PL186742B1 - Sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel i przesłona cieniowa ze stopu żelazo-nikiel - Google Patents

Sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel i przesłona cieniowa ze stopu żelazo-nikiel

Info

Publication number
PL186742B1
PL186742B1 PL95312029A PL31202995A PL186742B1 PL 186742 B1 PL186742 B1 PL 186742B1 PL 95312029 A PL95312029 A PL 95312029A PL 31202995 A PL31202995 A PL 31202995A PL 186742 B1 PL186742 B1 PL 186742B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
sheet
max
iron
nickel alloy
weight
Prior art date
Application number
PL95312029A
Other languages
English (en)
Other versions
PL312029A1 (en
Inventor
Jacques Baudry
Michel Faral
Jean-François Tiers
Original Assignee
Imphy Sa Sa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Imphy Sa Sa filed Critical Imphy Sa Sa
Publication of PL312029A1 publication Critical patent/PL312029A1/xx
Publication of PL186742B1 publication Critical patent/PL186742B1/pl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
    • C22C38/08—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing nickel
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
    • H01J29/18—Luminescent screens
    • H01J29/20—Luminescent screens characterised by the luminescent material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
    • C21D8/02—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
    • C21D8/0205—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips of ferrous alloys
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02—Local etching
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D6/00—Heat treatment of ferrous alloys
    • C21D6/001—Heat treatment of ferrous alloys containing Ni

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
  • Heat Treatment Of Articles (AREA)

Abstract

1. Sposób w ytw arzania przeslony cieniow ej ze stopu zelazo-nikiel, zn a m ie n n y tym , ze dostarcza sie arkusz z cienkiej blachy posiadajacy równom iernie rozm ieszczone otwory, utworzony ze stopu zelazo-nikiel, który wagowo zawiera 35,5% = Ni = 37%; Co = 0,5%, Cr = 0,1%, Cu = 0,1%; Mo = 0,1%; V = 0,1%; N b = 0,1%; Mn = 0,1% , 0,03% = Si = 0,15%; S = 0,001%; 0,0001% = Ca = 0,002%; 0,0001% = Mg = 0,002%; Al = 0,005%; O = 0,01%; C = 0,02%; N = 0,005%; P = 0,003%; H = 0,001%; B = 0,001%, a reszte stanowi zelazo i nieunik- nione zanieczyszczenia wynikajace z procesu wytwarzania, w którym ponadto S = 0,02 x Mn + 0,8 x Ca + 0,6 x M g oraz Cr + Cu + M o + V + Nb + Si = O, 15%, i który to arkusz poddaje sie obróbce cieplnej w yzarzania w atm osferze nie utleniajacej w tem - peraturze pom iedzy 750°C i 850°C, z otrzym aniem ziarna, którego w ielkosc wedlug normy ASTM E 112-88,12.4 je s t w ieksza lub rów na 7 ASTM , a nastepnie arkusz ten form uje sie nadajac mu ksztalt przeslony cieniowej. 4 Przeslona cieniowa utworzona z arkusza z cienkiej blachy otrzym anego ze stopu zelazo- nikiel majacego wspólczynnik rozszerzalnosci liniowej w tem peraturze pom iedzy 20°C i 100°C nizszy od 0,9 x 10-6 /°K, a korzystnie 0,8 x 10-6 /oK, znam ienna tym , ze arkusz posiada równomier- nie rozmieszczone otwory, a stop zelazo-nikiel wagowo zawiera 35,5% = Ni = 37%, Co = 0,5%; Cr = 0,1%; Cu = 0,1%; Mo = 0,1%; = 0,1%; Nb = 0,1%; Mn = 0,1% ; 0,03% = Si = 0,15%, S = 0,001%; 0,0001% = Ca = 0,002%; 0,0001% = Mg = 0,002%; Al = 0,005% , O = 0,01%, C = 0,02%; N = 0,005%; P = 0,003%; H = 0,001%; B = 0,001%, przy czym reszte stanowi zelazo i nieuniknione zanieczyszczenia wynikajace z procesu wytwarzania, w którym S = 0,02 x Mn + 0.8 x Ca + 0,6 x M g i Cr + Cu + Mo + V + Nb + Si = 0,15%. PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu zelazonikiel oraz przesłona cieniowa ze stopu żelazo-nikiel, zwłaszcza z przeznaczeniem do lamp elektropromieniowych wizji kolorowej.
Lampa elektropromieniowa wizji kolorowej zawiera na ogół obudowę mającą okno obrazowe ze szkła posiadające ekran obrazowania, na którym umieszczone są luminofory czerwone, zielone i niebieskie.
Przesłona cieniowa lub maska kineskopu („shadow mask”) zawierająca bardzo dużą ilość małych otworów zamontowana jest w lampie na wprost ekranu obrazowania i w niewielkiej odległości od niego. Wówczas, gdy lampa funkcjonuje wewnątrz niej wytwarzane są trzy wiązki
186 742 elektronów przez trzy działa elektronowe, przy czym te wiązki elektronów przechodzą poprzez trzy osłony cieniowe i zaczynają bombardować pola fosforescencyjne.
Względne położenia tych otworów i luminoforów są takie, że każda wiązka elektronów bombarduje pola fosforescencyjne odpowiadające poszczególnej barwie, dla utworzenia obrazu.
Jednakże, znaczna część elektronów zatrzymywana jest przez przesłonę cieniową, a energia kinetyczna tych elektronów przetwarzana jest w ciepło, które podnosi temperaturę przesłony cieniowej. Rozszerzalność cieplna przesłony cieniowej wywołana wzrostem temperatury może powodować miejscowe odkształcenie przesłony cieniowej, które powoduje zakłócenia rozmieszczenia względnego otworów i skojarzonych z nimi luminoforów.
Wynikają stąd błędy w kolorach obrazu i błędy te są tym znaczniejsze im przesłona cieniowa jest bardziej płaska, a to jest coraz częstszym przypadkiem w obecnych generacjach lamp elektropromieniowych, których okna obrazowania są coraz bardziej płaskie. Jest oczywiste, że takich problemów spowodowanych wpływem ciepła można uniknąć wytwarzając przesłony cieniowe z materiałów o niskim współczynniku rozszerzalności liniowej. Takim materiałem jest, na przykład, stop żelazo-nikiel zawierający około 36% niklu. Jednakże podwyższone własności mechaniczne i trudności walcowania takich materiałów ograniczają ich stosowanie do tego celu.
Znane jest z amerykańskiego opisu patentowego US 4,685,321 (EPA 179 506) poddawanie najpierw arkusza materiału przeznaczonego do wytwarzania przesłony cieniowej obróbce cieplnej w celu zmniejszenia jego granicy plastyczności o 0,2% w temperaturze otoczenia, a następnie kształtowanie go w temperaturze wyższej od temperatury otoczenia zmniejszając jeszcze jego granicę plastyczności o 0,2%. Stop żelazo-nikiel stosowany w tym procesie ma współczynnik rozszerzalności liniowej zawarty pomiędzy 1 x 10'6/°K a 1,5 x 106/°K. Niższy współczynnik rozszerzalności może być uzyskany zastępując część niklu przez kobalt o zawartości pomiędzy 2% i 12% wagowych.
Jednakże, zastąpienie niklu przez kobalt powoduje wiele niedogodności. Kobalt jest składnikiem bardzo drogim, a ponadto zanieczyszcza on odczynniki chemiczne stosowane do wykonywania otworów w przesłonie cieniowej przez grawerowanie chemiczne.
Celem wynalazku jest sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel nie zawierającego lub zawierającego bardzo mało kobaltu, mającego współczynnik rozszerzalności liniowej niższy od 0,9 x 10'6/°K i łatwego do walcowania.
Cel ten osiągnięto przez zastosowanie sposobu wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel nie zawierającego lub zawierającego bardzo mało kobaltu.
Zgodnie z wynalazkiem sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel charakteryzuje się tym, ze dostarcza się arkusz z cienkiej blachy posiadający równomiernie rozmieszczone otwory, utworzony ze stopu żelazo-nikiel, który wagowo zawiera 35,5% < Ni < 37%; Co < 0,5%; Cr < 0,1%; Cu < 0,1%; Mo < 0,1%; V < 0,1%; Nb < 0,1%; Mn < 0,1%; 0,03% < Si < 0,15%; S < 0,001%; 0,0001% < Ca < 0,002%; 0,0001% < Mg < 0,002%; Al <
< 0,005%; O < 0,01%; C < 0,02%; N < 0,005%; P < 0,003%; H < 0,001%; B < 0,001%, a resztę stanowi żelazo i nieuniknione zanieczyszczenia wynikające z procesu wytwarzania, zaś skład chemiczny stopu spełnia zależność S < 0,02 x Mn + 0,8 x Ca + 0,6 x Mg oraz
Cr + Cu + Mo + V + Nb + Si < 0,15%, i który to arkusz poddaje się obróbce cieplnej wyzarzania w atmosferze nie utleniającej w temperaturze pomiędzy 750°C i 850°C z otrzymaniem ziarna, którego wielkość według normy ASTM E 112-88,12.4 jest większa lub równa 7 ASTM, a następnie arkusz ten formuje się nadając mu kształt przesłony cieniowej.
Korzystnie, w sposobie według wynalazku dostarcza się arkusz utworzony ze stopu żelazo-nikiel, który wagowo zawiera Si < 0,08%; Cr < 0,07%; Cu < 0,05%; Mo < 0,05%; Mn <
< 0,05%; O < 0,005%; N < 0,003%; S < 0,0005%; C < 0,005%; B < 0,0004%.
W celu zapewnienia współczynnika rozszerzalności liniowej o możliwie najniższej wartości korzystnie dostarcza się arkusz utworzony ze stopu żelazo-nikiel, który wagowo zawiera
35,9 < Ni < 36,2%.
Natomiast przesłona cieniowa utworzona z arkusza z cienkiej blachy otrzymanego ze stopu żelazo-nikiel mającego współczynnik rozszerzalności liniowej w temperaturze pomiędzy 20°C i 100°C niższy od 0,9 x 10'6/'°K, a korzystnie poniżej 0,8 x 10'6/°K charakteryzuje
186 742 się tym, że arkusz posiada równomiernie rozmieszczone otwory, a stop zelazo-nikiel wagowo zawiera 35,5% < Ni < 37%; Co < 0,5%; Cr < 0,1%; Cu < 0,1%; Mo < 0,1%; V < 0,1%; Nb <
< 0,1%; Mn < 0,1%; 0,03% < Si < 0,15%; S < 0,001%; 0,0001% < Ca < 0,002%; 0,0001% <
< Mg < 0,002%; Al < 0,005%; O < 0,01%; C < 0,02%; N < 0,005%; P < 0,003%; H <
< 0,001%; B < 0,001%; przy czym resztę stanowi Żelazo i nieuniknione zanieczyszczenia wynikające z procesu wytwarzania i, że dodatkowo spełniona jest zależność
S < 0,02 x Mn + 0,8 x Ca + 0,6 x Mg oraz Cr + Cu + Mo + V + Nb + Si < 0,15%.
Korzystnie, stop żelazo-nikiel przesłony cieniowej wagowo zawiera Si < 0,08%; Cr <
< 0,07%; Cu < 0,05%; Mo < 0,05%; Mn < 0,05%; O < 0,005%; N < 0,003%; S < 0,0005%; C < 0,005%; B < 0,0004%.
Jest również korzystne, aby stop żelazo-nikiel wagowo zawierał 35,9% < Ni < 36,2%.
Korzystnie, ziarno stopu żelazo-nikiel ma wielkość, mierzoną według normy ASTM E 112-88, 12.4, wyższą od wskaźnika 7 ASTM.
Przedmiot wynalazku zostanie przedstawiony szczegółowo w oparciu o podany poniżej przykład wykonania.
Taśma mająca grubość około 150 pm otrzymana jest przez walcowanie na gorąco, a następnie przez walcowanie na zimno z wlewką lub z kęsiska ze stopu żelazo-nikiel zawierającego wagowo 35,5% < Ni < 37%; Co < 0,5%; Cr < 0,1%; Cu < 0,1%; Mo < 0,1%; V < 0,1%; Nb < 0,1%; Mn < 0,1%; 0,03% < Si < 0,15%; S < 0,001%; 0,0001% < Ca < 0,002%; 0,0001% < Mg < 0,002%; Al < 0,005%; O < 0,01%; C < 0,02%; N < 0,005%; P < 0,003%; H <
< 0,001%; B < 0,001%; przy czym resztę stanowi żelazo i nieuniknione zanieczyszczenia wynikające z procesu wytwarzania, zaś skład chemiczny stopu spełnia równania S < 0,02 x Mn + + 0,8 x Ca + 0,6 x Mg i Cr + Cu + Mo + V + Nb + Si < 0,15%.
Skład tego stopu dobrany jest tak, aby otrzymać współczynnik rozszerzalności liniowej niższy od 0,9 x 10’6/°K, a korzystnie poniżej 0,8 x 10'6/°K, zdolność do walcowania na gorąco i na zimno, możliwość otrzymywania bardzo małych otworów przez grawerowanie chemiczne, rozstawionych na taśmie bardzo blisko siebie i zdolność do formowania na zimno przez wytłaczanie.
Zawartość niklu, chromu, miedzi, molibdenu, wanadu, niobu, krzemu i manganu tworzące zależność:
Cr + Cu + Mo + V + Nb + Si < 0,15% są dobrane tak, aby współczynnik rozszerzalności liniowej był niższy od 0,9 x 10'6/°K.
Jest korzystne, aby zawartość niklu zawarta była pomiędzy 35,9% i 36,2% wagowych, zawartość wagowo chromu była niższa od 0,07%, zawartość miedzi, molibdenu, manganu były niższe od 0,05%, a zawartość krzemu była niższa od 0,08%, przy czym otrzymuje się współczynnik rozszerzalności liniowej niższy od 0,8 x 10'6/°K.
Zawartość kobaltu powinna być niższa od 0,5%, aby uniknąć zanieczyszczenia płynu trawiącego stosowanego do operacji grawerowania chemicznego.
Granice zawartości siarki, krzemu, wapnia, magnezu, tlenu i fosforu tworzące zależność S < 0,02 x Mn + 0,8 x Ca + 0,6 x Mg są dobrane tak, aby otrzymać dobrą zdolność do walcowania pomimo bardzo niskiej zawartości manganu.
Korzystnie, zawartość tlenu powinna być niższa od 0,005%, a siarki poniżej 0,0005%.
Zawartość aluminium powinna być niższa od 0,005%, a azotu niższa od 0,005%, korzystnie niższa od 0,003%, aby uniknąć tworzenia się azotków glinu niekorzystnych dla zdolności odkształcania się na gorąco.
Zawartość węgla powinna pozostać niższa od 0,02%, a korzystnie niższą od 0,005%, aby zmniejszyć granicę plastyczności, która sprzyja zdolności do tłoczenia.
Zawartość wodoru jest ograniczona do 0,001%, aby uniknąć tworzenia się siarczków.
Zawartość boru powinna być niższa od 0,001%, a korzystnie niższa od 0,0004%, aby umknąć tworzenia się azotków sproszkowanych na powierzchni taśmy podczas obróbki cieplnej.
Na taśmie wykonane są niewielkie otwory w procesie fotochemicznego grawerowania. Te otwory mogą mieć dowolne kształty, na przykład, okrągłe lub wydłużone.
186 742
Po wygrawerowaniu otworów taśma, na której są również wygrawerowane linie rozdzielające, przycinana jest do postaci arkuszy, z których każdy tworzy arkusz przesłony cieniowej zawierający siatkę otworów.
Materiał tworzący arkusz tak otrzymanej przesłony cieniowej ma granicę plastyczności do 0,02% zawartą pomiędzy 580 MPa i 640 MPa w temperaturze otoczenia, a to jest wartością zbyt dużą, aby otrzymać arkusz przesłony cieniowej mającej żądaną krzywiznę. Aby zmniejszyć tę granicę plastyczności arkusz przesłony cieniowej wyżarzany jest przez około 15 minut w atmosferze wodoru (około 10%o H2, reszta N2), w temperaturze zawartej pomiędzy 750°C i 850°C otrzymując materiał mający wielkość ziaren około 15 pm, natężenie koercyjne około 40 A/m i współczynnik liniowej w temperaturze pomiędzy 20°C i 100°C nizszy lub równy 0,9 x 10-6°K.
Granica plastyczności 280 MPa, chociaż zmniejszona, jest jednak zbyt wysoka, aby sposób kształtowania przesłony cieniowej był powtarzalny.
Z tego powodu konieczne jest dalsze zmniejszenie granicy plastyczności. W tym celu arkusz przesłony cieniowej jest kształtowany w temperaturze zawartej pomiędzy 50°C i 250°C. Dla temperatury 200°C granica plastyczności wynosi około 130 MPa.
Przykład
Wytworzono przesłonę cieniową z materiału według wynalazku, którego skład chemiczny wagowo zawiera Ni = 36,13%; Co = 0,015%; Cr = 0,02%; Cu < 0,01%; Mo = 0,0055%; V < < 0,005%; Nb < 0,005%; Si = 0,078%; Mn = 0,024%; S < 0,0005%; Ca = 0,0003%; Mg = - 0,0004%; Al < 0,005%; O = 0,0042%; C = 0,003%; N = 0,0033%; P < 0,003%; H < 0,001%; B < 0,0004%.
Zawartość wskazana jako „mniejsze od” są zawartościami niższymi od progu czułości stosowanych sposobów analizy.
Przesłona cieniowa, tak otrzymana, ma wadę w postaci pęcherzy, mniejszą co najmniej o 15% od wady tego samego rodzaju zauważonej na porównywalnej przesłonie cieniowej wykonanej ze stopu żelazo-nikiel znanego ze stanu techniki.
Ze względu na małą zawartość kobaltu, ten składnik nie wpływa na sposób grawerowania chemicznego. Koercja niższa od 55 A/m jest szczególnie korzystna w procesie odmagnetyzowania przesłon cieniowych, stosowana każdorazowo przy włączeniu lampy.
Jedną z zalet wynalazku jest to, że przesłona cieniowa nie może być polerowana warstwą taką jak warstwa z Bi2O3, Al2O3, ze szkła lub z bromu ołowiu, aby pochłaniać ciepło wywołane bombardowaniem elektronowym.
Wynalazek dotyczy przesłony cieniowej mającej otwory okrągłe lub wydłużone usytuowane zarówno na małej części wysokości przesłony jak i na jej całej wysokości. Jest on szczególnie przystosowany do wytwarzania przesłon cieniowych do lamp elektropromieniowych do odbioru barwnego mających bardzo dużo otworów z bardzo małymi przestrzeniami między otworami.
Należy zauważyć, że arkusz dla przesłony cieniowej, według wynalazku, zawierający bardzo małe ilości Si, Mn, a w szczególności Cr, ma strukturę krystaliczną bardziej jednorodną, a to polepsza zdolność do grawerowania chemicznego. Jest to bardzo ważne dla przesłon cieniowych przeznaczonych do lamp elektropromieniowych do barwnego odbioru, których przesłony muszą mieć bardzo dużą ilość otworów usytuowanych bardzo blisko siebie.
186 742
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 50 egz. Cena 2,00 zł.

Claims (7)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel, znamienny tym, że dostarcza się arkusz z cienkiej blachy posiadający równomiernie rozmieszczone otwory, utworzony ze stopu żelazo-nikiel, który wagowo zawiera 35,5% < Ni < 37%; Co < 0,5%; Cr <
    < 0,1%; Cu < 0,1%; Mo < 0,1%; V < 0,1%; Nb < 0,1%; Mn < 0,1%; 0,03% < Si < 0,15%; S <
    < 0,001%; 0,0001% < Ca < 0,002%; 0,0001% < Mg < 0,002%; Al < 0,005%; O < 0,01%; C <
    < 0,02%; N < 0,005%; P < 0,003%; H < 0,001%; B < 0,001%, a resztę stanowi żelazo i nieuniknione zanieczyszczenia wynikające z procesu wytwarzania, w którym ponadto
    S < 0,02 x Mn + 0,8 x Ca + 0,6 x Mg oraz Cr + Cu + Mo + V + Nb + Si < O, 15%, i który to arkusz poddaje się obróbce cieplnej wyżarzania w atmosferze nie utleniającej w temperaturze pomiędzy 750°C i 850°C, z otrzymaniem ziarna, którego wielkość według normy ASTM E 112-88,12.4 jest większa lub równa 7 ASTM, a następnie arkusz ten formuje się nadając mu kształt przesłony cieniowej.
  2. 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że dostarcza się arkusz utworzony ze stopu zelazo-nikiel, który wagowo zawiera Si < 0,08%; Cr < 0,07%; Cu < 0,05%; Mo < 0,05%; Mn < 0,05%; O < 0,005%; N < 0,003%; S < 0,0005%; C < 0,005%; B < 0,0004%.
  3. 3. Sposób według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że dostarcza się arkusz utworzony ze stopu żelazo-nikiel, który wagowo zawiera 35,9% < Ni < 36,2%.
  4. 4. Przesłona cieniowa utworzona z arkusza z cienkiej blachy otrzymanego ze stopu zelazo-nikiel mającego współczynnik rozszerzalności liniowej w temperaturze pomiędzy 20°C 100°C niższy od 0,9 x ł0'6/°K, a korzystnie 0,8 x 10'6/°K, znamienna tym, że arkusz posiada równomiernie rozmieszczone otwory, a stop żelazo-nikiel wagowo zawiera 35,5% < Ni <
    < 37%; Co < 0,5%; Cr < 0,1%; Cu < 0,1%; Mo < 0,1%; V < 0,1%; Nb < 0,1%; Mn < 0,1%; 0,03% < Si < 0,15%; S < 0,001%; 0,0001% < Ca < 0,002%; 0,0001% < Mg < 0,002%; Al <
    < 0,005%; O < 0,01%; C < 0,02%; N < 0,005%; P < 0,003%; H < 0,001%; B < 0,001%, przy czym resztę stanowi żelazo i nieuniknione zanieczyszczenia wynikające z procesu wytwarzania, w którym S < 0,02 x Mn + 0,8 x Ca + 0,6 x Mg i Cr + Cu + Mo + V + Nb + Si < 0,15%.
  5. 5. Przesłona według zastrz. 4, znamienna tym, że stop żelazo-nikiel wagowo zawiera Si < 0,08%; Cr < 0,07%; Cu < 0,05%; Mo < 0,05%; Mn < 0,05%; O < 0,005%; N < 0,003%; S < 0,0005%; C < 0,005%; B < 0,0004%.
  6. 6. Przesłona według zastrz. 4 albo 5, znamienna tym, ze korzystnie stop żelazo-nikiel wagowo zawiera 35,9% < Ni < 36,2%.
  7. 7. Przesłona według zastrz. 4, znamienna tym, że ziarno stopu żelazo-nikiel ma wielkość, mierzoną według normy ASTM E 112-88,12.4, wyższą od wskaźnika 7 ASTM.
PL95312029A 1994-12-27 1995-12-22 Sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel i przesłona cieniowa ze stopu żelazo-nikiel PL186742B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9415663A FR2728724B1 (fr) 1994-12-27 1994-12-27 Procede de fabrication d'un masque d'ombre en alliage fer-nickel

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL312029A1 PL312029A1 (en) 1996-07-08
PL186742B1 true PL186742B1 (pl) 2004-02-27

Family

ID=9470255

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL95312029A PL186742B1 (pl) 1994-12-27 1995-12-22 Sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel i przesłona cieniowa ze stopu żelazo-nikiel

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5643697A (pl)
EP (1) EP0719873B1 (pl)
JP (2) JPH08333638A (pl)
KR (1) KR100379871B1 (pl)
CN (1) CN1050639C (pl)
DE (1) DE69517577T2 (pl)
DK (1) DK0719873T3 (pl)
FR (1) FR2728724B1 (pl)
PL (1) PL186742B1 (pl)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2758001A1 (fr) * 1996-12-31 1998-07-03 Imphy Sa Dispositif de suspension du masque d'ombre d'un tube de visualisation cathodique comprenant un bilame et bilame
FR2767538B1 (fr) * 1997-08-21 2001-05-11 Imphy Sa Procede de fabrication d'une bande en alliage du type fer-nickel a partir d'un demi produit de coulee continue
JP2000017393A (ja) 1998-04-30 2000-01-18 Dainippon Printing Co Ltd カラ―ブラウン管用シャドウマスク
JPH11310853A (ja) * 1998-04-30 1999-11-09 Dainippon Printing Co Ltd カラーブラウン管用の展張型マスク
JP3360033B2 (ja) * 1998-10-22 2002-12-24 日新製鋼株式会社 シャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金及びその製造方法
TWI225101B (en) * 1999-03-12 2004-12-11 Toyo Kohan Co Ltd Material for shadow mask, method for production thereof, shadow mask and image receiving tube
JP2001131715A (ja) * 1999-11-09 2001-05-15 Nippon Mining & Metals Co Ltd セミテンションマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管
JP2001131709A (ja) * 1999-11-09 2001-05-15 Nippon Mining & Metals Co Ltd セミテンションマスク用低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ系合金並びにそれを用いたセミテンションマスク及びカラーブラウン管
FR2807269B1 (fr) * 2000-03-31 2002-11-01 Imphy Ugine Precision Dispositif de masquage pour tube cathodique de visualisation en couleur a ecran plat a masque d'ombre tendu en alliages fe-ni
JP2002038239A (ja) 2000-07-24 2002-02-06 Yamaha Metanikusu Kk 磁気歪制御型合金板及びこれを用いたカラーブラウン管用部品並びに磁気歪制御型合金板の製造方法
DE10146301C1 (de) * 2001-09-19 2002-07-18 Krupp Vdm Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Metallbandes aus einer Eisen-Nickel-Legierung für gespannte Schattenmasken
JP3854121B2 (ja) * 2001-10-22 2006-12-06 日本冶金工業株式会社 耐食性に優れるシャドウマスク素材用Ｆｅ−Ｎｉ系合金およびシャドウマスク材料
DE10258356B3 (de) * 2002-12-12 2004-05-27 Thyssenkrupp Vdm Gmbh Verwendung einer Eisen-Nickel-Cobalt-Legierung
FR2849061B1 (fr) * 2002-12-20 2005-06-03 Imphy Ugine Precision Alliage fer-nickel a tres faible coefficient de dilatation thermique pour la fabrication de masques d'ombres
CN101181773B (zh) * 2007-12-17 2010-06-02 西部金属材料股份有限公司 具有高深冲性能和高晶粒度等级的钽长带制备方法
WO2024004613A1 (ja) * 2022-06-30 2024-01-04 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 Ｆｅ－Ｎｉ合金箔、Ｆｅ－Ｎｉ合金箔の製造方法、および部品

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1309618A (fr) * 1961-12-29 1962-11-16 Gen Comm Company Alliage à faible coefficient de dilatation
DE3572081D1 (en) 1984-09-28 1989-09-07 Philips Nv Method of drape drawing a shadow mask for a colour display tube and device for such a method
JPS61139683A (ja) * 1984-12-12 1986-06-26 Hitachi Ltd シヤドウマスクの製造方法
JP2596210B2 (ja) * 1990-10-31 1997-04-02 日本鋼管株式会社 焼鈍時の密着焼付き防止法、ガス放散性に優れたシャドウマスク用Ｆｅ―Ｎｉ合金およびその製造法
JP2590657B2 (ja) * 1991-12-12 1997-03-12 日本鋼管株式会社 焼鈍時の密着焼付防止性およびガス放散性に優れたＦｅ−Ｎｉ合金およびその製造方法
JP3367147B2 (ja) * 1993-05-31 2003-01-14 日本鋼管株式会社 プレス成形性に優れたシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板およびＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金薄板とその製造方法
EP0561120B1 (en) * 1992-01-24 1996-06-12 Nkk Corporation Thin Fe-Ni alloy sheet for shadow mask and method for manufacturing thereof
JP3353321B2 (ja) * 1992-01-24 2002-12-03 日本鋼管株式会社 プレス成形性に優れたシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板の製造方法及びプレス成形性に優れたシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金薄板
US5308723A (en) * 1992-01-24 1994-05-03 Nkk Corporation Thin metallic sheet for shadow mask
US5396146A (en) * 1992-04-27 1995-03-07 Hitachi Metals, Ltd. Shadow mask sheet, method of producing same and cathode ray tube provided therewith
JPH0644920A (ja) * 1992-07-22 1994-02-18 Nkk Corp シャドウマスク用金属薄板およびその製造方法
JPH06264190A (ja) * 1993-03-12 1994-09-20 Toshiba Corp シャドウマスク用素材
DE4402684C2 (de) * 1993-05-27 2001-06-21 Krupp Vdm Gmbh Verwendung einer ausdehnungsarmen Eisen-Nickel-Legierung
EP0739992B1 (en) * 1993-05-31 1998-06-10 Nkk Corporation Alloy sheet for shadow mask and method for manufacturing thereof
FR2727131B1 (fr) * 1994-11-23 1996-12-13 Imphy Sa Alliage fer-nickel a faible coefficient de dilatation

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08333638A (ja) 1996-12-17
CN1133896A (zh) 1996-10-23
DK0719873T3 (da) 2000-10-23
CN1050639C (zh) 2000-03-22
KR100379871B1 (ko) 2003-06-19
JP2007231423A (ja) 2007-09-13
PL312029A1 (en) 1996-07-08
DE69517577D1 (de) 2000-07-27
DE69517577T2 (de) 2001-03-08
US5643697A (en) 1997-07-01
KR960026015A (ko) 1996-07-20
EP0719873B1 (fr) 2000-06-21
EP0719873A1 (fr) 1996-07-03
FR2728724A1 (fr) 1996-06-28
FR2728724B1 (fr) 1997-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL186742B1 (pl) Sposób wytwarzania przesłony cieniowej ze stopu żelazo-nikiel i przesłona cieniowa ze stopu żelazo-nikiel
US5811918A (en) Shadow mask of the nickel-iron type having specific composition
US5532088A (en) Shadow mask plate material and shadow mask
PL180440B1 (en) Fe-ni alloy of low coefficient of linearexpansion and strip made such alloy
EP0176344B1 (en) Colour picture tube
US6824625B2 (en) Magnetostriction control alloy sheet, a part of a braun tube, and a manufacturing method for a magnetostriction control alloy sheet
KR100484481B1 (ko) 프레스 성형형 완전 평탄한 마스크용Ｆｅ-Ｎｉ-Ｃｏ합금과, 이를 이용한 완전 평탄한 마스크및 컬러 음극선관
US5578898A (en) Shadow mask and cathode ray tube
KR910000925B1 (ko) 형광표시관의 그리드재
KR960010427B1 (ko) 칼라 음극선관용 구멍난 섀도우 마스크 어닐링방법 및 이에 따라 제조된 마스크
JP3557395B2 (ja) プレス成形型フラットマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金材の製造方法
KR20040111602A (ko) 저열팽창합금박판 및 그 제조방법
JPS6142838A (ja) カラ−受像管
WO1999047718A1 (fr) Materiau pour grille d&#39;ouverture pour tube image couleur, son procede de production, grille d&#39;ouverture et tube image
JP3793122B2 (ja) カラー受像管用マスク用材料の製造方法
JP3793131B2 (ja) カラー受像管用マスク用材料の製造方法
JPH1017998A (ja) 打ち抜き性良好な電子銃部品用Ｆｅ−Ｎｉ系合金素材及びその製造方法並びに加工部品
JPH0657382A (ja) シャドウマスク用素材
KR19990047277A (ko) 음극선관용 새도우마스크 및 그 제조방법
JP3469559B2 (ja) 黒化処理後の低熱膨張性に優れたフラットマスク用Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金
KR100435451B1 (ko) 자성 및 흑화막 밀착성이 우수한 브라운관 마스크 프레임용 냉연강판의 제조방법
KR100514786B1 (ko) 자기차폐성이 우수한 브라운관용 이너쉴드의 제조방법
KR890002363B1 (ko) 새도우 마스크의 제조방법
JP2005054255A (ja) ブラウン管フレーム用高強度熱延鋼板およびその製造方法、ならびにブラウン管フレーム
JPH02270248A (ja) シヤドウマスク用金属薄板及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20081222