TWI822651B - 複合偏光板及使用該偏光板之液晶面板 - Google Patents
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Abstract
本發明提供高溫及高溫高濕度環境下的偏光度降低程度小的複合偏光板，並提供耐熱性及耐濕熱性高的液晶面板。
本發明之複合偏光板係依序積層透濕度200g/m2‧24hr以下的低透濕層、厚度15μm以下的第1偏光膜及厚度15μm以下的第2偏光膜而成，其中，第1偏光膜的吸收軸與第2偏光膜的吸收軸為大約平行。
Description
本發明係關於耐久性佳的複合偏光板及使用該偏光板之液晶面板。
近年，液晶顯示裝置係活用其消耗電力少、以低電壓動作、輕量且薄型的特點，作為手機、攜帶式訊息終端、電腦用監視器、電視等訊息用顯示器而急速普及。伴隨液晶技術的發展，提案各種模式的液晶顯示裝置，持續解決如反應速度、對比、窄視角等液晶顯示的問題點。如此。液晶顯示裝置也在車用等要求高耐久性的領域有所發展。但是，對如溫度95℃、溫度65℃‧濕度95%(以下記載為65℃/95%RH)的嚴苛耐久測試，在使用以往的經碘染色聚乙烯醇系樹脂的偏光板時有偏光度降低程度大的問題。
於日本公開專利特開2002-072162號公報(專利文獻1)揭露在投影型顯示裝置的光射出側使用2片偏光板的構成，但其為了冷卻偏光板而將2片偏光板以空間上分離之方式配置。當採用使冷卻用氣體通過2片偏光
板之間、或使熱傳導度高的藍寶石及水晶夾於2片偏光板之間的構成時，於空氣層、水晶等界面中，有由折射率差所致的反射大而使光的利用效率降低的問題。
而且，日本公開專利特開平10-133196號公報(專利文獻2)揭露液晶投影機用的直接積層經提高耐熱性的偏光板之複合偏光板。但是，於厚度20至30μm的偏光膜的兩面配置作為保護層的三乙醯基纖維素膜而成之偏光板中，加熱時的偏光膜的收縮力大，產生液晶面板的彎曲、偏光板剝離等的問題。而且，於使用熱傳導度為0.8W/m‧K以上的玻璃等材料作為偏光膜的保護層時，裁切等的加工不容易，有生產效率低的問題。由於這些原因，也有不易藉由對複合偏光板表面設置表面處理層來賦予功能性的問題。
於上述專利文獻，雖有考慮到高溫環境下的對策，但仍有改善的空間，故在傳統的經碘染色聚乙烯醇系樹脂之偏光板中，其在如65℃/95%RH的高溫高濕度環境下的耐久性依然不充分。
[專利文獻1]日本特開2002-072162號公報
[專利文獻21日本特開平10-133196號公報
本發明的目的為提供在高溫及高溫高濕度環境下的偏光度降低程度小的複合偏光板。本發明的另一目的為提供耐熱性及耐濕熱性高的液晶面板。
亦即，根據本發明，提供一種複合偏光板，其係依序積層透濕度200g/m2‧24hr以下的低透濕層、厚度15μm以下的第1偏光膜、厚度15μm以下的第2偏光膜而成，其中，第1偏光膜的吸收軸與第2偏光膜的吸收軸為約略平行。
低透濕層係以使用透明樹脂膜為較佳，較佳係含有選自由烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂及聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂所成群組中的至少一種。
而且，根據本發明，亦提供一種複合偏光板，其中，於第2偏光膜的與積層有第1偏光膜的面為相反側的面，積層有第1保護膜。
本發明的複合偏光板，較佳係具有第1偏光膜及低透濕層之第1偏光板的單體穿透率小於具有第2偏光膜及第1保護膜之第2偏光板的單體穿透率，第1偏光膜的厚度與第2偏光膜的厚度之差較佳為5μm以下。而且，也提供一種複合偏光板，其為了朝液晶面板貼合，故於第1保護膜的與積層有第2偏光膜的面為相反側的面，具備黏著劑層。
第1保護膜較佳係包含選自由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組中的至少一
種，且以厚度方向的相位差值為-10至10nm者為較佳。
而且，根據本發明，亦提供一種複合偏光板，其中，於第1偏光膜與第2偏光膜之間具有第2保護膜。
第2保護膜較佳係含有選自由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組中的至少1種，並且較佳係在波長590nm的面內的相位差值Re(590)為10nm以下，且在波長590nm的厚度方向的相位差值Rth(590)的絕對值為10nm以下者。
而且，根據本發明，亦提供一種液晶面板，其係藉由將上述複合偏光板經由黏著劑層而積層於液晶胞(liquid crystal cell)的至少一側而成者。
根據本發明，可得到耐熱耐久性及耐濕熱性佳的複合偏光板及液晶面板。
10:複合偏光板
11A:第1偏光膜
11B:第2偏光膜
12A:低透濕層
12B:第1保護膜
15:第2保護膜
13、14:黏著劑層
20:表面處理層
第1圖係表示本發明的複合偏光板的層構成之剖面示意圖之一例。
第2圖係表示本發明的複合偏光板的層構成之剖面示意圖之一例。
第3圖係表示本發明的複合偏光板的層構成之剖面示意圖之一例。
參考第1圖，說明本發明的複合偏光板10的層構成。本發明的複合偏光板10係依序積層透濕度200g/m2‧24hr以下的低透濕層12A、第1偏光膜11A、第2偏光膜11B而構成。較佳係於第2偏光膜11B之與積層有第1偏光膜11A的面為相反側的面，積層有第1保護膜12B。於低透濕層12A之與第1偏光膜11A的貼合面為相反側的面形成表面處理層20也為有用。
而且，參照第2圖，本發明之複合偏光板10係依序積層透濕度200g/m2‧24hr以下之低透濕層12A、第1偏光膜11A、第2保護膜15、第2偏光膜11B而構成。其中，較佳係於第2偏光膜11B的與積層有第2保護膜15的面為相反側的面，積層有第1保護膜12B。於低透濕層12A的與第1偏光膜11A的貼合面為相反側的面形成表面處理層20亦為有用。
於本發明的複合偏光板中，第1偏光膜11A與第2偏光膜11B係以使其吸收軸成為約略平行之方式配置。於本說明書中，所謂約略平行係指兩者所成的角度不嚴格限於0°，例如在0±5°的範圍內，較佳為0±3°的範圍內。
以下，將包含低透濕層12A及第1偏光膜11A之積層體稱為第1偏光板，將包含第2偏光膜11B及第1保護膜12B之積層體稱為第2偏光板。第2保護膜15係包含於第1偏光板或第2偏光板之任一者。亦即，本發明的複合偏光板10較佳係具有由第1偏光板與第2偏光板積層而成的層構成。
透濕度200g/m2‧24hr以下的低透濕層12A較佳為包含烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂以及聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。
為了抑制在高溫環境下及高溫高濕環境下的偏光板的收縮力，係將第1偏光膜、第2偏光膜皆設為厚度15μm以下。而且，藉由使第1偏光板的單體穿透率小於第2偏光板的單體穿透率，可更提高複合偏光板的穿透率。
再者，第1偏光膜的厚度與第2偏光膜的厚度之差較佳為5μm以下。第1保護膜較佳係包含選自由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組中的至少一種。此外，第1保護膜之厚度方向的相位差值較佳為-10至10nm。
第2保護膜15較佳係含有選自由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組中的至少1種。第2保護膜15較佳係使用在波長590nm的面內的相位差值Re(590)為10nm以下，且在波長590nm的厚度方向的相位差值Rth(590)的絕對值為10nm以下者。
於複合偏光板10，可於第2偏光膜上或第1保護膜上積層黏著劑層14。可經由黏著劑層14而將複合偏光板貼合於液晶胞，得到液晶面板。通常，偏光板係貼合於液晶胞的兩面，但本發明的複合偏光板係適合使用於液晶顯示裝置的可見側及背面側或其兩者。
於本發明的複合偏光板中，放置於高溫環
境下或高溫高濕環境下後，雖然各偏光板的偏光度恐會降低，但因2片偏光板是積層為平行尼柯爾(parallel Nicol)，故就複合偏光板而言係可抑制偏光度的降低。
以下，關於構成本發明的複合偏光板、液晶面板的各構件，一邊參考附於第1圖及第2圖的符號，一邊依序詳細說明。
[偏光膜]
構成複合偏光板的第1偏光膜11A、第2偏光膜11B，通常可經由下述步驟而製造：將聚乙烯醇系樹脂膜予以單軸延伸的步驟；將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色而使二色性色素吸附的步驟；將吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜使用硼酸水溶液進行處理而交聯的步驟；以及在藉由硼酸水溶液而進行之交聯處理後進行水洗的步驟。
聚乙烯醇系樹脂膜，可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了可為屬於乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯以外，亦可為乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體的共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體，係可舉例如飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常為85至100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改性，例如可使用經醛類改性的聚乙烯醇縮甲醛(polyvinyl formal)、聚乙烯醇縮乙醛(polyvinyl acetal)等。聚乙烯醇系
樹脂的聚合度，通常為1,000至10,000左右，較佳為1,500至5,000左右。
將如此的聚乙烯醇系樹脂進行製膜而成者，係作為偏光膜的原料膜使用。將聚乙烯醇系樹脂進行製膜的方法，無特別限制，可用習知的方法製膜。聚乙烯醇系樹脂的原料膜的膜厚係例如10至100μm左右，較佳為10至50μm左右。
聚乙烯醇系樹脂膜的單軸延伸，可在藉由二色性色素而進行的染色前、在與染色同時、或在染色後進行。當單軸延伸是在染色後進行時，該單軸延伸可在硼酸處理前進行，亦可在硼酸處理中進行。當然亦可在此處所示的複數個階段中進行單軸延伸。於單軸延伸，可採用在轉速不同的滾輪間進行單軸延伸的方法、或使用熱滾輪進行單軸延伸的方法等。而且，單軸延伸，可藉由在大氣中進行延伸之乾式延伸來進行，亦可藉由使用水等溶劑而在使聚乙烯醇系樹脂膨潤的狀態下進行延伸的濕式延伸來進行。延伸倍率通常為3至8倍左右。
聚乙烯醇系樹脂膜的藉由二色性色素而進行的染色，係例如可藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素的水溶液之方法進行。就二色性色素而言，具體上是使用碘、二色性有機染料。再者，聚乙烯醇系樹脂膜較佳係在染色處理前先實施浸漬於水之膨潤處理。
當使用碘作為二色性色素時，通常是採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀的水溶液而進
行染色的方法。該水溶液中的碘的含量，相對於水100重量份而言，通常為0.01至1重量份左右；碘化鉀的含量，相對於水100重量份而言，通常為0.5至20重量份左右。染色所使用的水溶液的溫度通常為20至40℃左右。而且，對該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為20至1,800秒左右。
另一方面，當使用二色性有機染料作為二色性色素時，通常是採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於包含水溶性二色性有機染料的水溶液而進行染色的方法。該水溶液中的二色性有機染料的含量，相對於水100重量份而言，通常為1×10-4至10重量份左右，較佳為1×10-3至1重量份。該染料水溶液，亦可含有如硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。染色所使用的二色性有機染料水溶液的溫度通常為20至80℃左右。而且，對該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為10至1800秒左右。
在藉由二色性色素而染色後的硼酸處理，係可藉由將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸的水溶液之方法來進行。在含有硼酸的水溶液中之硼酸的含量，相對於水100重量份而言，通常為2至15重量份左右，較佳為5至12重量份。當使用碘作為二色性色素時，該含有硼酸的水溶液較佳係含有碘化鉀。在含有硼酸的水溶液中之碘化鉀的含量，相對於水100重量份而言，通常為0.1至15重量份左右，較佳為5至12重量份。對含有硼酸的水溶液的浸漬時間，通常為60至1,200秒左右，較佳為150
至600秒，更佳為200至400秒。含有硼酸的水溶液的溫度，通常為50℃以上，較佳為50至85℃，更佳為60至80℃。
經硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜，通常經進行水洗處理。水洗處理，係例如可藉由將經硼酸處理過的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水的方法來進行。水洗係可使用含有碘化鉀的溶液。水洗處理之水的溫度，通常為5至40℃左右。而且，浸漬時間通常為1至120秒左右。
水洗後，實施乾燥處理，得到偏光膜。乾燥處理可使用熱風乾燥機、遠紅外線加熱器進行。乾燥處理的溫度通常為30至100℃左右，較佳為50至80℃左右。乾燥處理的時間通常為60至600秒左右，較佳為120至600秒。藉由乾燥處理，使偏光膜中的水分比例減少至實用的程度。其水分率通常為5至20重量%左右，較佳為8至15重量%。水分率低於5重量%時，失去偏光膜的可撓性，乾燥後會有損害或破裂。而且，水分比例超過20重量%時，熱安定性有不足的傾向。
依上述操作，即可製造使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成的偏光膜。
而且，偏光膜的製造步驟中之聚乙烯醇系樹脂膜的延伸、染色、硼酸處理、水洗步驟、乾燥步驟，係可根據例如日本特開2012-159778號記載的方法進行。於該文獻記載的方法中，使用藉由將聚乙烯醇系樹脂塗佈於基材而形成作為偏光膜的聚乙烯醇系樹脂層的方法亦為
有用。
偏光膜本身的收縮力低，從抑制高溫環境下之偏光度降低的觀點、或可保持良好的外觀的觀點來看，係為較佳。為了將高溫環境下之偏光膜的收縮力抑制成較低，偏光膜的厚度較佳為12μm以下。從可賦予良好的光學特性的觀點來看，偏光膜的厚度通常為3μm以上。
第1片偏光膜11A的厚度與第2偏光膜11B的厚度之差的大小較佳為5μm以下。更佳為3μm以下。因使用如此的厚度差小的偏光膜，故可將在高溫環境下的尺寸變化以第1偏光膜11A與第2偏光膜11B來配合。因此，被認為可抑制起因於由2片偏光膜的熱收縮差異所致之應力的差而產生的偏光膜的龜裂。
偏光膜在80℃的溫度保持240分鐘時，其吸收軸方向的寬度每2mm的收縮力較佳為2N以下。該收縮力比2N大時，在高溫環境下的尺寸變化量變大，且因偏光膜的收縮力變大，故有偏光膜變得容易產生破裂或剝離的傾向。偏光膜的收縮力，延伸倍率降低時或偏光膜的厚度變薄時，有成為2N以下的傾向。
而且，2片偏光膜的吸收軸方向的寬度每2mm的收縮力的差較佳為1N以下，更佳為0.5N以下。如後述，於本發明的複合偏光板中，由於較佳係第2偏光板的單體穿透率大於第1偏光板的單體穿透率，故2片偏光膜之收縮力的大小可為不同，例如收縮力的差可為0.1N以上。
[透濕度為200g/m2‧24hr以下之低通濕層12A]
複合偏光板10中所使用的低透濕層12A，只要是透濕度為200g/m2‧24hr以下之層即可，特別是以使用透明樹脂膜為較佳。特別是較佳係由透明性、機械強度、熱安定性、水分遮蔽性等佳的材料所構成。於本說明書中，所謂透明樹脂膜，係指在可見光區域之單體穿透率為80%以上的樹脂膜。
特別是由於亦容易取得，故較佳係使用含有選自由烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂及聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂所成群組中的至少一種之膜。在此所謂之烯烴系樹脂，係包含鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂。該等之樹脂膜可為：藉由將原料樹脂進行熔融擠出所製膜之膜；於製膜後進行橫向延伸而得之單軸延伸膜；以及於製膜後進行縱向延伸，然後進行橫向延伸所得之雙軸延伸膜等。
藉由在複合偏光板之表面設置透濕度為200g/m2‧24hr以下之低透濕層，而可抑制第1偏光膜11A及第2偏光膜11B的濕熱劣化，故可製成即便是在高溫高濕度的環境下亦使偏光度減低程度小之複合偏光板。更佳的透濕度為150g/m2‧24hr以下，又更佳為100g/m2‧24hr以下。
環狀聚烯烴系樹脂，可為例如將降莰烯及其他環戊二烯衍生物等環狀烯烴單體在觸媒存在下進行聚
合而得者。使用如此的環狀聚烯烴系樹脂，由於容易得到具有後述指定相位差值的保護膜，故為較佳。
環狀聚烯烴系樹脂，可舉例如：以由環戊二烯與烯烴類或(甲基)丙烯酸或其酯類藉由狄爾斯-阿爾德(Diels-Alder)反應所得之降莰烯或其衍生物作為單體進行開環移位聚合(ring opening metathesis polymerization)，然後藉由氫化所得之樹脂；以由二環戊二烯與烯烴類或(甲基)丙烯酸或其酯類藉由狄爾斯-阿爾德反應所得之四環十二烯或其衍生物作為單體進行開環移位聚合，然後藉由氫化所得之樹脂；將選自降莰烯、四環十二烯、該等的衍生物及其他環狀烯烴單體中之至少2種單體同樣地進行開環移位共聚合，然後藉由氫化所得之樹脂；對於如降莰烯、四環十二烯或該等的衍生物等環狀烯烴，使鏈狀烯烴及/或具有乙烯基的芳香族化合物進行加成共聚合所得之樹脂等。
環狀聚烯烴系樹脂可容易取得市售品。若要列舉市售品的例子時，分別以商品名表示，有由TOPAS ADVANCED POLYMERS GmbH生產且在日本是由Polyplastics股份有限公司販售的“TOPAS”、JSR股份有限公司販售“ARTON(註冊商標)”、日本ZEON股份有限公司販售的“ZEONOR(註冊商標)”及“ZEONEX(註冊商標)”、三井化學股份有限公司販售的“APEL”等。
鏈狀聚烯烴系樹脂的典型例，係聚乙烯系樹脂及聚丙烯系樹脂。其中，適合使用丙烯的單獨聚合物、
或以丙烯為主體且將可與其共聚合的共聚單體(例如乙烯)以1至20重量%(較佳為3至10重量%)的比例共聚合的共聚物。
聚丙烯系樹脂，亦可含有脂環族飽和烴樹脂。藉由含有脂環族飽和烴樹脂，而變得容易控制相位差值。脂環族飽和烴樹脂的含量，相對於聚丙烯系樹脂而言，以設為0.1至30重量%為有利，更佳的含量為3至20重量%。脂環族飽和烴樹脂的含量未達0.1重量%時，無法充分得到相位差值的控制效果，另一方面超過30重量%時，有從低透濕層12A經時性地產生脂環族飽和烴樹脂的滲出之虞。
丙烯酸系樹脂，典型上為包含50重量%以上的甲基丙烯酸甲酯單元之聚合物。甲基丙烯酸甲酯單元的含量，較佳為70重量%以上，亦可為100重量%。
以甲基丙烯酸甲酯為主成分的丙烯酸系樹脂，可容易取得市售品。若要列舉市售品的例子時，分別以商品名表示，有住友化學股份有限公司販售的“SUMIPEX(註冊商標)”、三菱RAYON股份有限公司販售的“ACRYPET(註冊商標)”、旭化成股份有限公司販售的“DELPET(註冊商標)”、Kuraray股份有限公司販售的“PARAPET”、日本觸媒股份有限公司販售的“ACRYVIEWER(註冊商標)”等。
聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂係指重複單元之80莫耳%以上是由對苯二甲酸乙二酯所構成之樹脂，亦
可與其他的二羧酸成分或二醇成分共聚合。其他的二羧酸成分，可舉例如間苯二甲酸(isophthalic acid)、4,4’-二羧基二苯基、4,4’-二羧基二苯基酮、雙(4-羧基苯基)乙烷、己二酸、癸二酸、1,4-二羧基環己烷等。其他的二醇成分，可舉例如丙二醇、丁二醇、新戊二醇、二乙二醇、環己二醇、雙酚A之環氧乙烷加成物、聚乙二醇、聚丙二醇、聚四亞甲基乙二醇等。
該等其他的二羧酸成分或二醇成分，可依據需要組合使用2種類以上。而且可併用如對羥基苯甲酸、對-β-羥基乙氧基苯甲酸等氧基羧酸。再者，其他的共聚合成分係可使用含有少量的醯胺鍵、胺酯鍵(urethane bond)、醚鍵、碳酸酯鍵等之二羧酸成分或二醇成分。
聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜，其市售品可容易取得，例如，以分別的商品名，有三菱樹脂股份有限公司所販賣之“DIA FOIL(註冊商標)”、“HOSTAPHAN(註冊商標)”以及“FUSION(註冊商標)”，TEIJIN DUPONT FILM股份有限公司所販賣之“TEIJIN TETORON FILM(註冊商標)”、“MELINEX(註冊商標)”、“MYLAR(註冊商標)”以及“Teflex(註冊商標)”，東洋紡績股份有限公司所販賣之“TOYOBO ESTER FILM(註冊商標)”、“TOYOBO ESPET FILM(註冊商標)”、“Cosmo Shine(註冊商標)”以及“Crispa"(註冊商標)”，TORAY FILM加工股份有限公司所販賣之“Lumirror(註冊商標)”，Unitika股份有限公司所販賣之“Enbron(註冊商標)”以及
“EMBLET(註冊商標)”，SKC公司所販賣之“Skyroll(註冊商標)”，高合股份有限公司所販賣之“Kofiru(註冊商標)”、瑞通股份有限公司所販賣之“Rui communication polyester film(註冊商標)”、Futamura化學股份有限公司所販賣之“Taiko polyester film(註冊商標)”等。聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜中，特別是較佳係使用雙軸延伸品。
低透濕層12A，可依據需要而含有添加劑。添加劑可舉例如滑劑、抗結塊劑、熱安定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、耐光劑、耐衝撃性改良劑、抗靜電劑等。其添加量較佳為調整成對光學物性不會有不良影響之範圍。
[低透濕層12A之表面處理層20]
低透濕層12A，在其與貼合於第1偏光膜11A之面為相反側之面，可具有表面處理層20。該表面處理層20係例如可藉由在低透濕層12A之表面形成具有微細的表面凹凸形狀之硬塗層之方法來設置。為了賦予硬塗功能，該表面處理層20較佳係以使鉛筆硬度具有比H更硬的值的方式來形成。其鉛筆硬度為H或比H小時，表面容易受傷、或受傷時液晶顯示裝置的可見性變差。鉛筆硬度係根據JIS K5600-5-4：1999「塗料一般測試方法-第5部：塗膜的機械性質-第4節：刮痕硬度(鉛筆法)」而求得，使用各硬度的鉛筆刮劃時，以不產生傷痕的最硬鉛筆的硬度表示。
具有表面處理層20之低透濕層12A，其霧度值為0.1至45%的範圍，較佳為5至40%的範圍。當霧度值變成大於45%的區域時，雖可降低外光倒映，但黑色
顯示的畫面的緻密度降低。而且，當霧度值低於0.1%時，無法得到充分的抗眩功能，因外光會倒映於畫面，故為不佳。此處，霧度值係根據JIS K7136：2000「塑膠-透明材料的霧度的求得方法」而求得。
具有微細的表面凹凸形狀之硬塗層之形成，可使用下述方法來進行：在低透濕層12A之表面形成含有有機微粒子或無機微粒子之塗膜之方法；或在形成含有或不含有有機微粒子或無機微粒子之塗膜後，以賦予凹凸形狀之輥抵壓之方法，例如壓印(emboss)法等。如此之塗膜，例如可藉由在低透濕層12A之表面塗布含有由硬化性樹脂所成之黏結劑成分與有機微粒子或無機微粒子之塗布液(硬化性樹脂組成物)之方法等來形成。
無機微粒子係可使用例如氧化矽、膠體氧化矽、氧化鋁、氧化鋁溶膠、矽酸鋁、氧化鋁-氧化矽複合氧化物、高嶺土、滑石、雲母、碳酸鈣、磷酸鈣等。而且，有機微粒子係可使用如交聯聚丙烯酸系粒子、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物樹脂粒子、交聯聚苯乙烯粒子、交聯聚甲基丙烯酸甲酯粒子、聚矽氧樹脂粒子或聚醯亞胺粒子等樹脂粒子。
用以使無機微粒子或有機微粒子分散的黏結劑成分，可由成為高硬度(硬塗層)的材料選擇。黏結劑成分係可使用光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等，從生產性或所得之表面處理層20的硬度等的觀點來看，較佳為光硬化性樹脂。光硬化性樹脂係可適當地
使用市售者。例如，可將三羥甲基丙烷三丙烯酸酯或季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯單獨使用或以2種以上組合使用，在此，可混合“Irgacure(註冊商標)907”、“Irgacure(註冊商標)184”或“Lucirin(註冊商標)TPO”(任一者均為BASF公司所販賣之商品名)等光聚合起始劑而製成光硬化性樹脂。當使用光硬化性樹脂時，可藉由將無機微粒子或有機微粒子分散於其中所得之樹脂組成物塗佈於樹脂膜上，並照射光，而形成使無機微粒子或有機微粒子分散於黏結劑樹脂中的硬塗層。
關於構成光硬化性樹脂的多官能基丙烯酸酯，除了可使用上述三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等單體形態者以外，亦可使用胺酯丙烯酸酯(urethane acrylate)、多元醇(甲基)丙烯酸酯、或具有包含2個以上的羥基之烷基之(甲基)丙烯酸寡聚物等寡聚物形態者。
此處所謂胺酯丙烯酸酯，係例如使用(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯、多元醇以及二異氰酸酯而調製。具體上，可藉由下述方法來調製胺酯丙烯酸酯：從(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯與多元醇來調製殘留至少1個羥基的羥基(甲基)丙烯酸酯，並將其與二異氰酸酯反應的方法。該等(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯、多元醇以及二異氰酸酯，分別可使用單獨1種或2種以上的組合。而且，可依據目的而添加各種添加劑。
在製造胺酯丙烯酸酯時所使用的(甲基)丙
烯酸酯，係可舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯及(甲基)丙烯酸丁酯等(甲基)丙烯酸烷酯；如(甲基)丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸環烷酯。
同樣地在製造胺酯丙烯酸酯時所使用的多元醇，係分子內具有至少2個羥基的化合物。若要列舉具體例，則有乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羥基特戊酸的新戊二醇酯、環己烷二羥甲基、1,4-環己二醇、螺二醇(spiroglycol)、三環癸烷二羥甲基、氫化雙酚A、環氧乙烷加成雙酚A、環氧丙烷加成雙酚A、三羥甲基乙烷、三-二羥甲基丙烷、丙三醇、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、葡萄糖類等。
同樣地在製造胺酯丙烯酸酯時所使用的二異氰酸酯，可為芳香族、脂肪族或脂環式的各種二異氰酸酯類。若要列舉具體例，則有四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、2,4-伸甲苯基二異氰酸酯、1,5-伸萘基二異氰酸酯、二苯基-4,4’-二異氰酸酯、3,3’-二甲基二苯基-4,4’-二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4’-二異氰酸酯及該等之中具有芳香環的化合物的氫化物等。
若要列舉可成為多官能基的丙烯酸酯之多
元醇(甲基)丙烯酸酯的具體例時，有季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯等。該等可分別單獨使用，亦可組合使用。再者，亦可依據需要而添加各種添加劑。多元醇(甲基)丙烯酸酯較佳為包含季戊四醇三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯。該等可為共聚物，亦可為混合物。
再者，可成為其他多官能基丙烯酸酯的具有包含2個以上的羥基之烷基之(甲基)丙烯酸寡聚物，係可舉例如具有2,3-二羥基丙基的(甲基)丙烯酸寡聚物、或具有2-羥基乙基及2,3-二羥基丙基之(甲基)丙烯酸寡聚物。
若要列舉構成光硬化性樹脂的光聚合起始劑的具體例時，有2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、氧雜蒽酮(xanthone)、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4’-二甲氧基二苯甲酮、苯甲醯基丙基醚、安息香雙甲醚(benzil dimethyl ketal)、N,N,N’,N’-四甲基-4,4’-二胺基二苯甲酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、其他硫雜蒽酮(thioxanthone)系化合物等。
光硬化性樹脂，可依據需要而在溶解於溶劑的狀態下使用。溶劑係可使用以乙酸乙酯、乙酸丁酯為代表的各種有機溶劑。
而且，光硬化性樹脂可含有調平劑，可舉例如氟系或聚矽氧系的調平劑。聚矽氧系的調平劑，係可舉例如反應性聚矽氧、聚二甲基矽氧烷、聚醚改性聚二甲
基矽氧烷、聚甲基烷基矽氧烷。較佳為反應性聚矽氧及矽氧烷系調平劑。藉由使用反應性聚矽氧的調平劑，而對硬塗層表面賦予滑動性，使其可長時間持續良好的耐擦傷性。另一方面，使用矽氧烷系的調平劑時，可提高膜形成能力。
反應性聚矽氧的調平劑，係可舉例如具有矽氧燒鍵與丙烯醯基或羥基者。具體例係可舉例如以下的共聚物：(a)二甲基矽氧烷/3-丙烯醯基-2-羥基丙氧基丙基矽氧烷/2-丙烯醯基-3-羥基丙氧基丙基矽氧烷的共聚物、(b)二甲基矽氧烷/羥基丙基矽氧烷/三(ω-異氰酸基烷基)異三聚氰酸/脂肪族聚酯的共聚物、(c)二甲基矽氧烷/末端為丙烯酸酯的聚烷二醇烷基矽氧烷/末端為羥基的聚烷二醇烷基矽氧烷的共聚物。
若要列舉市售的反應性聚矽氧的具體例時，以商品名表示，有DIC股份有限公司販售的“GRANDIC(註冊商標)PC-4100”、畢克化學日本股份有限公司販售的“BYK-UV3500”、“BYK-UV3750”、“BYK-370”、“BYK-371”、“BYK-375”及“BYK-377”等。
藉由使用如以上所例示之丙烯酸系黏結劑成分(黏結劑樹脂)，而可提升與低透濕層12A之密著性，且同時亦提升機械強度，可形成能有效地防止表面損傷之表面處理層20。
當藉由壓印法來設置具有細微表面凹凸形
狀的硬塗層時，只要於樹脂膜上形成未硬化的硬塗層，並將其抵壓至形成有細微凹凸形狀的模具，且同時使該硬化層硬化，將模具的形狀轉印至該硬化層即可。模具形狀對硬塗層的轉印，較佳係藉由壓印進行，壓印較佳為使用屬於光硬化性樹脂的一種之紫外線硬化性樹脂的UV壓印法。當藉由壓印法形成表面凹凸形狀時，硬塗層可含有無機或有機微粒子，亦可不含有。
UV壓印法中，係在低透濕層12A的表面形成紫外線硬化性樹脂層，一邊將該紫外線硬化性樹脂層抵壓於模具的凹凸面，一邊使其硬化，藉此而使模具的凹凸面轉印至紫外線硬化性樹脂層。具體而言，係於樹脂膜上塗佈紫外線硬化性樹脂，將所塗佈的紫外線硬化性樹脂在密合於模具的凹凸面的狀態下，從樹脂膜側照射紫外線使紫外線硬化性樹脂硬化，然後，將形成有硬化後之紫外線硬化性樹脂層的樹脂膜從模具剝離，藉此而使模具的形狀轉印至紫外線硬化性樹脂。紫外線硬化性樹脂的種類係無特別限制，例如可使用前述者。而且，亦可使用藉由適當地選擇光聚合起始劑而能於波長比紫外線長的可見光下硬化的可見光硬化性樹脂，來取代紫外線硬化性樹脂。
表面處理層20的厚度係無特別限制，為2至30μm，又較佳為3至30μm的範圍。表面處理層20的厚度低於2μm時，變得不易得到充分的硬度，有表面變得容易受傷的傾向。而且，其厚度大於30μm時，變得容易破裂，或有因表面處理層的硬化收縮而使低透濕層
12A撓曲並使生產性減低之傾向。
對於低透濕層12A，如前所述，較佳係藉由硬塗層來賦予霧度，但亦可在形成硬塗層的同時亦藉由在保護膜中分散無機或有機微粒子而賦予霧度。因此所使用的無機或有機微粒子的具體例，係與先前揭露者相同。
對於低透濕層12A，除了可施行兼具硬塗層的前述防眩處理(賦予霧度處理)以外，亦可施行如抗靜電處理、防污處理或抗菌處理等各種追加的表面處理，亦可形成由液晶化合物或其高分子量化合物等所成的塗佈層。再者，抗靜電功能係除了表面處理以外，亦可賦予於例如黏著劑層等偏光板的其他部分。
[第1保護膜12B以及第2保護膜15]
第1保護膜12B以及第2保護膜15，係可使用由纖維素系樹脂、鎖狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂等所屬技術領域中以往廣泛作為保護膜之形成材料而使用之材料所形成之膜。第1保護膜12B以及第2保護膜15可為與低透濕層12A相同之膜，亦可為不同之膜。就第1保護膜12B以及第2保護膜15而言，從容易控制相位差值且亦容易取得之觀點來看，較佳係用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂。此處所謂聚烯烴系樹脂，係包含鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂。
此外，第1保護膜12B與第2保護膜15彼此可為相同之膜，亦可為不同之膜。
烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂膜，係可使用與低透濕層12A相同者。
纖維素系樹脂，係可為纖維素的羥基中之氫原子的一部分或全部被乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代之纖維素的有機酸酯或混合有機酸酯。可舉例如纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、該等的混合酯等。其中，較佳為三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。
該等樹脂，可在無損透明性的範圍內調配適當的添加物。添加物係可舉例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、滑劑、造核劑、防霧劑、抗結塊劑、相位差減低劑、安定劑、加工助劑、塑化劑、耐衝擊助劑、消光劑、抗菌劑、抗真菌劑等。抗氧化劑係例如有酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、受阻胺系光安定劑等，此外，亦可使用例如於1分子中兼具酚系之抗氧化機構與磷系之抗氧化機構之單元的複合型抗氧化劑。紫外線吸收劑可舉例如2-羥基二苯基酮系之紫外線吸收劑或羥基苯基苯并三唑系之紫外線吸收劑、苯甲酸酯系之紫外線阻斷劑等。抗靜電劑可為聚合物型、寡聚物型、單體型之任一者。滑劑可舉例如芥子醯胺或油醯胺等高級脂肪酸醯胺、硬酯酸等高級脂肪酸以及其鹽等。造核劑，可舉例如山梨醇系造核劑、有機磷酸鹽系造核劑、聚乙烯基環烷烴等高分子系造核劑等。抗結塊劑，只要是球狀或與其相近形狀之微粒子，則無論是無機系或有機系均可使用。相位
差減低劑，係例如有添加於聚丙烯系樹脂中之脂環族飽和烴樹脂。該等添加物亦可併用複數種。
從如以上的樹脂進行製膜成膜的方法，只要適當選擇對應各樹脂之方法即可，例如可採用前述的溶劑鑄膜法、熔融擠出法等。其中，對於聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂而言，從生產性的觀點來看，較佳係採用熔融擠出法。另一方面，纖維素系樹脂一般係使用溶劑澆鑄法製膜。
該等樹脂膜，其市售品可容易取得。例如若要列舉市售的膜之例子，則就纖維素系樹脂膜而言，以分別的商品名表示，有富士軟片股份有限公司販售的“Fijitac(註冊商標)TD”、KONICA MINOLTA股份有限公司所販賣之“KONICA MINOLTA TAC膜KC”等。
於第1保護膜12B及第2保護膜15中，為了抑制因消偏光所致的偏光度降低，厚度方向的相位差值Rth較佳為10nm以下。厚度方向的相位差值Rth，係將從面內的平均折射率減去厚度方向的折射率後得到的值乘以膜的厚度所得之值，以下述式(a)定義。而且，面內的相位差值Re較佳為10nm以下。面內的相位差值Re係將面內的折射率差乘以膜的厚度所得之值，以下述式(b)定義。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (a)
Re=(nx-ny)×d (b)
式中，nx為膜面內的x軸方向(面內慢軸方向)的折射率，ny為膜面內的y軸方向(面內快軸方向，且
為在面內與x軸垂直的方向)的折射率，nz為與膜面垂直的z軸方向(厚度方向)的折射率，d為膜的厚度。
此處，相位差值為在可見光的中心附近之500至650nm左右的範圍之任意波長的值，但於本說明書中則是以在波長590nm之相位差值為標準。厚度方向的相位差值Rth及面內的相位差值Re，可使用市售的各種相位差計測定。
當液晶胞為橫向電場效應(IPS：In-Plane Switching)模式時，為了使該IPS模式液晶胞無損於本來具有之廣視野角特性，第1保護膜12B較佳係厚度方向之相位差值Rth為-10至10nm之範圍。
將樹脂膜之厚度方向之相位差值Rth控制在-10至10nm的範圍之方法，可舉例如在製作膜時盡量將殘留於厚度方向的變形予以變小的方法。例如於上述溶劑鑄膜法中，可採用將在乾燥該流鑄樹脂溶液時所產生的厚度方向的殘留收縮變形藉由熱處理而緩和的方法等。另一方面，於上述熔融擠出法中，為了防止樹脂膜從模頭擠出且在直至冷卻為止之間的延伸，可採用盡量減縮從模頭到冷卻滾筒的距離，且同時以使膜不延伸之方式來控制擠出量與冷卻滾筒的旋轉速度的方法等。而且，與溶劑鑄膜法同樣地，可採用將殘留於所得的膜之變形藉由熱處理而緩和的方法。
[偏光膜與低透濕層的貼合、偏光膜與保護膜的貼合]
第1偏光膜11A與低透濕層12A的貼合、第2偏光膜11B與第1保護膜12B的貼合、以及第1偏光膜11A與第2保護膜15的貼合，係可藉由接著劑或黏著劑進行。
於本說明書中，有時會將第1偏光膜11A與第2偏光膜11B合稱而簡稱為偏光膜，將低透濕層12A、第1保護膜12B及第2保護膜15合稱而簡稱為保護膜。
貼合偏光膜與保護膜的接著劑層，其厚度可為0.01至30μm左右，較佳為0.01至10μm，更佳為0.05至5μm。接著劑層的厚度為該範圍時，所積層的保護膜與偏光膜之間不會產生浮起或剝離，可得到實用上沒有問題的接著力。貼合偏光膜與保護膜的黏著劑層，其厚度可為5至50μm左右，較佳為5至30μm，更佳為10至25μm。
在形成接著劑層時，可依據被接著體的種類、目的而使用適當、適合的接著劑。而且，可依據需要而使用錨定塗佈劑。接著劑係可舉例如溶劑型接著劑、乳液型接著劑、感壓性接著劑、再濕性接著劑、縮聚合型接著劑、無溶劑型接著劑、膜狀接著劑、熱熔型接著劑等。
較佳的接著劑之一，係可舉例如水系接著劑，亦即將接著劑成分溶解或分散於水者。若要列舉可溶解於水的接著劑成分的例子時，則有聚乙烯醇系樹脂。此外，若要列舉可分散於水的接著劑成分的例子時，則有具有親水基的胺酯系樹脂。水系接著劑，係可藉由將如此的接著劑成分與依據需要而調配的追加添加劑一起與水混合而調製。若要列舉可作為水系接著劑的市售的聚乙烯醇系
樹脂的例子時，有Kuraray股份有限公司販售的經羧基改性的聚乙烯醇之“KL-318”。
水系接著劑，可依需要而含有交聯劑。若要列舉交聯劑的例子時，有胺化合物、醛化合物、羥甲基化合物、水溶性環氧樹脂、異氰酸酯化合物、多價金屬鹽等。當聚乙烯醇系樹脂為接著劑成分時，交聯劑較佳係使用以乙二醛為代表的醛化合物、以羥甲基三聚氰胺為代表的羥甲基化合物、水溶性環氧樹脂等。此處，水溶性環氧樹脂可為例如使聚醯胺聚胺與環氧氯丙烷反應所得之聚醯胺環氧樹脂，該聚醯胺聚胺係如二伸乙基三胺、三伸乙基四胺等聚伸乙基聚胺與如己二酸等羧酸的反應物。若要列舉水溶性環氧樹脂的市售品的例子時，有田岡化學工業股份有限公司販售的“SUMIREZ RESIN(註冊商標)650(30)”等。
於偏光膜及/或貼合於其之保護膜的接著面，塗佈水系接著劑並貼合兩者後，藉由實施乾燥處理，可得到偏光板。在進行接著前，若事先對於保護膜施行如皂化處理、電暈放電處理、電漿處理或底塗處理等易接著處理以提高潤濕性，也為有效。乾燥溫度可為例如50至100℃左右。乾燥處理後，若在比室溫稍高的溫度，例如30至50℃左右的溫度下熟成1至10天，則因可更加提高接著力，故為較佳。
就另一較佳的接著劑而言，可舉例如含有藉由活性能量線的照射或加熱而硬化的環氧化合物的硬化
性接著劑組成物。此處，硬化性環氧化合物，係分子內具有至少2個環氧基者。於該情況下，偏光膜與保護膜的接著，可藉由對該接著劑組成物的塗佈層照射活性能量線或賦予熱而使包含於接著劑中的硬化性環氧化合物硬化的方法來進行。環氧化合物的硬化，一般係藉由環氧化合物的陽離子聚合來進行。此外，從生產性的觀點來看，該硬化較佳係藉由活性能量線的照射來進行。
從耐候性、折射率、陽離子聚合性等的觀點來看，包含於硬化性接著劑組成物中的環氧化合物較佳係分子內不包含芳香環者。分子內不包含芳香環的環氧化合物，可舉例如氫化環氧化合物、脂環式環氧化合物、脂肪族環氧化合物等。如此的硬化性接著劑組成物中所適用的環氧化合物，例如已在日本特開2004-245925號公報有詳細說明，但在此處也概略說明。
氫化環氧化合物，可為將由屬於芳香族環氧化合物的原料之芳香族聚羥基化合物在觸媒存在下及加壓下選擇性地進行核氫化反應所得之核氫化聚羥基化合物進行環氧丙基醚化者。屬於芳香族環氧化合物的原料之芳香族聚羥基化合物，係可舉例如：如雙酚A、雙酚F及雙酚S等雙酚類；酚酚醛(phenol novolac)樹脂、甲酚酚醛樹脂及羥基苯甲酸酚酚醛樹脂等酚醛型的樹脂；四羥基二苯基甲烷、四羥基二苯甲酮及聚乙烯基酚等多官能基型的化合物等。對於如此的芳香族聚羥基化合物進行核氫化反應，並使所得之核氫化聚羥基化合物與環氧氯丙烷反應，
而可進行環氧丙基醚化。較佳的氫化環氧化合物，係可舉例如經氫化的雙酚A的環氧丙基醚。
脂環式環氧化合物，係分子內具有至少1個鍵結於脂環式環的環氧基之化合物。所謂「鍵結於脂環式環的環氧基」係指以下式所示的構造中之橋接的氧原子-O-，該式中之m為2至5的整數。
使除去1個或複數個該式之(CH2)m中的氫原子後的形態的基鍵結於其他化學結構的化合物，係可成為脂環式環氧化合物。而且，形成脂環式環的(CH2)m中的1個或複數個氫原子，亦可經如甲基、乙基等直鏈狀烷基適當地取代。脂環式環氧化合物中，具有氧雜雙環己烷環(上式之m=3者)、氧雜雙環庚烷環(於上式m=4者)的環氧化合物係由於顯示良好的接著性，故為較適用。以下，揭露脂環式環氧化合物的具體例。此處，先例舉化合物的名稱，然後顯示分別對應的化學式，對於化合物名稱及其對應化學式賦予相同的符號。
A：3,4-環氧基環己烷甲酸3,4-環氧基環己基甲酯、B：3,4-環氧基-6-甲基環己烷甲酸3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酯、
C：伸乙基雙(3,4-環氧基環己烷甲酸酯)、D：己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲基)酯、E：己二酸雙(3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基)酯、F：二乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)、G：乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)、H：2,3,14,15-二環氧基-7,11,18,21-四氧雜三螺[5.2.2.5.2.2]二十一烷、I：3-(3,4-環氧基環己基)-8,9-環氧基-1,5-二氧雜螺[5.5]十一烷、J：4-乙烯基環己烯二氧化物、K：檸檬烯二氧化物、L：雙(2,3-環氧基環戊基)醚、M：二環戊二烯二氧化物等。
A：
B：
C：
D：
E：
F：
G：
H：
I：
J：
K：
L：
M：
脂肪族環氧化合物，可為脂肪族多元醇或其環氧烷加成物的聚環氧丙基醚。更具體而言，可舉例如：
丙二醇的二環氧丙基醚；1,4-丁二醇的二環氧丙基醚；1,6-己二醇的二環氧丙基醚；丙三醇的三環氧丙基醚；三羥甲基丙烷的三環氧丙基醚；對於如乙二醇、丙二醇及丙三醇等脂肪族多元醇藉由加成環氧烷(例如環氧乙烷、環氧丙烷)所得之聚醚多元醇的聚環氧丙基醚(例如聚乙二醇的二環氧丙基醚)等。
於硬化性接著劑組成物中，環氧化合物可使用單獨1種，亦可併用2種以上。其中，該環氧化合物較佳係包含分子內具有至少1個鍵結於脂環式環的環氧基之脂環式環氧化合物。
硬化性接著劑組成物所使用的環氧化合物，通常具有30至3,000g/當量的範圍內的環氧當量，該環氧當量較佳為50至1,500g/當量的範圍。當使用環氧當量低於30g/當量的環氧化合物時，有硬化後的偏光板的可撓性降低、或接著強度降低的可能性。另一方面，具有超過3,000g/當量的環氧當量的化合物，其與包含於接著劑組成物中的其他成分的相溶性有降低的可能性。
從反應性的觀點來看，環氧化合物的硬化反應較佳係使用陽離子聚合。因此，包含環氧化合物的硬化性接著劑組成物中較佳係調配有陽離子聚合起始劑。陽離子聚合起始劑，係藉由如可見光線、紫外線、X射線及電子線等活性能量線的照射或加熱而產生陽離子物質或路易斯酸，並引發環氧基的聚合反應。從操作性的觀點來看，較佳係對於陽離子聚合起始劑賦予潛伏性。以下，將藉由
活性能量線的照射而產生陽離子物質或路易斯酸並引發環氧基的聚合反應之陽離子聚合起始劑稱為「光陽離子聚合起始劑」，將藉由熱而產生陽離子物質或路易斯酸並引發環氧基的聚合反應之陽離子聚合起始劑稱為「熱陽離子聚合起始劑」。
使用光陽離子聚合起始劑並藉由活性能量線的照射而進行接著劑組成物硬化的方法，係在常溫常濕下可能硬化，而較不需考慮偏光膜的耐熱性或因膨脹所致的變形，在可良好地接著保護膜與偏光膜的觀點上為有利。而且，光陽離子聚合起始劑，係因以光進行催化作用，故即使與環氧化合物混合，也可使保存安定性或操作性佳。
光陽離子聚合起始劑，係可舉例如：芳香族重氮鹽；如芳香族錪鹽，芳香族鋶鹽等鎓鹽，鐵-重烯(allene)錯合物等。光陽離子聚合起始劑的調配量，相對於環氧化合物100重量份而言，通常為0.5至20重量份，較佳為1重量份以上，而且較佳為15重量份以下。光陽離子聚合起始劑的調配量，相對於環氧化合物100重量份而言，若低於0.5重量份時，硬化變得不充分，硬化物的機械強度及接著強度有降低的傾向。另一方面，光陽離子聚合起始劑的調配量，若相對於環氧化合物100重量份而言，是超過20重量份時，因硬化物中的離子性物質增加，故使硬化物的吸濕性變高，耐久性能有降低的可能性。
當使用光陽離子聚合起始劑時，硬化性接著劑組成物可依據需要而更含有光增感劑。藉由使用光增
感劑，而可提高陽離子聚合的反應性，並提高硬化物的機械強度及接著強度。光增感劑係可舉例如羰基化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮化合物、重氮化合物、鹵化物、光還原性色素等。當有調配光增感劑時，其量相對於硬化性接著劑組成物100重量份而言較佳為0.1至20重量份的範圍內。而且，為了提高硬化速度，亦可使用如萘醌衍生物等增感助劑。
另一方面，熱陽離子聚合起始劑係可舉例如苯甲基鋶鹽、噻吩鎓鹽(thiophenium salt)、四氫噻吩鎓鹽(thiolanium salt)、苯甲基銨、吡啶鎓鹽、肼鎓鹽(hydrazinium salt)、羧酸酯、磺酸酯、胺醯亞胺等。
含有環氧化合物的硬化性接著劑組成物，較佳係如前述般藉由光陽離子聚合而硬化，但亦可使上述熱陽離子聚合起始劑存在並藉由熱陽離子聚合而硬化，也可併用光陽離子聚合及熱陽離子聚合。當併用光陽離子聚合及熱陽離子聚合時，硬化性接著劑組成物較佳係含有光陽離子聚合起始劑及熱陽離子聚合起始劑兩者。
而且，硬化性接著劑組成物亦可更含有氧雜環丁烷(oxetane)化合物或多元醇化合物等促進陽離子聚合的化合物。氧雜環丁烷化合物係分子內具有4員環醚的化合物。當有調配氧雜環丁烷化合物時，其量在硬化性接著劑組成物中通常為5至95重量%，較佳為5至50重量%。而且，多元醇化合物，可為包含乙二醇、己二醇、聚乙二醇等的烷二醇或其寡聚物、聚酯多元醇、聚己內酯多元醇、
聚碳酸酯多元醇等。當有調配多元醇化合物時，其量在硬化性接著劑組成物中通常為50重量%以下，較佳為30重量%以下。
再者，硬化性接著劑組成物中，只要是無損其接著性，即可含有其他添加劑，例如離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增感劑、黏著賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑等。離子捕捉劑係可舉例如包括粉末狀的鉍系、銻系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系、該等的混合系等之無機化合物，抗氧化劑係可舉例如受阻酚系抗氧化劑等。
將含有環氧化合物的硬化性接著劑組成物塗佈於偏光膜或保護膜的接著面或該等兩者的接著面後，以經塗佈接著劑的面貼合，藉由照射活性能量線或加熱，使未硬化的接著劑層硬化，而可將偏光膜與保護膜予以接著。接著劑的塗佈方法，係可採用例如刮刀(doctor blade)、線棒、模具塗佈機(die coater)、缺角輪塗佈機(comma coater)、凹版塗佈機等各種塗佈的方式。
該硬化性接著劑組成物，基本上可作為實質上不含溶劑的無溶劑型接著劑使用，但因各塗佈方式有各自最合適的黏度範圍，故為了調整黏度，亦可含有溶劑。溶劑較佳為不會降低偏光膜的光學性能且可良好地溶解以環氧化合物為代表的各成分之有機溶劑，可使用例如以甲苯為代表的烴類、以乙酸乙酯為代表的酯類等。
在藉由照射活性能量線而進行接著劑組成
物的硬化時，活性能量線係可使用前述的各種類者，其中因容易處理、容易控制照射光量等，故以使用紫外線為較佳。活性能量線(例如紫外線)的照射強度、照射量，係在不影響以偏光膜的偏光度為代表的各種光學性能及以保護膜的透明性、相位差特性為代表的各種光學性能的範圍內，以保持適度的生產性之方式來適當地決定。
在藉由熱進行接著劑組成物的硬化時，可用一般習知的方法加熱。通常，是在調配於硬化性接著劑組成物中的熱陽離子聚合起始劑會產生陽離子物質或路易斯酸的溫度以上之溫度進行加熱，具體而言，加熱溫度係例如為50至200℃左右。
[第1偏光板與第2偏光板的積層]
於第1偏光板與第2偏光板的積層，可使用與偏光膜與保護膜的貼合所使用的接著劑相同者。就另一形態而言，於第1偏光板與第2偏光板的積層係以使用黏著劑為較佳。
[黏著劑層13]
第1偏光板與第2偏光板的積層所使用的黏著劑層13，只要是光學透明性佳且包括適度的潤濕性、聚集性、接著性等之黏著性佳者即可，但較佳係耐久性等佳者。具體而言，形成黏著劑層13的黏著劑，較佳係含有丙烯酸系樹脂的黏著劑(丙烯酸系黏著劑)。
包含於丙烯酸系黏著劑中的丙烯酸系樹脂，係以丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸異辛酯及丙烯
酸2-乙基己酯等丙烯酸烷酯為主要單體的樹脂。對於該丙烯酸系樹脂，通常共聚合有極性單體，所謂極性單體係指具有聚合性不飽和鍵及極性官能基的化合物，此處，聚合性不飽和鍵一般係來自(甲基)丙烯醯基者，而且極性官能基可為羧基、羥基、醯胺基、銨基、環氧基等。若要列舉極性單體的具體例時，則有(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸2-N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯等。
而且，丙烯酸系黏著劑中，通常交聯劑係與丙烯酸系樹脂一起調配。交聯劑的代表例，係可舉例如分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)的異氰酸酯化合物。
於黏著劑中，可再調配各種添加劑。適合的添加劑係可舉例如矽烷偶合劑或抗靜電劑等。矽烷偶合劑係在提高與玻璃的接著力上為有效。抗靜電劑係在減少或防止靜電的產生上為有效。
黏著劑層13，係可藉由下述方法而形成：調製使以上的黏著劑成分溶解於有機溶劑所成的黏著劑組成物，將其直接塗佈於欲接著的2片偏光板的貼合面(偏光膜或保護膜)之任一者，並乾燥除去溶劑的方法；或者是在由施行過離型處理的樹脂膜所成的基材膜的離型處理面塗佈上述黏著劑組成物，乾燥除去溶劑以製成黏著劑層，將其貼附於2片偏光板的貼合面(偏光膜或保護膜)之任一者，並轉印黏著劑的方法。當藉由前者之直接塗佈法來形
成黏著劑層13時，一般之常見通例是於其表面貼合施行過離型處理的樹脂膜(亦稱為分離構件(separator))，直至使用時都暫黏保護黏著劑層表面。從屬於有機溶劑溶液之黏著劑組成物的處理性的觀點等來看，大多採用後者的轉印法，於該情況下，最初在形成黏著劑層時所使用的經離型處理的基材膜，係在貼附於偏光板後亦可直接作為分離構件，以此特點來說係較適合。
在將2片偏光板以接著劑、黏著劑積層前，若事先對於所貼合的偏光膜面及保護膜面或黏著劑面進行電暈處理、電漿處理等，也為有用。
[黏著劑層14]
形成於第1保護膜12B之黏著劑層14，只要是光學上透明性佳且包含適度的潤濕性、接著性等的黏著特性佳者即可，但又以耐久性等佳者為較適用。具體而言，形成黏著劑層的黏著劑，較佳係使用含有丙烯酸系樹脂的黏著劑(丙烯酸系黏著劑)。具體而言，可使用與前述黏著劑層13所述之黏著劑相同者。
黏著劑層14，亦可與黏著劑層13相同地含有各種添加劑。其中，黏著劑層14較佳係含有抗靜電劑。一般在將偏光板經由黏著劑層而貼合於液晶胞時，係將在貼合前都覆蓋著黏著劑層而給予暫黏保護之表面保護膜(分隔構件)予以剝離後才貼合於液晶胞，但由於剝離該表面保護膜時產生的靜電而產生液晶胞內的液晶配向不良，該現象造成液晶顯示裝置的顯示不良。關於減少或防止該
靜電的產生之手段，係以對黏著劑調配抗靜電劑為有效。
在貼合第1保護膜12B與黏著劑層14時，若事先對於貼合第1保護膜12B與黏著劑層14之面進行電暈處理、電漿處理等，也為有用。
[複合偏光板的製造方法]
製造本發明的複合偏光板的方法，係無特別限制，是製造例如由積層低透濕層12A與第1偏光膜11A而成的第1偏光板A、以及由積層第1保護膜12B與偏光膜11B而成的第2偏光板B。然後，於第1偏光板A層或第2偏光板B的偏光膜上，形成黏著劑層13。將如此製作的偏光板A及偏光板B經由黏著劑層13以滾輪對滾輪(roll-to-roll)進行貼合時，可製作複合偏光板10。另外，本發明之複合偏光板中，第1偏光膜11A與第2偏光膜11B係經由黏著劑層或接著劑層而直接貼合。進一步，將黏著劑層14形成在第1保護膜12B上，而得到附黏著劑之複合偏光板。附黏著劑之複合偏光板係可經由黏著劑層14而貼合至液晶胞。
而且，製造本發明之複合偏光板之方法，係例如製造由積層低透濕層12A、第1偏光膜11A以及第2保護膜15而成之第1偏光板A’，以及由積層第1保護膜12B與第2偏光膜11B而成之第2偏光板B’。然後，在第1偏光板A’之第2保護膜15上或第2偏光板B’之第2偏光膜11上形成黏著劑層13。如此製作之第1偏光板A’及第2偏光板B’係經由黏著劑層13以輥對輥(roll-to-roll)進
行貼合，而可製作複合偏光板10。再者，藉由將黏著劑層14形成於第1保護膜12B上，可得到附黏著劑的複合偏光板。附黏著劑的複合偏光板可經由黏著劑層14而貼合於液晶胞。
而且，將前述第1偏光板A(或A’)及第2偏光板B(或B’)藉由無溶劑型的接著劑以滾輪對滾輪(roll-to-roll)進行貼合而製作複合偏光板10的方法亦為適用。
如上述積層2片偏光板來製造複合偏光板時，第1偏光板的單體穿透率較佳為38.0至43.0%，更佳為40.0至42.5%。第2偏光板的單體穿透率較佳為40.0至45.0%，更佳為41.0至43.0%。而且，第1偏光板的偏光度及第2偏光板的偏光度皆較佳為99.90%以上，更佳為99.95%以上。
如此於本發明的複合偏光板中，較佳係第2偏光板的單體穿透率大於第1偏光板的單體穿透率。第1偏光板的單體穿透率與第2偏光板的單體穿透率的差較佳為0.1%以上，更佳為超過0.2%，亦可為0.4%以上。差的上限無特別限制，通常為5%以下，較佳為2%以下，更佳為1%以下。
而且，若將構成複合偏光板10的全部膜使用水系接著劑或無溶劑型接著劑以1次積層，則亦為生產效率佳且適合使用。
藉由上述製造方法所得之複合偏光板的偏光度較佳為99.95%以上，更佳為99.99%以上，又更佳為
99.995%以上。而且，本發明的複合偏光板，即使於95℃的烤箱投入1000小時的耐熱測試後，亦抑制偏光度的降低。例如，前述耐熱測試後的複合偏光板的偏光度，可為99.95%以上，亦可為99.99%以上。從另外的觀點來看，前述耐熱測試前後的偏光度降低程度之大小，於本發明的複合偏光板中，可為0.010%以下，較佳為0.005%以下，更佳為0.003%以下。
而且，本發明的複合偏光板，即使於65℃，95%RH的烤箱投入1000小時的耐濕熱測試後，亦抑制偏光度的降低。例如，前述耐濕熱測試後的複合偏光板的偏光度，可為99.95%以上，亦可為99.99%以上。從另外的觀點來看，前述耐濕熱測試前後的偏光度降低程度之大小，於本發明的複合偏光板中，可為0.010%以下，較佳為0.005%以下，更佳為0.003%以下。
[液晶胞]
液晶胞係具有2片胞基板(cell substrate)及夾於該等基板間的液晶層。液晶基板，一般大多是由玻璃所構成，但也可為塑膠基板。此外，本發明的液晶面板所使用的液晶胞本身係可由該領域採用的各種類者所構成。
[液晶面板]
經由黏著劑層14而將複合偏光板10貼合於液晶胞，藉此而可製作液晶面板。通常偏光板係貼合於液晶胞的兩面，但本發明的複合偏光板係適合使用於液晶顯示裝置的可見側及背面側或該兩者。
以下，顯示實施例，更具體地說明本發明，但本發明不限於該等例。例中，表示含量或使用量的「份」及「%」，除特別說明外為重量基準。再者，以下的例之各物性的測定係使用以下的方法進行。
(1)厚度的測定：
使用尼康(Nikon)股份有限公司製的數位測微器“MH-15M”進行測定。
(2)面內相位差值及厚度方向的相位差值的測定：
使用王子計測機器股份有限公司製的以平行尼柯爾旋轉法為原理的相位差計“KORBRA(註冊商標)-WPR”，於23℃的溫度中，測定在波長590nm的面內相位差值及厚度方向的相位差值。
(3)偏光膜的收縮力的測定：
以使偏光膜的吸收軸方向成為長軸之方式，使用荻野精機製作所股份有限公司製的超級切刀裁切為寬度2mm×長度50mm的片段。將所得的短條狀偏光膜作為收縮力測定樣品。將收縮力測定樣品設置於熱機械分析裝置[日立高科技科學股份有限公司製的“TMA/6100”]並使夾頭間距離為10mm，測試片放置於20℃的室內充分時間後，將樣品的室內溫度以1分鐘從20℃升溫至80℃，升溫後，設定樣品的室內溫度維持於80℃。升溫後放置4小時後，在80℃的環境下對測定樣品的長邊方向的收縮力進行測定。於
該測定中，靜態負重為0mN，使用SUS製探頭作為治具。
(4)偏光板的偏光度及單體穿透率的測定：
使用附積分球的分光光度計[日本分光股份有限公司製的「V7100」，2度視角；C光源]進行測定。
(5)透濕度的測定：
根據JIS Z 0208測定透濕度。溫濕度條件為40度90%RH。
[製造例1]偏光膜1的製作
將厚度20μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行單軸延伸成約4倍，進一步在保持緊張的狀態下，浸漬於40℃的純水40秒後，於28℃浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.052/5.7/100的水溶液30秒，進行染色處理。然後，於70℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水的重量比為11.0/6.2/100的水溶液120秒。其次，用8℃的純水洗淨15秒後，在保持300N的張力的狀態下，於60℃乾燥50秒，然後於75℃乾燥20秒，得到經碘吸附配向於聚乙烯醇膜而成的厚度7μm的吸收型偏光膜。測定所得之偏光膜的收縮力時為1.7N。
[製造例2]偏光膜2的製作
將厚度30μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行單軸延伸成約4倍，進一步在保持緊張的狀態下，浸漬於40℃的純水40秒後，於28℃浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.052/5.7/100的水溶液30秒，進行染色處理。然後，於70℃浸漬於
碘化鉀/硼酸/水的重量比為11.0/6.2/100的水溶液120秒。其次，用8℃的純水洗淨15秒後，在保持300N的張力的狀態下，於60℃乾燥50秒，然後於75℃乾燥20秒，得到經碘吸附配向於聚乙烯醇膜而成的厚度12μm的吸收型偏光膜。測定所得之偏光膜的收縮力時為2.0N。
[製造例3]偏光膜3的製作
將厚度20μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行單軸延伸成約4倍，進一步在保持緊張的狀態下，浸漬於40℃的純水40秒後，於28℃浸漬於碘/碘化鉀/水之重量比為0.052/5.7/100之水溶液30秒，進行染色處理。然後，於70℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100之水溶液120秒。其次，用8℃的純水洗淨15秒後，在保持300N的張力的狀態下，於60℃乾燥50秒，然後於75℃乾燥25秒，得到經碘吸附配向於聚乙烯醇膜而成的厚度7μm之吸收型偏光膜。測定所得之偏光膜的收縮力時為1.6N。
[製造例4]偏光膜4的製作
將厚度30μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行單軸延伸成約4倍，進一步在保持緊張的狀態下，浸漬於40℃的純水40秒後，於28℃浸漬於碘/碘化鉀/水之重量比為0.052/5.7/100之水溶液30秒，進行染色處理。然後，於70℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100之水溶液120秒。其次，用8℃的純水洗淨15秒後，在保持300N的張力的狀
態下，於60℃乾燥50秒，然後於75℃乾燥25秒，得到經碘吸附配向於聚乙烯醇膜而成的厚度12μm之吸收型偏光膜。測定所得之偏光膜的收縮力時為1.8N。
[製造例5]偏光膜5的製作
將平均聚合度1100且皂化度99.5莫耳%的經乙醯乙醯基改性之聚乙烯醇粉末[日本合成化學工業股份有限公司製的商品名「Gohsefimer(註冊商標)Z-200」]溶解於95℃的熱水，調製3%濃度的水溶液。於該水溶液中，以相對於聚乙烯醇的固體成分每6份而言為5份的比例，混合作為交聯劑的水溶性聚醯胺環氧樹脂[田岡化學工業股份有限公司製的商品名「SUMIREZ RESIN(註冊商標)650」，固體成分濃度30%的水溶液]，製成底塗層用塗佈液。然後，對於基材膜(厚度110μm，熔點163℃的聚丙烯膜)施行電暈處理後，於其電暈處理面，使用微凹版塗佈機塗佈底塗層用塗佈液。然後，於80℃乾燥10分鐘，形成厚度0.2μm的底塗層。
然後，將平均聚合度2400且皂化度98.0至99.0莫耳%的聚乙烯醇粉末[從Kuraray股份有限公司取得之商品名「PVA124」]溶解於95℃的熱水，調製8%濃度的聚乙烯醇水溶液。將所得之水溶液，使用唇式塗佈機塗佈於上述基材膜的底塗層上，於80℃乾燥20分鐘，製作由基材膜/底塗層/聚乙烯醇層所構成的積層膜。
然後，將所得之積層膜，於溫度160℃下進行自由端縱向單軸延伸成5.8倍。如此所得之積層延伸膜
的整體厚度為28.5μm，聚乙烯醇層的厚度為5.0μm。
將所得之積層延伸膜，於26℃浸漬於水/碘/碘化鉀的重量比為100/0.35/10的水溶液90秒，進行染色後，用10℃的純水洗淨。然後，將該積層延伸膜，於76℃浸漬於水/硼酸/碘化鉀的重量比為100/9.5/5的水溶液300秒，使聚乙烯醇交聯。然後，用10℃的純水洗淨10秒，最後於80℃進行200秒的乾燥處理。藉由以上的操作，製作於聚丙烯基材膜上形成有偏光膜5之偏光性積層膜，該偏光膜5為經碘吸附配向於聚乙烯醇層所成的厚度5μm的偏光膜。將所得之偏光膜從基材剝離，測定收縮力時為1.45N。
[製造例6]偏光膜6的製作
將厚度60μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行單軸延伸成約4倍，在保持緊張的狀態下，浸漬於40℃的純水40秒後，於28℃浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.052/5.7/100的水溶液30秒，進行染色處理。然後，於70℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水的重量比為11.0/6.2/100的水溶液120秒。其次，用8℃的純水洗淨15秒後，在保持300N的張力的狀態下，於60℃乾燥50秒，然後於75℃乾燥20秒，得到經碘吸附配向於聚乙烯醇膜而成的厚度23μm的吸收型偏光件。測定所得之偏光膜的收縮力時為3.1N。
[製造例7]水系接著劑的製作
相對於水100重量份，溶解3重量份的經羧基改性之
聚乙烯醇[從Kuraray股份有限公司取得之商品名「KL-318」]，於該水溶液中，添加1.5重量份的屬於水溶性環氧樹脂的聚醯胺環氧系添加劑〔田岡化學工業股份有限公司製的商品名「SUMIREZ RESIN(註冊商標)650(30)」，固體成分濃度30%的水溶液〕，調製水系接著劑。
[製造例8]包含硬化性環氧系樹脂組成物的接著劑的製作
將作為脂環式環氧系樹脂之相當於上述式D的二羧酸的環氧基環己基甲酯類之己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲基)酯100份、作為氫化環氧系樹脂之氫化雙酚A的二環氧丙基醚25份、以及作為光陽離子聚合起始劑之4,4’-雙(二苯基二氫硫基)二苯基硫化物雙(六氟磷酸酯)2.2份予以混合後，進行脫泡，得到包含硬化性環氧系樹脂組成物的接著劑A。再者，光陽離子聚合起始劑係調配為50質量%碳酸丙烯酯(propylene carbonate)溶液。
[黏著劑A、B]
準備以下2種的黏著劑。
黏著劑A：厚度25μm的薄片狀黏著劑〔Lintec股份有限公司製「P-3132」〕
黏著劑B：厚度15μm的薄片狀黏著劑〔Lintec股份有限公司製「P-0082」〕
[保護膜A、B、C、D]
準備以下4種的保護膜。
保護膜A：柯尼卡美能達股份有限公司製的附硬塗層
的三乙醯基纖維素膜；25KCHCN-TC(厚度32μm，透濕度=430g/m2‧24hr)
保護膜B：日本ZEON股份有限公司製的環狀聚烯烴系樹脂膜；ZF14-013(厚度13μm，在波長590nm的面內相位差值=0.8nm，在波長590nm的厚度方向相位差=3.4nm，透濕度=30g/m2‧24hr)
保護膜C：柯尼卡美能達股份有限公司製的三乙醯基纖維素膜；KC2CT(厚度20μm，在波長590nm的面內相位差值=1.2nm，在波長590nm的厚度方向相位差=1.3nm，透濕度=1660g/m2‧24hr)
保護膜D：柯尼卡美能達股份有限公司製的三乙醯基纖維素膜；KC2UAW(厚度25μm，透濕度=1207g/m2‧24hr)
[製造例9]
(偏光板A-1的製作)
對保護膜B的一面進行電暈處理。以使保護膜B的電暈處理面成為與偏光膜1的貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜1使用水系接著劑進行接著，得到偏光板A-1。偏光板A-1的單體穿透率為42.0%。
[製造例10]
(偏光板B-1的製作)
對保護膜B的一面進行電暈處理。以使保護膜B的電暈處理面成為與偏光膜3的貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜3使用水系接著劑進行接著，得到偏光板B-1。偏光板B-1的單體穿透率為42.3%。
[製造例11]
(偏光板C-1的製作)
對保護膜C進行皂化處理。以使保護膜C的的三乙醯基纖維素面成為與偏光膜1的貼合面之方式，將保護膜C與偏光膜1使用水系接著劑進行接著，得到偏光板C-1。
偏光板C-1的單體穿透率為42.5%。
[製造例12]
(偏光板D-1的製作)
對保護膜B進行電暈處理。以使保護膜B的電暈處理面成為與偏光膜2的貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜2使用水系接著劑進行接著，得到偏光板D-1。偏光板D-1的單體穿透率為42.0%。
[製造例13]
(偏光板E-1的製作)
對保護膜B的一面進行電暈處理。以使保護膜B的電暈處理面成為與偏光膜4的貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜4使用水系接著劑進行接著，得到偏光板E-1。偏光板E-1的單體穿透率為42.3%。
[製造例14]
(偏光板F-1的製作)
對保護膜C進行皂化處理。以使保護膜C的三乙醯基纖維素面成為與偏光膜2的貼合面的方式，將保護膜C與偏光膜2使用水系接著劑進行接著，得到偏光板F-1。偏光板F-1的單體穿透率為42.5%。
[製造例15]
(偏光板G-1的製作)
對保護膜D進行皂化處理，並對保護膜B之一面施以電暈處理。以使保護膜D之三乙醯基纖維素面及保護膜B之經電暈處理之面成為與偏光膜2之貼合面的方式，將保護膜D與偏光膜2與保護膜B使用水系接著劑進行接著，得到偏光板G-1。偏光板G-1之單體穿透率為42.3%。
[製造例7至16]
(偏光板H-1的製作)
對保護膜B之與偏光膜5之貼合面進行電暈處理。在製造例5所製作之形成有偏光膜5之偏光性積層膜的與基材膜為相反側的面(偏光膜面)，以使保護膜B之經電暈處理之面成為貼合面之方式，將保護膜B使用水系接著劑進行貼合，藉由僅剝離基材膜，而得到偏光板H-1。偏光板H-1之單體穿透率為40.8%。
[製造例17至24]
除了將製造例9至16所使用的水系接著劑變更為上述包含硬化性環氧系樹脂組成物的接著劑以外，同樣地製作偏光板I-1至偏光板P-1。貼合時，使用附有皮帶輸送機的紫外線照射裝置(燈：Fusion D lamp，累積光量1500mJ/cm2)進行紫外線的照射，於室溫下放置1小時。
所製造的偏光板的單體穿透率係分別如下述。
再者，()內表示相同構成的用水系接著劑所製作的偏光板。
製造例17偏光板I-1(偏光板A-1)：單體穿透率為42.0%
製造例18偏光板J-1(偏光板B-1)：單體穿透率為42.3%
製造例19偏光板K-1(偏光板C-1)：單體穿透率為42.5%
製造例20偏光板L-1(偏光板D-1)：單體穿透率為42.0%
製造例21偏光板M-1(偏光板E-1)：單體穿透率為42.3%
製造例22偏光板N-1(偏光板F-1)：單體穿透率為42.5%
製造例23偏光板O-1(偏光板G-1)：單體穿透率為42.3%
製造例24偏光板P-1(偏光板H-1)：單體穿透率為40.8%
[製造例25]
(偏光板Q-1的製作)
除了將偏光板A-1中之偏光膜1變更為偏光膜6以外，同樣地製作偏光板Q-1。偏光板Q-1的單體穿透率為42.0%。
[製造例26]
(偏光板R-1的製作)
除了將偏光板B-1中之偏光膜3變更為偏光膜6以
外，同樣地製作偏光板R-1。然後，進行加熱處理，調整偏光板R-1之穿透率。偏光板R的單體穿透率為42.3%。
[製造例27]
(偏光板A-2的製作)
對保護膜C進行皂化處理，對保護膜B之與偏光膜1之貼合面施行電暈處理。以使保護膜C之三乙醯基纖維素面及保護膜B之經電暈處理之面成為與偏光膜1之貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜1與保護膜C使用水系接著劑進行接著，得到偏光板A-2。偏光板A-2之單體穿透率為42.0%。
[製造例28]
(偏光板B-2的製作)
對保護膜B施行電暈處理。以使保護膜B之經電暈處理之面成為與偏光膜1之貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜1使用水系接著劑進行接著，得到偏光板B-2。偏光板B-2之單體穿透率為42.3%。
[製造例29]
(偏光板C-2的製作)
對保護膜C進行皂化處理。以使保護膜C之三乙醯基纖維素面為與偏光膜1之貼合面之方式，將保護膜C與偏光膜1使用水系接著劑進行接著，得到偏光板C-2。偏光板C-2之單體穿透率為42.5%。
[製造例30]
(偏光板D-2的製作)
對保護膜C進行皂化處理，對保護膜B施行電暈處理。以使保護膜C之三乙醯基纖維素面及保護膜B之經電暈處理之面成為與偏光膜2之貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜2與保護膜C使用水系接著劑進行接著，得到偏光板D-2。偏光板D-2之單體穿透率為42.0%。
[製造例31]
(偏光板E-2的製作)
對保護膜B施行電暈處理。以使保護膜B之經電暈處理之面成為與偏光膜2之貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜2使用水系接著劑進行接著，得到偏光板E-2。偏光板E-2之單體穿透率為42.3%。
[製造例32]
(偏光板F-2的製作)
對保護膜C進行皂化處理。以使保護膜C之三乙醯基纖維素面成為與偏光膜2之貼合面之方式，將保護膜C與偏光膜2使用水系接著劑進行接著，得到偏光板F-2。偏光板F-2之單體穿透率為42.5%。
[製造例33]
(偏光板G-2的製作)
對保護膜D進行皂化處理，對保護膜B施行電暈處理。以使保護膜D之三乙醯基纖維素面及保護膜B之經電暈處理之面成為與偏光膜2之貼合面之方式，將保護膜D與偏光膜2與保護膜B使用水系接著劑進行接著，得到偏光板G-2。偏光板G-2之單體穿透率為42.3%。
[製造例34]
(偏光板H-2的製作)
對保護膜B之與偏光膜5之貼合面進行電暈處理，對保護膜C進行皂化處理。從製造例5所製作之偏光性積層膜中僅剝離基材膜，得到偏光膜5。以使保護膜B之經電暈處理之面成為貼合面之方式，將保護膜B與偏光膜5與保護膜C使用水系接著劑進行接著，得到偏光板H-2。偏光板H-2之單體穿透率為40.8%。
[製造例35至42]
除了將製造例27至34所使用的水系接著劑變更為上述包含硬化性環氧系樹脂組成物的接著劑以外，同樣地製作偏光板I-2至偏光板P-2。貼合時，使用附有皮帶輸送機的紫外線照射裝置(燈：Fusion D lamp，累積光量1500mJ/cm2)進行紫外線的照射，於室溫下放置1小時。
所製造的偏光板的單體穿透率係分別如下述。
再者，()內表示相同構成的用水系接著劑所製作的偏光板。
製造例35偏光板I-2(偏光板A-2)：單體穿透率為42.0%
製造例36偏光板J-2(偏光板B-2)：單體穿透率為42.3%
製造例37偏光板K-2(偏光板C-2)：單體穿透率為42.5%
製造例38偏光板L-2(偏光板D-2)：單體穿透率為
42.0%
製造例39偏光板M-2(偏光板E-2)：單體穿透率為42.3%
製造例40偏光板N-2(偏光板F-2)：單體穿透率為42.5%
製造例41偏光板O-2(偏光板G-2)：單體穿透率為42.3%
製造例42偏光板P-2(偏光板H-2)：單體穿透率為40.8%
[製造例43]
(偏光板Q-2的製作)
除了將偏光板A-2中之偏光膜1變更成偏光膜6以外，同樣地製作偏光板Q-2。偏光板Q-2之單體穿透率為42.0%。
[製造例44]
(偏光板R-2的製作)
除了將偏光板B-2中之偏光膜1變更成偏光膜6以外，調整乾燥時間，製作偏光板R-2。偏光板R-2之單體穿透率為42.3%。
[實施例1]
將偏光板A-1中之偏光膜1與偏光板B-1中之偏光膜3，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B貼合。此時，事先對於貼合的偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板的保護膜B側，貼
合黏著劑A。貼合黏著劑A時，也事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例2]
將偏光板A-1中之偏光膜1與偏光板C-1中之偏光膜1，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板的保護膜C側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，也事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合
於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例3]
將偏光板D-1中之偏光膜2與偏光板E-1中之偏光膜4，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板之偏光板E-1的保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，也事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.997%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例4]
將偏光板D-1中之偏光膜2與偏光板F-1中之偏光膜2，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板的保護膜C
側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，也事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.997%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例5]
將偏光板A-1中之偏光膜1與偏光板E-1中之偏光膜4，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板的偏光版E-1之保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，也事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合
於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例6]
將偏光板D-1中之偏光膜2與偏光板B-1中之偏光膜3，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板的偏光版B-1之保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，也事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例7]
將偏光板H-1中之偏光膜5與偏光板B-1中之偏光膜3，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。於如此所得之複合偏光板的偏光板B-1
之保護膜B側，貼合黏著劑A。貼合黏著劑A時，也事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為37.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.990%。
[實施例8]
除了將實施例1的偏光板A-1變更為偏光板I-1，並將偏光板B-1變更為偏光板J-1以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例9]
除了將實施例2的偏光板A-1變更為偏光板I-1，並將偏光板C-1變更為偏光板K-1以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例10]
除了將實施例3的偏光板D-1變更為偏光板L-1，並將偏光板E-1變更為偏光板M-1以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.997%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例11]
除了將實施例4的偏光板D-1變更為偏光板L-1，並將偏光板F-1變更為偏光板N-1以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.997%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例12]
除了將實施例5的偏光板A-1變更為偏光板I-1，並將偏光板E-1變更為偏光板M-1以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測
試後的偏光度為99.997%。
[實施例13]
除了將實施例6的偏光板D-1變更為偏光板L-1，並將偏光板B-1變更為偏光板J-1以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例14]
除了將實施例7的偏光板H-1變更為偏光板P-1，並將偏光板B-1變更為偏光板J-1以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板的偏光度為99.998%，單體穿透率為37.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合
於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例15]
將偏光板A-2中之保護膜C與偏光板B-2中之偏光膜1，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的保護膜表面、偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。在如此所得之複合偏光板之偏光板B-2之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱試驗後之偏光度為99.997%。
[實施例16]
將偏光板A-2中之保護膜C與偏光板C-2中之偏光膜1，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的保護膜表面、偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。在如此所得之複合偏光板
之成為最外層之保護膜C側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱試驗後之偏光度為99.997%。
[實施例17]
將偏光板D-2中之保護膜C與偏光板E-2中之偏光膜2，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的保護膜表面、偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。在如此所得之複合偏光板之偏光板E-2之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.997%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合
於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例18]
將偏光板D-2中之保護膜C與偏光板F-2中之偏光膜2，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的保護膜表面、偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。在如此所得之複合偏光板之成為最外層之保護膜C側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.997%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例19]
將偏光板A-2中之保護膜C與偏光板E-2中之偏光膜2，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的保護膜表面、偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。在如此所得之複合偏光板
之偏光板E-2之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時，耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例20]
將偏光板D-2中之保護膜C與偏光板B-2中之偏光膜1，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合的保護膜表面、偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。在如此所得之複合偏光板之偏光板B-2之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合
於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例21]
將偏光板H-2中之保護膜C與偏光板B-2中之偏光膜1，以使偏光板的吸收軸互相平行之方式，使用黏著劑B進行貼合。此時，事先對於貼合之保護膜表面、偏光膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。在如此所得之複合偏光板之偏光板B-2之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率37.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例22]
除了將實施例15之偏光板A-2變更成偏光板I-2，並將偏光板B-2變更成偏光板J-2以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例23]
除了將實施例16之偏光板A-2變更成偏光板I-2，並將偏光板C-2變更成偏光板K-2以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例24]
除了將實施例17之偏光板D-2變更成偏光板L-2，並將偏光板E-2變更成偏光板M-2以外，同樣地製作複合偏
光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.997%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例25]
除了將實施例18之偏光板D-2變更成偏光板L-2，並將偏光板F-2變更成偏光板N-2以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.997%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例26]
除了將實施例19之偏光板A-2變更成偏光板I-2，並將偏光板E-2變更成偏光板M-2以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時，耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[實施例27]
除了將實施例20之偏光板D-2變更成偏光板L-2，並將偏光板B-2變更成偏光板J-2以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測
試後的偏光度為99.997%。
[實施例28]
除了將實施例21之偏光板H-2變更成偏光板P-2，並將偏光板B-2變更成偏光板J-2以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率37.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[比較例1]
在偏光板G-1之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。偏光板G-1之偏光度為99.993%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.94%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此
製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱500小時。耐濕熱測試後的偏光度為63.2%。
[比較例2]
在偏光板O-1之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。偏光板O-1之偏光度為99.993%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.94%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱500小時。耐濕熱測試後的偏光度為63.2%。
[比較例3]
除了將實施例1之偏光板A-1變更成偏光板Q-1，並將偏光板B-1變更成偏光板R-1以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%，但在從偏光板端部開始算起1mm以內的區域產生剝離。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
[比較例4]
在偏光板G-2之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。偏光板G-2之偏光度為99.993%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.94%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱500小時。耐濕熱測試後的偏光度為63.2%。
[比較例5]
在偏光板O-2之保護膜B側，貼合黏著劑A。在貼合黏著劑A時，亦事先對於保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。偏光板O-2之偏光度為99.993%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.94%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱500小時。耐濕熱測試後的偏光度為63.2%。
[比較例6]
除了將實施例15之偏光板A-2變更成偏光板Q-2，並將偏光板B-2變更成偏光板R-2以外，同樣地製作複合偏光板。複合偏光板之偏光度為99.998%，單體穿透率38.8%。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入95℃的烤箱1000小時。耐熱測試後的偏光度為99.996%，但在從偏光板端部開始算起1mm以內的區域產生剝離。
將製作的複合偏光板切成40mm見方，貼合於康寧公司的Eagle XG，製作耐濕熱評價用樣品。將如此製作的樣品投入65℃/95%RH的烤箱1000小時。耐濕熱測試後的偏光度為99.997%。
各實施例所製作的複合偏光板的層構成，表示於表1至4。而且，實施例及比較例的結果表示於表5。
根據本發明，可得到耐熱及耐濕熱耐久性
佳的複合偏光板及液晶面板。
10:複合偏光板
11A:第1偏光膜
11B:第2偏光膜
12A:低透濕層
12B:第1保護膜
13、14:黏著劑層
20:表面處理層
Claims (13)
- 一種複合偏光板，其係依序積層透濕度200g/m2‧24hr以下的低透濕層、厚度15μm以下的第1偏光膜、及厚度15μm以下的第2偏光膜而成，其中，前述第1偏光膜的吸收軸與前述第2偏光膜的吸收軸所成的角度係在0±5°的範圍內之約略平行；將複合偏光板積層於液晶胞時，係以前述第1偏光膜位於較前述第2偏光膜更遠離液晶胞之側的方式進行積層。
- 如申請專利範圍第1項所述之複合偏光板，其中，前述低透濕層係包含透明樹脂膜。
- 如申請專利範圍第2項所述之複合偏光板，其中，前述透明樹脂膜係含有選自由烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂及聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂所成群組中的至少一種。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之複合偏光板，其中，前述第1偏光膜的厚度與前述第2偏光膜的厚度之差為5μm以下。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之複合偏光板，其中，於前述第2偏光膜的與積層有前述第1偏光膜的面為相反側的面，積層有第1保護膜。
- 如申請專利範圍第5項所述之複合偏光板，其中，具有前述第1偏光膜及前述低透濕層之第1偏光板的單體穿透率係小於具有前述第2偏光膜及前述第1保護膜 之第2偏光板的單體穿透率。
- 如申請專利範圍第5項所述之複合偏光板，其中，前述第1保護膜係包含選自由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂所成群組中的至少一種。
- 如申請專利範圍第5項所述之複合偏光板，其中，前述第1保護膜之厚度方向之相位差值為-10至10mm。
- 如申請專利範圍第5項所述之複合偏光板，其中，於前述第1保護膜的與積層有前述第2偏光膜的面為相反側的面，積層有黏著劑。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之複合偏光板，其中，前述第1偏光膜與前述第2偏光膜之間具有第2保護膜。
- 如申請專利範圍第10項所述之複合偏光板，其中，前述第2保護膜係含有選自由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂及丙烯酸系樹脂中的至少一種。
- 如申請專利範圍第10項所述之複合偏光板，其中，前述第2保護膜係在波長590nm的面內的相位差值Re(590)為10nm以下，且在波長590nm的厚度方向的相位差值Rth(590)的絕對值為10nm以下。
- 一種液晶面板，其係於液晶胞的至少一側的面，配置如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述之複合偏光板。
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