SA99200719B1 - عملية process لانتاج حمض الخليك aceic acid - Google Patents
عملية process لانتاج حمض الخليك aceic acid Download PDFInfo
- Publication number
- SA99200719B1 SA99200719B1 SA99200719A SA99200719A SA99200719B1 SA 99200719 B1 SA99200719 B1 SA 99200719B1 SA 99200719 A SA99200719 A SA 99200719A SA 99200719 A SA99200719 A SA 99200719A SA 99200719 B1 SA99200719 B1 SA 99200719B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- catalyst
- acetic acid
- ethylene
- acid
- ethane
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims description 36
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 127
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 73
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims abstract description 41
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 12
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxotungsten Chemical compound O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.OP(O)(O)=O IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011734 sodium Chemical class 0.000 claims description 8
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical class C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 6
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 6
- 229910052708 sodium Chemical class 0.000 claims description 6
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical class [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LCJHLOJKAAQLQW-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethane Chemical compound CC.CC(O)=O LCJHLOJKAAQLQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 2
- 101100234002 Drosophila melanogaster Shal gene Proteins 0.000 claims 1
- 235000015076 Shorea robusta Nutrition 0.000 claims 1
- 244000166071 Shorea robusta Species 0.000 claims 1
- 210000003918 fraction a Anatomy 0.000 claims 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N silicic acid;trioxotungsten Chemical compound O[Si](O)(O)O.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Chemical group 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- -1 Jie Substances 0.000 description 1
- 240000002834 Paulownia tomentosa Species 0.000 description 1
- 235000010678 Paulownia tomentosa Nutrition 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000008042 Zea mays Species 0.000 description 1
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 description 1
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKIWQIUJLIJZJB-UHFFFAOYSA-N [N].O=[C] Chemical compound [N].O=[C] IKIWQIUJLIJZJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRSFFHRCBYCWBS-UHFFFAOYSA-N [O].[O] Chemical compound [O].[O] QRSFFHRCBYCWBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVCDXZGTRKGYDC-UHFFFAOYSA-N [V].[Ta].[Nb] Chemical compound [V].[Ta].[Nb] XVCDXZGTRKGYDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACOGMWBDRJJKNB-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethene Chemical group C=C.CC(O)=O ACOGMWBDRJJKNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P ammonium molybdate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 229940010552 ammonium molybdate Drugs 0.000 description 1
- 235000018660 ammonium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011609 ammonium molybdate Substances 0.000 description 1
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 description 1
- OHAVYOCBYILSBZ-UHFFFAOYSA-M dihydroxyboron;hydroxy(dioxo)tungsten Chemical compound O[B]O.O[W](=O)=O OHAVYOCBYILSBZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013529 heat transfer fluid Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011081 inoculation Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003342 selenium Chemical class 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- PTISTKLWEJDJID-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenemolybdenum Chemical compound [Mo]=S PTISTKLWEJDJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWJUARNXABNMDW-UHFFFAOYSA-N tungsten vanadium Chemical compound [W]=[V] NWJUARNXABNMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/02—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen
- C07C69/12—Acetic acid esters
- C07C69/14—Acetic acid esters of monohydroxylic compounds
- C07C69/145—Acetic acid esters of monohydroxylic compounds of unsaturated alcohols
- C07C69/15—Vinyl acetate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/04—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds
- C07C67/05—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds with oxidation
- C07C67/055—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds with oxidation in the presence of platinum group metals or their compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/002—Mixed oxides other than spinels, e.g. perovskite
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
- C07C51/21—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen
- C07C51/215—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of saturated hydrocarbyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
- C07C51/21—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen
- C07C51/25—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of unsaturated compounds containing no six-membered aromatic ring
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/08—Silica
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/54—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/66—Silver or gold
- B01J23/68—Silver or gold with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/683—Silver or gold with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium with chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/686—Silver or gold with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium with chromium, molybdenum or tungsten with molybdenum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2523/00—Constitutive chemical elements of heterogeneous catalysts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
- B01J37/0027—Powdering
- B01J37/0045—Drying a slurry, e.g. spray drying
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
لإنتاج حمض الخليك process الملخص: عملية contacting والتي تتضمن تلامس acetic acid مع غاز ethylene و/أو الإثيلين ethane الإيثان molecular oxygen يحتوي على أكسجين جزيئي في مفاعل طبقة متحركة في وجود عامل تحفيز صلب دقائق متميع oxidation catalyst أكسدة كروي دقيق حيث يكون 90% على الأقل من أقل من 300 catalyst جزيئات هذا الحفازميكرون .
Description
Y — —_— عملية zUN process حمض الخليك acetic acid الوصف الكامل at - بي إلا هي ا 2 يتعلق هذا الاختراع بعملية process طبقة متحركة fluid bed لإنتاج حمض الخليك acetic acid =( الإيثان ethane و/أو الإثيلين ethylene وغاز يحتوي على الأكسجين oxygen . وعمليات إنتاج حمض الخليك acetic acid عن طريق أكسدة الإيثان ethane و/أو الإثيلين cthylene ٠ هي عملية process معروفة dua على سبيل المثال ما جاء في براءة الاختر اع الأمريكية رقم 750747؛ وطلب براءة الاختراع الأوروبية 4017091 . وطلب براءة الاختراع الدنمركية رقم 193704877 وطلب البراءة الألمانية رقم 1951704877 DE وطلب براءة الاختراع الأوروبية 6707656 . وتصف براءة الاختراع الأمريكية رقم 4750747 عملية process إزالة الهيدروجين hydrogen ٠ )30.8 للإيثان ethane إلى إثيلين ethylene في تلامس contacting طور غازي عند مستويات عالية نسبياً من التحول والانتقائية والإنتاجية عند درجة حرارة أقل من Se م باستخدام مؤسس على الموليبدينوم molybdenum . ويصف براءة الاختراع الأوروبية رقم 50709١1 . عملية process لإنتاج منتج يحتوي على الإثيلين Ss ethylene حمض الخليك (acetic acid إيثان و/أو إثيلين ethylene غازي Vo عن طريق تلامس contacting شحنة التغذية والغاز المحتوي على الأكسجين oxygen sud عند درجة حرارة مرتفعة مع تركيبة عامل تحفيز إزالة الهيدروجين hydrogen التأكسدية ethane (EU المحتوية على موليبدنيوم molybdenum / رينيوم rhenium المتكلسة .
ويصف طلب براءة الاختراع الألمانية رقم 117.7 ف 012[ وطلب براءة الاختراع الألمانية رقم 197670877 DE عامل حفاز للأكسدة الانتقائية للإيثان ethane و/أو الإثيلين ethylene إلى حمض إلى حمض الخليك acetic acid والذي يحتوي على الموليبدنيوم molybdenum و البالاديوم palladium والرينيوم thenium . 0 وبالإضافة إلى ما سبق فإن طلب براءة الاختراع البريطانية رقم 31485916756 (BP Case (8979 يصف ١ ستخدام عامل حفاز يحتوي على المو ليبديتوم molybdenum و التنجستين tungsten و الفضة 7 والاريديوم في عملية process أكسدة الإيثان ethane إلى حمض الخليك acetic acid . وعملية process إنتاج حمض الخليك acetic acid من الإثيلين ethylene والأكسجين © معروفة أيضاً من طلب براءة الاختراع الأوروبية رقم dus «AY.
Yeo ثم تلامس contacting الإثيلين ethylene والأكسجين oxygen في وجود تركيبة عامل حفاز على بلادديوم فلزي metallic palladium وحمض متعدد مخلط أو ملح منه ومادة منشطة تتكون من أملاح التيليريوم tellurium أو السيلينيوم tellurium . وعلى الرغم مما سبق ذكره من براءات الاختراع السابقة تتص على أنه يمكن إجراء العملية process نظام طبقة ثابتة أو نظام طبقة متحركة فقد تم وصف العملية process فقط بالنسبة لنظام الطبقة الثابتة حيث أن العمل في نظام طبقة متحركة يكون عادة غير مطلوب نتيجة للصعوبات الموجودة في هذه العملية process وبصفة خاصة JSG العامل الحفاز . وقد وجد الآن أنه يمكن التغلب على مشكلة تآكل العامل الحفاز في النظام المتحرك عن طريق استخدام مادة عامل حفاز دقائقية كروية دقيقة . وبالتالى ؛ فإن هذا الاختراع يصف عملية process لإنتاج حمض الخليك acetic acid A تتضمن تلامس Ss ethane (WY! contacting الإثيلين ethylene مع غاز يحتوي
_ $ —_
على أكسجين جزيئي molecular oxygen في Jelia طبقة مائع في وجود عامل تحفيز أكسدة صلب دقائقي متميع كروي دقيق حيث يكون 7890 على الأقل من جزيئات هذا العامل الحفاز أقل من 5٠٠0 ميكرون . الوصف العام للاختراع
ويصف هذا الاختراع عملية 8 لإنتاج حمض الخليك acetic acid يفي مفاعل متحرك عن طريق استخدام مواد حفازة دقائقية معنية ويؤدي استخدام العامل الحفاز المعين إلى التغلب على مشاكل التشغيل التي ظهرت سابقاً في أنظمة الطبقة المتحركة .
> وتتطلب عملية هذا الاختراع استخدام عامل حفاز دقائقي كروي دقيق ويكون من المطلوب أن يكون 7980 على الأقل من الجزيئات أقل من 00 ميكرون ؛ ويفضل أن يكون على الأقل 745 من الجزئيات أقل من 708٠0 ميكرون ومن المناسب أن يكون توزيع الحجم الجزيئي كما يلي: صفر - 5١ ميكرون ٠ وزن / ٠ - 44 ميكرون sua = 18 وزن 7 AA — 140٠ ميكرون Ae =o وزن 7
7# وزن Ae =e ميكرون ٠١١ - AA 1 ميكرون صفر - 56 وزن ٠١ > / ميكرون صفر - © وزن Yoo <
ومن المناسب أن يكون للعامل الحفاز catalyst كثافة من ١,5 إلى #©جم /سم' ويفضل من ١
. إلى "جم/ سم" ٠,5 إلى “جم/ سم وبصفة خاصة من ١
وتم استخدام العامل الحفاز في مفاعل طبقة متحركة ويفضل أن تكون جزيئات العامل الحفاز مقاومة للتاكل . والعامل الحفاز المناسب للاستخدام في طريقه الطبقة المتحركة لتحويل الإيثان ethane هي عوامل تحفيز أكسدة الإيثان saad ethane شريطة أن يتم استخدم هذه العوامل الحفازة في الشكل الدقائقي الكروي الدقيق . وتشمل العوامل الحفازة المناسبة تركيبة عامل حفاز تحتوي على الموليبدينوم molybdenum 6 على سبيل المثال MOaX,Y. حيث يكون X عبارة عن Cr أو Mn أو Nb أو Ta أو Ti أو 17 و/أو W ويفضل أن تكون Mn أر Nb ٠ أو لا وأو و 7 عبارة عن Bi أو Ce أو Co أو Cu أو Fe أو K أو Mg أو 107 أو © أو 25 أو 86 أو Si أو Sn أو 11 و/أو نآ ويفضل أن تكون Sb أو 8© و/أو نآ ؛ و A عبارة عن ١ ؛و 3 عبارة عن ٠06 إلى ١ ؛و © عبارة عن صفر إلى ؟ ويفضل من 05 إلى ١ بشرط أن تكون للقيمة الإجمالية ل » بالنسبة للكوبلت cobalt أو النيكل Ss الحديد Ji من 2058 ؛ و والمناسب بشكل مساوي هي تركيبة العامل الحفاز التالية MogReeW XY حيث تكون : MogRe W; =A “و
Cr =X أو Mn أو 20 أو Ta أو 11 أو V و/أو W ويفضل أن تكون Mn أو V Nb و/أو بنداء Bi=Y أو Ce أو Co أو © أو ع7 أو ع1 أو ع14 أو 181 أو © أو Sb Pb :8 أو 98 أو TI U Ss ويفضل أن تكون Sb أو Ce و/أو uU 4و =A Qo \ ¢ 5 © - صفر إلى ؟ . ويفضل من io إلى ١60و © = صفر إلى ؟ ويفضل من 2001 إلى ١ ويفضل أكثر من ١05 إلى ١ بشرط أن تكون للقيمة الإجمالية ل » بالنسبة للكوبلت cobalt أو النيكل و/أو الحديد أقل من ٠,9 . sta=f+te+D ٠ © إما أنها صفر أو أكبر من صفر ؛ و WF أنها صفر أو أكبر من صفر . ومن الممكن Lind استخدام تركيبة العامل الحفاز التالية MOPAReXY حيث تكون : Cr=X أو Mn أو Nb أو Ta أو 11 أو 7 و/أو Ww ¢ و 7 < 1ط أو Ce أو Co أو «© أو © أو K أو Mg أو Ni © أو ا أو Sb أو Si أو Sn أو Tl U ffs ve ويفضل أن تكون 585 أو © و/أو نآ و وتعبر الرموز sa © و » و » و ع عن النسب الذرية الجرامية للعناصر المناظرة Eran تكون ١ =a و 5 > صفر وه > صفر و ل - 05 إلى ؟و shame إلى “ .
oy - والعامل الحفاز المناسب الآخر هو MOPAXcYy حيث تكون X عبارة عن واحد أو أكثر من العناصر المختارة من مجموعة Cr 140و 3Nb 18و 11و لآو 3¢W 7 عبارة عن واحد أو أكثر من العناصر المعارة من مجموعة 3 و Al و Ca و10 وا و70 Bi 3Cds و عاو yRh 3Co 1و sCu نيه و 3K 50s sRu sFe sAu طقو :© و Sn sSi 3Sb sPd sP sNi yHfsZr sBa 58r Ca yMg ٠ 11و ل + وشتشثير الرموز sa © و » و alld الذرية الجرامية للعناصر المناظرة ؛ حيث ١ =a oS و <b صفر و ع> من صفر و ل - صفر إلى ؟ . والعامل الحفاز المؤكسد المناسب الآخر هو لا.ئتي:1.عفن110,177 Cus تكون X عبارة عن العناصر 185 و 7 و ١ 7 عبارة عن واحد أو أكثر من العناصر المختارة من المجموعة التالية Cr و Tig 18 sMn Fe sAu sAg 3Cu sIr sRh sCo 26 sBi 5Cd sZn 3Pt 5 In 5Cay Als By و 5Sr sCasMg 3Cs sRb 3K 30s sRu 88و Si Sb yPd sP yNi sHf sZr و 58 و 11 و U و ع6 و Pd ؛ وتكون sa 5 و » و 5d » و ؟ عن النسب الجرامية للعناصمسر بحيث تكون gcl=btas >0 <a>) yo والعامل الحفاز المفضل لتحويل الإيثان ethane على حمض الخليك acetic acid MoAgVND . وعندما تحتوي شحنة التغذية على الإثيلين ethylene والغاز المحتوي على الأكسجين oxygen الجزيئي فإن العوامل الحفازة المناسبة للاستخدام في عملية process هذا الاختراع تضم تركيبة من البالاديوم palladium الفلزي وحمض متعددة مخلط أو dale ويمكن أن يحتوي الحمض المتعدد المخلط على ذرة مخلطة واحدة أو أكثر من الذرات المتعددة ويمكن 9 أن تكون الذرة المخلطة بشكل مناسب عبارة عن phosphorus sim sd 0 سيليكون silicon أو بورون boron أو ألومنيوم aluminium أو جرمانيوم germanium أو تيتانيوم titanium أو
—_ A — كبريت chromium أو كروم cobalt أو سيريوم مضع أو كوبلت zirconium زيركونيوم أو تنجستن molybdenum ويمكن أن تكون الذرة المتعددة عبارة عن موليبدينوم sulphur . tantalum تتانتالام niobium نيوبيوم vanadium أو فاناديوم tungsten : ويمكن أن تشمل أمثلة الأحماض المتعددة المخلطة silicotungstic acid, phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, silicomolybdic acid, ° tungstomolybdophosphoric acid, tungstomolybdosilisic acid, tungstovanadophosphoric acid, tungstovanadosilisic acid, molybdovanadophosphoric acid, molybdovanadosilisic acid, borotungstic acid, boromolybdic acid, tungstomolybdoboric acid, molybdoalumrinic acid, tungstoaluminic acid, molybdotungstoaluminic acid, molybdogermanic acid, tungstogermanic acid, molybdotungstogermanic acid, ١ molybdotitanic acid, tugnstotitanic acid, molybdotungstotitanic acid, cericmolybdic acid, cerictungstic acid, cericmolybdotungstic acid, molybdocobalt acid, tungstocobalt acid, molybdotungstocobalt acid, phosphoniobic acid, siliconiobic acid and silicotantalic acid : ومن بين هذه الأحماض بصفة خاصة silicotungstic acid, phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, silicomolybdic acid, \o tungstomolybdophosphoric acid, tungstomolybdosilisic acid, tungstovanadophosphoric acid, tungstovanadosilisic acid, molybdovanadosilisic acid, borotungstic acid, boromolybdic acid and boromolybdotungstic acid أو أونيوم metal ويمكن أن تكون أمرح الأحماض المتعددة المخلطة عبارة عن أملاح فلز أو حمض متكون عن طريق تكاثف اثنين hydrogen «نادوالتي فيها تكون ذرات الهيدروجين | © غير العضوي مستبدلة جزئيا أو كليا بواحد أو أكثر oxygen acid ال > كسجين aan أو أكثر من
و -
من كاتيونات الأونيوم onium cations onium أو الفلز ويتم اختيار الفلزات التي تحل محل
ذرات الهيدروجين hydrogen في الأحماض المتعددة المخلطة من المجموعة التي تتكون من
فلزات المجموعات (NV) ١ و7 (؟أ) و١١ (١ب) و9١ (”ب) في الشكل الممتد للجدول الدوري
مثل الفلزات القلوية وفلزات الأرض القلوية والنحاس والفضة silver والذهب والألومنيوم ٠ «ستصتستلة و الجاليوم gallium و الادنديوم indium و الثاليوم thallium وكأمظة لأملاح
الأونيوم onium يمكن ذكر أملاح الأونيوم onium المشتقة من الأمونيا ammonia أو من أمين
amine ومن بين أملاح الحمض المتعدد المخلط يفضل بصفة خاصة استخدام أملاح الليثيوم
lithium و الصوديوم sodium و البوتاسيوم potassium و السيزيوم cesium و الماغنسيوم
magnesium و الباريوم barium والتحاس والذهب والجاليوم gallium مع كون الأمثلة الأككقر ٠ تفضيلاً هي أملاح الليثيوم lithium والصوديوم sodium والنحاس لحمض الفوسفوتنجستيك
phosphotungstic acid وأملاح الليثيوم lithium والصوديوم sodium والتحاس لحمض
. silicotungstic acid silicotungstic acid السيليكوتنجستيك
وتكون نسبة البالاديوم palladium إلى الحمض المتعدد المخلط في تركيبة Jalal) الحفاز
بشكل مناسب هي ١جم ذرة : ١,75 إلى on جم جزيئات ويفضل ١اجم ذرة : ١.١ إلى
. جزيئات ander ١ ويمكن أن تحتوي تركيبة العامل الحفاز بشكل مناسب على فلز مختار من المجموعة 18 و
VIB VB 5 IVB من الجدول الدوري وتشمل الفلزات المناسبة التحاس والفضة silver و
القصدير tin و الرصاص lead و الخارصين antimony و البزموت bismuth والسيلينيوم
tellurium والتيليريوم tellurium وعندما يكون Hl موجوداً فإن نسبة البالاديوم palladium إلى © حمض المتعدد المخلط إلى الفلز تكون بشكل مناسب من ١جم ذرة ١,79: إلى ٠8٠ جم جزيئات :
8 إلى ١٠جم ذرات ويفضل a) ذرة ٠: إلى كجم 01٠ ral ba إلى دجم
ذرات.
ARN
و١ والعامل الحفاز المفضل لإنتاج حمض الخليك acetic acid من الإيثيلين ethylene والغاز المحتوي على أكجسين oxygen عبارة عن نظام ثلاتي يتكون من )١( بالاديوم فلزي metallic palladium و Y ( حمض فوسفوتنجستيك phosphotungstic acid أو حمض سيليكو تنجستيك silicotungstic acid أو على الأقل واحد من أملاح الليثيوم lithium والصوديوم sodium © والنحاس لحمض الفوسوتنجستيك وأملاح الليثيوم lithium والصوديوم sodium والنحاس لحمض السيليكوتنجستيك silicotungstic acid و(؟) على الأقل واحد من البزموت bismuth والسيلينيوم tellurium والتيليريوم ٠ tellurium ومن المناسب أن يحتوي العامل الحفاز في عملية process تحول الإيثان ethane و/أو الإيثيلين ethylene على مادة ربط التي يمكن أن تكون السيليكا 511:68 أو titania Lag أو ٠ الألومينا alumina أو الزيركونيا «zirconia خليط منهم ومن المناسب أن تكون مادة الربط موجودة بتركيز على الأقل ٠١ وزن 7 من تركيبة العامل الحفاز . ويمكن أن تحضر تركيبة العامل الحفاز بأي من الطرق المستخدمة عادة في تحضير عوامل الطبقة المتحركة الحفازة وبالنسبة لعامل تحفيز أكسدة الإيثان ethane فإنه Say تحضير العامل lind بشكل مناسب عن طريق التجفيف بالرش لعجينة من مادة الربط على سبيل المثال محلول ١ سيليكاجل silica gel ومركب معقد أو مركب من العناصر على سبيل المثال الأكاسيد oxides والماء ثم يمكن بعد ذلك تلكيس جزيئات العامل الحفاز عن طريق التسخين حتى درجة حرارة ما بين Aves 08٠0 م وبشكل مناسب في الهواء أو الأكسجين 50d oxygen دقيقة إلى YE ساعة ويفضل أن يكون الهواء أو الأكسجين oxygen متدفق بسهولة . وبالنسبة لتحضير عامل تحفيز أكسدة الإثيلين ethylene مثل عامل التحفيز بالاديوم palladium حمض متعدد مخلط فإنه يمكن تحضيره مرة أخرى بالطرق المعتادة وبشكل مناسب يمكن تحضير العامل الحفاز عن طريق إذابة مركب البالاديوم palladium ومركب الفلز في ا :
١١ - - مذيب مناسب ويمكن إضافة الناقل أو مادة الربط إلى المحلول ثم تم تجفيف المحلول الناتج للحصول على العامل الحفاز وكبديل عن ذلك يمكن ترسيب العامل الحفاز عن طريق إضافة وسط مرسب ثم تم اختزال المركب الناتج بشكل مناسب بعامل اختزال Jie الهيدروجين hydrogen أو الهيدرازين hydrazine وكبديل عن ذلك يمكن تحضير العامل الحفاز عن طريق ٠ التجفيف بالرش للدعامة المطلوبة وبعد ذلك يمكن إضافة البالاديوم palladium بواسطة التلقيح ثم تجفيف المركب الناتج ثم يمكن بعد ذلك اختزال الناتج المخفف بعامل اختزال مناسب . ويحتوي غاز شحنة التغذية على الإيثان ethane و/أو الإثيلين ethylene ويمكن استخدام الإيثان ethane والإثيلين ethylene شكل بصورة أساسية أو مخلوطين مع النيتروجين nitrogen أو الميثان methane أو ثاني أكسيد الكربون carbon dioxide أو الماء في شكل ٠ بخار الذي يمكن أن يكون موجوداً بكميات كثيرة ؛ على سبيل المثال أكثر من © حجم في المائة ويكون إضافة هذه الغازات ؛ كغازات جديدة أو يمكن إدخالها غاز معاد الاستخدام ويمكن أن يتواجد الهيدروجين hydrogen وثاني أكسيد الكربون carbon dioxide و C4/C3 الكانات و الكينات alkanes بكميات ضئيلة على سبيل المثال أقل من © حجم بالمائة . ويمكن أن يكون الغاز المحتوي على أكسجين جزيئي molecular oxygen هو الهواء أو ve غاز أغنى أو أقل بالأكسجين oxygen الجزيئي على الهواء على سبيل المثال الأكسجين oxygen والغاز المناسب يمكن أن يكون ؛ على سبيل المثال ؛ أكسجين oxygen مخفف بمادة تخفيف مناسبة Jie النيتروجين nitrogen . واختياريا « ويمكن شحن الماء (البخار) إلى المفاعل مع الإيثان ethane و/أو الإثيلين ethylene والغاز المحتوي على الأكسجين oxygen . Ye ويمكن إجراء العملية process بشكل عام عند درجة حرارة في المدى من ١٠١ إلى 0م ويفضل من ١١ إلى 08م .
vy — - ويمكن أن يكون الضغط بشكل مناسب جوياً أو فوق جوي على سبيل المثال من ١ إلى 5٠0 بارا bara ويفضل من ١ إلى Ye بارا bara . وفي تجسيم مفضل ؛ يمكن أن يكن عملية process هذا الاختراع هي الخطوة الأولى في عملية process متكاملة لإنتاج حمض acetic acid lal و/أو خلات الفينيل vinyl acetate eo تلك الموصوفة ؛ على سبيل المثال ؛ في براءة الاختراع الدولية رقم 18/051670 والمذكورة هنا كمرجع وبالتالي ؛ طبقاً لهذا التجسيم تم وصف عملية process متكاملة لإنتاج حمض الخليك acetic acid و/أو خلات الفينيل vinyl acetate تتضمن الخطوات التالية : A contacting Gaal 1 منطقة تلامس contacting أولى لشحنة تغذية تتكون من الإثيلين ethylene و/أو الإيثان ethane واختيارياً البخار مع الغاز المحتوي على الأكسجين oxygen ٠ الجزيئي في وجود عامل حفاز فعال لأكسدة الإثيلين ethylene إلى حمض الخليك acetic acid و/أو الإيثان ethane إلى حمض الخليك acetic acid والإثيلين WS ethylene هو موصوف هنا سابقاً للحصول على تيار منتج أول يحتوي على حمض الخليك acetic acid والماء والإثيلين ethylene (إما كإثبلين ethylene غير متلامس contacting و/أو كإثيلين ethylene منتج تصاحبياً) واختيارياً أيضاً الإيثان ethane وثاني أكسيد الكربون carbon dioxide و أول أكسيد ١ الكربون As carbon monoxide النيتروجين nitrogen ¢ . ب) التلامس contacting .في منطقة تلامس contacting ثانية في وجود أو غياب إثيلين ethylene و/أو حمض خليك acetic acid إضافي لجزء على الأقل من تيار المنتج الغازي الأول الذي يحتوي على الأقل على حمض خليك acetic acid والإثيلين ethylene واختياريا أيضاً واحد أو أكثر من الماء أو الإيثان ethane أو أول أكسيد الكربون carbon monoxide أو ٠ ثاني أكسيد الكربون carbon dioxide و/أو النيتروجين nitrogen مع الغاز المحتوي على أكسجين جزيثي molecular oxygen في وجود عامل حفاز فعال في إنتاج خلات الفينيل vinyl م
6 الإنتاج خلات الفينيل ZY vinyl acetate تيار منتج ثاني يحتوي على خلات الفينئيل vinyl acetate والماء وحمض الخليك acetic acid واختيارياً الإثيلين ethylene . ويفضل أن تتضمن العملية process المتكاملة الخطوات الأخرى التالية : ج) فصل تيار المنتج من الخطوة (ب) بالتقطير داخل جزء أزيوتروب azeotrope علوي يحتوي م على خلات الفينيل vinyl acetate والماء وجزء قاعدي يحتوي على حمض الخليك acetic acid ¢ و )١( W (a استخلاص حمض الخليك a acetic acid الجزء القاعدي المفصول في الخطوة (z) واختيارياً إعادة استخدام الجزء الأزيوتروب azeotrope ي المفصول في الخطوة (ج) بعد الفصل الجزئي أو الكلي للماء منه في الخطوة (ج) . ٠ أو )0( استخلاص خلات الفينيل ge vinyl acetate الجزء الأزيوتروب azeotrope 5( المفصول من الخطوة (ج) واختيارياً sale) استخدام الجزء القاعدي المفصول من الخطوة (ج) إلى الخطوة )9 أو (7) استخلاص حمض الخليك acetic acid 0( الجزء القاعدي المفصول في الخطوة (z) واستخلاص خلات الفينيل vinyl acetate من الجزء الأزيوتروب azeotrope ي العلوي ١ المستخلص في (z) 3 hall . الوصف التفصيلى : سوف يتم الآن توضيح العامل الحفاز والطرق المستخدمة في هذا الاختراع بالرجوع إلى الأمثلة التالية :
تحضير العامل الحفاز )0 عامل تحفيز أكسدة الإيثان Ethane Oxidation Catalyst يكون عامل تحفيز أكسدة الإيثان Ethane Oxidation Catalyst في الطبقة المتحركة من عدد من العناصر المكونة لدعامة طبقة متحركة كروية دقيقة مؤسسة على السيليكا silica ومقاومة SEU ٠ حيث يتم تحضير العامل الحفاز الكروي الدقيق عن طريق الرش والتجفيف لعجينة تتكون من خليط من السيليكا silica و موليبدات الأمونيوم ammonium molybdate وخلات الفضة silver acetate فانادات الأمونيوم ammonium vanadate وكلوريد النيوبيوم niobium chloride والاوكساليك oxalic والماء للحصول على تركيبة العامل الحفاز المستهدفة Moo72 Agoot Vous وو Nbg ثم ثم تكليس الكريات الدقيقة في الهواء ما بين ف 5 لتكسير الأملاح ولإعطاء قوة ٠ (مقاومة للتآكل) للعامل الحفاز وكانت نسبة العناصر السابقة في العامل الحفاز هي on وزن 7# وكانت نسبة السيليكا silica في العامل الحفاز النهائي هي 7560 وزن 7 . خواص العامل الحفاز : توزيع الحجم الجزيثي : صفر - Vo ميكرون ٠ وزن / ١ ١ -؟؛ ميكرون صفر - Lois Ne AA — £8 ميكرون Ae = ٠ وزن 7 ٠١١ - AA ميكرون Loss he = ٠ ٠١ > ميكرون صفر - be وزن # 5٠0١0 > ميكرون صفر - © وزن 7# م١
و١ - الكثافة ٠,5 -اجم / سم ض وكان العامل الحفاز المحضر التركيبة التالية Nbgos و70 :1100714800 قبل التكلس . )7( عامل تحفيز أكسدة الإثيلين ethylene تم إذابة ما©14000 (pa), OAT) في ماء منزوع الأيونية (١7جم) ثم تطعيمه عكسياً (إضافة المادة الصلبة للمحلول) في دعامة سيليكا مجففة بالرش (4,44أجم 6 CFA DIVO متوسط ١ ميكرون في القطر) ثم تم تجفيف المادة الصلبة الناتجة ١١ sad ساعة عند درجة حرارة الغرفة والضغط المحيط . ثم تم إضافة هيدرات (NH; hydrate) NH; (77,٠جم) إلى الماء المنزوع الأيونية (aah) ثم تم إضافة المادة الصلبة المجففة ببطء إلى محلول الهيدرازين hydrazine ثم تم ترك الخليط كما هو لمدة ١16 ساعة عند درجة حرارة الغرفة والضغط المحيط - مع التقليب الدوري ثم تم ترشيح المحلول بالشفط لفصل المادة الصلبة من المحلول الرائق ثم غسلها بالماء منزوع الأيونية (Ja Y YO X£) 08-0601580 water بعدها acl المحلول الرائشق نتيجة سلبية عند اختبارها لوجود الكلوريد ثم تم تجفيف المادة الصلبة لمدة fv ساعة عند درجة حرارة الغرفة والضغط المحيط للحصول على مركب عامل البالاديوم palladium الحفاز المختزل الوسيط ثم تم إذابة +1680 )£71 ٠7 جم) وتطعيمها عكسياً في مادة مركب عامل ١٠ _ البالاديوم palladium الحفاز المختزل الوسيط الصلبة التي تم تجفيفها بعد ذلك لمدة 17 ساعة عند درجة حرارة الغرفة والضغط المحيط ثم تم إذابة HySiO4 12170:. XH0 (1,420جم) في ماء منزوع الأيونية وتطعيمها عكسياً في المادة الصلبة المجففة التي تم إعادة تجفيفها بعد ذلك لمدة 5٠ ساعة عند ١٠م ثم تم تنشيط العامل الحفاز الناتج قبل استخدامه عن طريق تسخينه لمدة ؛ ساعات عند ٠٠١ م .
١1 - - إنتاج حمض الخليك acetic acid تم تشغيل مفاعل طبقة متحركة مخلط سعة ٠ ؛مل عند A بارج barg داخل وعاء من خلاله تم إمرار مائع Ji الحرارة في شكل دائري ثم تم شحن المتلامسات في الطور الغازي ؛ من خلال عنصر مصقول ؛ إلى قاعدة المفاعل لتحريك العامل الحفاز وهاك شرط أن يتم التحكم في م تدفق كتلة الأكسجين oxygen و/أو النيتروجين nitrogen الإضافية إلى المفاعل من نفس المصدر مثل شحنات الغاز الرئيسية وتم على الضغط باستخدام صمام تحم في الضغط خلفي عند المخرج العام للمفاعل وتم الحفاظ على درجة حرارة المفاعل عن طريق إمرار مائع نقل الحرارة في شكل دائري الذي تم تسخينه بواسطة حمام هاك وتم قياس درجة حرارة المفاعل بواسطة مزدوج حراري متعدد النقاط وتم استخدام هذا المفاعل في العديد من تجارب الطبقة المتحركة ٠ > الاختبارية لإنتاج حمض الخليك acetic acid من الإيثان ethane و/أو الإثيلين ethylene وغاز محتوي على الأكسجين S59 oxygen توضيح ظروف التلامس ع0018600» .في جدولين Ys) . وباستخدام التحاليل بكروماتوجرافيا الغاز أثناء التركيب لتركيبة التيار الخارج أمكن حساب حسابات ناتج الوقت JAY لإنتاج حمض الخليك acetic acid ولم يشمل هذا التحليل حسابات الإنتاج المصاحب للإثيلين ethylene . ٍ Vo ولكل تجربة طبقة متحركة تم شحن المفاعل بعامل حفاز أو خليط من عامل حفاز/مادة تخفيف . ثم علقه واختباره تحت ضغط من النيتروجين nitrogen وبمجرد ثبات درجة حرارة وضغط التلامس contacting ¢ تم إدخال التيار المفاعل على التوالي (الهيدروكربون hydrocarbon ء البخار ؛ الأكسجين (oxygen وفي كل مرة يتم ترك الطبقة المتحركة لتستقر وبمجرد ثبات ظروف التشغيل تم إجراء التجربة لمدة أكبر من ١١ساعة وأمكن جمع نواتج vs التحليل بكروم chromium اتوجرافيا الغاز أثناء التشغيل بشكل دوري كل نصف ساعة .
- ١١7 -
ويمكن الملاحظة من نتائج الجدولين “و؛ أنه تم إنتاج حمض الخليك acetic acid من الإيثان ethane والإثيلين ethylene باستخدام العامل الحفاز الدقائقي المتميع . الجدول ١ : ظروف التلامس process Alen! contacting أكسدة الإيثان ethane إلى حمض الخليك acetic acid نسبة النيتروجين nitrogen المولية 1,04 1,04 1,04 المئوية
- ١
الجدول ؟ : ظروف التلامس contacting لعملية process أكسدة الإثيلين ethylene إلى حمض الخليك acetic acid ا I نسبة النيتروجين nitrogen المولية 41 1
المئوية
النتائج
ا
الجدول “: حسابات ناتج الوقت الخالي (ACOH) لعملية process أكسدة الإيثان ethane حمض الخليك acetic acid الساعات Yo V0 "7 ١8 لإ ملا Yeo 7 في التيار Y ) ل ¢ ١ سئس المثال CL الساعات 778 ص 76 73 va YA )£ رد 8 5 في التيار Vana 7 1" الساعات YY VY Vi VY 4 ¢ 1 Y ١ في التيار
الجدول ؛ : حسابات ناتج الوقت الخالي (ACOH) لعملية process أكسد ة الإثينين ethylene إلى حمض الخليك acetic acid ا الساعات في التيار نم م ساس ا
Claims (1)
- yy — - عناصر الحماية١ ١ - عملية process لإنتاج حمض الخليك acetic acid والتي تتضمن تلامس contacting ١ الإيثان ethane و/أر الإثيلين ethylene مع غاز يحتوي على v أكسجين molecular oxygen SH في مفاعل طبقة متحركة في وجود عامل ¢ تحفيز أكسدة صلب دقائق متميع كروي دقيق microspheroidal fluidized Cua particulate solid oxidation catalyst ° يكون 790 على الأقل من جزيئات هذا ٍ الحفاز أقل من 900 ميكرون . ١ "- عملية process طبقاً لعنصر الحماية رقم ١ ؛ حيث تكون على الأقل 798 من ١ جزيئات الحفاز أقل من Tor ميكرون . ١ »- عملية process طبقاً لعنصر الحماية رقم ١ أو عنصر الحماية ؟ ؛ حيث فيها تلامس contacting الإيثان ethane مع حفاز يحتوي على الموليبدينوم ر molybdenum . ١ ؛- عملية process طبقاً لعنصر الحماية رقم 9 ؛ حيث يكون العامل الحفاز هو 0 الايكتياءعه110,77 Cun تكون X عبارة عن العناصر 105 و 7 ؛ و ¥ 7 عبارة عن واحد أو أكثر من العناصر المختارة من المجموعة التالية Cr و 3408 و slr sRh Co sCe Bi 3Cd sZn sPt 3 In sCasAls ByTisTa g sBa sSr sCasMg sCs sRb 5K 30s sRu sFe 5 Au 3 Ag 5 Cu ° Zr | و sPd 5P Ni 5 Hf 86 و :8 و 58و 121و لآ و ع8 و «Pd وتكون sa ل 5d 5c 5b » و ؟ عن النسب الجرامية للعناصر بحيث تكون and a+b=1 A 0>8>1,0>1 5¢0<(c+d) 1 4٠١ 2 > >“0ءو ١١ 2 > 60). ١ 0— عملية lh process لعنصر الحماية رقم )¢ 0 عنصر الحماية رقم ١ ؛ Cua Y يتم فيها تلادمس contacting الإثيلين ethylene مع تركيبة عامل حفاز تحتوي على v بالاديوم فلزي metallic palladium وحمض متعدد مخلط أو dale . ١ 7- عملية lida process لعنصر الحماية رقم 5 ؛ حيث تحتوي تركيبة العامل Y الحفاز فيها على فلز مختار من المجموعة IB أو 178 أو VB أو من الجدول 7 الدوري . -١ ١ عملية process طبقاً لعنصر الحماية رقم 6 ؛ حيث يتم اختيار الفلز من النحاس والفضة silver و الرصاص lead و الخارصين antimony والقصدير tin والبزموت bismuth v والسيلينيوم tellurium والتيليريوم tellurium . ١ - عملية process طبقاً لعنصر الحماية رقم © إلى oY حيث يحتوي العامل Y الحفاز فيها على )١( بالاديوم فقلزي metallic palladium و(؟) حمض v فوسفوتنجستيك phosphotungstic acid أو حمض سيليكوتتنجستيك silicotungstic 31 10 أو على الأقل واحد من أملاح الليثيوم lithium أو الصوديوم sodium أو ° النحاس (Y)s على الأقل واحد من البزموت bismuth والسيلينيوم tellurium 1 والتيليريوم tellurium .\Y¥yeاس ١ 4- عملية process طبقاً لأي عنصر من عناصر الحماية السابقة حيث يحتوي titania Wikia أو silica العامل الحفاز فيها على مادة ربط مختارة من السيليكا Y ¥ الألومينا alumina أو الزيركونيا zirconia أو خليط منهم بتركيز على الأقل ٠١ 3 وزن # من تركيبة العامل الحفاز. ١ »)= عملية process طبقاً لأي عنصر من عناصر الحماية السابقة تم إجراؤها. إلى فم ٠٠١ عند درجة حرارة من Y -١ ١ عملية process طبقاً لأي عنصر من عناصر الحماية السابقة تم إجراؤها تحت ضغط من ١ إلى 9٠ بارا bara . -١ ١ عملية process متكاملة لإنتاج حمض الخليك acetic acid و/أو خلات الفينيل : تتضمن vinyl acetate Y 1 1 التلامس contacting في منطقة تلامس contacting أولى لشحنة تغذية تتكون 1 من الإثيلين ethylene و/أو الإيثان ethane واختيارياً البخار مع الغاز المحتوي ° على الأكسجين oxygen الجزيئي في وجود عامل حفاز فعال لأكسدة الإثيلين ethylene 1 إلى حمض الخليك acetic acid و/أو الإيثان ethane إلى حمض الخليك (l8Y) 5 acetic acid v كما هو موصوف هنا سابقاً للحصول على تيار منتج أول A يحتوي على حمض الخليك acetic acid والماء والإثيلين ethylene (إما كإثيلين ethylene q غير متلامس contacting و/أو كإثيلين ethylene منتج تصاحبياً) Ya واختيارياً أيضاً الإيثان ethane وثاني أكسيد الكربون carbon dioxide وأول أكسيد ١١ الكربون carbon monoxide و/أو النيتروجين nitrogen ¢ و VY ب) التلامس ع0018110: .في منطقة تلامس contacting ثانية في وجود أو غياب- vsVY إثيلين ethylene و/أو حمض خليك acetic acid إضافي لجزء على الأقل من تيار 3 المنتج الغازي الأول الذي يحتوي على الأقل على حمض خليك acetic acid Vo والإثيلين ethylene واختياريا أيضاً واحد أو أكثر من الماء أو الإيثان ethane أو Jf V1 أكسيد الكربون carbon monoxide أو ثاني أكسيد الكربون carbon dioxide لل و/أو النيتروجين nitrogen مع الغاز المحتوي على أكسجين جزيثي molecular م oxygen في وجود عامل حفاز فعال في إنتاج خلات الفينيل vinyl acetate لإنتاج 4 خلات الفينيل vinyl acetate لإنتاج تيار منتج ثاني يحتوي على خلات الفينيل vinyl acetate Y. والماء وحمض الخليك acetic acid واختيارياً الإثيلين ethylene . -١ ١ عملية process متكاملة طبقاً لعنصر الحماية رقم VY ؛ والتي تتضمن Y الخطوات الأخرى التالية : v ج) فصل تيار المنتج من الخطوة (ب) بالتقطير داخل جزء أزيوتروب azeotrope 3 علوي يحتوي على خلات الفينيل vinyl acetate والماء وجزء قاعدي يحتوي على ° حمض الخليك acetic acid ؛ و 1 د) (V) W استخلاص حمض الخليك a acetic acid الجزء القاعدي المفصول في ل shal 5 (ج) واختيارياً sale) استخدام الجزء الأزيوتروب azeotrope ي المفصول A في الخطوة (ج) بعد الفصل الجزئي أو الكلي للماء منه في الخطوة (ج). q أو (7) استخلاص خلات الفينيل vinyl acetate من الجزء الأزيوتروب azeotrope ١ ي المفصول من الخطوة (ج) واختيارياً إعادة استخدام الجزء القاعدي المفصول من ١١ الخطوة (ج) إلى الخطوة (ب) ؛ ١ أو (©) استخلاص حمض الخليك acetic acid من الجزء القاعدي المفصول في yy الخطوة )(ج واستخلاص خلات الفينيل vinyl acetate من الجزء الأزيوتروبي azeotrope ٠ العلوي المستخلص في الخطوة (ج) ٠
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB9819221.4A GB9819221D0 (en) | 1998-09-04 | 1998-09-04 | Process for the production of acetic acid |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SA99200719B1 true SA99200719B1 (ar) | 2006-09-25 |
Family
ID=10838289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA99200719A SA99200719B1 (ar) | 1998-09-04 | 1999-10-31 | عملية process لانتاج حمض الخليك aceic acid |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7081549B2 (ar) |
| EP (1) | EP1109772B8 (ar) |
| JP (2) | JP2002524436A (ar) |
| KR (1) | KR100635891B1 (ar) |
| CN (1) | CN1231442C (ar) |
| AT (1) | ATE317840T1 (ar) |
| AU (1) | AU5636699A (ar) |
| BR (1) | BR9913426A (ar) |
| CA (1) | CA2341555C (ar) |
| DE (1) | DE69929894T2 (ar) |
| ES (1) | ES2255758T3 (ar) |
| GB (1) | GB9819221D0 (ar) |
| ID (1) | ID28495A (ar) |
| MY (1) | MY129272A (ar) |
| NO (1) | NO327227B1 (ar) |
| RS (1) | RS49815B (ar) |
| RU (1) | RU2233832C2 (ar) |
| SA (1) | SA99200719B1 (ar) |
| TR (1) | TR200100661T2 (ar) |
| TW (1) | TWI229665B (ar) |
| UA (1) | UA67799C2 (ar) |
| WO (1) | WO2000014047A1 (ar) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PT1286945E (pt) * | 2000-05-19 | 2005-05-31 | Celanese Int Corp | Processo integrado para a producao de acetato de vinilo |
| GB0026243D0 (en) * | 2000-10-26 | 2000-12-13 | Bp Chem Int Ltd | Process |
| DE10055810A1 (de) * | 2000-11-10 | 2002-05-23 | Aventis Res & Tech Gmbh & Co | Verfahren zur Herstellung von Essigsäure |
| GB0223681D0 (en) * | 2002-10-10 | 2002-11-20 | Bp Chem Int Ltd | Catalyst and process |
| UA79540C2 (uk) | 2003-01-27 | 2007-06-25 | Бп Кемікалз Лімітед | Каталітична композиція окиснення, її одержання та спосіб селективного окиснення |
| SA05260071B1 (ar) * | 2004-03-29 | 2009-11-11 | دينكو كيه كيه, شوا | محفز لإنتاج مركب يحتوي على اكسجين، وعملية لإنتاج المحفز وعملية لإنتاج مركب يحتوي على اكسجين باستخدام المحفز |
| RU2554879C2 (ru) * | 2010-04-15 | 2015-06-27 | Чайна Петролеум & Кемикал Корпорейшн | Способ селективной окислительной дегидрогенизации водородсодержащего газа, смешанного с со |
| US20140275619A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Celanese International Corporation | Process for Producing Acetic Acid and/or Ethanol By Methane Oxidation |
| EP2988865A2 (en) | 2013-04-24 | 2016-03-02 | Saudi Basic Industries Corporation | High productivity catalyst for alkane oxidation to unsaturated carboxylic acids and alkenes |
| CN105142780A (zh) * | 2013-04-24 | 2015-12-09 | 沙特基础工业公司 | 用于从烷烃产生不饱和羧酸的负载型催化剂 |
| CN104355986A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-02-18 | 朱忠良 | 一种用于生产乙酸的方法 |
| JP2018127398A (ja) * | 2015-05-12 | 2018-08-16 | 株式会社ダイセル | 酸化反応用リアクター、及び酸化物の製造方法 |
Family Cites Families (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3373189A (en) | 1965-07-09 | 1968-03-12 | Nat Distillers Chem Corp | Vapor phase process for producing vinyl acetate from ethylene |
| JPS52140490A (en) * | 1976-05-19 | 1977-11-24 | Nitto Chem Ind Co Ltd | Production of fluid catalyst containing antimony oxide |
| US4328365A (en) * | 1979-08-10 | 1982-05-04 | Celanese Corporation | Hydrocarbon oxidation via carbon monoxide reduced catalyst |
| US4280929A (en) * | 1979-09-17 | 1981-07-28 | Standard Oil Company | Attrition resistant-higher active component fluid bed catalysts |
| US4250346A (en) * | 1980-04-14 | 1981-02-10 | Union Carbide Corporation | Low temperature oxydehydrogenation of ethane to ethylene |
| EP0082222B1 (en) | 1980-12-24 | 1987-03-11 | The Standard Oil Company | Catalytic process for converting carbon monoxide to a high energy gas |
| GB8915410D0 (en) * | 1989-07-05 | 1989-08-23 | Bp Chem Int Ltd | Chemical process |
| US4845070A (en) * | 1984-07-18 | 1989-07-04 | Amoco Corporation | Catalyst for producing alpha, beta-ethylenically unsaturated aliphatic monocarboxylic acid and method of making said catalyst |
| US4677084A (en) * | 1985-11-27 | 1987-06-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Attrition resistant catalysts, catalyst precursors and catalyst supports and process for preparing same |
| US4784979A (en) * | 1987-12-07 | 1988-11-15 | The Standard Oil Company | Catalyst and catalyst precursor containing vanadium and antimony |
| US4879264A (en) * | 1988-11-14 | 1989-11-07 | The Standard Oil Company | Method of making catalyst and catalyst precursor containing vanadium and antimony |
| US5210293A (en) * | 1989-07-05 | 1993-05-11 | Bp Chemicals Limited | Process and catalyst for the production of ethylene and acetic acid |
| JPH03245844A (ja) | 1990-02-22 | 1991-11-01 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 流動床用触媒およびその調製方法 |
| US5300684A (en) | 1991-12-09 | 1994-04-05 | The Standard Oil Company | Process for the fluidized bed oxidation of ethane to acetic acid |
| US5258136A (en) * | 1992-03-04 | 1993-11-02 | Application Chemicals, Inc. | Alkoxylated compounds and their use in cosmetic stick formulations |
| JP3155602B2 (ja) * | 1992-03-17 | 2001-04-16 | 三菱化学株式会社 | 無水マレイン酸の製造方法 |
| TW295579B (ar) * | 1993-04-06 | 1997-01-11 | Showa Denko Kk | |
| FR2705668B1 (fr) * | 1993-05-28 | 1995-08-25 | Rhone Poulenc Chimie | Procédé de préparation d'acide acétique par oxydation ménagée de l'éthane. |
| JP3536326B2 (ja) * | 1993-11-25 | 2004-06-07 | 三菱化学株式会社 | ニトリル製造用触媒の製造方法 |
| ES2249764T3 (es) | 1994-02-22 | 2006-04-01 | The Standard Oil Company | Proceso de preparacion de un catalizador para fabricar acetato de vinilo en un lecho fluido. |
| US5466652A (en) * | 1994-02-22 | 1995-11-14 | The Standard Oil Co. | Process for the preparation of vinyl acetate catalyst |
| US5432141A (en) * | 1994-03-15 | 1995-07-11 | The Standard Oil Company | Preparation of attrition resistant vanadium-antimony oxide catalysts |
| US5665667A (en) * | 1994-06-02 | 1997-09-09 | The Standard Oil Company | Process for the preparation of vinyl acetate catalyst |
| ES2135006T3 (es) | 1994-06-02 | 1999-10-16 | Standard Oil Co Ohio | Procedimiento en lecho fluido para la acetoxilacion de etileno en la produccion de acetato de vinilo. |
| FR2728898B1 (fr) * | 1994-12-29 | 1997-01-31 | Rhone Poulenc Chimie | Procede de preparation d'acides carboxyliques par oxydation menagee des alcanes correspondants |
| JP3982852B2 (ja) * | 1995-06-30 | 2007-09-26 | 三菱レイヨン株式会社 | 流動層プロセス |
| DE19620542A1 (de) * | 1996-05-22 | 1997-11-27 | Hoechst Ag | Verfahren zur selektiven Herstellung von Essigsäure |
| DE19630832A1 (de) * | 1996-07-31 | 1998-02-05 | Hoechst Ag | Verfahren zur selektiven Herstellung von Essigsäure |
| GB9616573D0 (en) * | 1996-08-07 | 1996-09-25 | Bp Chem Int Ltd | Process |
| DE19717076A1 (de) * | 1997-04-23 | 1998-10-29 | Hoechst Ag | Katalysator und Verfahren zur katalytischen Oxidation von Ethan zu Essigsäure |
| DE19745902A1 (de) * | 1997-10-17 | 1999-04-22 | Hoechst Ag | Verfahren zur selektiven Herstellung von Essigsäure durch katalytische Oxidation von Ethan |
| GB9807142D0 (en) * | 1998-04-02 | 1998-06-03 | Bp Chem Int Ltd | Catalyst and process utilising the catalyst |
-
1998
- 1998-09-04 GB GBGB9819221.4A patent/GB9819221D0/en not_active Ceased
-
1999
- 1999-01-09 UA UA2001042248A patent/UA67799C2/uk unknown
- 1999-09-01 ID IDW20010518A patent/ID28495A/id unknown
- 1999-09-01 CN CNB99810499XA patent/CN1231442C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-09-01 AU AU56366/99A patent/AU5636699A/en not_active Abandoned
- 1999-09-01 WO PCT/GB1999/002874 patent/WO2000014047A1/en active IP Right Grant
- 1999-09-01 DE DE69929894T patent/DE69929894T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-01 BR BR9913426-8A patent/BR9913426A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-09-01 TR TR2001/00661T patent/TR200100661T2/xx unknown
- 1999-09-01 RS YUP-170/01A patent/RS49815B/sr unknown
- 1999-09-01 AT AT99943081T patent/ATE317840T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-09-01 CA CA002341555A patent/CA2341555C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-09-01 RU RU2001108529/04A patent/RU2233832C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-09-01 EP EP99943081A patent/EP1109772B8/en not_active Revoked
- 1999-09-01 KR KR1020017002803A patent/KR100635891B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-09-01 ES ES99943081T patent/ES2255758T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-01 JP JP2000568807A patent/JP2002524436A/ja active Pending
- 1999-09-03 MY MYPI99003833A patent/MY129272A/en unknown
- 1999-09-03 TW TW088115202A patent/TWI229665B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-10-31 SA SA99200719A patent/SA99200719B1/ar unknown
-
2001
- 2001-03-02 NO NO20011086A patent/NO327227B1/no not_active IP Right Cessation
- 2001-03-05 US US09/797,919 patent/US7081549B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-02-28 JP JP2011042793A patent/JP2011105771A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2341555A1 (en) | 2000-03-16 |
| NO20011086L (no) | 2001-05-04 |
| ATE317840T1 (de) | 2006-03-15 |
| NO327227B1 (no) | 2009-05-18 |
| EP1109772B8 (en) | 2006-05-03 |
| CN1316984A (zh) | 2001-10-10 |
| EP1109772B1 (en) | 2006-02-15 |
| ES2255758T3 (es) | 2006-07-01 |
| TWI229665B (en) | 2005-03-21 |
| ID28495A (id) | 2001-05-31 |
| JP2011105771A (ja) | 2011-06-02 |
| WO2000014047A1 (en) | 2000-03-16 |
| DE69929894D1 (de) | 2006-04-20 |
| DE69929894T2 (de) | 2006-07-27 |
| NO20011086D0 (no) | 2001-03-02 |
| KR100635891B1 (ko) | 2006-10-18 |
| YU17001A (sh) | 2003-02-28 |
| AU5636699A (en) | 2000-03-27 |
| BR9913426A (pt) | 2001-10-23 |
| JP2002524436A (ja) | 2002-08-06 |
| CA2341555C (en) | 2009-11-10 |
| KR20010074946A (ko) | 2001-08-09 |
| TR200100661T2 (tr) | 2001-07-23 |
| GB9819221D0 (en) | 1998-10-28 |
| RS49815B (sr) | 2008-08-07 |
| UA67799C2 (uk) | 2004-07-15 |
| EP1109772A1 (en) | 2001-06-27 |
| RU2233832C2 (ru) | 2004-08-10 |
| MY129272A (en) | 2007-03-30 |
| US20040030184A1 (en) | 2004-02-12 |
| US7081549B2 (en) | 2006-07-25 |
| CN1231442C (zh) | 2005-12-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1590083B1 (en) | Mixed oxide catalyst for the manufacture of acrylonitrile and/or methacrylonitrile | |
| SA99200719B1 (ar) | عملية process لانتاج حمض الخليك aceic acid | |
| EP1069945B1 (en) | Catalyst and process for the oxidation of ethane and/or ethylene | |
| US8242048B2 (en) | Oxidation catalyst and its preparation | |
| JP2000037624A (ja) | 低級アルカン酸化脱水素用触媒およびオレフインの製造方法 | |
| SA98190459B1 (ar) | طريقة انتاج أكريلونيتريل acrylonitrile أو ميثاكر يلونيتريل methacrylonitrile من البروبان propaneأو الأيزوبيوتان isobutane بواسطة الأكسدة النشادرية ammoxidatino | |
| US8084388B2 (en) | Catalyst composition and process for the selective oxidation of ethane and/or ethylene to acetic acid | |
| US20010029234A1 (en) | Catalyst for the production of acrylic acid | |
| JPH04257528A (ja) | エチレンおよび酢酸を製造するための方法および触媒 | |
| JP3497558B2 (ja) | アンモ酸化用触媒組成物及びこれを用いたアクリロニトリルまたはメタクリロニトリルの製造方法 | |
| JP5103019B2 (ja) | オレフィンから不飽和アルデヒドを製造するための混合金属酸化物触媒の製造法 | |
| JPH07328441A (ja) | アンモ酸化に用いる触媒組成物及びこれを用いたアクリロニトリルまたはメタクリロニトリルの製造方法 | |
| JP3989555B2 (ja) | 酢酸の選択的製造法 | |
| JP5011178B2 (ja) | アクリロニトリル合成用触媒の製造方法およびアクリロニトリルの製造方法 | |
| JP3852983B2 (ja) | 塩化水素から塩素を製造するための触媒 | |
| JP2004298873A (ja) | オレフィンから不飽和アルデヒドを製造するための混合金属酸化物触媒 | |
| JP5210835B2 (ja) | アクリロニトリル合成用触媒の製造方法およびアクリロニトリルの製造方法 | |
| US7368599B2 (en) | Ethane oxidation catalyst and process utilising the catalyst | |
| JPH10237011A (ja) | 酸化還元反応によってアクロレインからアクリル酸を製造する方法と、その反応での固体混合酸化物組成物の酸化還元系としての使用 | |
| JP2004351297A (ja) | メタクリル酸製造用触媒、その製造方法およびメタクリル酸の製造方法 | |
| JP3763245B2 (ja) | ヘテロポリ酸系触媒の再生方法およびメタクリル酸の製造方法 | |
| JPS60163830A (ja) | メタクロレイン及びメタクリル酸の製造法 | |
| KR20040047169A (ko) | 아크롤레인의 부분 산화 반응용 촉매의 제조방법 | |
| CN110357836B (zh) | 一种环氧乙烷生产方法 | |
| JP4352537B2 (ja) | アクリロニトリル及び／又はアクリル酸の製造方法 |