KR970016836A - 포토레지스트용 박리액 조성물 및 이를 사용한 포토레지스트 박리 방법 - Google Patents

포토레지스트용 박리액 조성물 및 이를 사용한 포토레지스트 박리 방법 Download PDF

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가쯔야 다께무라
쯔네히로 니시
시게히로 나구라
아끼노부 다나까
요시오 가와이
시로오 탄
신지 사카구찌
야수마사 카와베
마사히또 다나베
가즈마사 와끼야
마사까즈 고바야시
도시마사 나까야마
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카나가와 치히로
신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
고시마 히또시
니뽄 덴신 덴와 가부시끼가이샤
무네유키 마사유키
후지샤신휘루무 카부시키가이샤
나까네 히사시
도오꾜 오오까 고오교 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 (a) 히드록실아민류 2 내지 30중량% (b) 물 2 내지 35중량% (c) 25℃의 수용액에 있어서 산해리 정수 (PKa)가 7.5 내지 13인 아민류 2 내지 20중량% (d) 수용성 유기 용매 35 내지 80중량% 및 (e) 방식제 2 내지 20중량%로 이어진 포토레지스트용 박리액 조성물 및 이것을 사용한 포토레지스트 박리 방법이다.
본 발명에 의해, 보다 과혹한 조건의 드라이 에칭, 앗싱, 이온 주입등웨 처리에 의해 형성된 변질막의 박리성에 우수하며, Al 또는 Al 합금이 형성된 기판, 또는 Ti가 형성된 기판의 양자에 대한 부식방지효과에 우수한 레지스트용 박리액 조성물 및 이것을 사용한 포토레지스트 박리 방법에 제공이 된다.

Description

포토레지스트용 박리액 조성물 및 이를 사용한 포토레지스트 박리 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (18)

  1. (a) 히드록실아민류 2 내지 30중량% (b) 물 2 내지 35중량%, (c) 25℃의 수용액에 있어서 산해리정수(pKa)가 7.5 내지 13인 아민류 2 내지 20중량% (d) 수용성 유기 용매 35 내지 80중량% 및 (e) 방식제 2 내지 20중량%로 이루어진 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  2. 제1항에 있어서, (a) 성분이 히드록실아민(NH2OH)인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  3. 제1항에 있어서, (c) 성분에 있어서 산해리정수 (pKa)가 8.5 내지 11.5인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  4. 제1항에 있어서, (c) 성분은 모노에탄올아민, 2 - (2 - 아미노에톡시)에탄올, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 시클로헥실아민, 피페라딘 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  5. 제4항에 있어서, (c) 성분이 트리에틸렌테트라민인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  6. 제1항에 있어서, (d) 성분이 디메틸술폭시드, 디메틸이미다졸리디논, N - 메틸 - 2 - 피롤리돈, 부틸카르비톨 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  7. 제6항에 있어서, (d) 성분이 디메틸술폭시드인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  8. 제1항에 있어서, (e) 성분이 피로카테콜, 2 - 부틴 - 1,4 - 디올, 벤조트리아졸, 살리실산중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  9. 제8항에 있어서, (e) 성분이 피로카테콜인 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 박리액 조성물.
  10. (I) 티탄층을 가지는 기판상에 포토레지스트층을 설치하는 공정, (II) 그 포토레지스트층을 노광, 현상하여 포토레지스트패턴을 설치하는 공정, (III) 그 포토레지스트패턴을 드라이에칭한 후, 이어서 불필요한 포토레지스트 및 포토레지스트 변질막을 박리 처리하는 공정으로 이루어진 포토레지스트 박리 방법에 있어서, 불필요한 포토레지스트 및 포토레지스트 변질막을 박리 처리하는 박리액은, (a) 히드록실아민류 2 내지 30중량%, (b) 물 2 내지 35중량% (c) 25℃의 수용액 있어서 산해리 정수 (pKa)가 7.5 내지 13인 아민류 25 내지 20중량% (d) 수용성 유기 용매 35 내지 80중량%, 및 (e) 방식제 2 내지 20중량% 이루어진 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법.
  11. 제10항에 있어서, (a) 성분이 히드록실아민(NH2OH)인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법.
  12. 제10항에 있어서, (c) 성분에 있어서 산해리정수 (pKa)가 8.5 내지 11.5인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법.
  13. 제10항에 있어서, (c) 성분은 모노에탄올아민, 2 - (2 - 아미노에톡시)에탄올, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 시클로헥실아민, 피페라딘 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리방법.
  14. 제13항에 있어서, (c) 성분이 트리에틸렌테트라민인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법.
  15. 제10항에 있어서, (d) 성분인 디메틸술폭시드, 디메틸이미다졸리디논, N - 메틸 - 2 - 피롤리돈, 부틸카르비톨 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법.
  16. 제15항에 있어서, (d) 성분이 디메틸술폭시드인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법.
  17. 제10항에 있어서, (e) 성분은 피로카테콜, 2 - 부틴 - 1,4 - 디올, 벤조트리아졸 살리실산의 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법.
  18. 제17항에 있어서, (e) 성분이 피로카테콜인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 박리 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960042177A 1995-09-29 1996-09-24 포토레지스트용 박리액 조성물 및 이를 사용한 포토레지스트 박리 방법 KR0173090B1 (ko)

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