JP2005109304A - 照明光学系及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被照明面を照明する照明光学系において、前記被照射面と実質的にフーリエ変換の関係となる所定面における有効光源分布を規定する開口絞りと、該開口絞りの開口の近傍に配置された検出器と、を有することを特徴とする構成とした。
【選択図】 図1
Description
P1=(0,−cosθ,sinθ)
円筒面形状の反射面の法線ベクトルを
n=(−sinα,cosα,0)
とすると、反射光の光線ベクトルは
P2=(−cosθ×sin2α,cosθ×cos2α,sinθ)
となる。このとき反射光の光線ベクトルを位相空間にプロットすれば、図6に示すようにxy平面上で半径cosθの円となる。即ち、反射光は円錐面状の発散光となり、この円錐面の頂点の近傍に2次光源が存在することになる。この2次光源はインテグレータ11aの円筒面が凹面であれば反射面の外部に実像として存在し、凸面であれば反射面の内部に、虚像として存在することになる。また図4に示すように反射面が円筒面の一部に限られていて、その中心角が2φである場合は、図6に示すように反射光の光線ベクトルP2の存在範囲はxy平面上で中心角4φの円弧601となる。
・円弧照明によるスキャン露光について
・円弧スリット12による露光ムラ補正方法
・スキャン露光時のマスキングブレード13の動作
・マスキング結像系の構成
・露光量モニタの方法
について順を追って詳細に説明する。
2 プラズマ発光点
4 集光ミラー
8 真空容器
10a 平行変換光学系
10b 平行変換光学系
11a インテグレータ
12 可変円弧スリット
13 マスキングブレード
14 マスキング結像系
15 開口絞り
16 反射型マスク
17 マスクステージ
18 投影光学系
19 ウエハ
20 ウエハステージ
21 真空容器
Claims (15)
- 被照明面を照明する照明光学系において、
前記被照射面と実質的にフーリエ変換の関係となる所定面における有効光源分布を規定する開口絞りと、該開口絞りの開口の近傍に配置された検出器と、を有することを特徴とする照明光学系。 - 前記開口絞りは、前記所定面若しくは前記所定面と実質的に共役な面、又はその近傍に配置されることを特徴とする請求項1記載の照明光学系。
- 前記被照射面の照明領域を規定する視野絞りと、該視野絞りの開口の近傍に配置された検出器と、を有することを特徴とする請求項1記載の照明光学系。
- 被照射面を照明する照明光学系において、
前記被照射面の照明領域を規定する視野絞りと、該視野絞りからの光を前記被照射面に導く結像系と、を有し、
前記結像系は、その瞳面近傍に配置された開口絞りと、該開口絞りの開口の近傍に配置された検出器と、を持つことを特徴とする照明光学系。 - 前記視野絞りの開口の近傍に配置された検出器を有することを特徴とする請求項4記載の照明光学系。
- 光源からの光で被照射面を照明する照明光学系において、
前記被照射面の照明領域を規定する視野絞りと、該視野絞りの開口の近傍に配置された検出器とを有し、
前記光源からの光は、20nm〜5nmの波長の光であることを特徴とする照明光学系。 - 被照射面を照明する照明光学系において、
前記被照射面の照明領域を規定する視野絞りと、該視野絞りの開口の近傍に配置された検出器と、該視野絞りからの光を前記被照射面に導く結像系と、を有し、
前記結像系は、多層膜ミラーを持つことを特徴とする照明光学系。 - 被照射面を照明する照明光学系において、
前記被照射面の照明領域を規定する視野絞りと、該視野絞りの開口の近傍に配置された検出器と、を有し、
前記被照射面の照明領域は円弧形状であり、前記検出器は該円弧の両端近傍に対応する領域の光量を検出することを特徴とする照明光学系。 - 前記視野絞りは、円弧形状の開口を持つ円弧スリットを有することを特徴とする請求項6〜8のいずれか一項記載の照明光学系。
- 前記視野絞りは、複数の遮光板を持つマスキングブレードを有し、前記検出器は該遮光板に配置されていることを特徴とする請求項6〜9のいずれか一項記載の照明光学系。
- マスクを照明する請求項1〜10のいずれか一項記載の照明光学系と、該マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。
- マスクを照明する請求項1〜5のいずれか一項記載の照明光学系と、該マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有し、
前記開口絞りの開口近傍に配置された検出器の検出結果に基づいて、露光量制御を行なう機構を有することを特徴とする露光装置。 - マスクを照明する請求項6〜10のいずれか一項記載の照明光学系と、該マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有し、
前記視野絞りの開口近傍に配置された検出器の検出結果に基づいて、露光量制御を行う機構を有することを特徴とする露光装置。 - マスクを照明する請求項3又は5記載の照明光学系と、該マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有し、
前記開口絞りの開口近傍に配置された検出器と前記視野絞りの開口近傍に配置された検出器との検出結果に基づいて、露光量制御を行う機構を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項14記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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