TW201811441A - 噴嘴清掃構件、噴嘴清掃裝置、塗布裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種噴嘴清掃構件、噴嘴清掃裝置及塗布裝置，一方面可以利用噴嘴清掃構件來執行適合於從噴嘴穩定地噴出塗布液的清掃，一方面可以抑制伴隨著噴嘴清掃構件的更換而產生的運營成本。本發明的噴嘴清掃構件通過相對於從設置於前端的噴出口噴出塗布液的噴嘴相對地移動，而刮除附著於噴嘴上的塗布液，所述噴嘴清掃構件包括：樹脂制的對向部，在噴嘴的兩側面相對向；以及橡膠制的抵接部，設置於噴嘴的兩側面的各自的前端之間，抵接於噴出口形成開口的噴嘴的前端面。

Description

噴嘴清掃構件、噴嘴清掃裝置、塗布裝置

本發明是有關於一種對液晶顯示裝置用玻璃基板、半導體晶圓(wafer)、電漿顯示面板（plasma display panel，PDP）用玻璃基板、光罩用玻璃基板、聚醯亞胺前體薄膜的支撐用的玻璃基板、彩色濾光片用基板、記錄磁片用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等精密電子裝置用基板（以下簡稱為“基板”）從噴嘴的噴出口噴出塗布液而進行塗布的塗布裝置、去除附著於所述噴嘴的噴出口的塗布液的噴嘴清掃構件、以及利用噴嘴清掃構件清掃噴嘴的噴嘴清掃裝置。

先前，已知有利用從設置於前端的噴出口噴出塗布液的狹縫噴嘴，將塗布液塗布於基板上的塗布裝置。並且，在專利文獻1的塗布裝置中，設置有去除附著於狹縫噴嘴上的塗布液的擦拭單元。所述擦拭單元是使用具有與狹縫噴嘴的前端部的形狀相對應的V字狀的槽的清掃構件來清掃狹縫噴嘴。更具體而言，一邊使狹縫噴嘴的前端部抵接於清掃構件的V字槽，一邊使清掃構件沿狹縫噴嘴移動。通過這樣使清掃構件滑動至狹縫噴嘴，可以刮除附著於狹縫噴嘴上的塗布液。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 日本專利特開2012-200614號公報

[發明所要解決的問題] 如上所述從狹縫噴嘴去除塗布液是為了從狹縫噴嘴的噴出口穩定地噴出塗布液而執行。特別是當塗布液多餘地附著於噴出口開口的狹縫噴嘴的前端面時，容易對從噴出口的塗布液的噴出產生影響。因此，為了穩定地噴出塗布液，重要的是使清掃構件牢固地裝配於狹縫噴嘴的前端面。但是，當使清掃構件牢固地裝配於噴嘴時清掃構件的磨損會加劇，從而有可能產生頻繁地更換清掃構件的需要。即，當為了穩定地噴出塗布液而想要確實地去除塗布液時，會產生頻繁地出現清掃構件的更換而使運營成本增大之類的問題。

本發明是鑒於所述問題而完成的，目的在於一方面能夠利用噴嘴清掃構件執行適合於從噴嘴穩定地噴出塗布液的清掃，一方面能夠抑制伴隨著噴嘴清掃構件的更換而產生的運營成本。 [解決問題的技術手段]

本發明的噴嘴清掃構件是通過相對於噴嘴相對地移動而刮除附著於噴嘴上的塗布液，所述噴嘴從設置於前端的噴出口噴出塗布液，噴嘴清掃構件包括：樹脂制的對向部，在噴嘴的兩側面相對向；以及橡膠制的抵接部，設置於噴嘴的兩側面的各自的前端之間，抵接於噴出口形成開口的噴嘴的前端面。

本發明的噴嘴清掃裝置去除附著於噴嘴上的塗布液，所述噴嘴從設置於前端的噴出口噴出塗布液，所述噴嘴清掃裝置包括：所述噴嘴清掃構件；支撐部，對噴嘴清掃構件進行支撐；以及驅動部，通過對支撐部進行驅動，而使噴嘴清掃構件相對於噴嘴移動。

本發明的塗布裝置包括：噴嘴，從設置於前端的噴出口噴出塗布液；以及所述噴嘴清掃裝置。

如上所述構成的本發明（噴嘴清掃構件、噴嘴清掃裝置、塗布裝置）的清掃對象即噴嘴包括：兩側面；以及前端面，設置於所述兩側面各自的前端之間，並且噴出口開口。與此相對，噴嘴清掃構件包括在噴嘴的兩側面相對向的對向部、以及抵接於噴嘴的前端面的抵接部。因此，通過使噴嘴清掃構件相對於噴嘴滑動，可以利用噴嘴清掃構件的對向部刮除附著於噴嘴的兩側面的塗布液，並且利用噴嘴清掃構件的抵接部刮除附著於噴嘴的前端面的塗布液。

並且，噴嘴清掃構件的對向部為樹脂制，所以幾乎不會產生伴隨著噴嘴的清掃的磨損。再者，這種樹脂制的對向部不產生彈性變形，所以不會緊密地裝配於噴嘴的兩側面。但是，噴嘴的兩側面的塗布液附著量本來就少，而且只要能夠去除至其不會滴落到噴嘴的前端面的程度即可。因此，關於附著於噴嘴的兩側面的塗布液，只要預先利用樹脂性的對向部加以去除，便可以抑制對從噴嘴噴出塗布液所造成的影響。與此相對，噴嘴清掃構件的抵接部為橡膠制。因此，能夠緊密地裝配於噴嘴的前端面，確實地去除附著於噴嘴的前端面的塗布液，實現從噴嘴穩定地噴出塗布液。再者，這種橡膠制的抵接部可能伴隨著噴嘴的清掃而磨損。但是，在抵接部所抵接的噴嘴的前端面上，存在塗布液大量附著的傾向，所述塗布液作為潤滑劑而發揮作用，所以抵接部的磨損緩慢地進展。並且，當抵接部磨損至不堪使用的程度時，只要僅更換所述抵接部即可，不需要更換噴嘴清掃構件自身。這樣一來，一方面可以利用噴嘴清掃構件來執行適合於從噴嘴穩定地噴出塗布液的清掃，一方面可以抑制伴隨著噴嘴清掃構件的更換而產生的運營成本。

並且，也可以如下方式構成噴嘴清掃構件：更包括具有將對向部形成於側邊部的槽的樹脂制的本體，抵接部安裝於槽的底部。在所述構成中，當抵接部產生了磨損時，只要相對於本體更換抵接部即可，本體自身可以繼續使用。因此，能夠有效地抑制運營成本。

這時，也可以如下方式構成噴嘴清掃構件：抵接部相對於槽的底部可拆裝。由此，可以簡單地執行抵接部相對於本體的更換操作。

並且，也可以如下方式構成噴嘴清掃構件：本體對塗布液具有斥液性。由此，為了能夠抑制附著於本體上的塗布液的量，可以抑制噴嘴清掃構件的清掃頻率。

具體而言，也可以如下方式構成噴嘴清掃構件：本體由聚四氟乙烯或相對於塗布液的接觸角大於聚四氟乙烯的樹脂所形成。由此，能夠以相對於塗布液具有斥液性的方式形成噴嘴清掃構件的本體。

並且，也可以如下方式構成噴嘴清掃構件：在刮除附著於噴嘴上的塗布液時，抵接部與限制構件接觸，所述噴嘴具有通過對噴出口局部地堵塞而對噴出口之中噴出塗布液的範圍進行限制的限制構件。由此，可以確實地去除附著於限制構件上的塗布液。

並且，也可以如下方式構成噴嘴清掃構件：刮除附著於噴嘴上的塗布液，所述噴嘴噴出包含聚醯亞胺前體及溶劑的塗布液。這種包含聚醯亞胺前體的塗布液與例如光阻劑用的塗布液等相比具有更高的粘度，所以特別需要從噴嘴的前端面確實地去除。與此相對，根據本發明，利用裝配於噴嘴的前端面的橡膠制的抵接部，可以從噴嘴的前端面確實地去除塗布液。另一方面，由於塗布液具有高粘度，所以難以產生塗布液從噴嘴的兩側面滴落至前端面的情況。因此，從噴嘴的兩側面去除塗布液只要通過樹脂制的對向部來執行便足夠。 [發明的效果]

如上所述，根據本發明，可以利用噴嘴清掃構件來執行適合於從噴嘴穩定地噴出塗布液的清掃，並且可以抑制伴隨著噴嘴清掃構件的更換而產生的運營成本。

圖1是示意性地表示本發明的塗布裝置的立體圖。並且，圖2是示意性地表示圖1所示的塗布裝置的側視圖。此外，圖3是概略性地表示圖1所示的塗布裝置的各部的配置的俯視圖。再者，在圖1、圖2、圖3及以後的各圖中，為了闡明它們的方向關係，適當標注將Z方向設為垂直方向，將XY平面設為水平面的XYZ正交坐標系，並且根據需要誇張或簡化地描繪各部的尺寸或數量。並且，在圖2及圖3中，省略了噴嘴支撐體等的一部分的構成。

塗布裝置1是使用狹縫噴嘴2在基板3的表面31上塗布塗布液的被稱為狹縫塗布機的塗布裝置。塗布液分別包含聚醯亞胺前體即聚醯胺酸（polyamide acid；polyamic acid）作為溶質，包含N-甲基-2-吡咯烷酮（N-Methyl-2-Pyrrolidone，NMP）作為溶劑。並且，基板3是俯視時具有矩形形狀的玻璃基板。再者，在本說明書中，所謂“基板3的表面31”是指基板3的兩主面之中塗布塗布液之側的主面。

塗布裝置1包括能夠以水平姿勢吸附保持基板3的平臺4、利用狹縫噴嘴2對保持於平臺4上的基板3實施塗布處理的塗布處理部5、對狹縫噴嘴2實施清潔（cleaning）處理的噴嘴清掃裝置6、以及對所述各部進行控制的控制部100。

平臺4由具有大致長方體的形狀的花崗岩等石材所構成，在其上表面（+Z側）之中的-Y側，具有加工成大致水平的平坦面而保持基板3的保持面41。在保持面41上分散地形成有未圖示的多個真空吸附口。通過利用這些真空吸附口吸附基板3，而在塗布處理時將基板3水平地保持於規定的位置。再者，基板3的保持形態並不限定於此，例如也可以構成為機械地保持基板3。並且，在平臺4上比保持面41所佔有的區域更靠+Y側的位置上設置有噴嘴調整區域RA，在所述噴嘴調整區域RA內配置有後文詳述的噴嘴清掃單元6。

塗布處理部5包括對狹縫噴嘴2進行支撐的噴嘴支撐體51。所述噴嘴支撐體51包括在平臺4的上方沿X方向平行地延伸設置的支撐構件51a、以及對支撐構件51a從X方向上的兩側進行支撐而使支撐構件51a升降的兩個升降機構51b。支撐構件51a是由碳纖維強化樹脂等構成，具有矩形的截面的棒構件。所述支撐構件51a的下表面成為狹縫噴嘴2的安裝部位510，支撐構件51a將狹縫噴嘴2可拆裝地支撐於安裝部位510。再者，作為用於將狹縫噴嘴2相對於支撐構件51a的安裝部位510而拆裝的機構，可以適當使用閂鎖（latch）或螺釘等各種緊固機構。

兩個升降機構51b連結於支撐構件51a的長度方向上的兩端部，分別具有交流電（alternating current，AC）伺服馬達及滾珠螺杆等。利用這些升降機構51b，使支撐構件51a及固定於其上的狹縫噴嘴2沿垂直方向（Z方向）升降，對在狹縫噴嘴2的下端開口的噴出口21與基板3的間隔，即，對噴出口21相對於基板3的相對高度進行調整。再者，支撐構件51a的垂直方向上的位置雖然例如省略了圖示，但是可以通過線性編碼器（linear encoder）來檢測，所述線性編碼器包括設置於升降機構51b的側面的刻度（scale）部、以及與所述刻度部相對向地設置於狹縫噴嘴2的側面等的檢測感測器。

如上所述構成的噴嘴支撐體51如圖1所示，具有沿X方向架設於平臺4的左右兩端部的跨越保持面41的跨接構造。塗布處理部5包括使所述噴嘴支撐體51沿Y方向移動的狹縫噴嘴移動部53。狹縫噴嘴移動部53作為使作為跨接構造體的噴嘴支撐體51與支撐於其上的狹縫噴嘴2，相對於保持於平臺4上的基板3沿Y方向相對移動的相對移動元件而發揮作用。具體而言，狹縫噴嘴移動部53分別在±X側，具有在Y方向上引導狹縫噴嘴2的移動的導軌（guide rail）52、作為驅動源的線性馬達54、以及用於對狹縫噴嘴2的噴出口21的位置進行檢測的線性編碼器55。

兩個導軌52分別設置於平臺4的X方向上的兩端部，並且以包含設置有噴嘴調整區域RA及保持面41的區間的方式在Y方向上延伸設置。而且，兩個導軌52分別在Y方向上引導兩個升降機構51b的移動。並且，兩個線性馬達54分別設置於平臺4的兩側，是具有定子54a及動子54b的AC無鐵芯線性馬達（coreless linear motor）。定子54a沿Y方向設置於平臺4的X方向上的側面。另一方面，動子54b固定設置於升降機構51b的外側。兩個線性馬達54分別通過所述定子54a與動子54b之間所產生的磁力，沿Y方向對兩個升降機構51b進行驅動。

並且，各線性編碼器55分別包含刻度部55a及檢測部55b。刻度部55a沿Y方向設置在固定設置於平臺4上的線性馬達54的定子54a的下部。另一方面，檢測部55b固定設置於升降機構51b上所固定設置的線性馬達54的動子54b的更外側，與刻度部55a相對向而配置。線性編碼器55基於刻度部55a與檢測部55b的相對位置關係，對Y方向上的狹縫噴嘴2的噴出口21的位置進行檢測。

如上所述構成的狹縫噴嘴移動部53通過在Y方向上對噴嘴支撐體51進行驅動，可以使狹縫噴嘴2在噴嘴調整區域RA的上方與保持於平臺4上的基板3的上方之間移動。而且，塗布裝置1通過一邊從狹縫噴嘴2的噴出口21噴出塗布液，一邊使狹縫噴嘴2相對於基板3相對移動，而在基板3的表面31形成塗布層。再者，塗布液的塗布並非對基板3的整個面執行，而是如圖3所示，對基板3之中規定的塗布區域RT選擇性地塗布塗布液。因此，從在狹縫噴嘴2的移動區間之中基板3的塗布區域RT的上方區間移動的噴出口21噴出塗布液。並且，相對於基板3，設定有相互分割而成的兩個塗布區域RT。因此，如後所述，狹縫噴嘴2的噴出口21之中噴出塗布液的範圍限制在與各塗布區域RT相對應的範圍內。

並且，在塗布裝置1與外部搬運機構的基板3的交接期間（基板3的搬入及搬出時間）等在平臺4上未進行塗布處理的期間，狹縫噴嘴2在從基板3的保持面41向+Y側偏離的噴嘴調整區域RA內進行避讓（圖1所示的狀態）。而且，噴嘴清掃單元6對位於噴嘴調整區域RA的狹縫噴嘴2執行清潔處理。所述噴嘴清掃裝置6的詳細情況將接在狹縫噴嘴2的說明之後描述。

圖4是示意性地表示狹縫噴嘴的立體圖，圖5是示意性地表示圖4的狹縫噴嘴的分解構造的立體圖。狹縫噴嘴2包括兩個噴嘴主體23、噴嘴主體25、以及從Y方向夾於所述噴嘴主體23、噴嘴主體25之間的噴嘴墊片（nozzle shim）27。噴嘴主體23、噴嘴主體25分別在X方向上以相同的寬度延伸設置，在YZ截面中具有梯形狀的下端部23a、下端部25a及矩形狀的上端部23b、上端部25b。噴嘴主體23、噴嘴主體25的內側（噴嘴墊片27側）的面分別是與ZX平面平行的平面。另一方面，噴嘴主體23、噴嘴主體25的下端部23a、下端部25a的外側（噴嘴墊片27的相反側）的側面23c、側面25c分別是以越朝向下方越靠近噴嘴墊片27的方式傾斜的傾斜面。因此，由噴嘴主體23、噴嘴主體25的下端部23a、下端部25a構成的狹縫噴嘴2的前端部2a（噴嘴凸緣（nozzle lip）部）具有尖端越向下方越細的形狀。

並且，在各噴嘴主體23、噴嘴主體25中，從側面23c及側面25c各自的前端（下端）向內側（噴嘴墊片27側）水平地延伸設置有底面23d、底面25d。所述噴嘴主體23、噴嘴主體25的底面23d、底面25d齊平地排列，構成狹縫噴嘴2的前端面2d。並且，在噴嘴主體23、噴嘴主體25的底面23d、底面25d之間，與X方向平行的狹縫狀的噴出口21形成開口。如上所述，側面23c及側面25c分別相當於本發明的“噴嘴的側面”，在側面23c的前端與側面25c的前端之間水平地延伸設置並且噴出口21開口的前端面2d相當於本發明的“噴嘴的前端面”。

在噴嘴主體25的內側的面上，形成有塗布液的流路F。所述流路F包括與X方向平行地延伸設置的橫孔部Fa、以及從橫孔部Fa的中央與Z方向平行地延伸設置的縱孔部Fb。而且，橫孔部Fa的X方向上的兩端在噴嘴主體25的兩側面打開而分別構成側面開口A1、側面開口A2，縱孔部Fb的上端在噴嘴主體25的上表面打開而構成上表面開口A3。

噴嘴墊片27具有以與噴嘴主體23、噴嘴主體25相同的寬度在X方向上延伸設置的平板形狀的上邊部271。此外，噴嘴墊片27包括從上邊部271的兩端向Z方向下方延伸設置的平板形狀的側邊部272、以及在兩側邊部272之間從上邊部271向Z方向下方延伸設置的平板形狀的間隔部273。各側邊部272、間隔部273及噴嘴主體23、噴嘴主體25在Z方向上具有相同的高度，各側邊部272的底面272d、間隔部273的底面273d與狹縫噴嘴2的前端面2d齊平地排列。

上邊部271的下方且各側邊部272與間隔部273之間的區域作為狹縫噴嘴2的空腔CV而發揮作用。對各空腔CV的上端進行規定的上邊部271位於比流路F的橫孔部Fa更上方的位置，各空腔CV與流路F的橫孔部Fa連通。因此，從側面開口A1、側面開口A2中的一者或兩者供給的塗布液在各空腔CV內擴散。而且，從朝向外側打開的各空腔CV的下端噴出塗布液。所述兩個空腔CV是對應於兩個塗布區域RT而設置，各空腔CV具有與相對應的塗布區域RT（圖3）在X方向上相同的寬度。如上所述，噴嘴墊片27作為通過對噴出口21局部地堵塞，而對噴出口21之中噴出塗布液的範圍進行限制的限制構件而發揮作用。

而且，為了從具備所述構成的狹縫噴嘴2去除多餘的塗布液，噴嘴清掃裝置6對狹縫噴嘴2執行清潔處理。接著，關於所述噴嘴清掃裝置6的構成及動作，一邊並用圖6、圖7及圖8，一邊進行詳述。

圖6是示意性地表示噴嘴清掃裝置的一例的立體圖。並且，圖7是示意性地表示噴嘴清掃裝置中用作噴嘴清掃構件的刮板的一例的圖。此外，圖8是示意性地表示圖7的刮板與狹縫噴嘴的關係的圖。噴嘴清掃裝置6包括通過朝向沿狹縫噴嘴2的前端部2a的清掃方向Dc伴隨著刮板61移動而去除附著於前端部2a的塗布液的去除單元6A、以及對去除單元6A在清掃方向Dc上進行驅動的驅動單元6B。在這裡，清掃方向Dc是朝向與X方向的箭頭為相反方向的一邊且與X方向平行的方向，驅動單元6B能夠使去除單元6A朝向X方向往返移動。

並且，噴嘴清掃裝置6包括在通過對刮板61進行密閉而形成的密閉空間的內部洗滌刮板61的洗滌單元6C（圖3）。所述洗滌單元6C是通過對擦拭附著於狹縫噴嘴2的前端部2a的塗布液而加以去除的刮板61，在所述密閉空間內供給洗滌液而沖走附著於刮板61上的塗布液的單元。作為洗滌液，可以使用塗布液的溶劑（在此處的示例中為NMP）。作為所述洗滌單元6C，例如可以使用日本專利特開2014-176812號公報中所記載的單元。

去除單元6A主要包括滑動至狹縫噴嘴2的前端部2a的刮板61、以及對刮板61進行支撐的支撐部62。再者，在圖6中，表示了去除單元6A位於比狹縫噴嘴2的清掃方向Dc的上游側端部更靠清掃方向Dc的上游側的位置上時狹縫噴嘴2及去除單元6A的構成。

如圖7所示，刮板61包括能夠利用支撐部62進行支撐的本體611。刮板61的本體611例如是利用聚四氟乙烯（polytetrafluoroethylene，PTFE）等樹脂一體地形成的硬質體。所述樹脂制的本體611對塗布液具有斥液性。而且，本體611的中央部成為被支撐部62支撐的被支撐部612。本體611具有從被支撐部612延伸設置的延伸設置部613，在所述延伸設置部613的上端，形成有V字型的槽即V字槽614。V字槽614具有與狹縫噴嘴2的前端部2a相對應的形狀，在V字槽614的各側邊部形成有沿側面23c傾斜的對向部615及沿側面25c傾斜的對向部616。此外，刮板61包括安裝於本體611的V字槽614的底部的抵接部618。所述抵接部618是由橡膠形成的彈性體，加工成沿狹縫噴嘴2的前端面2d的平坦形狀。再者，將抵接部618安裝於本體611是通過利用粘接劑將抵接部618粘接於本體611來實現。

如上所述構成的刮板61如圖6所示是兩根緊固金屬零件，例如通過螺栓（bolt）64而拆裝自如地固定於支撐部62。所述支撐部62包括能夠在Z方向上升降的升降部621、以及朝向Z方向立設於升降部621的上表面的柱部622。而且，將刮板61緊固於柱部622的上端。更具體而言，刮板61的被支撐部612加工成可卡合於柱部622的上端部的形狀。而且，刮板61在一邊將所述V字槽614朝向狹縫噴嘴2側，一邊相對於沿X方向延伸設置的狹縫噴嘴2以規定的傾斜角度θ（例如，50度）傾斜的狀態下，緊固於柱部622的上端部。

並且，支撐部62在如上所述固定有刮板61的升降部621的下方具有底座部623。而且，升降部621被底座部623可升降地支撐著。即，在支撐部62，設置有從底座部623的上表面沿Z方向立設的導軌624、以及設置於底座部623與升降部621之間的施壓構件625（例如，壓縮彈簧）。而且，一邊由導軌624在Z方向上引導升降部621的移動，一邊由施壓構件625相對於底座部623對升降部621朝向上方施壓。因此，固定於升降部621上的刮板61被施壓構件625的施壓力向上方施壓。

並且，支撐部62的底座部623安裝於驅動單元6B。所述驅動單元6B包括在X方向上配置在狹縫噴嘴2的兩外側的一對輥651、輥651、以及架設於輥651、輥651上的環形帶（endless belt）652，在環形帶652的上表面安裝有支撐部62的底座部623。所述驅動單元6B使輥651、輥651旋轉而對環形帶652的上表面朝向X方向進行驅動，並且伴隨著支撐部62使刮板61朝向X方向移動。

如上所述構成的噴嘴清掃裝置6通過相對於狹縫噴嘴2的前端部2a使刮板61在清掃方向Dc上滑動，而從狹縫噴嘴2的前端部2a刮除塗布液（清潔處理）。執行所述清潔處理的目的是例如單純地去除附著於狹縫噴嘴2上的多餘的塗布液，或者在塗布處理開始前調整狹縫噴嘴2的噴出口21上的塗布液的狀態。當因為後者的目的而執行清潔處理時，從狹縫噴嘴2的噴出口21噴出若干塗布液之後執行清潔處理。

在清潔處理中，刮板61的抵接部618通過施壓構件625的施壓力而對狹縫噴嘴2的前端面2d及噴嘴墊片27（的底面）進行按壓。這時，即使因為狹縫噴嘴2的組裝精度等，而在狹縫噴嘴2的前端面2d與噴嘴墊片27之間產生有若干的階差，刮板61的抵接部618也會通過彈性變形而與狹縫噴嘴2的前端面2d及噴嘴墊片27密接。由此，可以利用抵接部618來確實地刮除附著於所述狹縫噴嘴2的前端面2d及噴嘴墊片27上的塗布液。並且，刮板61的對向部615、對向部616分別與狹縫噴嘴2的側面23c、側面25c接觸或空開若干的餘隙（clearance）而相對向。因此，可以利用對向部615、對向部616來刮除附著於狹縫噴嘴2的側面23c、側面25c上的塗布液。

如以上所述在本實施方式中，作為清掃對象的狹縫噴嘴2包括兩側面23c、側面25c、以及設置於所述兩側面23c、側面25c各自的前端之間並且噴出口21開口的前端面2d。與此相對，刮板61包括與噴嘴的兩側面23c、側面25c相對向的對向部615、對向部616，以及抵接於狹縫噴嘴2的前端面2d的抵接部618。因此，通過使刮板61相對於狹縫噴嘴2滑動，可以利用刮板61的對向部615、對向部616刮除附著於狹縫噴嘴2的兩側面23c、側面25c的塗布液，並且利用刮板61的抵接部618刮除附著於狹縫噴嘴2的前端面2d的塗布液。

並且，刮板61的對向部615、對向部616為樹脂制，所以幾乎不會產生伴隨著狹縫噴嘴2的清掃的磨損。再者，這種樹脂制的對向部615、對向部616不會彈性變形，所以並不緊密地裝配於狹縫噴嘴2的兩側面23c、側面25c。但是，狹縫噴嘴2的兩側面23c、側面25c的塗布液的附著量本來就少，而且只要能夠去除至其不會滴落至狹縫噴嘴2的前端面2d的程度即可。因此，關於附著於狹縫噴嘴2的兩側面23c、側面25c的塗布液，只要預先利用樹脂性的對向部615、對向部616加以去除，便可以抑制對從狹縫噴嘴2噴出塗布液所造成的影響。與此相對，刮板61的抵接部618為橡膠制。因此，能夠緊密地裝配於狹縫噴嘴2的前端面2d，確實地去除附著於狹縫噴嘴2的前端面2d上的塗布液，實現從狹縫噴嘴2穩定地噴出塗布液。再者，這種橡膠制的抵接部618會伴隨著狹縫噴嘴2的清掃而磨損。但是，在抵接部618所抵接的狹縫噴嘴2的前端面2d上，存在塗布液大量附著的傾向，所述塗布液作為潤滑劑而發揮作用，所以抵接部618的磨損緩慢地進展。並且，當抵接部618磨損至不堪使用時，只要僅更換所述抵接部618即可，不需要更換刮板61自身。這樣一來，可以一方面利用刮板61來執行適合於從狹縫噴嘴2穩定地噴出塗布液的清掃，一方面抑制伴隨著刮板61的更換而產生的運營成本。

再者，抵接部618的更換只要從本體611去除經磨損的抵接部618，利用粘接劑將新的抵接部618粘接於本體611即可。並且，所述更換操作既可以由塗布裝置1的使用者來進行，也可以通過塗布裝置1的製造商的服務來進行。

而且，針對刮板61的磨損的問題，也可以考慮如下應對措施：通過在狹縫噴嘴2與刮板61之間供給漂洗（rinse）液等作為潤滑劑，來抑制刮板61的磨損。但是，漂洗液混合於從狹縫噴嘴2的噴出口21噴出的塗布液中，有可能使塗布液的粘度改變，而使基板3上的塗布液的塗布狀態變得不穩定，或者漂洗液的消耗量增大。另一方面，根據本實施方式，在不會產生所述問題的方面也存在優點。

並且，以如下方式構成有刮板61：設置有包含將對向部615、對向部616形成於側邊部的V字槽614的樹脂制的對向部616，在V字槽614的底部安裝有抵接部618。在所述構成中，當抵接部618產生了磨損時，針對本體611，只要更換抵接部618即可，本體611自身可以繼續使用。因此，能夠有效抑制運營成本。

並且，本體611對塗布液具有斥液性。因此，為了能夠抑制附著於本體611上的塗布液的量，可以抑制洗滌單元6C中的刮板61的清掃頻率。

並且，狹縫噴嘴2具有通過對噴出口21進行局部堵塞，而對噴出口21之中噴出塗布液的範圍進行限制的噴嘴墊片27。對此，在清潔處理中，刮板61的抵接部618與狹縫噴嘴2的噴嘴墊片27接觸。由此，也可以確實地去除附著於噴嘴墊片27上的塗布液。

此外，狹縫噴嘴2的塗布液包含聚醯亞胺前體及溶劑。這種包含聚醯亞胺前體的塗布液與例如光阻劑用的塗布液等相比具有更高的粘度，所以特別需要從狹縫噴嘴2的前端面2d確實地去除。與此相對，根據本實施方式，通過裝配於狹縫噴嘴2的前端面2d的橡膠制的抵接部618，可以從狹縫噴嘴2的前端面2d確實地去除塗布液。另一方面，由於塗布液具有高粘度，所以難以產生塗布液從狹縫噴嘴2的兩側面23c、側面25c滴落至前端面2d的情況。因此，從狹縫噴嘴2的兩側面23c、側面25c去除塗布液只要通過樹脂制的對向部615、對向部616來執行便足夠。

如上所述在所述實施方式中，塗布裝置1相當於本發明的“塗布裝置”的一例，噴嘴清掃裝置6相當於本發明的“噴嘴清掃裝置”的一例，刮板61相當於本發明的“噴嘴清掃構件”的一例，支撐部62相當於本發明的“支撐部”的一例，驅動單元6B相當於本發明的“驅動部”的一例，對向部615、對向部616相當於本發明的“對向部”的一例，抵接部618相當於本發明的“抵接部”的一例，本體611相當於本發明的“本體”的一例，狹縫噴嘴2相當於本發明的“噴嘴”的一例，噴出口21相當於本發明的“噴出口”的一例，側面23c、側面25c相當於本發明的“兩側面”的一例，前端面2d相當於本發明的“前端面”的一例，噴嘴墊片27相當於本發明的“限制構件”的一例。

再者，本發明並不限定於所述實施方式，只要不脫離其主旨，除了所述方式以外還可以進行各種變更。例如，在所述實施方式中，是利用粘接劑將抵接部618粘接於刮板61的本體611上。但是，也可以相對於刮板61的本體611，具體而言，相對於V字槽614的底部可拆裝地構成抵接部618。由此，可以簡單地執行抵接部618相對於本體611的更換操作。再者，使抵接部618相對於本體611可拆裝的具體機構可以想到各種。例如，只要通過在本體611上設置卡合突起，另一方面，在抵接部618上設置卡合孔，使這些卡合突起與卡合孔相互卡合，而使抵接部618相對於本體611可拆裝即可。或者，也可以利用螺釘等緊固機構。

並且，構成本體611的樹脂的種類並不限於聚四氟乙烯。因此，也可以利用例如相對於塗布液的接觸角大於聚四氟乙烯的其它種類的樹脂來構成本體611。這時，本體611具有對塗布液的斥液性，所以能夠抑制洗滌單元6C中的刮板61的本體611的清掃頻率。

並且，也不需要本體611具有對塗布液的斥液性。因此，也可以利用對塗布液不具有斥液性的其它種類的樹脂來構成本體611。

並且，狹縫噴嘴2的前端面2d不需要為平面，也可以具有微小的階差。特別是在所述實施方式中，抵接於狹縫噴嘴2的前端面2d的刮板61的抵接部618為橡膠制，所以即使在狹縫噴嘴2的前端面2d上存在階差，通過所述抵接部618產生彈性變形，也可以密接於前端面2d。因此，可以從狹縫噴嘴2的前端面2d確實地去除塗布液。

並且，在所述實施方式中，例示了對分割而成的兩個塗布區域RT塗布塗布液的情況。但是，所述刮板61也可以對將塗布液塗布於單個塗布區域RT的狹縫噴嘴2有效地執行清潔處理。

並且，對向部615、對向部616是一體地形成於樹脂制的本體611上。但是，也可以如下方式構成刮板61：在由與樹脂不同的物質構成的本體上，安裝樹脂制的對向部615、對向部616及橡膠制的抵接部618。

並且，抵接部618的形狀並不限於平坦形狀。例如，也可以抵接部618的兩端抵達至V字槽614的側邊部的方式，在Y方向上延伸設置抵接部618。這時，可以使抵接部618密接於狹縫噴嘴2的側面23c、側面25c之中與前端部分即前端面2d鄰接的部分，而從所述前端部分確實地去除塗布液。

並且，能夠用作塗布液的液體並不限於包含聚醯亞胺前體及NMP的液體。因此，可以使用成為耐蝕刻被膜的光阻液、彩色濾光片用光阻液、包含矽、納米金屬油墨（nano metal ink）或導電性材料的漿料（漿糊）等各種塗布液。

此外，關於成為塗布對象的基板3，也可以使用液晶顯示裝置用玻璃基板、半導體基板、PDP用玻璃基板、光罩用玻璃基板、彩色濾光片用基板、記錄磁片用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等精密電子裝置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用軟性基板、有機EL用基板等各種基板。 [產業上的可利用性]

本發明可以應用於對從噴出口噴出塗布液的噴嘴進行清掃的所有噴嘴清掃技術。

1‧‧‧塗布裝置

2‧‧‧狹縫噴嘴（噴嘴）

2a‧‧‧前端部

2d‧‧‧前端面

3‧‧‧基板

4‧‧‧平臺

5‧‧‧塗布處理部

6‧‧‧噴嘴清掃裝置

6A‧‧‧去除單元

6B‧‧‧驅動單元（驅動部）

6C‧‧‧洗滌單元

21‧‧‧噴出口

23、25‧‧‧噴嘴主體

23a、25a‧‧‧下端部

23b、25b‧‧‧上端部

23c、25c‧‧‧側面（兩側面）

23d、25d‧‧‧噴嘴主體的底面

27‧‧‧噴嘴墊片（限制構件）

31‧‧‧表面

41‧‧‧保持面

51‧‧‧噴嘴支撐體

51a‧‧‧支撐構件

51b‧‧‧升降機構

52、624‧‧‧導軌

53‧‧‧狹縫噴嘴移動部

54‧‧‧線性馬達

54a‧‧‧定子

54b‧‧‧動子

55‧‧‧線性編碼器

55a‧‧‧刻度部

55b‧‧‧檢測部

61‧‧‧刮板（噴嘴清掃構件）

62‧‧‧支撐部

64‧‧‧螺栓

100‧‧‧控制部

271‧‧‧上邊部

272‧‧‧側邊部

272d‧‧‧側邊部的底面

273‧‧‧間隔部

273d‧‧‧間隔部的底面

510‧‧‧安裝部位

611‧‧‧本體

612‧‧‧被支撐部

613‧‧‧延伸設置部

614‧‧‧V字槽

615、616‧‧‧對向部

618‧‧‧抵接部

621‧‧‧升降部

622‧‧‧柱部

623‧‧‧底座部

625‧‧‧施壓構件

651‧‧‧輥

652‧‧‧環形帶

A1、A2‧‧‧側面開口

A3‧‧‧上表面開口

CV‧‧‧空腔

Dc‧‧‧清掃方向

F‧‧‧流路

Fa‧‧‧橫孔部

Fb‧‧‧縱孔部

RA‧‧‧噴嘴調整區域

RT‧‧‧塗布區域

圖1是示意性地表示本發明的塗布裝置的立體圖。 圖2是示意性地表示圖1所示的塗布裝置的側視圖。 圖3是概略性地表示圖1所示的塗布裝置的各部的配置的俯視圖。 圖4是示意性地表示狹縫噴嘴的立體圖。 圖5是示意性地表示圖4的狹縫噴嘴的分解構造的立體圖。 圖6是示意性地表示噴嘴清掃裝置的一例的立體圖。 圖7是示意性地表示噴嘴清掃裝置中用作噴嘴清掃構件的刮板的一例的圖。 圖8是示意性地表示圖7的刮板與狹縫噴嘴的關係的圖。

Claims (9)

1. 一種噴嘴清掃構件，通過相對於噴嘴相對地移動而刮除附著於所述噴嘴上的塗布液，所述噴嘴從設置於前端的噴出口噴出塗布液，所述噴嘴清掃構件的特徵在於包括： 樹脂制的對向部，在所述噴嘴的兩側面相對向；以及 橡膠制的抵接部，設置於所述噴嘴的所述兩側面的各自的前端之間，抵接於所述噴出口形成開口的所述噴嘴的前端面。
2. 如申請專利範圍第1項所述的噴嘴清掃構件，更包括： 樹脂制的本體，具有將所述對向部形成於側邊部的槽；並且 所述抵接部安裝於所述槽的底部。
3. 如申請專利範圍第2項所述的噴嘴清掃構件，其中所述抵接部相對於所述槽的底部可拆裝。
4. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的噴嘴清掃構件，其中所述本體對所述塗布液具有斥液性。
5. 如申請專利範圍第4項所述的噴嘴清掃構件，其特徵在於：所述本體由聚四氟乙烯或相對於所述塗布液的接觸角大於聚四氟乙烯的樹脂所形成。
6. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的噴嘴清掃構件，其中： 刮除附著於所述噴嘴上的塗布液，所述噴嘴包含通過對所述噴出口進行局部堵塞而對所述噴出口之中噴出所述塗布液的範圍進行限制的限制構件， 所述抵接部與所述限制構件接觸。
7. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的噴嘴清掃構件，其特徵在於：刮除附著於所述噴嘴上的所述塗布液，所述噴嘴噴出包含聚醯亞胺前體及溶劑的所述塗布液。
8. 一種噴嘴清掃裝置，去除附著於噴嘴上的塗布液，所述噴嘴從設置於前端的噴出口噴出塗布液，所述噴嘴清掃裝置的特徵在於包括： 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述的噴嘴清掃構件； 支撐部，對所述噴嘴清掃構件進行支撐；以及 驅動部，通過對所述支撐部進行驅動，而使所述噴嘴清掃構件相對於所述噴嘴移動。
9. 一種塗布裝置，其特徵在於包括： 噴嘴，從設置於前端的噴出口噴出塗布液；以及 如申請專利範圍第8項所述的噴嘴清掃裝置。