JP2017029880A - ノズル清掃部材、ノズル清掃装置および塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】塗布液を吐出するノズルの吐出口に摺接して吐出口に付着する付着物を除去するノズル清掃部材の交換頻度を抑えてラニングコストの低減を図る。
【解決手段】塗布液を吐出するノズルに対して相対的に移動する支持部に支持されながらノズルの吐出口に摺接して吐出口に付着する付着物を除去するノズル清掃部材であって、互いに異なる複数の姿勢で支持部により支持可能となっている本体に対し、吐出口に摺接可能な摺接部位が複数個形成され、複数の摺接部位のうち吐出口と摺接する一の摺接部位が支持部に支持される本体の姿勢に応じて切り替わる。
【選択図】図５

Description

この発明は、液晶表示装置用ガラス基板、半導体ウェハ、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルター用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板などの精密電子装置用基板（以下、単に「基板」と称する）に対してノズルの吐出口から塗布液を吐出して塗布する塗布装置、上記ノズルの吐出口に付着する付着物を除去するノズル清掃部材、ならびにノズル清掃部材によりノズルを清掃するノズル清掃装置に関するものである。

従来、上記した精密電子装置用基板の製造工程では、基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置が使用されている。例えば特許文献１に記載の塗布装置では、塗布液が塗布液供給装置からスリットノズルに供給され、スリットノズルの吐出口から基板の表面に向けて吐出され、基板の表面に塗布される。これによって、基板の表面に塗布液の膜が形成される。

また、この塗布装置では、スリットノズルの吐出口に付着する付着物を拭き取って除去する拭取りユニット（本発明の「ノズル清掃装置」に相当）が設けられている。この拭取りユニットは、スリットノズル２の先端部（吐出口の近傍部位）にフィットするように略Ｖ字形状を持つ板状の清掃部材（本発明の「ノズル清掃部材」に相当）を用いて洗浄処理を行う。より詳しくは、スリットノズルの先端部を清掃部材のＶ字部位に接触させた後、その接触状態を維持したままスリットノズルに対して清掃部材をスリットの形成方向に移動させる。これによって、スリットノズルの吐出口に付着する付着物が除去され、清掃される。

特開２０１２−２００６１４号公報

ノズルの吐出口を清掃するためには、上記したようにノズル清掃部材（清掃部材）をノズルに接触させながら移動させる、つまり摺接させる必要がある。そのため、ノズル清掃部材の摩耗は不可避であり、定期的にノズル清掃部材を新たなものに交換する必要がある。そのため、ノズル清掃部材の交換頻度を極力抑えてランニングコストを低下させたいという要望があった。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、塗布液を吐出するノズルの吐出口に摺接して吐出口に付着する付着物を除去するノズル清掃部材の交換頻度を抑えてラニングコストの低減を図ることができる技術を提供することを目的とする。

この発明の第１態様は、塗布液を吐出するノズルに対して相対的に移動する支持部に支持されながらノズルの吐出口に摺接して吐出口に付着する付着物を除去するノズル清掃部材であって、互いに異なる複数の姿勢で支持部により支持可能となっている本体に対し、吐出口に摺接可能な摺接部位が複数個形成され、複数の摺接部位のうち吐出口と摺接する一の摺接部位が支持部に支持される本体の姿勢に応じて切り替わることを特徴としている。

また、この発明の第２態様は、塗布液を吐出するノズルの吐出口に付着する付着物を除去して清掃するノズル清掃装置であって、上記ノズル清掃部材と、ノズル清掃部材の本体を支持する支持部と、支持部を駆動してノズル清掃部材の一の摺接部位を吐出口に摺接させた状態でノズルに対して支持部を相対的に移動させる駆動部とを備えることを特徴としている。

さらに、この発明の第３態様は、吐出口から塗布液を吐出するノズルと、上記ノズル清掃装置とを備えることを特徴としている。

以上のように、本発明によれば、複数の摺接部位がノズル清掃部材の本体に設けられており、支持部に支持される本体の姿勢に応じて吐出口と摺接する一の摺接部位が切り替わる。したがって、吐出口からの付着物の除去により摺接部位の摩耗が進行した際には、支持部による支持姿勢を変化させて別の摺動部位を一の摺動部位とし、これによってノズル清掃を行うことができる。その結果、ノズル清掃部材の交換頻度が抑えられてラニングコストを低減させることができる。

本発明にかかるノズル清掃部材の第１実施形態を装備する塗布装置を示す斜視図である。 図１に示す塗布装置の構成を示す側面図である。 図１に示す塗布装置の各部の配置を概略的に示す上面図である。 スリットノズルをＸ方向から見た側面図である。 図１に示す塗布装置に装備されるノズル清掃装置の一実施形態を示す斜視図である。 ノズル清掃装置に設けられるノズル清掃部材の一例を示す図である。 ノズル清掃装置でのノズル清掃部材の取付状態を模式的に示す斜視図である。 本発明にかかるノズル清掃部材の第２実施形態を示す図である。 本発明にかかるノズル清掃部材の第３実施形態を示す図である。 本発明にかかるノズル清掃部材の第４実施形態を示す図である。 本発明にかかるノズル清掃部材の第５実施形態を示す図である。 図１１Ａに示すノズル清掃部材の部分切欠図である。 図１１Ａに示すノズル清掃部材の支持部への取付状態を示す図である。

図１は、本発明にかかるノズル清掃部材の第１実施形態を装備する塗布装置を示す斜視図である。また、図２は、図１に示す塗布装置の構成を示す側面図である。さらに、図３は、図１に示す塗布装置の各部の配置を概略的に示す上面図である。なお、図１、図２、図３および以降の各図にはそれらの方向関係を明確にするためＺ方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を適宜付している。また、理解容易の目的で、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。また、図２および図３では、ノズル支持体など一部の構成を省略している。

塗布装置１は、スリットノズル２を用いて基板３の表面に塗布液を塗布するスリットコータと呼ばれる塗布装置である。塗布装置１は、その塗布液として、レジスト液、カラーフィルター用版、ポリイミド、シリコン、ナノメタルインク、導電性材料を含むスラリーなど、種々の塗布液を用いることが可能である。また、塗布対象となる基板３についても、矩形ガラス基板、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルター用基板、太陽電池用基板、有機ＥＬ用基板などの種々の基板に適用可能である。なお、本明細書中で、「基板３の表面３１」とは基板３の両主面のうち塗布液が塗布される側の主面を意味する。

塗布装置１は、基板３を水平姿勢で吸着保持可能なステージ４と、ステージ４に保持される基板３にスリットノズル２を用いて塗布処理を施す塗布処理部５と、塗布処理に先立ってスリットノズル２に対して洗浄処理（付着物の拭取り除去処理を含む）を施すノズル清掃装置６と、塗布処理に先立ってスリットノズル２に対してプリディスペンス処理を施すプリディスペンス装置７と、これら各部を制御する制御部８と、を備えている。

図４はスリットノズルをＸ方向から見た側面図である。スリットノズル２はＸ方向に延びる長尺状の開口部である吐出口２１を有している。そして、スリットノズル２はステージ４に保持された基板３の表面３１に向けて吐出口２１から塗布液を吐出可能となっている。より詳しくは、スリットノズル２は、ノズル支持体（図１中の符号５１）によって固定支持される本体部２２と、図外の供給機構から供給される塗布液を吐出口２１まで送液する内部流路２３と、本体部２２より下方に突出するリップ部２４とを有している。

また、リップ部２４は、上記突出の先端に設けられた平坦状の先端面２５と、上記突出の＋Ｙ側に形成される斜面である傾斜面２６ａと、その突出の−Ｙ側に形成される斜面である傾斜面２６ｂとを有する。以下の説明では、傾斜面２６ａと傾斜面２６ｂとを区別しないときは、単に傾斜面２６と呼ぶ。

上記のように構成されたスリットノズル２では、図外の供給機構より塗布液が供給されると、塗布液は内部流路２３を通じてスリットノズル２の長手方向（Ｘ方向）に均等に拡幅されて送液され、リップ部２４の先端面２５に設けられた吐出口２１より下方に向けて吐出される。このとき、スリットノズル２の吐出口２１の周囲部分（リップ部２４）には塗布液が付着することがある。付着した塗布液は、乾燥して残渣となり、これを放置すると、良好な吐出の妨げや、基板３に形成される膜の汚れの原因になる。そこで、塗布装置１ではこの付着物をノズル清掃装置６により行う。この詳細については後述する。

図１ないし図３に戻って構成説明を続ける。ステージ４は略直方体の形状を有する花崗岩等の石材で構成されており、その上面（＋Ｚ側）のうち−Ｙ側には、略水平な平坦面に加工されて基板３を保持する保持面４１を備える。保持面４１には図示しない多数の真空吸着口が分散して形成されている。これらの真空吸着口により基板３が吸着されることで、塗布処理の際に基板３が所定の位置に略水平状態に保持される。なお、基板３の保持態様はこれに限定されるものではなく、例えば機械的に基板３を保持するように構成してもよい。

また、ステージ４において保持面４１の占有する領域より＋Ｙ側には、ノズル調整エリアＡＲ１が設けられており、ノズル調整エリアＡＲ１のうち、＋Ｙ側にノズル清掃装置６が配され、−Ｙ側にプリディスペンス装置７が配置されている。これらノズル清掃装置６およびプリディスペンス装置７については後で詳述する。

塗布装置１では、スリットノズル２をＹ方向に移動させる移動機構が塗布処理部５に設けられており、保持面４１の上方とノズル調整エリアＡＲ１の上方との間でスリットノズル２を往復移動させる。そして、スリットノズル２がノズル調整エリアＡＲ１の上方に移動されている期間、すなわち、ステージ４において保持面４１の占有する領域の上方にスリットノズル２がない期間に、ステージ４上で塗布処理後の先行基板３の搬出と塗布処理前の後続基板３の搬入とが行なわれる。一方、スリットノズル２が保持面４１の上方を移動している間に当該保持面４１上の基板３の表面３１に塗布液が塗布される。

塗布処理部５の移動機構は、主としてステージ４の上方をＸ方向に横断しスリットノズル２を支持するブリッジ構造のノズル支持体５１と、Ｙ方向に延びる一対のガイドレール５２に沿ってノズル支持体５１およびこれに支持されるスリットノズル２を水平移動させるスリットノズル移動部５３とを有している。このノズル支持体５１は、スリットノズル２を固定する固定部材５１ａと、固定部材５１ａを支持するとともに昇降させる２つの昇降機構５１ｂとを有している。なお、固定部材５１ａは、Ｘ軸方向を長手方向とするカーボンファイバ補強樹脂等の断面矩形の棒状部材で構成される。

２つの昇降機構５１ｂは固定部材５１ａの長手方向の両端部に連結されており、それぞれＡＣサーボモータ及びボールネジ等を備えている。これらの昇降機構５１ｂにより、固定部材５１ａ及びそれに固定されたスリットノズル２が鉛直方向（Ｚ軸方向）に昇降され、スリットノズル２の吐出口と基板３との間隔、すなわち、基板３に対する吐出口の相対的な高さが調整される。なお、固定部材５１ａの鉛直方向の位置は、例えば、昇降機構５１ｂの側面に設けられた図示省略のスケール部と、当該スケール部に対向してスリットノズル２の側面などに設けられた図示省略の検出センサとを備えて構成される図示省略のリニアエンコーダにより検出される。

このように構成されたノズル支持体５１は、図１に示すように、ステージ４の左右両端部をＸ軸方向に沿って掛け渡し、保持面４１を跨ぐ架橋構造を有している。スリットノズル移動部５３は、この架橋構造体としてのノズル支持体５１とそれに固定保持されたスリットノズル２とを、ステージ４上に保持される基板３に対してＹ軸方向に沿って相対移動させる相対的移動手段として機能する。

スリットノズル移動部５３は、±Ｘ側のそれぞれにおいて、スリットノズル２の移動をＹ軸方向に案内するガイドレール５２と、駆動源であるリニアモータ５４と、スリットノズル２の吐出口の位置を検出するためのリニアエンコーダ５５とを備えている。

２つのガイドレール５２はそれぞれ、ステージ４のＸ軸方向の両端部にＹ軸方向に沿ってノズル洗浄位置（ノズル清掃装置６の配設位置）Ｙ１から塗布終了位置（保持面４１の−Ｙ側端部位置）Ｙ４までの区間を含むように延設されている。このため、スリットノズル移動部５３によって２つの昇降機構５１ｂの下端部が上記２つのガイドレール５２に沿って案内されることで、スリットノズル２はノズル洗浄位置とステージ４上に保持される基板３に対向する位置との間を移動する。なお、図２においては、上記位置Ｙ１、Ｙ４以外に、位置Ｙ２、Ｙ３が図示されているが、位置Ｙ２はプリディスペンス装置７に設けられるプリディスペンスローラ７２の上方位置、つまりプリディスペンス位置を意味し、位置Ｙ３は基板３の塗布領域ＲＴのＹ方向範囲に対応する塗布開始位置を意味している。

本実施形態では、各リニアモータ５４は、固定子５４ａと移動子５４ｂとを有するＡＣコアレスリニアモータとして構成される。固定子５４ａは、ステージ４のＸ軸方向の両側面にＹ軸方向に沿って設けられている。一方、移動子５４ｂは、昇降機構５１ｂの外側に対して固設されている。リニアモータ５４は、これら固定子５４ａと移動子５４ｂとの間に生じる磁力によってスリットノズル移動部５３の駆動源として機能する。

また、各リニアエンコーダ５５はそれぞれ、スケール部５５ａと検出部５５ｂとを有している。スケール部５５ａはステージ４に固設されたリニアモータ５４の固定子５４ａの下部にＹ軸方向に沿って設けられている。一方、検出部５５ｂは、昇降機構５１ｂに固設されたリニアモータ５４の移動子５４ｂのさらに外側に固設され、スケール部５５ａに対向配置される。リニアエンコーダ５５は、スケール部５５ａと検出部５５ｂとの相対的な位置関係に基づいて、Ｙ軸方向におけるスリットノズル２の吐出口の位置を検出する。

以上のような構成によって、スリットノズル２は、基板３が保持される保持面４１の上部空間を、略水平なＹ軸方向に、保持面４１に対して相対的に移動可能とされる。そして、塗布装置１は、スリットノズル２の吐出口２１から塗布液を吐出しながらスリットノズル２を相対移動させることで、保持面４１で保持した基板３の表面３１に塗布層を形成する。なお、本実施形態では、基板３の各辺の端部から所定の幅の領域（本実施形態では、額縁状の領域）は、塗布液の塗布対象とならない非塗布領域となっている。そして、基板３のうち、この非塗布領域を除いた矩形領域が、塗布液を塗布すべき塗布領域ＲＴとなっている（図３）。このため、スリットノズル２の移動区間のうち基板３の塗布領域ＲＴのＹ方向範囲に対応する塗布開始位置Ｙ３（塗布領域ＲＴの＋Ｙ側端部）〜塗布終了位置Ｙ４（塗布領域ＲＴの−Ｙ側端部）の区間で吐出口２１より塗布液が吐出される。

また、塗布装置１と外部搬送機構との基板３の受渡し期間（基板３の搬入・搬出期間）などステージ４上で塗布処理が行われない期間には、スリットノズル２は、基板３の保持面４１から＋Ｙ側に外れたノズル調整エリアＡＲ１に待避される（図１に示す状態）。そして、プリディスペンス装置７によるプリディスペンス処理およびノズル清掃装置６によるノズル清掃処理が実行される。以下、プリディスペンス装置７およびノズル清掃装置６の構成動作について説明する。

プリディスペンス装置７は、図２および図３に示すように、ノズル調整エリアＡＲ１のうち−Ｙ側に配される装置であって、その内部に溶剤７４を貯留する貯留槽７１と、その一部を溶剤７４に浸漬しておりスリットノズル２からの塗布液の吐出対象となるプリディスペンスローラ７２と、ドクターブレード７３とを備えている。

プリディスペンスローラ７２は、図示省略の回転機構によって回転駆動されることにより、Ｘ軸方向に沿った軸心７２ａ周りで矢印Ｒ１の向きに回転可能な円筒状のローラである。このプリディスペンスローラ７２の下部には、貯留槽７１が配置されており、プリディスペンスローラ７２に塗布された塗布液を溶解可能なシンナーなどが溶剤７４として貯留されている。また、シリコン製などのドクターブレード７３が、プリディスペンスローラ７２の外周面にその一端が接触するように設けられている。

このように構成されたプリディスペンス装置７では、スリットノズル２がプリディスペンスローラ７２の上方位置（プリディスペンス位置Ｙ２）に移動された状態で、回転しているプリディスペンスローラ７２に向けてスリットノズル２が塗布液を吐出することによりプリディスペンスローラ７２に塗布液が塗布される。この結果、吐出口２１（特に、リップ部２４の先端面２５）に当該塗布液の液溜りが形成される（プリディスペンス処理）。こうしてＸ軸方向に延びた直線状の吐出口２１の全長にわたって液溜りが均一に形成されると、その後の塗布処理を高精度に遂行することが可能となる。また、プリディスペンス処理によって、吐出口２１の周囲に付着した汚れた塗布液などの付着物が、吐出口２１から新たに吐出される塗布液に結合してプリディスペンスローラ７２の外周面に吐出され、吐出口２１の周囲部分から除去される。

また、本実施形態では、上記付着物を除去するために、上記プリディスペンス装置７以外にノズル清掃装置６が設けられている。以下、図２、図３および図５を参照しつつノズル清掃装置６の構成および動作について詳述する。

図５はノズル清掃装置の第１実施形態を示す斜視図である。また、図６はノズル清掃装置に設けられるノズル清掃部材の一例を示す図である。また、図７はノズル清掃装置でのノズル清掃部材の取付状態を模式的に示す斜視図である。ノズル清掃装置６は、ノズル清掃部材６１をスリットノズル２の傾斜面２６に沿って水平Ｘ方向に摺動させることでスリットノズル２のリップ部２４に付着する付着物を除去する除去ユニット６Ａと、ノズル清掃部材６１を密閉して密閉空間を形成し、その密閉空間の内部でノズル清掃部材６１を洗浄する洗浄ユニット６Ｂと、Ｘ方向に沿って延設される２本のガイドレール６Ｃと、を備える装置である。

除去ユニット６Ａは、主として、スリットノズル２の傾斜面２６と対応する傾斜面を有するノズル清掃部材６１と、ノズル清掃部材６１を固定支持する支持部６２と、支持部６２をガイドレール６Ｃに沿って駆動することでスリットノズル２の吐出口２１に沿ってノズル清掃部材６１を摺動させる駆動部６３と、を有する。なお、図５では、除去ユニット６Ａがスリットノズル２の＋Ｘ側端部より＋Ｘ側の除去前待機位置Ｘ１（図３）に位置するときの、スリットノズル２と除去ユニット６Ａとの構成が示されている。

ノズル清掃部材６１は支持部６２により支持可能となっている本体６１１で構成されている。本体６１１は例えば９００〜４０００ＭＰａ（メガパスカル）の弾性率を有する材料で形成されており、その中央部が支持部６２に支持される被支持部６１２となっている。また、本体６１１は、図６に示すように、被支持部６１２から延設部６１３ａが第１方向Ｄ１に延設されるとともに第１方向Ｄ１の反対方向Ｄ２に延設部６１３ｂが延設されている。各延設部６１３ａ、６１３ｂの先端部には、略Ｖ字型の溝であるＶ字溝６１４ａ、６１４ｂが形成されている。また、各Ｖ字溝６１４ａ、６１４ｂはスリットノズル２のリップ部２４に対応した形状に仕上げられており、傾斜面２６ａ、２６ｂに摺接可能な略台形状の摺接面６１５ａ、６１５ｂを有している。なお、以下において、延設部６１３ａ、６１３ｂを区別しないときには単に延設部６１３と称し、Ｖ字溝６１４ａ、６１４ｂを区別しないときには単にＶ字溝６１４と称し、摺接面６１５ａ、６１５ｂを区別しないときには単に摺接面６１５と称する。

このように構成されたノズル清掃部材６１は図５および図７に示すように２本の締結金具、例えばボルト６４によって支持部６２に着脱自在に固定される。より具体的には、図７に示すように、被支持部６１２は支持部６２のベース部６２１から＋Ｚ方向に立設する柱状部６２２の上端部に係合可能な形状に仕上げられている。そして、Ｖ字溝６１４の一方（図５および図７ではＶ字溝６１４ａ）をスリットノズル２側に向け、しかもＸ軸方向に延設されるスリットノズル２に対して所定の傾き角度θ（例えば、５０度）で傾いた状態で本体６１１が支持部６２に係合された状態で支持部６２に対してノズル清掃部材６１を着脱自在となっている。すなわち、各ボルト６４の先端部を被支持部６１２に形成された貫通孔に挿通し、さらに被支持部６１２に結合することで支持部６２に対してノズル清掃部材６１が固定される。ノズル清掃部材６１を固定したときには、一方のＶ字溝６１４のＶ字型の内側に形成される２つの摺接面６１５ａ、６１５ｂが、それぞれリップ部２４における２つの傾斜面２６ａ，２６ｂに摺接可能となり、当該一方のＶ字溝６１４が本発明の「一の摺動部位」として機能する。例えば図７に示すように支持部６２に支持されたノズル清掃部材６１の延設部６１３ａをＸ方向から見た場合の（ＹＺ平面における）摺接面６１５ａ、６１５ｂの傾きは、スリットノズル２をＸ方向から見た場合の（ＹＺ平面における）傾斜面２６ａ，２６ｂとの傾きと略同一となる。なお、オペレータがボルト６４を抜き取ることで支持部６２からノズル清掃部材６１を取り外すことが可能となっている。

また、取り外したノズル清掃部材６１を、Ｖ字溝６１４の他方（図５および図７ではＶ字溝６１４ｂ）がスリットノズル２側に向き、しかもＸ軸方向に延設されるスリットノズル２に対して上記傾き角度θで傾いた状態で支持部６２に再度固定することも可能である。このように、本実施形態はノズル清掃部材６１を互いに２つの姿勢で支持部６２により支持可能となっており、支持姿勢に応じてＶ字溝６１４ａ、６１４ｂのうちの一方がスリットノズル２のリップ部２４と摺接する。つまり、２つのＶ字溝６１４ａ、６１４ｂのうちスリットノズル２の吐出口２１と摺接するＶ字溝６１４が支持部６２に支持される本体６１１の姿勢に応じて切り替わる。

支持部６２では、ベース部６２１の＋Ｘ側端部が駆動部６３と連結されている。この駆動部６３は、Ｘ軸方向に延設される２本のガイドレール６Ｃ（図３）に沿って、当該駆動部６３に内蔵される駆動源により除去ユニット６Ａ全体を、スリットノズル２のＸ方向範囲（除去開始位置Ｘ２〜除去終了位置Ｘ３の区間）を包含する除去前待機位置Ｘ１〜拭き取り部材洗浄位置Ｘ４の区間で自在に往復動させる。駆動部６３は、例えば、上述したスリットノズル移動部５３と同様、リニア駆動機構を採用することができる。

このように構成された除去ユニット６Ａでは、スリットノズル移動部５３によってスリットノズル２をノズル洗浄位置Ｙ１まで水平移動させ、かつ、Ｘ方向からの側面視においてリップ部２４の傾斜面２６とノズル清掃部材６１の摺接面６１５とが僅かな隙間（例えば、数μｍ）を形成するよう昇降機構５１ｂによってスリットノズル２の高さ位置を調節した状態で、駆動部６３により除去ユニット６Ａ全体を除去前待機位置Ｘ１から拭き取り部材洗浄位置Ｘ４に向けて移動させる（図５）。この結果、スリットノズル２の＋Ｘ側端部に対応するＸ方向位置である除去開始位置Ｘ２から、スリットノズル２の−Ｘ側端部に対応するＸ方向位置である除去終了位置Ｘ３までの区間において、スリットノズル２の傾斜面２６にノズル清掃部材６１の一方のＶ字溝６１４ａに設けられた摺接面６１５が摺接した状態でノズル清掃部材６１がスリットノズル２に沿って摺動する。こうした除去ユニット６Ａの動作によって、スリットノズル２に付着する付着物がノズル清掃部材６１の摺接面６１５を用いて除去される（除去処理）。また、上記したように、ノズル清掃部材６１の支持姿勢を切り替えることで、スリットノズル２の傾斜面２６にノズル清掃部材６１の他方のＶ字溝６１４ｂに設けられた摺接面６１５が摺接した状態でノズル清掃部材６１をスリットノズル２に沿って摺動させて除去処理を行うことも可能となっている。なお、この明細書における「摺接」とは、密着状態に限らず、肉眼的にはほとんど認識できない程度の僅かな間隔を隔てているが実質的には接触と同程度の近接状態である場合も含み、相対的なスライド動作が可能であることを言う。

また、塗布装置１は、除去ユニット６Ａの往復駆動域の下方（ノズル洗浄位置Ｙ１における下方）に、スリットノズル２のＸ方向範囲（除去開始位置Ｘ２〜除去終了位置Ｘ３）と同等かそれ以上のＸ方向幅を有する回収トレイ６Ｄを備える（図２）。このため、上記除去処理でスリットノズル２に付着する付着物がノズル清掃部材６１によって拭き取られる際に、付着物がスリットノズル２或いはノズル清掃部材６１から落下した場合であっても、この回収トレイ６Ｄによって回収される。

除去ユニット６Ａは、上記各部に加え、ノズル清掃部材６１より＋Ｘ側に配され、制御部８からのＯＮ／ＯＦＦ制御に従ってスリットノズル２のリップ部２４に向けてリンス液（溶剤）を供給する２つのリンス液供給部６５ａ，６５ｂを備える。リンス液供給部６５ａはノズル洗浄位置Ｙ１より＋Ｙ側に配され−Ｙ側に向けてリンス液を供給する機構であり、リンス液供給部６５ｂはノズル洗浄位置Ｙ１より−Ｙ側に配され＋Ｙ側に向けてリンス液を供給する機構である。

したがって、ノズル洗浄位置Ｙ１に移動され、かつ、リップ部２４の傾斜面２６とリンス液供給部６５ａ，６５ｂとが略同一な高さとなるよう昇降されたスリットノズル２に対して、リンス液供給部６５ａ，６５ｂからリンス供給をＯＮとした状態で駆動部６３により除去ユニット６Ａ全体を除去開始位置Ｘ２から除去終了位置Ｘ３に向けて移動させると、リンス液供給部６５ａ，６５ｂから供給されたリンス液がスリットノズル２全長の傾斜面２６ａ，２６ｂに供給される。この結果、傾斜面２６ａ，２６ｂに付着した付着物が除去され、或いは除去容易な状態となる。

スリットノズル２に付着する付着物を除去するための処理として、リンス液供給処理は必須の処理ではないが、除去処理に先立ってリンス液供給処理を実行することで、除去処理においてスリットノズル２に付着する付着物がより効率的に除去される。

洗浄ユニット６Ｂは、密閉空間を形成し、スリットノズル２のリップ部２４に付着する付着物を拭き取って除去したノズル清掃部材６１に対して、上記密閉空間内で洗浄液を供給することでノズル清掃部材６１に付着する上記付着物を洗い流すユニットである。この洗浄ユニット６Ｂとしては、例えば特開２０１４−１７６８１２号公報に記載されたものを用いることができる。

以上のように、本実施形態では、１つのノズル清掃部材６１に対して２つのＶ字溝６１４が設けられており、支持部６２に対するノズル清掃部材６１の支持姿勢を切り替えることで除去処理においてスリットノズル２と摺接するＶ字溝６１４を変更することが可能となっている。このため、例えばＶ字溝６１４ａによる付着物の除去処理を繰り返して行った結果、Ｖ字溝６１４ａの摺接面６１５が消耗して当該除去処理を良好に行うことが困難となったとき、同一のノズル清掃部材６１の支持姿勢を変更することによってＶ字溝６１４ｂによる除去処理が可能となる。したがって、ノズル清掃部材６１の交換頻度を抑えてラニングコストの低減を図ることができる。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、スリットノズル２の吐出口２１に摺接可能となるＶ字溝６１４の切替をノズル清掃部材６１の支持部６２に対する脱着によって行っているが、ノズル清掃部材６１の本体６１１を回転対称な形状に仕上げ、その回転対称軸を回動中心としてノズル清掃部材６１を支持部６２に回動自在に取り付けてもよい。この場合、一のＶ字溝６１４が使用済となると、上記回転対称軸を中心に１８０゜回動させることで未使用の他方のＶ字溝６１４がスリットノズル２の吐出口２１に摺接可能となる。このような回動機構を採用することでＶ字溝６１４の切替が第１実施形態に比べて簡単になる。この点については、次に説明する第２実施形態ないし第４実施形態においても同様である。

また、上記第１実施形態では、図５に示すように被支持部６１２から２つの延設部６１３ａ、６１３ｂが互いに１８０゜異なる方向Ｄ１、Ｄ２に延設され、各先端部にＶ字溝６１４ａ、６１４ｂが形成されているが、ノズル清掃部材６１におけるＶ字溝６１４ａ、６１４ｂの位置関係はこれに限定されるものではない。例えば図８に示すように２つの延設部６１３ａ、６１３ｂが互いに９０゜異なる方向Ｄ１、Ｄ３に延設され、各先端部にＶ字溝６１４ａ、６１４ｂが形成されてもよい（第２実施形態）。

また、Ｖ字溝６１４の個数は「２」に限定されるものではなく、３個以上設けてもよい。例えば図９に示すように、被支持部６１２から４つの延設部６１３ａ〜６１３ｄが互いに９０゜の等角度間隔で放射状に延設され、各先端部にＶ字溝６１４ａ〜６１４ｄが形成されたノズル清掃部材６１を用いてもよい（第３実施形態）。

また、上記第１実施形態ないし第３実施形態では、延設部６１３が互いに異なる方向に延設されているが、複数の延設部６１３を同一方向Ｄ１に形成してもよい。例えば図１０に示すノズル清掃部材６１では、被支持部６１２は方向Ｄ３に延設されている。そして、方向Ｄ３と直交する方向Ｄ１に向けて延びる２本の延設部６１３ａ、６１３ｅが被支持部６１２から方向Ｄ３に配設されている（第４実施形態）。この第４実施形態では、例えばＶ字溝６１４ａによる付着物の除去処理を繰り返して行った結果、Ｖ字溝６１４ａの摺接面６１５が消耗して当該除去処理を良好に行うことが困難となったとき、ノズル清掃部材６１を支持部６２が取り外し、延設部６１３の１個分に相当する距離だけ方向Ｄ３にスライドさせてノズル清掃部材６１を支持部６２に装着し直すことによって使用済のＶ字溝６１４ａがスリットノズル２の吐出口２１から配列方向Ｄ３に離れて位置し、その状態でＶ字溝６１４ｅによる除去処理が可能となる。したがって、ノズル清掃部材６１の交換頻度を抑えてラニングコストの低減を図ることができる。

また、上記第１実施形態ないし第４実施形態では、複数のＶ字溝６１４が同一平面上に配置されているが、例えば図１１Ａに示すように２つのＶ字溝６１４が互いに対面するように構成してもよい（第５実施形態）。以下、図１１Ａ、図１１Ｂおよび図１２を参照しつつ本発明の第５実施形態について説明する。

図１１Ａは本発明にかかるノズル清掃部材の第５実施形態を示す斜視図である。また、図１１Ｂは図１１Ａに示すノズル清掃部材の部分切欠図である。さらに、図１２は図１１Ａに示すノズル清掃部材の支持部への取付状態を示す図である。このノズル清掃部材６１では、被支持部６１２のＤ２側の端部に対し、支持部６２の柱状部６２２の上端部に係合可能な形状に仕上げられた係合部位が設けられている。一方、被支持部６１２のＤ１側の端部から２つの延設部６１３ａ、６１３ｆが方向Ｄ１に延設されている。これら２つの延設部６１３ａ、６１３ｆは、図１１Ａに示すように、Ｄ１〜Ｄ４方向と直交する方向Ｄ５において配設されている。また、各延設部６１３ａ、６１３ｆの先端部にＶ字溝６１４ａ、６１４ｆが上記実施形態と同様にスリットノズル２のリップ部２４に摺接可能に設けられており、方向Ｄ５において互いに対向している。なお、Ｖ字溝６１４ａ、６１４ｆの間で、被支持部６１２の係合部位に貫通孔６１６が設けられており、例えば図１１Ｂに示すようにＶ字溝６１４ａにより拭き取った付着物を矢印に沿って流動させ、貫通孔６１６を介して支持部６２に案内するように構成されている。一方、図１２に示すように上記のようにして案内されてきた付着物を受け取った支持部６２は柱状部６２２の内部に設けた流路（図示省略）を介して回収ポート６２３に流動させ、図略のドレインタンクに回収可能となっている。

このように構成された第５実施形態においても、第１実施形態と同様に、例えばＶ字溝６１４ａによる付着物の除去処理を繰り返して行った結果、Ｖ字溝６１４ａの摺接面６１５が消耗して当該除去処理を良好に行うことが困難となったとき、ノズル清掃部材６１を支持部６２から取り外し、未使用のＶ字溝６１４ｆがスリットノズル２と摺接可能となる姿勢に変更した状態でノズル清掃部材６１を支持部６２に装着し直してもよい。これによって使用済のＶ字溝６１４ａがスリットノズル２の吐出口２１から対向方向Ｄ５に離れて位置し、その状態でＶ字溝６１４ｆによる除去処理が可能となる。したがって、第１実施形態ないし第４実施形態と同様に、ノズル清掃部材６１の交換頻度を抑えてラニングコストの低減を図ることができる。

また、上記実施形態では、スリットノズル２に対してノズル清掃部材６１をＸ方向に移動させることでＶ字溝６１４を吐出口２１に対して摺動させているが、吐出口２１に対するＶ字溝６１４の摺動はスリットノズル２およびノズル清掃部材６１のうちの少なくとも一方をＸ方向に移動させることで行ってもよい。

以上説明したように、上記実施形態においては、Ｖ字溝６１４が本発明の「摺接部位」の一例に相当している。また、方向Ｄ１が本発明の「延設方向」に相当している。また、第４実施形態での方向Ｄ３および第５実施形態での方向Ｄ５が本発明の「配列方向」に相当している。

以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、本発明は、例えば本体は、支持部に支持される被支持部と、被支持部の互いに異なる位置からそれぞれ延設される複数の延設部とを有し、延設部毎に、延設部の先端部に摺接部位が設けられるように構成してもよい。

また、複数の延設部の延設方向が互いに異なるように構成してもよい。

また、複数の延設部の延設方向は同一であり、複数の延設部は延設方向と直交する配列方向に配列され、本体は、一の摺接部位が吐出口に摺接するときには残りの摺接部位が吐出口から配列方向に離れて位置する姿勢で支持部に支持されるように構成してもよい。

また、支持部に対する本体の着脱により一の摺接部位が切り替えられるように構成してもよい。

さらに、本体は被支持部を回動中心として回動自在に支持部に支持され、支持部に対する回動により一の摺接部位が切り替えられる用に構成してよい。

この発明は、ノズルの吐出口に付着する付着物を除去するノズル清掃技術全般に適用することができる。

１…塗布装置
２…スリットノズル
３…基板
６…ノズル清掃装置
６Ａ…除去ユニット
２１…（スリットノズルの）吐出口
６１…ノズル清掃部材
６２…支持部
６３…駆動部
６１１…本体
６１２…被支持部
６１３ａ〜６１３ｆ…延設部
６１４ａ〜６１４ｆ…Ｖ字溝（摺接部位）
６１５ａ，６１５ｂ…摺接面
Ｄ３…配列方向
Ｄ５…対向方向

Claims (8)

1. 塗布液を吐出するノズルに対して相対的に移動する支持部に支持されながら前記ノズルの吐出口に摺接して前記吐出口に付着する付着物を除去するノズル清掃部材であって、
   互いに異なる複数の姿勢で前記支持部により支持可能となっている本体に対し、前記吐出口に摺接可能な摺接部位が複数個形成され、
   前記複数の摺接部位のうち前記吐出口と摺接する一の摺接部位が前記支持部に支持される前記本体の姿勢に応じて切り替わることを特徴とするノズル清掃部材。
2. 請求項１に記載のノズル清掃部材であって、
   前記本体は、前記支持部に支持される被支持部と、前記被支持部の互いに異なる位置からそれぞれ延設される複数の延設部とを有し、
   前記延設部毎に、前記延設部の先端部に前記摺接部位が設けられるノズル清掃部材。
3. 請求項２に記載のノズル清掃部材であって、
   前記複数の延設部の延設方向は互いに異なっているノズル清掃部材。
4. 請求項２に記載のノズル清掃部材であって、
   前記複数の延設部の延設方向は同一であり、前記複数の延設部は前記延設方向と直交する配列方向に配列され、
   前記本体は、前記一の摺接部位が前記吐出口に摺接するときには残りの摺接部位が前記吐出口から前記配列方向に離れて位置する姿勢で前記支持部に支持されるノズル清掃部材。
5. 請求項１ないし４のいずれか一項に記載のノズル清掃部材であって、
   前記支持部に対する前記本体の着脱により前記一の摺接部位が切り替えられるノズル清掃部材。
6. 請求項２ないし４のいずれか一項に記載のノズル清掃部材であって、
   前記本体は前記被支持部を回動中心として回動自在に前記支持部に支持され、前記支持部に対する回動により前記一の摺接部位が切り替えられるノズル清掃部材。
7. 塗布液を吐出するノズルの吐出口に付着する付着物を除去して清掃するノズル清掃装置であって、
   請求項１ないし６のいずれか一項に記載のノズル清掃部材と、
   前記ノズル清掃部材の前記本体を支持する支持部と、
   前記支持部を駆動して前記ノズル清掃部材の前記一の摺接部位を前記吐出口に摺接させた状態で前記ノズルに対して前記支持部を相対的に移動させる駆動部と
   を備えることを特徴とするノズル清掃装置。
8. 吐出口から塗布液を吐出するノズルと、
   請求項７に記載のノズル清掃装置と
   を備えることを特徴とする塗布装置。

Images