜而成，並且第1偏光板與第2偏光板之吸收軸略呈平行，存在於第1偏光膜與第2偏光膜之間的第2保護膜2及第3保護膜滿足下述式(1)及(2)。

Re2(590)+Re3(590)≦15nm (1)

Rth2(590)+Rth3(590)≦20nm (2)

第1保護膜、第2保護膜及第3保護膜，較佳係分別含有選自由纖維素系樹脂、烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組之至少一種。然後，較佳係其中至少1片之透濕度為200g/m²‧24hr以下。

本發明之複合偏光板中，較佳係第1偏光板之單體穿透率小於第2偏光板之單體穿透率，較佳係第1偏光膜之厚度與第2偏光膜之厚度之差設為5μm以下。又，亦提供一種複合偏光板，其係為了貼合於液晶面板，而在第4保護膜之與積層有第2偏光膜之面為相反側之面具備黏著劑層。

第4保護膜較佳係含有選自由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組之至少一種，厚度方向之相位差值較佳係-10至10nm。

又，若依據本發明，亦提供一種液晶顯示面板，其係以上述複合偏光板經由黏著劑層而積層於液晶單元之至少一側而成者。

若依據本發明，可得到耐熱性及濕熱耐久性優異之複合偏光板及液晶面板。

10‧‧‧複合偏光板

11A‧‧‧第1偏光膜

11B‧‧‧第2偏光膜

12A‧‧‧第1保護膜

12B‧‧‧第4保護膜

13、14‧‧‧黏著劑層

15‧‧‧第2保護膜

16‧‧‧第3保護膜

20‧‧‧表面處理層

第1圖係表示本發明之複合偏光板之層構成之剖面示意圖之一例。

參照第1圖，說明本發明之複合偏光板10之層構成。本發明之複合偏光板10係將第1偏光板與第2偏光板積層而構成，該第1偏光板依序積層第1保護膜12A、厚度15μm以下之第1偏光膜11A、第2保護膜15而成，該第2偏光板依序積層第3保護膜16、厚度15μm以下之第2偏光膜11B、第4保護膜12B而成。本發明之複合偏光板中，第1偏光板所具有之第2保護膜15、與第2偏光板所具有之第3保護膜16係經由黏著劑層13或接著劑層13而貼合。於第1保護膜12A中之與第1偏光膜11A之貼合面為相反側之面形成表面處理層20係亦為有用。

本發明之複合偏光板中，第1偏光膜11A與第2偏光膜係以其吸收軸略呈平行之方式配置。本說明書中，略呈平行係指兩者所成之角並未嚴密限定為0°，而是例如在0±5°之範圍內，較佳係在0±3°之範圍內。

存在於第1偏光膜11A與第2偏光膜11B之間的第2保護膜15、及第3保護膜16，係使用在波長590nm之面內相位差值Re(590)之和為15nm以下、且在波長590nm之厚度方向之相位差值Rth(590)之和為20nm以下者。

第1保護膜12A、第2保護膜15及第3保護膜16，較佳係分別含有選自由纖維素系樹脂、烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組之至少一種。又，較佳係使用第1保護膜、第2保護膜及第3保護膜中之至少1片保護膜之透濕度為200g/m²‧24hr以下者。

為了抑制在高溫環境下及高溫高濕環境下之偏光板之收縮力，將第1偏光膜11A、第2偏光膜11B之厚度皆設為15μm以下。又，藉由使第1偏光板之單體穿透率小於第2偏光板之單體穿透率，可使複合偏光板之透過率更提高。

再者，第1偏光膜11A之厚度與第2偏光膜11B之厚度之差較佳係5μm以下。第4保護膜12B較佳係含有選自由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組之至少一種。又，第4保護膜之厚度方向之相位差值較佳係-10至10nm。

複合偏光板10，可在第2偏光膜上或第2保護膜上積層黏著劑層14。可將複合偏光板經由黏著劑層14貼合於液晶單元而得到液晶面板。通常，偏光板係貼合於液晶單元之雙面，但本發明之複合偏光板可適合使用於液晶顯示裝置之視認側及背面側或其兩者。

本發明之複合偏光板中，放置於高溫環境下、高溫高濕環境下之後，雖有各個偏光板之偏光度降低之虞，但因2片偏光板是以平行偏光(parallel nicol)之方式積層，故就複合偏光板而言係可抑制偏光度之降低。

以下，一邊參照第1圖所附之符號一邊依序詳細說明構成本發明之複合偏光板、液晶面板之各自之構件。

[偏光膜]

構成複合偏光板10之第1偏光膜11A、第2偏光膜11B，通常可經過下述步驟而製造：將聚乙烯醇系樹脂膜一軸延伸之步驟；將聚乙烯醇系樹脂膜使用二色性色素進行染色而吸附二色性色素之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜使用硼酸水溶液進行處理而使其交聯之步驟；及在藉由硼酸水溶液而進行之交聯處理後進行水洗之步驟。

聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了可為屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，亦可為乙酸乙烯酯和可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體之共聚物。就可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體而言，可列舉例如：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。

聚乙烯醇系樹脂之皂化度，通常係85至100莫耳%左右，較佳係98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可經過改質，例如可使用經醛類改質之聚乙烯縮甲醛(polyvinyl formal)、聚乙烯縮乙醛(polyvinyl acetal)等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度，通常係1,000至10,000左右，較佳係1,500至5,000左右。

將此種聚乙烯醇系樹脂製膜而成者，可作為偏光膜之原捲膜而使用。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法無特別限定，可用公知方法製膜。聚乙烯醇系樹脂原捲膜之膜厚係例如10至100μm左右，較佳係10至50μm左右。

聚乙烯醇系樹脂膜之一軸延伸可在藉由二色性色素而進行之染色前、在染色的同時、或在染色後進行。當將一軸延伸在染色後進行時，該一軸延伸可在硼酸處理前進行，亦可在硼酸處理中進行。當然，亦可在此處所示之複數個階段進行一軸延伸。一軸延伸，可採用在周速相異之輥間進行一軸延伸之方法、或是使用熱輥進行一軸延伸之方法等。又，一軸延伸，可藉由在大氣中進行延伸之乾式延伸來進行，亦可藉由使用水等溶劑使聚乙烯醇系樹脂膜在膨潤之狀態下進行延伸之濕式延伸來進行。延伸倍率通常係3至8倍左右。

聚乙烯醇系樹脂膜之藉由二色性色素而進行之染色，例如可藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中之方法來進行。就二色性色素而言，具體上可用碘、二色性有機染料。再者，聚乙烯醇系樹脂膜，較佳係在染色處理之前，事先施以浸漬於水而膨潤之處理。

使用碘作為二色性色素時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液而染色之方法。相對於水100重量份，該水溶液中之碘之含量通常係0.01至1重量份左右，相對於水100重量份，碘化鉀之含量通常係0.5至20重量份左右。染色所用之水溶液之溫度通常係20至40℃左右。又，於該水溶液之浸漬時間(染色時間)通常係20至1,800秒左右。

另一方面，使用二色性有機染料作為二色性色素時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有水溶性二色性有機染料之水溶液而染色之方法。相對於水100重量份，該水溶液中之二色性有機染料之含量通常係1×10^-4至10重量份左右，較佳係1×10^-3至1重量份。該染料水溶液可含有如硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。染色所用之二色性有機染料水溶液之溫度，通常係20至80℃左右。又，於該水溶液之浸漬時間(染色時間)通常係10至1,800秒左右。

在藉由二色性色素而進行之染色後之硼酸處理，可藉由將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸之水溶液之方法來進行。相對於水100重量份，含有硼酸之水溶液中之硼酸之含量通常係2至15重量份左右，較佳係5至12重量份。使用碘作為二色性色素時，該含有硼酸之水溶液較佳係含有碘化鉀。相對於水100重量份，含有硼酸之水溶液中之碘化鉀之含量通常係0.1至15重量份左右，較佳係5至12重量份。於含有硼酸之水溶液之浸漬時間通常係60至1,200秒左右，較佳係150至600秒，更佳係200至400秒。含有硼酸之水溶液之溫度通常係50℃以上，較佳係50至85℃，更佳係60至80℃。

在硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜，通常進行水洗處理。水洗處理，可藉由例如將經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水之方法來進行。水洗可使用含有碘化鉀之溶液。水洗處理中之水之溫度通常係5至40℃左右。又，浸漬時間通常係1至120秒左右。

水洗後施以乾燥處理，得到偏光膜。乾燥處理可使用熱風乾燥機、遠紅外線加熱器來進行。乾燥處理之溫度通常係30至100℃左右，較佳係50至80℃。乾燥處理之時間通常係60至600秒左右，較佳係120至600秒。藉由乾燥處理，偏光膜中之水分率減少到實用程度。該水分率通常係5至20重量%左右，較佳係8至15重量%。水分率低於5重量%時，會有失去偏光膜之可撓性、乾燥後損傷或破裂之情形。又，水分率超過20重量%時，會有熱安定性不足之傾向。

依照以上方式，可製造使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之偏光膜。

又，偏光膜之製造步驟中之聚乙烯醇系樹脂膜之延伸、染色、硼酸處理、水洗步驟、乾燥步驟，可依據例如日本特開2012-159778號所記載之方法來進行。該文獻記載之方法中，使用藉由對基材膜塗佈聚乙烯醇系樹脂而形成會成為偏光膜之聚乙烯醇系樹脂層之方法係亦為有用。

若欲使高溫環境下之偏光膜之收縮力抑制為低值，則較佳係使偏光膜厚度為12μm以下。從可賦予良好的光學特性之點來看，偏光膜之厚度通常係3μm以上。

2片偏光膜11A、11B之厚度差的程度較佳係5μm以下。更佳係3μm以下。如此使用厚度差小之偏光膜，藉此可將高溫環境下之尺寸變化以第1偏光膜11A與第2偏光膜11B來配合。因此，認為起因於由2片偏光膜之熱收縮差導致之應力差而發生之偏光膜裂縫係受到抑制。

偏光膜於80℃之溫度保持240分鐘時，較佳係其吸收軸方向之寬度每2mm之收縮力為2N以下。該收縮力大於2N時，在高溫環境下之尺寸變化量變大且偏光膜之收縮力變大，故偏光膜有變得容易發生破裂或剝離之傾向。當使延伸倍率下降、或使偏光膜之厚度薄時，偏光膜之收縮力有變成2N以下之傾向。

又，2片偏光膜之吸收軸方向之寬度每2mm之收縮力之差較佳係1N以下，更佳係0.5N以下。如同後述，本發明之複合偏光板中，較佳係第2偏光板之單體穿透率大於第1偏光板之單體穿透率，因此，2片偏光膜之收縮力之大小亦可相異，例如收縮力之差可為0.1N以上。

[第1保護膜、第2保護膜、第3保護膜]

複合偏光板10所用之第1保護膜12A、第2保護膜15、及第3保護膜16可由透明樹脂膜構成。尤其，較佳係由透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等優異之材料構成。本說明書中，透明樹脂膜係指可見光區域中之單體穿透率為80%以上之樹脂膜。第1保護膜12A、第2保護膜15及第3保護膜16分別可為相同之保護膜，亦可為不同之保護膜。

就第1保護膜12A、第2保護膜15、及第3保護膜16而言，可使用由纖維素系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂等在該領域廣泛使用來作為以往保護膜之形成材料之材料所形成之膜。

就構成第1保護膜12A、第2保護膜15、第3保護膜16之材料而言，例如較佳係使用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂。在此所謂的聚烯烴系樹脂係包含鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂。該等樹脂膜，可為藉由原料樹脂之熔融擠製所製膜之膜、在製膜後經橫向延伸所得之一軸延伸膜、在製膜後經縱向延伸然後經橫向延伸所得之二軸延伸膜等。

纖維素系樹脂，可為使纖維素之羥基中之氫原子之一部分或全部經乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代之纖維素的有機酸酯或混合有機酸酯。可列舉例如：纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、該等之混合酯等而成者。其中，較佳係三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。

環狀聚烯烴系樹脂，係例如將降莰烯及其他環戊二烯衍生物等環狀烯烴單體在觸媒存在下聚合所得者。使用此種環狀聚烯烴系樹脂時，容易得到後述具有既定相位差值之保護膜。

就環狀聚烯烴系樹脂而言，可列舉例如：將從環戊二烯與烯烴類或(甲基)丙烯酸或其酯類藉由狄耳士-阿德爾反應(Diels-Alder reaction)所得之降莰烯或其衍生物作為單體進行開環移位聚合，並藉由其後續之氫化而得之樹脂；將從二環戊二烯與烯烴類或(甲基)丙烯酸或其酯類藉由狄耳士-阿德爾反應所得之四環十二烯或其衍生物作為單體進行開環移位聚合，並藉由其後續之氫化而得之樹脂；將選自降莰烯、四環十二烯、該等之衍生物、及其他環狀烯烴單體中之至少2種單體同樣地進行開環移位共聚合，並藉由其後續之氫化而得之樹脂；使降莰烯、四環十二烯、或該等之衍生物等環狀烯烴，與鏈狀烯烴及/或具有乙烯基之芳香族化合物進行加成共聚合所得之樹脂等。

環狀聚烯烴系樹脂可容易取得市售品。若列舉市售品之例，分別以商品名表示，有：由TOPAS ADVANCED POLYMERS GmbH生產並且在日本由POLYPLASTICS股份有限公司所販售之“TOPAS”、JSR股份有限公司所販售之“ARTON(註冊商標)”、日本Zeon股份有限公司所販售之“ZEONOR(註冊商標)”及“ZEONEX(註冊商標)”、三井化學股份有限公司所販售之“APEL(註冊商標)”等。

鏈狀聚烯烴系樹脂之典型例為聚乙烯系樹脂及聚丙烯系樹脂。其中，可適合使用：丙烯之均聚物；或者以丙烯為主體，並使可與丙烯共聚合之共聚單體(例如乙烯)以1至20重量%之比率，較佳係以3至10重量%之比率共聚合而成之共聚物。

聚丙烯系樹脂可含有脂環族飽和烴樹脂。藉由含有脂環族飽和烴樹脂，變得容易調控相位差值。相對於聚丙烯系樹脂，脂環族飽和烴樹脂之含量係以設為0.1至30重量%較有利，更佳之含量係3至20重量%。脂環族飽和烴樹脂之含量未達0.1重量%時，無法充分得到調控相位差值之效果，另一方面，其含量超過30重量%時，會有從保護膜經時性地產生脂環族飽和烴樹脂的滲出(bleed out)之疑慮。

丙烯酸系樹脂，典型上為含有50重量%以上之甲基丙烯酸甲酯單元之聚合物。甲基丙烯酸甲酯單元之含量較佳係70重量%以上，亦可為100重量%。

以甲基丙烯酸甲酯為主成分之丙烯酸系樹脂可容易取得市售品，分別以商品名表示，例如：住友化學股份有限公司所販售之“SUMIPEX(註冊商標)”、三菱Rayon股份有限公司所販售之“ACRYPET(註冊商標)”、旭化成股份有限公司所販售之“DELPET(註冊商標)”、KURARAY股份有限公司所販售之“PARAPET(註冊商標)”、日本觸媒股份有限公司所販售之“ACRYVIEWA(註冊商標)”等。

該等樹脂，在無損透明性之範圍內可調配適宜的添加物。就添加物而言，可列舉例如：抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、滑劑、成核劑、防霧劑、抗結塊劑(antiblocking agent)、相位差降低劑、安定劑、加工助劑、塑化劑、耐衝擊助劑、消光劑、抗菌劑、防霉劑等。抗氧化劑，可舉例如：苯酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、受阻胺系光安定劑等，又，亦可使用1分子中具有兼具例如苯酚系抗氧化結構與磷系抗氧化結構之單元之複合型抗氧化劑。就紫外線吸收劑而言，可列舉例如：2-羥基二苯甲酮系紫外線吸收劑、羥基苯基苯并三唑系紫外線吸收劑、苯甲酸鹽系紫外線屏蔽劑等。抗靜電劑可為聚合物型、寡聚物型、單體型中之任一者。就滑劑而言，可列舉例如：芥子醯胺及油醯胺等高級脂肪醯胺、硬脂酸等高級脂肪酸及其鹽等。就成核劑而言，可列舉例如：山梨醇系成核劑、有機磷酸鹽系成核劑、聚乙烯基環烷等高分子系成核劑等。就抗結塊劑而言，可列舉例如：球狀或接近球狀之形狀的微粒子，並且無論其為無機系或有機系皆可使用。相位差降低劑，可列舉例如：添加於聚丙烯系樹脂中之脂環族飽和烴樹脂。該等添加物亦可併用複數種。

就從如上述之樹脂製膜成薄膜之方法而言，適當地選擇任意之最適宜之方法即可。可使用例如下述方法：將經溶解於溶劑中之樹脂流延至金屬製帶(band)或滾筒(drum)，將溶劑乾燥去除而得到膜之溶劑鑄造法；將樹脂加熱至其熔融溫度以上，混練並從模具擠出，冷卻而得到膜之熔融擠製法等。熔融擠製法中，可擠製單層膜，亦可同時擠製多層膜。

該等樹脂之膜可容易取得市售品。若列舉市售之膜之例，就纖維素系樹脂膜而言，分別以商品名表示，有：FUJIFILM股份有限公司所販售之“FUJITAC(註冊商標)TD”、KONICA MINOLTA股份有限公司所販售之“KONICA MINOLTA TAC FILM KC”等。就環狀烯烴系樹脂膜而言，有：日本Zeon股份有限公司所販售之“ZEONOR系列”等。又，就丙烯酸系樹脂膜而言，有：三菱Rayon股份有限公司所販售之“ACRYPLEN系列”等。

再者，針對第2保護膜15、第3保護膜16，使用滿足下述式(1)及(2)者。藉由設為如此特性，而可獲得使偏光膜間之消偏光受到抑制且高偏光度之複合偏光板。

Re2(590)+Re3(590)≦15nm (1)

Rth2(590)+Rth3(590)≦20nm (2)

在此，Re2(590)係在波長590nm之第2保護膜15之面內之相位差值，Re3(590)係在波長590nm之第3保護膜16之面內之相位差值。又，Rth2(590)係在波長590nm之第2保護膜15之厚度方向之相位差值Rth(590)，又，Rth3(590)係在波長590nm之第3保護膜16之厚度方向之相位差值Rth(590)。

厚度方向之相位差值Rth，係將從面內之平均折射率減去厚度方向之折射率後得到之值乘以膜之厚度所得之值，並且係以下述式(a)來定義。又，面內之相位差值Re，係將面內之折射率差乘以膜之厚度所得之值，並且係以下述式(b)來定義。

Rth=[(n_x+n_y)/2-n_z]×d (a)

Re=(n_x-n_y)×d (b)

式中，n_x係膜面內之x軸方向(面內慢軸方向)之折射率，n_y係膜面內之y軸方向(面內快軸方向，且係在面內與x軸直交之方向)之折射率，n_z係與膜面垂直之z軸方向(厚度方向)之折射率，然後，d係膜之厚度。

在此，相位差值可為在可見光之中心附近之500至650nm左右之範圍且任意波長之值，但本說明書中係以在波長590nm之相位差值為標準。厚度方向之相位差值Rth及面內之相位差值Re可使用市售之各種相位差計來測定。

為了將第2保護膜15、第3保護膜16之相位差值設成上述範圍，可選擇下述方法：以使彼此的相位差值抵銷之方式將膜積層之方法、或是將相位差值低的2片膜積層之方法。從容易調控膜的相位差值之觀點來看，較佳係將相位差值低的2片膜積層。

就將保護膜之面內及厚度方向之相位差值調控為在既定範圍內之方法而言，可列舉：在製作膜時，盡量使殘留在面內及厚度方向之變形減小之方法。例如，上述溶劑鑄造法中，可採用將在使該流延樹脂溶液乾燥時產生之厚度方向之殘留收縮變形藉由熱處理而緩和之方法等。另一方面，上述熔融擠製法中，為了防止在將樹脂膜從模具擠出到冷卻為止之期間延伸，可採用盡量縮減從模具到冷卻滾筒為止之距離，並且以使膜不會延伸之方式調控擠出量與冷卻滾筒之旋轉速度之方法等。又，與溶劑鑄造法同樣地，可採用藉由熱處理使殘留在所得之膜中之變形緩和之方法。

就如此所製作之保護膜之相位差值而言，面內之相位差值較佳係7nm以下，更佳係5nm以下，再更佳係3nm以下。又，厚度方向之相位差值，較佳係10nm以下，更佳係8nm以下，再更佳係5nm以下。

又，較佳係第1保護膜12A、第2保護膜15、及第3保護膜16中之至少1片保護膜係使用透濕度200g/m²‧24hr以下之透明樹脂膜。

亦可使第1保護膜12A、第2保護膜15、及第3保護膜16中之2片保護膜是使用透濕度200g/m²‧24hr以下之透明樹脂膜，可列舉例如：使第1保護膜12A與第2保護膜15為透濕度200g/m²‧24hr以下之組合、使第1保護膜12A與第3保護膜16為透濕度200g/m²‧24hr以下之組合、使第2保護膜15與第3保護膜16為透濕度200g/m²‧24hr以下之組合。

又，亦可使第1保護膜12A、第2保護膜15、及第3保護膜16之所有的保護膜皆使用透濕度200g/m²‧24hr以下之透明樹脂膜。

若欲將保護膜之透濕度設為200g/m²‧24hr以下，則較佳係使用包含烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂之膜。

若保護膜之透濕度為200g/m²‧24hr以下，則可抑制第1偏光膜11A及第2偏光膜11B或其兩者之偏光膜的濕熱劣化，故可成為即使在高濕度環境下也使偏光度降低程度小之偏光板。透濕度更佳係150g/m²‧24hr以下，再更佳係100g/m²‧24hr以下。

[第1保護膜12A之表面處理層20]

第1保護膜12A可在與貼合第1偏光膜11A之面為相反側之面具有表面處理層20。就該表面處理層20而言，可列舉例如具有細微的表面凹凸形狀之硬塗層。硬塗層較佳係鉛筆硬度比H硬。該鉛筆硬度為H或比H小時，表面容易受傷，負傷時液晶顯示裝置之視認性變差。鉛筆硬度係依據JIS K 5600-5-4：1999「塗料一般試驗方法-第5部：塗膜之機械性質-第4節：刮痕硬度(鉛筆法)」來求取，以使用各硬度之鉛筆刮劃時未產生傷之最硬的鉛筆硬度來表示。

具有表面處理層20之第1保護膜12A，較佳係以使其霧度值成為0.1至45%之範圍，更佳係成為5至40%之範圍。霧度值在比45%大之區域時，雖可減少外光之倒映，但黑顯示畫面之緻密度會降低。又，霧度值低於0.1%時，無法得到充分的防眩性能，外光會倒映在畫面而為不佳。在此，霧度值係依據JIS K 7136：2000「塑膠-透明材料之霧度之求取方法」來求取。

具有細微的表面凹凸形狀之硬塗層，可藉由下述方法來形成：在樹脂膜表面形成含有有機微粒子或無機微粒子之塗膜之方法；在形成含有或不含有機微粒子或無機微粒子之塗膜後，用經賦予凹凸形狀之輥按壓之方法，例如壓印(emboss)法等。此種塗膜，可藉由例如在樹脂膜表面塗佈含有由硬化性樹脂而成之黏結劑(binder)成分與有機微粒子或無機微粒子的塗佈液(硬化性樹脂組成物)之方法等來形成。

就無機微粒子而言，可使用例如氧化矽、膠質氧化矽、氧化鋁、氧化鋁溶膠、鋁矽酸鹽、氧化鋁-氧化矽複合氧化物、高嶺土、滑石、雲母、碳酸鈣、磷酸鈣等。又，就有機微粒子而言，可使用交聯聚丙烯酸粒子、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物樹脂粒子、交聯聚苯乙烯粒子、交聯聚甲基丙烯酸甲酯粒子、聚矽氧樹脂粒子、或聚醯亞胺粒子等樹脂粒子。

用以使無機微粒子或有機微粒子分散之黏結劑成分，只要從會成為高硬度(硬塗)之材料來選擇決定即可。就黏結劑成分而言，可使用光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、電子束硬化性樹脂等，但從生產性、所得之表面處理層20之硬度等之觀點來看，較佳係光硬化性樹脂。就光硬化性樹脂而言，可適當地使用市售者。例如可將三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯單獨或組合2種以上使用，於其中混合“IRGACURE(註冊商標)907”、“IRGACURE(註冊商標)184”或“Lucirin(註冊商標)TPO”(皆為BASF公司所販售之商品名)等光聚合起始劑，而做成光硬化性樹脂。使用光硬化性樹脂時，可藉由在其中分散無機微粒子或有機微粒子而得到樹脂組成物，將其塗佈於樹脂膜上，藉由照射光，而形成在黏結劑樹脂中分散著無機微粒子或有機微粒子之硬塗層。

就構成光硬化性樹脂之多官能丙烯酸酯而言，除了上述之三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯等單體型者之外，還可使用胺甲酸酯丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、或具有含2個以上之羥基之烷基之(甲基)丙烯酸系寡聚物等寡聚物型者。

在此所謂的胺甲酸酯丙烯酸酯，係例如使用(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯、多元醇、以及二異氰酸酯而調製。具體而言，可藉由從(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯與多元醇而調製殘留至少1個羥基之羥基(甲基)丙烯酸酯，並使其與二異氰酸酯反應之方法來製造胺甲酸酯丙烯酸酯。該等(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯、多元醇、以及二異氰酸酯可分別使用1種，亦可將2種以上組合使用。又，可依目的而添加各種添加劑。

就在製造胺甲酸酯丙烯酸酯時所用之(甲基)丙烯酸酯而言，可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、及(甲基)丙烯酸丁酯等(甲基)丙烯酸烷酯；(甲基)丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸環烷酯。

同樣於製造胺甲酸酯丙烯酸酯時所用之多元醇，係分子內具有至少2個羥基之化合物。若列舉具體例，則有：乙二醇、三亞甲基二醇、丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁烷二醇、1,4-丁烷二醇、1,6-己烷二醇、1,9-壬烷二醇、1,10-癸烷二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊烷二醇、3-甲基-1,5-戊烷二醇、羥基三甲基乙酸的新戊二醇酯、環己烷二羥甲基、1,4-環己烷二醇、螺二醇(spiroglycol)、三環癸烷二羥甲基、氫化雙酚A、環氧乙烷加成雙酚A、環氧丙烷加成雙酚A、三羥甲基乙烷、三-二羥甲基丙烷、甘油、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、新戊四醇、二新戊四醇、三新戊四醇、葡萄糖類等。

同樣於製造胺甲酸酯丙烯酸酯時所用之二異氰酸酯，可為芳香族、脂肪族或脂環式之各種二異氰酸酯類。若列舉具體例，則有：四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、二苯基-4,4’-二異氰酸酯、3,3’-二甲基二苯基-4,4’-二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4’-二異氰酸酯、及該等中具有芳香環之化合物之氫化物等。

若列舉可成為多官能丙烯酸酯之多元醇(甲基)丙烯酸酯之具體例，則有：新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等。該等可分別單獨使用，亦可組合使用。再者，可視需要而添加各種添加劑。多元醇(甲基)丙烯酸酯較佳係含有新戊四醇三丙烯酸酯及新戊四醇四丙烯酸酯。該等可為共聚物，亦可為混合物。

再者，就別的可成為多官能丙烯酸酯之具有含有2個以上之羥基之烷基之(甲基)丙烯酸系寡聚物而言，可列舉例如：具有2,3-二羥基丙基之(甲基)丙烯酸系寡聚物、或具有2-羥基乙基及2,3-二羥基丙基之(甲基)丙烯酸系寡聚物。

若列舉構成光硬化性樹脂之光聚合起始劑之具體例，則有：2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、氧雜蒽酮(xanthone)、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4’-二甲氧基二苯甲酮、苯偶姻丙基醚、安息香雙甲醚(benzil dimethyl ketal)、N,N,N’,N’-四甲基-4,4’-二胺基二苯甲酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、其他硫雜蒽酮(thioxanthone)系化合物等。

光硬化性樹脂可視需要而在溶解於溶媒之狀態下使用。就溶媒而言，可使用以乙酸乙酯、乙酸丁酯為首之各種有機溶媒。

又，光硬化性樹脂可含有調平劑，可列舉例如氟系或聚矽氧系之調平劑。就聚矽氧系調平劑而言，可列舉反應性聚矽氧、聚二甲基矽氧烷、聚醚改質聚二甲基矽氧烷、聚甲基烷基矽氧烷。較佳係反應性聚矽氧及矽氧烷系調平劑。藉由使用反應性聚矽氧之調平劑，對硬塗層表面賦予滑動性，可長期間維持優異之耐擦傷性。另一方面，使用矽氧烷系之調平劑時，可提升膜形成能力。

就反應性聚矽氧之調平劑而言，可列舉具有矽氧烷鍵、與丙烯醯基或羥基者。具體例，可列舉如以下共聚物。 (a)二甲基矽氧烷/3-丙烯醯基-2-羥基丙氧基丙基矽氧烷/2-丙烯醯基-3-羥基丙氧基丙基矽氧烷之共聚物、(b)二甲基矽氧烷/羥基丙基矽氧烷/三(ω-異氰酸基烷基)異三聚氰酸/脂肪族聚酯之共聚物、(c)二甲基矽氧烷/末端為丙烯酸酯之聚伸烷二醇烷基矽氧烷/末端為羥基之聚伸烷二醇烷基矽氧烷之共聚物。

若列舉市售之反應性聚矽氧之具體例，皆以商品名表示，有：DIC股份有限公司所販售之“GRANDIC(註冊商標)PC-4100”、BYK Chemie Japan股份有限公司所販售之“BYK-UV3500”、“BYK-UV3750”、“BYK-370”、“BYK-371”、“BYK-375”、及“BYK-377”等。

藉由使用如以上所例示之丙烯酸系黏結劑成分(黏結劑樹脂)，可在提升與保護膜之密著性的同時亦提升機械強度，並可形成能夠有效防止表面受傷之表面處理層20。

藉由壓印法設置具有細微表面凹凸形狀之硬塗層時，於樹脂膜上形成未硬化之硬塗層，在對其按壓形成有細微凹凸形狀之模具的同時使該硬塗層硬化，使模具的形狀轉印到該硬塗層即可。模具形狀對硬塗層之轉印較佳係藉由壓印來進行，就壓印而言，較佳係使用屬於光硬化性樹脂的一種之紫外線硬化性樹脂之UV壓印法。藉由壓印法形成細微表面凹凸形狀時，硬塗層可含有或不含無機或有機微粒子。

UV壓印法中，於保護膜表面形成紫外線硬化性樹脂層，在使該紫外線硬化性樹脂層按壓至模具凹凸面的同時進行硬化，藉此而使模具凹凸面會轉印於紫外線硬化性樹脂層。具體而言，於樹脂膜上塗佈紫外線硬化性樹脂，在使經塗佈之紫外線硬化性樹脂與模具凹凸面密著之狀態下，從樹脂膜側照射紫外線而使紫外線硬化性樹脂硬化，然後，將形成有硬化後之紫外線硬化性樹脂層之樹脂膜從模具剝離，藉此使模具形狀轉印於紫外線硬化性樹脂。紫外線硬化性樹脂之種類無特別限制，例如可使用前述者。又，亦可使用藉由適當地選定光聚合起始劑而能以波長比紫外線長之可見光進行硬化之可見光硬化性樹脂來代替紫外線硬化性樹脂。

表面處理層20之厚度無特別限定，但較佳係2至30μm，更佳係3至30μm之範圍。表面處理層20 之厚度低於2μm時，變得難以得到充分的硬度，會有表面變得容易受傷之傾向。又，其厚度大於30μm時，會有變得容易破裂、或因表面處理層之硬化收縮導致第1保護膜12A捲曲而使生產性降低之傾向。

第1保護膜12A，如同前述，較佳係藉由硬塗層賦予霧度，但亦可藉由在形成硬塗層的同時，於保護膜中分散無機或有機微粒子而賦予霧度。為此所使用之無機或有機微粒子之具體例，與上述所揭示者相同。

對於第1保護膜12A，除了兼任硬塗層之前述防眩處理(霧度賦予處理)之外，亦可施以如抗靜電處理、防污處理、或抗菌處理等各種追加之表面處理，亦可形成由液晶性化合物、其高分子量化合物等所成之塗層。再者，抗靜電功能除了表面處理以外，亦可賦予於例如黏著劑層等偏光板的其他部分。

[第4保護膜12B]

就第4保護膜12B而言，可使用由纖維素系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂等在該領域廣泛使用來作為以往保護膜之形成材料之材料所形成之膜。就第4保護膜12B而言，可為與第1保護膜12A、第2保護膜15、第3保護膜16相同之膜，亦可為不同之膜。就第4保護膜12B而言，從相位差值之調控容易且取得容易之觀點來看，較佳係使用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂。在此所謂的聚烯烴系樹脂係包含鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂。

就第4保護膜12B而言，較佳係使用與第2保護膜15、第3保護膜16所適合使用之相位差值低之膜相同的膜。

當液晶單元為橫向電場(IPS：In-Plane Switching)模式時，為了不損害到該IPS模式液晶單元原本具有的廣視角特性，第4保護膜12B較佳係厚度方向之相位差值Rth在-10至10nm之範圍。

就將樹脂膜之厚度方向之相位差值Rth調控為在-10至10nm之範圍內之方法而言，可列舉在製作膜時盡量使殘留在厚度方向之變形減小之方法。例如，上述溶劑鑄造法中，可採用將在使該流延樹脂溶液乾燥時產生之厚度方向之殘留收縮變形藉由熱處理而緩和之方法等。另一方面，上述熔融擠製法中，為了防止在將樹脂膜從模具擠出到冷卻為止之期間延伸，可採用盡量縮減從模具到冷卻滾筒為止之距離，並且以使膜不會延伸之方式調控擠出量與冷卻滾筒之旋轉速度之方法等。又，與溶劑鑄造法同樣地，可採用藉由熱處理使殘留在所得之膜中之變形緩和之方法。

[偏光膜與保護膜之貼合]

可藉由接著劑或黏著劑來進行第1保護膜12A與第1偏光膜11A之貼合、第1偏光膜11A與第2保護膜15之貼合、第3保護膜16與第2偏光膜11B之貼合、以及第2偏光膜11B與第4保護膜12B之貼合。

本說明書中，有時將第1偏光膜11A與第2偏光膜11B合稱而簡稱為偏光膜，將第1保護膜12A、第2保護膜15、第3保護膜16、第4保護膜12B合稱而簡稱為保護膜。

將偏光膜與保護膜貼合之接著劑層，可將其厚度設為0.01至30μm左右，較佳係0.01至10μm，更佳係0.05至5μm。只要接著劑層之厚度在該範圍，則積層之保護膜與偏光膜之間不會產生浮起或剝離，可得到實用上沒有問題之接著力。將偏光膜與保護膜貼合之黏著劑層，可將其厚度設為5至50μm左右，較佳係5至30μm，更佳係10至25μm。

接著劑層之形成，可依黏附體之種類及目的而使用適宜、適當的接著劑，又，亦可視需要而使用錨定塗佈劑(anchor coating agent)。就接著劑而言，可列舉例如：溶劑型接著劑、乳液型接著劑、感壓性接著劑、再濕性接著劑、聚縮合型接著劑、無溶劑型接著劑、膜狀接著劑、熱熔型接著劑等。

就較佳之接著劑之一而言，可列舉水系接著劑，亦即使接著劑成分溶解或分散於水中者。若列舉可溶解於水之接著劑成分之例，則有聚乙烯醇系樹脂。又，若列舉可分散於水之接著劑成分之例，則有具有親水基之胺甲酸酯系樹脂。水系接著劑，係可藉由將此種接著劑成分與視需要所調配之追加的添加劑一起混合於水中而調製。若列舉可成為水系接著劑之市售之聚乙烯醇系樹脂之例，則有：KURARAY股份有限公司所販售之羧基改質聚乙烯醇之“KL-318”等。

水系接著劑可視需要而含有交聯劑。若列舉交聯劑之例，則有：胺化合物、醛化合物、羥甲基化合物、水溶性環氧樹脂、異氰酸酯化合物、多價金屬鹽等。將聚乙烯醇系樹脂作為接著劑成分時，較佳可使用以乙二醛為首之醛化合物、以羥甲基三聚氰胺為首之羥甲基化合物、水溶性環氧樹脂等作為交聯劑。在此，水溶性環氧樹脂，可為例如使聚醯胺多胺與表氯醇反應所得之聚醯胺環氧樹脂，該聚醯胺多胺係屬於二伸乙三胺或三伸乙四胺等聚伸烷多胺與己二酸等二羧酸之反應物。若列舉水溶性環氧樹脂之市售品之例，則有：田岡化學工業股份有限公司所販售之“Sumirez Resin(註冊商標)650(30)”等。

可藉由在偏光膜及/或貼合於該偏光膜之保護膜之接著面塗佈水系接著劑，並使兩者貼合後，施以乾燥處理，而得到偏光板。在進行接著之前，若事先對保護膜施以皂化處理、電暈放電處理、電漿處理、或底塗(primer)處理等易接著處理以提高濕潤性係亦為有效。乾燥溫度可設為例如50至100℃左右。乾燥處理後，在比室溫略高之溫度，例如30至50℃左右之溫度，熟化1至10天左右，就進一步提高接著力而言為較佳。

就另一較佳之接著劑而言，可列舉含有藉由活性能量線之照射或加熱而硬化之環氧化合物之硬化性接著劑組成物。在此，硬化性環氧化合物係分子內具有至少2個環氧基者。此時，偏光膜與保護膜之接著，可藉由對該接著劑組成物之塗佈層照射活性能量線或賦予熱而使接著劑所含之硬化性環氧化合物硬化之方法來進行。環氧化合物之硬化，一般係藉由環氧化合物之陽離子聚合來進行。又，從生產性之觀點來看，該硬化較佳係藉由活性能量線之照射來進行。

從耐候性、折射率、陽離子聚合性等之觀點來看，硬化性接著劑組成物所含之環氧化合物，較佳係分子內不含芳香環者。就分子內不含芳香環之環氧化合物而言，可例示氫化環氧化合物、脂環式環氧化合物、脂肪族環氧化合物等。適合使用於此種硬化性接著劑組成物之環氧化合物，例如已於日本特開2004-245925號公報中詳細說明，但在此亦大略說明。

氫化環氧化合物，可為將使屬於芳香族環氧化合物之原料之芳香族多羥基化合物在觸媒存在下及加壓下選擇性進行核氫化反應所得之核氫化多羥基化合物進行環氧丙基醚化而成者。就屬於芳香族環氧化合物之原料之芳香族多羥基化合物而言，可列舉例如：雙酚A、雙酚F、及雙酚S等雙酚類；苯酚酚醛清漆(phenol novolac)樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂、及羥基苯甲醛苯酚酚醛清漆樹脂等酚醛清漆型樹脂；四羥基二苯基甲烷、四羥基二苯甲酮、及聚乙烯基苯酚等多官能型化合物等。可藉由使此種芳香族多羥基化合物進行核氫化反應，並使所得之核氫化多羥基化合物與表氯醇反應，而進行環氧丙基醚化。就適合的氫化環氧化合物而言，可列舉經氫化之雙酚A之環氧丙基醚。

脂環式環氧化合物係分子內具有至少1個鍵結於脂環式環之環氧基之化合物。「鍵結於脂環式環之環氧基」係意指下述式所示之結構中之架橋之氧原子-O-，該式中，m係2至5之整數。

將該式中之(CH₂)_m中之1個或複數個氫原子去除之形態之基與其他化學結構鍵結而成之化合物可成為脂環式環氧化合物。又，形成脂環式環之(CH₂)_m中之1個或複數個氫原子可經甲基、乙基等直鏈狀烷基適當地取代。脂環式環氧化合物之中，具有氧雜雙環己烷環(上述式中m=3者)、氧雜雙環庚烷環(上述式中m=4者)之環氧化合物因顯示優異之接著性，故可較佳使用。以下，揭示脂環式環氧化合物之具體例。在此，首先列舉化合物名，然後表示分別對應之化學式，化合物名與其對應之化學式係附上相同符號。

A：3,4-環氧基環己烷甲酸3,4-環氧基環己基甲酯、B：3,4-環氧基-6-甲基環己烷甲酸3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酯、C：伸乙基雙(3,4-環氧基環己烷甲酸酯)、D：己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲基)酯、E：己二酸雙(3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基)酯、 F：二乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)、G：乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)、H：2,3,14,15-二環氧基-7,11,18,21-四氧雜三螺[5.2.2.5.2.2]二十一烷、I：3-(3,4-環氧基環己基)-8,9-環氧基-1,5-二氧雜螺[5.5]十一烷、J：4-乙烯基環己烯二氧化物、K：檸檬烯二氧化物、L：雙(2,3-環氧基環戊基)醚、M：二環戊二烯二氧化物等。

A：

B：

C：

D：

E：

F：

G：

H：

I：

J：

K：

L：

M：

脂肪族環氧化合物可為脂肪族多元醇或其環氧烷(alkylene oxide)加成物之聚環氧丙基醚。更具體而言，可列舉：丙二醇之二環氧丙基醚；1,4-丁烷二醇之二環氧丙基醚；1,6-己烷二醇之二環氧丙基醚；甘油之三環氧丙基醚；三羥甲基丙烷之三環氧丙基醚；於乙二醇、丙二醇、及甘油等脂肪族多元醇中加成環氧烷(例如環氧乙烷、環氧丙烷)所得之聚醚多元醇之聚環氧丙基醚(例如聚乙二醇之二環氧丙基醚)等。

硬化性接著劑組成物中，環氧化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。其中，該環氧化合物較佳係含有分子內具有至少1個鍵結於脂環式環之環氧基之脂環式環氧化合物。

硬化性接著劑組成物所用之環氧化合物通常係具有30至3,000g/當量之範圍內之環氧當量，該環氧當量較佳係50至1,500g/當量之範圍。使用環氧當量低於30g/當量之環氧化合物時，會有硬化後之偏光板之可撓性降低、或接著強度降低之可能性。另一方面，具有超過3,000g/當量之環氧當量之化合物，會有與接著劑組成物所含之其他成分的相溶性降低之可能性。

從反應性之觀點來看，較佳係使用陽離子聚合作為環氧化合物之硬化反應。為此，於含有環氧化合物之硬化性接著劑組成物中，較佳係調配陽離子聚合起始劑。陽離子聚合起始劑，係藉由可見光線、紫外線、X射線、及電子束等活性能量線之照射或加熱而產生陽離子種或路易斯酸，並使環氧基之聚合反應開始。從作業性之觀點來看，較佳係對陽離子聚合起始劑賦予潛在性。以下，將藉由活性能量線之照射而產生陽離子種或路易斯酸並使環氧基之聚合反應開始之陽離子聚合起始劑稱為「光陽離子聚合起始劑」，將藉由熱而產生陽離子種或路易斯酸並使環氧基之聚合反應開始之陽離子聚合起始劑稱為「熱陽離子聚合起始劑」。

使用光陽離子聚合起始劑並藉由活性能量線之照射而進行接著劑組成物之硬化之方法，就可在常溫常濕下進行硬化、且減少考慮偏光膜之耐熱性或膨脹所致之變形的需要、並可使保護膜與偏光膜良好地接著之特點而言為有利。又，光陽離子聚合起始劑係藉由光發揮催化作用，故即使與環氧化合物混合，其保存安定性、作業性仍優異。

就光陽離子聚合起始劑而言，可列舉例如：芳香族重氮鹽；芳香族錪鹽及芳香族鋶鹽等鎓鹽、鐵-重烯(allene)錯合物等。相對於環氧化合物100重量份，光陽離子聚合起始劑之調配量通常係0.5至20重量份，較佳係1重量份以上，且較佳係15重量份以下。相對於環氧化合物100重量份，光陽離子聚合起始劑之調配量低於0.5重量份時，硬化變得不充分，會有硬化物之機械強度、接著強度降低之傾向。另一方面，相對於環氧化合物100重量份，光陽離子聚合起始劑之調配量超過20重量份時，硬化物中之離子性物質增加而使硬化物之吸濕性變高，會有耐久性能降低之可能性。

使用光陽離子聚合起始劑時，硬化性接著劑組成物可視需要而進一步含有光增感劑。藉由使用光增感劑，可使陽離子聚合之反應性提升，並使硬化物之機械強度、接著強度提升。就光增感劑而言，可列舉例如：羰基化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮化合物、重氮化合物、鹵化合物、光還原性色素等。調配光增感劑時，相對於硬化性接著劑組成物100重量份，光增感劑之量較佳係在0.1至20重量份之範圍內。又，為了提升硬化速度，可使用萘醌衍生物等增感助劑。

另一方面，就熱陽離子聚合起始劑而言，可列舉：苯甲基鋶鹽、噻吩鎓鹽、四氫噻吩鎓鹽、苯甲基銨、吡啶鎓鹽、肼鎓鹽(hydrazinium salt)、羧酸酯、磺酸酯、胺醯亞胺等。

含有環氧化合物之硬化性接著劑組成物，較佳係如同前述藉由光陽離子聚合而硬化，但亦可使上述熱陽離子聚合起始劑存在，並藉由熱陽離子聚合而硬化，可併用光陽離子聚合與熱陽離子聚合。將光陽離子聚合與熱陽離子聚合併用時，硬化性接著劑組成物較佳係含有光陽離子聚合起始劑與熱陽離子聚合起始劑兩者。

又，硬化性接著劑組成物，可進一步含有氧雜環丁烷化合物、多元醇化合物等促進陽離子聚合之化合物。氧雜環丁烷化合物係分子內具有4員環醚之化合物。調配氧雜環丁烷化合物時，在硬化性接著劑組成物中，其量通常係5至95重量%，較佳係5至50重量%。又，多元醇化合物，可為包含乙二醇、六亞甲基二醇、聚乙二醇等之伸烷二醇或其寡聚物、聚酯多元醇、聚己內酯多元醇、聚碳酸酯多元醇等。調配多元醇化合物時，在硬化性接著劑組成物中，其量通常係50重量%以下，較佳係30重量%以下。

再者，硬化性接著劑組成物，在無損其接著性之情況下，可含有其他添加劑，例如：離子阱劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增感劑、賦黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑等。就離子阱劑而言，可列舉例如：包含粉末狀之鉍系、銻系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系、該等之混合系等之無機化合物，就抗氧化劑而言，可列舉例如受阻苯酚系抗氧化劑等。

將含有環氧化合物之硬化性接著劑組成物塗佈於偏光膜或保護膜之接著面、或者該等雙方之接著面之後，以塗佈有接著劑之面貼合，照射活性能量線或加熱而使未硬化之接著劑層硬化，可使偏光膜與保護膜接著。就接著劑之塗佈方法而言，例如可採用刮刀(doctor blade)、線棒、模具塗佈機、缺角輪塗佈機(comma coater)、凹版塗佈機等各種塗佈方式。

該硬化性接著劑組成物，基本上可作為實質上不含溶劑之無溶劑型接著劑使用，但各塗佈方式有各自最適宜的黏度範圍，因此，亦可為了調整黏度而含有溶劑。溶劑較佳係不會使偏光膜之光學性能降低且良好地溶解以環氧化合物為首之各成分之有機溶劑，例如可使用以甲苯為代表之烴類、以乙酸乙酯為代表之酯類等。

藉由活性能量線之照射來進行接著劑組成物之硬化時，活性能量線可使用前述各種類者，但從操作容易、且照射光量等之調控容易的觀點來看，較佳可使用紫外線。活性能量線(例如紫外線)之照射強度、照射量，係在不影響以偏光膜之偏光度為首之各種光學性能、及以保護膜之透明性及相位差特性為首之各種光學性能之範圍內，以保持適度的生產性之方式適當地決定。

藉由熱來進行接著劑組成物之硬化時，可用一般已知之方法加熱。通常，在硬化性接著劑組成物中調配之熱陽離子聚合起始劑係在產生陽離子種、路易斯酸枝溫度以上進行加熱，具體的加熱溫度係例如50至200℃左右。

[偏光板之積層所使用之接著層13]

在第1偏光板與第2偏光板之積層所使用之接著層13係可使用接著劑或黏著劑。使用接著劑作為接著層13時，可使用和偏光膜與保護膜之接合所使用之接著劑相同者，亦可為和偏光膜與保護膜之接合所用之接著劑不同之接著劑。就另一形態而言，在第1偏光板與第2偏光板之積層使用黏著劑亦為較佳。

[黏著劑層13]

第1偏光板與第2偏光板之積層所用之黏著劑層13只要係光學透明性優異且包含適度的濕潤性、凝集性、接著性等之黏著特性優異者即可，但較佳係進一步地耐久性等亦優異者。具體而言，形成黏著劑層13之黏著劑，較佳係含有丙烯酸系樹脂之黏著劑(丙烯酸系黏著劑)。

丙烯酸系黏著劑所含之丙烯酸系樹脂係以丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸異辛酯、及丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸烷酯為主要單體之樹脂。該丙烯酸系樹脂通常共聚合有極性單體。極性單體係指具有聚合性不飽和鍵結及極性官能基之化合物，在此，聚合性不飽和鍵結一般係源自(甲基)丙烯醯基者，又，極性官能基可為羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等。若列舉極性單體之具體例，則有：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸2-N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯等。

又，丙烯酸系黏著劑中，通常交聯劑係與丙烯酸系樹脂一起調配。交聯劑之代表例，可列舉分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之異氰酸酯化合物。

黏著劑，可進一步調配各種添加劑。適合的添加劑，可列舉矽烷偶合劑、抗靜電劑等。矽烷偶合劑係就提高與玻璃之接著力而言為有效。抗靜電劑係就減少或防止靜電產生而言為有效。

黏著劑層13可藉由下述方法來形成：調製使上述黏著劑成分溶解於有機溶劑中而成之黏著劑組成物，將其直接塗佈於第1偏光板或第2偏光板上，並將溶劑乾燥去除之方法；或者是，將上述黏著劑組成物塗佈於經施有離型處理之由樹脂膜所成之基材膜之離型處理面，將溶劑乾燥去除而作成黏著劑層，將其貼附於第1偏光板或第2偏光板上，並將黏著劑層轉印之方法。藉由前者之直接塗佈法形成黏著劑層13於第1偏光板或第2偏光板上時，通常於其表面貼合經施有離型處理之樹脂膜(亦稱為隔片(separator))，將黏著劑層表面暫黏保護直到使用時為止。從屬於有機溶劑溶液之黏著劑組成物的操作性之觀點等來看，大多採用後者之轉印法，此時，從最初於形成黏著劑層時所用之經離型處理之基材膜在貼附於偏光板後可直接當作隔片之特點來看，亦為合適。

將第1偏光板或第2偏光板經由接著劑或黏著劑而積層之前，事先於保護膜面或黏著劑面進行電暈處理、電漿處理等亦為有用。

[黏著劑層14]

於第4保護膜12B之與第2偏光膜11B之貼合面為相反側之面形成之黏著劑層14，只要係光學透明性優異且包含適度的濕潤性、凝集性、接著性等之黏著特性優異者即可，但較佳使用進一步地耐久性等亦優異者。具體而言，形成黏著劑層之黏著劑，較佳可使用含有丙烯酸系樹脂之黏著劑(丙烯酸系黏著劑)。具體而言，可使用和在將第1偏光板與第2偏光板積層時所使用之黏著劑層相同者。可為和將黏著劑層14、第1偏光板、第2偏光板積層時所使用之黏著劑層為相同者，亦可為不同者。

黏著劑層14係與黏著劑層13同樣地可含有各種添加劑。其中，黏著劑層14較佳係含有抗靜電劑。一般而言，在將偏光板經由黏著劑層貼合於液晶單元時，將直到貼合前都覆蓋並將黏著劑層暫黏保護之表面保護膜(隔片)剝除後，貼合於液晶單元，但因將該表面保護膜剝除時所產生之靜電，而產生液晶單元內之液晶之配向不良，此現象有時會導致液晶顯示裝置之顯示不良。就減少或防止此種靜電之產生之手段而言，係以於黏著劑調配抗靜電劑為有效。

將第4保護膜12B與黏著劑層14貼合時，對欲將第4保護膜12B與黏著劑層14貼合之面，分別進行電暈處理、電漿處理等亦為有用。

[複合偏光板之製造方法]

就製造本發明之複合偏光板之方法而言，無特別限制，例如：製造由第1保護膜12A、第1偏光膜11A、第2保護膜15積層而成之偏光板A；以及由第3保護膜16、第2偏光膜11B、第4保護膜12B積層而成之偏光板B。然後，於偏光板A之第2保護膜15上或偏光板B之第3保護膜16上形成黏著劑層13。若將如此方式所製作之偏光板A及偏光板B經由黏著劑層13且以輥對輥(roll to roll)來貼合，則可製作複合偏光板。進一步將黏著劑層14形成於第4保護膜12B上，而可得到附有黏著劑之複合偏光板。附有黏著劑之複合偏光板可經由黏著劑層14而貼合於液晶單元。

如上述將2個偏光板積層而製造複合偏光板時，第1偏光板之單體穿透率較佳係38.0至43.0%，更佳係40.0至42.5%。第2偏光板之單體穿透率較佳係40.0 至45.0%，更佳係41.0至43.0%。又，第1偏光板之偏光度及第2偏光板之偏光度皆較佳係99.90%以上，更佳係99.95%以上。

如此，本發明之複合偏光板中，較佳係第2偏光板之單體穿透率大於第1偏光板之單體穿透率。第1偏光板之單體穿透率與第2偏光板之單體穿透率之差，較佳係0.1%以上，更佳係超過0.2%，亦可為0.4%以上。差之上限雖無特別限制，但通常係5%以下，較佳係2%以下，更佳係1%以下。

又，就另一方法而言，亦可較佳使用：將前述偏光板A及偏光板B使用無溶劑型接著劑且以輥對輥貼合而製作複合偏光板10之方法。

藉由上述製造方法所得之本發明之複合偏光板之偏光度較佳係99.95%以上，更佳係99.99%以上，再更佳係99.995%以上。

又，本發明之複合偏光板即使在投入95℃之烘箱1000小時之耐熱試驗後，仍抑制偏光度之降低。例如，就前述耐熱試驗後之複合偏光板之偏光度而言，可為99.95%以上，亦可為99.99%以上。從別的觀點來看，前述耐熱試驗前後之偏光度降低程度之大小，在本發明之複合偏光板中，可為0.010%以下，較佳係可為0.005%以下，更佳係可為0.003%以下。

又，本發明之複合偏光板即使在投入65℃、95%RH之烘箱1000小時之耐濕熱試驗後，仍抑制偏光度之降低。例如，就前述耐濕熱試驗後之複合偏光板之偏光度而言，可為99.95%以上，亦可為99.99%以上。從別的觀點來看，前述耐濕熱試驗前後之偏光度降低程度之大小，在本發明之複合偏光板中，可為0.010%以下，較佳係可為0.005%以下，更佳係可為0.003%以下。

[液晶單元]

液晶單元具有2片單元基板(cell substrate)、與夾在該等基板間之液晶層。單元基板，一般大多以玻璃構成，但亦可為塑膠基板。此外，本發明之液晶面板所用之液晶單元本身可由該領域所採用之各種物件而構成。

[液晶面板]

可藉由將複合偏光板10經由黏著劑層14貼合於液晶單元，而製作液晶面板。通常，偏光板係貼合於液晶單元之雙面，但本發明之複合偏光板適合使用於液晶顯示裝置之視認側及背面側或其雙面。

(實施例)

以下，列示實施例進一步具體地說明本發明，但本發明不限於該等例子。例中，表示含量或使用量之「份」及「%」，在無特別註記時，係重量基準。再者，以下例子中之各物性之測定係依據下述方法進行。

(1)厚度之測定：

使用Nikon股份有限公司製之數位測微計“MH-15M”來測定。

(2)面內相位差值及厚度方向之相位差值之測定：

使用王子計測機器股份有限公司製之以平行偏光旋轉法為原理之相位差計“KOBRA(註冊商標)-WPR”，在23℃之溫度，測定在波長590nm之面內相位差值及厚度方向之相位差值。

(3)偏光膜之收縮力之測定：

使用荻野精機製作所股份有限公司製之Super Cutter並以使偏光膜之吸收軸方向成為長軸之方式裁切為寬度2mm×長度50mm之片段。將所得之短條狀偏光膜作為收縮力測定試樣。於熱機械分析裝置[日立High-Tech Science股份有限公司製之“TMA/6100”]以使夾頭(chuck)間距離為10mm之方式設置收縮力測定試樣，將試驗片在20℃之室內放置充分的時間後，將試樣之室內溫度於1分鐘從20℃昇溫至80℃，並將昇溫後試樣室內溫度設定為維持在80℃。昇溫後放置4小時之後，在80℃之環境下對測定試樣之長邊方向之收縮力進行測定。該測定中，靜負載設為0mN，治具使用SUS製之探針(probe)。

(4)偏光板之偏光度及單體穿透率之測定：

使用附積分球之分光光度計[日本分光股份有限公司製之「V7100」，2度視野；C光源]進行測定。

(5)透濕度之測定：

依據JIS Z 0208測定透濕度。溫濕度條件設為40℃ 90%RH。

[製造例1]偏光膜1之製作

將厚度30μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)以乾式延伸而一軸延伸約4倍，進一步在保持緊張狀態下，於40℃純水中浸漬40秒後，於碘/碘化鉀/水之重量比為0.052/5.7/100之水溶液中以28℃浸漬30秒而進行染色處理。然後，於碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100之水溶液中以70℃浸漬120秒。繼而，以8℃純水洗淨15秒後，在以300N張力保持之狀態下，以60℃乾燥50秒然後以75℃乾燥20秒，得到於聚乙烯醇膜吸附配向有碘之厚度12μm之吸收型偏光膜。測定所得之偏光膜之收縮力，結果為2.0N。

[製造例2]偏光膜2之製作

將厚度20μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)以乾式延伸而一軸延伸為約4倍，進一步在保持緊張狀態下，於40℃純水中浸漬40秒後，於碘/碘化鉀/水之重量比為0.052/5.7/100之水溶液中以28℃浸漬30秒而進行染色處理。然後，於碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100之水溶液中以70℃浸漬120秒。繼而，以8℃純水洗淨15秒後，在以300N張力保持之狀態下，以60℃乾燥50秒然後以75℃乾燥20秒，得到於聚乙烯醇膜吸附配向有碘之厚度7μm之吸收型偏光膜。測定所得之偏光膜之收縮力，結果為1.7N。

[製造例3]偏光膜3之製作

將平均聚合度1100且皂化度99.5莫耳%之乙醯乙醯基改質聚乙烯醇粉末[日本合成化學工業股份有限公司製之商品名「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」]溶解於95℃熱水，調製3%濃度之水溶液。於此水溶液中，相對於聚乙烯醇之固形分6份，以5份之比例混合作為交聯劑之水溶性聚醯胺環氧樹脂[田岡化學工業股份有限公司製之商品名「Sumirez Resin(註冊商標)650」，固形分濃度30%之水溶液]，作成底塗用塗佈液。然後，對基材膜(厚度110μm，熔點163℃之聚丙烯膜)施以電暈處理後，將底塗用塗佈液使用微凹版塗佈機塗佈於於其電暈處理面。然後，以80℃乾燥10分鐘，形成厚度0.2μm之底塗層。

然後，將平均聚合度2400且皂化度98.0至99.0莫耳%之聚乙烯醇粉末[由KURARAY股份有限公司取得之商品名「PVA124」]溶解於95℃熱水，調製8%濃度之聚乙烯醇水溶液。將所得之水溶液使用唇式塗佈機於室溫塗佈於上述基材膜之底塗層上，以80℃乾燥20分鐘，製作由基材膜/底塗層/聚乙烯醇層所成之積層膜。

其次，將所得之積層膜，於溫度160℃以自由端縱向一軸延伸為5.8倍。如此所得之積層延伸膜之整體厚度係28.5μm，聚乙烯醇層之厚度係5.0μm。

將所得之積層延伸膜於水/碘/碘化鉀之重量比為100/0.35/10之水溶液中以26℃浸漬90秒而染色後，以10℃純水洗淨。然後，將該積層延伸膜於水/硼酸/碘化鉀之重量比為100/9.5/5之水溶液中以76℃浸漬300秒，使聚乙烯醇交聯。繼而，以10℃純水洗淨10秒，最後於80℃進行200秒之乾燥處理。藉由以上操作，製作在聚丙烯基材膜上形成有由吸附配向有碘之聚乙烯醇層所成之厚度5μm之偏光膜3之偏光性積層膜。將所得之偏光膜從基材剝離並測定收縮力，結果為1.45N。

[製造例4]偏光膜4之製作

將厚度60μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)以乾式延伸而一軸延伸為約4倍，進一步在保持緊張狀態下，於40℃純水中浸漬40秒後，於碘/碘化鉀/水之重量比為0.052/5.7/100之水溶液中以28℃浸漬30秒而進行染色處理。然後，於碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100之水溶液中以70℃浸漬120秒。繼而，以8℃純水洗淨15秒後，在以300N張力保持之狀態下，以60℃乾燥50秒然後以75℃乾燥20秒，得到於聚乙烯醇膜吸附配向有碘之厚度23μm之吸收型偏光子。測定所得之偏光膜之收縮力，結果為3.1N。

[製造例5]水系接著劑之製作

相對於水100重量份，溶解3重量份之羧基改質聚乙烯醇[由KURARAY股份有限公司取得之商品名「KL-318」]，並於該水溶液中添加1.5重量份之屬於水溶性環氧樹脂之聚醯胺環氧系添加劑[由田岡化學工業股份有限公司取得之商品名「Sumirez Resin(註冊商標)650(30)」，固形分濃度30重量%之水溶液]，調製水系接著劑。

[製造例6]包含硬化性環氧系樹脂組成物之接著劑之製作

將作為屬於脂環式環氧系樹脂之相當於上述式D之二羧酸之環氧基環己基甲酯類的己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲基)酯100份、作為氫化環氧系樹脂之氫化雙酚A之二環氧丙基醚25份、及作為光陽離子聚合起始劑之4,4’-雙(二苯基二氫硫基)二苯基硫醚雙(六氟磷酸鹽)2.2份混合後，進行脫泡，得到包含硬化性環氧系樹脂組成物之接著劑A。再者，光陽離子聚合起始劑係以50質量%碳酸丙烯酯溶液之形式調配。

[黏著劑A、B]

準備以下2種黏著劑。

黏著劑A：厚度25μm之片(sheet)狀黏著劑[Lintec股份有限公司製之「P-3132」]

黏著劑B：厚度15μm之片狀黏著劑[Lintec股份有限公司製之「P-0082」]

[保護膜A、B、C、D]

準備以下4種保護膜。

保護膜A：KONICA MINOLTA股份有限公司製之附有硬塗層之三乙醯纖維素膜；25KCHCN-TC(厚度32μm、透濕度=430g/m²‧24hr)

保護膜B：日本Zeon股份有限公司製之環狀聚烯烴系樹脂膜；ZF14-013(厚度13μm、在波長590nm之面內相位差值=0.8nm、在波長590nm之厚度方向相位差=3.4nm、透濕度=30g/m²‧24hr)

保護膜C：KONICA MINOLTA股份有限公司製之三乙醯纖維素膜；KC2CT(厚度20μm、在波長590nm之面內相位差值=1.2nm、在波長590nm之厚度方向相位差=1.3nm、透濕度=1660g/m²‧24hr)

保護膜D：KONICA MINOLTA股份有限公司製之三乙醯纖維素膜；KC2UAW(厚度25μm、透濕度=1207g/m²‧24hr)

[製造例7]

(偏光板A之製作)

對保護膜A進行皂化處理，對保護膜B施以電暈處理。以使保護膜A之三乙醯纖維素面、及保護膜B之施有電暈處理之面分別成為與偏光膜1之貼合面之方式，將保護膜A、偏光膜1、保護膜B以水系接著劑接著，得到偏光板A。偏光板A之單體穿透率為42.0%。

[製造例8]

(偏光板B之製作)

對保護膜A及保護膜C進行皂化處理。以使保護膜A之三乙醯纖維素面及保護膜C之三乙醯纖維素面成為與偏光膜1之貼合面之方式，將保護膜A、偏光膜1、保護膜C以水系接著劑接著，得到偏光板B。偏光板B之單體穿透率為42.0%。

[製造例9]

(偏光板C之製作)

對保護膜C進行皂化處理，對保護膜B施以電暈處理。以使保護膜C之三乙醯纖維素面及保護膜B之施有電暈處理之面成為與偏光膜1之貼合面之方式，將保護膜C、偏光膜1、保護膜B以水系接著劑接著，得到偏光板C。偏光板C之單體穿透率為42.0%。

[製造例10]

(偏光板D之製作)

對保護膜C進行皂化處理，對保護膜B施以電暈處理。以使施有電暈處理之面成為與偏光膜2之貼合面之方式，將保護膜C、偏光膜2、保護膜B以水系接著劑接著，得到偏光板D。偏光板D之單體穿透率為42.3%。

[製造例11]

(偏光板E之製作)

對2片保護膜C進行皂化處理。以使保護膜C之三乙醯纖維素面成為與偏光膜2之貼合面之方式，將保護膜C、偏光膜2、保護膜C以水系接著劑接著，得到偏光板E。偏光板E之單體穿透率為42.5%。

[製造例12]

(偏光板F之製作)

對保護膜A進行皂化處理，對保護膜B施以電暈處理。以使保護膜A之三乙醯纖維素面、及保護膜B之施有電暈處理之面分別成為與偏光膜2之貼合面之方式，將保護膜A、偏光膜2、保護膜B以水系接著劑接著，得到偏光板F。偏光板F之單體穿透率為42.0%。

[製造例13]

(偏光板G之製作)

對保護膜D進行皂化處理，對保護膜B施以電暈處理。以使保護膜D之三乙醯纖維素面及保護膜B之施有電暈處理之面成為與偏光膜2之貼合面之方式，將保護膜D、偏光膜2、保護膜B以水系接著劑接著，得到偏光板G。偏光板G之單體穿透率為42.3%。

[製造例14]

(偏光板H之製作)

對保護膜A進行皂化處理，對保護膜B之與偏光膜3之貼合面施以電暈處理。從製造例3所製作之偏光性積層膜僅將基材膜剝離而得到偏光膜3。以使保護膜A之三乙醯纖維素面、及保護膜B之施有電暈處理之面分別成為與偏光膜3之貼合面之方式，將保護膜A、偏光膜3、保護膜B以水系接著劑接著，得到偏光板H。偏光板H之單體穿透率為41.2%。

[製造例15至22]

除了將製造例7至14所用之水系接著劑變更為包含硬化性環氧系樹脂組成物之接著劑以外，以同樣方式製作偏光板I至偏光板P。貼合時，使用附有帶式運送機之紫外線照射裝置(燈：Fusion D燈、積算光量1500mJ/cm²)進行紫外線照射，於室溫放置1小時而進行。

所製造之偏光板之單體穿透率分別為下述者。

再者，()內表示相同構成之以水系接著劑所製作之偏光板。

製造例15偏光板I(偏光板A)：單體穿透率為42.0%

製造例16偏光板J(偏光板B)：單體穿透率為42.0%

製造例17偏光板K(偏光板C)：單體穿透率為42.0%

製造例18偏光板L(偏光板D)：單體穿透率為42.3%

製造例19偏光板M(偏光板E)：單體穿透率為42.5%

製造例20偏光板N(偏光板F)：單體穿透率為42.0%

製造例21偏光板O(偏光板G)：單體穿透率為42.3%

製造例22偏光板P(偏光板H)：單體穿透率為41.2%

[製造例23]

(偏光板Q之製作)

除了將偏光板A中之偏光膜1變更為偏光膜4以外，以同樣方式製作偏光板。偏光板Q之單體穿透率為42.0%。

[製造例24]

(偏光板R之製作)

除了將偏光板D中之偏光膜2變更為偏光膜4以外，以同樣方式製作偏光板。偏光板Q之單體穿透率為42.3%。

[實施例1]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板A中之保護膜B與偏光板D中之保護膜B貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

將所製作之複合偏光板切為40mm見方，貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐熱評估用試樣。將如此所製作之試樣投入95℃之烘箱中1000小時。耐熱試驗後之偏光度為99.996%。

將所製作之複合偏光板切為40mm見方，貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐濕熱評估用試樣。將如此所製作之試樣投入65℃ 95%RH之烘箱中1000小時。耐濕熱試驗後之偏光度為99.997%。

[實施例2]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板A中之保護膜B與偏光板E中之保護膜C貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例3]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板A中之保護膜B與偏光板D中之保護膜C 貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例4]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板B中之保護膜C與偏光板D中之保護膜B貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例5]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板B中之保護膜C與偏光板E中之保護膜C貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例6]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板B中之保護膜C與偏光板D中之保護膜C 貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例7]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板C中之保護膜C與偏光板D中之保護膜B貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例8]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板C中之保護膜C與偏光板E中之保護膜C貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例9]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板C中之保護膜C與偏光板D中之保護膜C 貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之偏光板D之保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例10]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板F中之保護膜B與偏光板D中之保護膜B貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例11]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板F中之保護膜B與偏光板E中之保護膜C貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例12]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板F中之保護膜B與偏光板D中之保護膜C貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例13]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板H中之保護膜B與偏光板D中之保護膜B貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.997%，單體穿透率為37.9%。

將所製作之複合偏光板切為40mm見方，貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐濕熱評估用試樣。將如此所製作之試樣投入65℃ 95%RH之烘箱中1000小時。耐濕熱試驗後之偏光度為99.990%。

[實施例14]

使用黏著劑B，以使偏光板之吸收軸互相平行之方式，將偏光板H中之保護膜B與偏光板D中之保護膜C貼合。此時，事先對欲貼合之保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.997%，單體穿透率為37.9%。

[實施例15]

除了將實施例1之偏光板A變更為偏光板I，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例16]

除了將實施例2之偏光板A變更為偏光板I，將偏光板E變更為偏光板M以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例17]

除了將實施例3之偏光板A變更為偏光板I，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例18]

除了將實施例4之偏光板B變更為偏光板J，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例19]

除了將實施例5之偏光板B變更為偏光板J，將偏光板E變更為偏光板M以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例20]

除了將實施例6之偏光板B變更為偏光板J，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例21]

除了將實施例7之偏光板C變更為偏光板K，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例22]

除了將實施例8之偏光板C變更為偏光板K，將偏光板E變更為偏光板M以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例23]

除了將實施例9之偏光板C變更為偏光板K，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例24]

除了將實施例10之偏光板F變更為偏光板N，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例25]

除了將實施例11之偏光板F變更為偏光板N，將偏光板E變更為偏光板M以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。

[實施例26]

除了將實施例12之偏光板F變更為偏光板N，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

[實施例27]

除了將實施例13之偏光板H變更為偏光板P，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.997%，單體穿透率為37.9%。

[實施例28]

除了將實施例14之偏光板H變更為偏光板P，將偏光板D變更為偏光板L以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.997%，單體穿透率為37.9%。

[比較例1]

於偏光板G之保護膜B側貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。偏光板G之偏光度為99.993%。

將所製作之複合偏光板切為40mm見方，貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐熱評估用試樣。將如此所製作之試樣投入95℃之烘箱中1000小時。耐熱試驗後之偏光度為99.94%。

將所製作之複合偏光板切為40mm見方，貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐濕熱評估用試樣。將如此所製作之試樣投入65℃ 95%RH之烘箱中500小時。耐濕熱試驗後之偏光度為63.2%。

[比較例2]

於偏光板O之保護膜B側貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，亦事先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。偏光板O之偏光度為99.993%。

[比較例3]

除了將實施例1之偏光板A變更為偏光板Q，將偏光板D變更為偏光板R以外，以同樣方式製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率為38.6%。

將所製作之複合偏光板切為40mm見方，貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐熱評估用試樣。將如此所製作之試樣投入95℃之烘箱中1000小時。耐熱試驗後之偏光度為99.996%，但在從偏光板端部算起為1mm以內的區域發生剝離。

將各實施例所製作之複合偏光板之層構成表示於表1。又，將實施例及比較例之結果表示於表2。

(產業上之可利用性)

若依據本發明，則可得到耐熱及耐濕熱耐久性優異之複合偏光板及液晶面板。