KR950001867A - 노광장치 및 이를 이용한 마이크로디바이스 제조방법 - Google Patents

노광장치 및 이를 이용한 마이크로디바이스 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명에는, 순차 공급되는 펄스광에 의해 기판을 노광하는 노광장치 및 이를 이용한 마이크로디바이스 제조방법이 개시되어 있다. 상기 노광장치는, 각 펄스의 광량을 검출하는 검출기와, 금회의 방사펄스이전의 적어도 1개의 펄스에 의한 광량에 의거해서, 금회의 펄스에 의한 기판의 노광타이밍을 제어하는 제어기를 구비하는 것을 특징으로 한다.

Description

노광장치 및 이를 이용한 마이크로디바이스 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 일실시예에 의한 노광장치의 개략도.

Claims (21)

  1. 순차 공급되는 펄스광에 의해 기판을 노광하는 노광장치에 있어서, 각 펄스의 광량을 검출하는 검출수단과, 금회의 방사펄스 이전의 적어도 1개의 펄스에 의한 광량에 의거해서, 금회의 방사펄스에 의한 기판의 노광타이밍을 제어하는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제어수단은, 금회의 방사펄스 바로전의 펄스에 의한 광량에 관한 정보에 의거해서 상기 노광타이밍을 제어하는 것임을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제어수단은, 금회의 방사펄스 이전의 복수의 펄스에 의한 광량에 의거해서 상기 노광타이밍을 제어하는 것임을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제어수단은, 금회의 방사펄스 이전의 소정의 펄스의 광량이 소정치보다도 커진 경우에는 노광타이밍을 지연시키고, 금회의 방사펄스 이전의 소정의 펄스의 광량이 소정치보다도 작아진 경우에는 노광타이밍을 빠르게 하는 것임을 특징으로 하는 노광장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 펄스광은 액시머레이저로부터 공급되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 제1항에 있어서, 펄스광에 의해 마스크와 기판을 주사하는 주사수단을 또 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제어수단은, 금회의 방사펄스 이전의 소정의 펄스의 광량이 소정치보다도 커진 경우에는 노광타이밍을 지연시키고, 금회의 방사펄스 이전의 소정의 펄스의 광량이 소정치보다도 작아진 경우에는 노광타이밍을 빠르게 하는 것임을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제어수단은, 금회의 방사펄스 바로전의 펄스에 의한 광량에 관한 정보에 의거해서 상기 노광타이밍을 제어하는 것임을 특징으로 하는 노광장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 제어수단은, 금회의 방사펄스 이전의 복수의 펄스에 의한 광량에 의거해서 상기 노광타이밍을 제어하는 것임을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 제7항에 있어서, 상기 펄스광은 엑시머레이저로부터 공급되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제7항에 있어서, 각 펄스는 주사방향에서의 편중적인 강도분포를 지니며, 이 강도분포의 경계부분에서 강도가 완만하게 변화하고 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  12. 제11항에 있어서, 펄스가 조사되는 조명영역을 제한하기 위한, 복수의 차광판을 지닌 차광수단과, 상기 차광판중 적어도 1개를 광축방향에 있어서 변위시키는 수단을 또 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  13. 순차 공급되는 펄스광에 의해 가공대상부품을 노광하여 제조하는 마이크로디바이스제조방법에 있어서, 적어도 1개의 방사펄스의 광량을 검출하는 공정과, 상기 검출된 광량에 의거해서, 금회의 방사펄스에 의한 가공대상부품의 노광타이밍을 제어하는 제어공정을 구비한 것을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제어공정에 있어서, 적어도 1개의 펄스의 검출광량이 소정치보다도 커진 경우에는 상기 노광타이밍을 지연시키고, 적어도 1개의 펄스의 검출광량이 소정치보다도 작아진 경우에는 상기 노광타이밍을 빠르게 하는 것을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
  15. 제14항에 있어서, 금회의 방사펄스바로전의 펄스의 광량에 의거해서 금회의 방사펄스에 의한 노광타이밍을 제어하는 것을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
  16. 제14항에 있어서, 금회의 방사펄스 이전의 복수의 펄스의 광량에 의거해서 금회의 방사펄스에 의한 노광타이밍을 제어하는 것을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
  17. 제13항에 있어서, 가공대상부품이 마스크에 대해 노출되도록 펄스광으로 가공대상부품과 마스크를 주사하는 것을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 제어공정에 있어서, 적어도 1개의 펄스의 검출광량이 소정치보다도 커진 경우에는 상기 노광타이밍을 지연시키고, 적어도 1개의 펄스의 검출광량이 소정치보다도 작아진 경우에는 상기 노광타이밍을 빠르게 하는 것을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
  19. 제18항에 있어서, 금회의 방사펄스바로전의 펄스의 광량에 의거해서 금회의 방사펄스에 의한 노광타이밍을 제어하는 것임을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
  20. 제18항에 있어서, 금회의 방사펄스 이전의 복수의 펄스의 광량에 의거해서 금회의 방사펄스에 의한 노광타이밍을 제어하는 것을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
  21. 제17항에 있어서, 각 펄스는 주사방향에서의 편중적인 강도분포를 지니며, 이 강도분포의 경계부분에서 강도가 완만하게 변화하고 있는 것을 특징으로 하는 마이크로디바이스제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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