KR100850214B1 - 현미경 및 이를 이용한 이미지 데이터의 제공 방법. - Google Patents

현미경 및 이를 이용한 이미지 데이터의 제공 방법. Download PDF

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허성민
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Abstract

본 발명은 현미경 및 이를 이용한 이미지 데이터의 제공방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 EUV 마스크의 고해상도 이미지를 제공할 수 있는 현미경 및 이미지 데이터의 제공방법에 관한 것이다.
본 발명의 일실시예에 따른 현미경은 EUV 마스크; 상기 EUV 마스크에 EUV 광을 조사할 수 있도록 구성된 콘덴서 광학계(condenser optics); 상기 EUV 광이 상기 EUV 마스크에서 반사되어 형성되는 필드 스펙트럼(field spectrum)을 받는 검출기; 및 상기 검출기에서 받은 상기 필드 스펙트럼에서 상기 EUV 마스크의 이미지를 재구성(reconstruction)하는 연산장치; 를 포함한다.
본 발명에 의하면 이미징 광학계에 의한 광학적 오차를 배제하면서 EUV 마스크에 대한 이미지 데이터를 제공할 수 있다.
EUV, 이미지, 필드 스펙트럼, 검출기, 퓨리에 변환

Description

현미경 및 이를 이용한 이미지 데이터의 제공 방법.{Microscope and methods for providing image data using the same}
도 1은 X선 마스크에 대한 간섭 산란형 현미경의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 종래 기술에 따른 EUV 마스크용 현미경의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 현미경의 구성 일부를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4는 ArF 광이 ArF 마스크를 투과한 후의 산란각을 도시한 도면이다.
도 5는 EUV 광이 EUV 마스크에서 반사한 후의 산란각을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 현미경의 구성을 구체적으로 도시한 도면이다.
도 7은 필드 스펙트럼과 이미지 사이의 상호관계를 설명하는 구성도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
101 : 셔터 102 : 핀 홀
103 : 지르코늄 필터 110a : 구면 거울
110b : 평면 거울 120 : 대상체
130 : 검출기 140 : 연산장치
본 발명은 현미경 및 이를 이용한 이미지 데이터의 제공방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 EUV 마스크에 대한 고해상도 이미지 데이터를 제공하는 간섭 산란형 현미경(Coherent Scattering Microscope) 및 이를 이용한 이미지 데이터의 제공방법에 관한 것이다.
도 1은 X선 마스크에 대한 간섭 산란형 현미경의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, X선이 핀 홀(pin hole, H) 및 어퍼쳐(aperture, A)를 통과하여 공간적으로 간섭(spatially coherent) 가능한 X선이 대상체(11)에 조사(illumination)된다. X선은 대상체(예를 들어 X선 마스크, 11)를 투과할 수 있으므로 투과형 산란 현미경을 구성하게 된다. 대상체(11)에서 산란된 X선(Ls 및 L0)은 검출기(12)에서 감지하게 된다. 한편, 대상체(11)에 조사되는 X선은 대상체(11)의 폭(W2)만큼 조사되는 것이 바람직하지만, 실험적 상황의 제약에 의해 대상체(11)의 폭(W2)보다 넓은 어퍼쳐(A)의 폭(W1)을 가지는 X선이 대상체(11)에 조사된다. 따라서, 검출기(12)에 대상체(11)보다 넓은 폭(W3)을 가지는 직사광이 조사되는 문제점이 발생한다. 상기 직사광을 차단하는 중앙 차단물(13)를 설치하여 상기 문제점을 방지할 수 있으나, 대상체(11)에서 나오는 산란된 X선(Ls 및 L0)중에서 영차광(L0) 또는 저차광 정보를 중앙 차단물(13)에 의해 잃어버리게 된다. 상기 영차광(L0) 또는 저차광 정보는 대상체(11)의 전체적인 테두리 모양에 해당하는 정보이다. 따라서 상기 대상체(11)의 전체적인 테두리 모양에 해당하는 정보는 저분해능 가시광선 현미경으로 얻은 정보 또는 미리 선험적으로 획득한 대상체의 정보로 보충하는 것이 바람직하다. 그러나 상기 투과형 현미경은 X선이 투과되는 대상체에 적용할 수 있으며, EUV 마스크와 같은 반사형 마스크에는 적용할 수 없다.
도 2는 종래 기술에 따른 EUV 마스크용 현미경의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2를 참조하면, 조명 광학계(illumination optics, 21)를 거친 비간섭성 EUV 광(Li)을 EUV 마스크(23)에 조사한다. 상기 EUV 마스크(23)에서 산란된 빔은 필드 스펙트럼(field spectrum)을 형성하며, 상기 산란된 빔을 이미징 광학계(imaging optics, 22)를 이용하여 검출기(24)에서 이미징 하게 된다. 여기에서, 상기 이미징 광학계(22)는 투영 광학계(projection optics)로 언급될 수 있다. 상기 이미지 광학계(22)는 필드 스펙트럼을 이미지로 변환시키는 기능을 담당한다. 그러나, 상기 이미지 광학계(22)를 사용하는 경우 광학계의 수차(aberration) 에러, 오정렬 및 디포커싱등이 이미징 과정에서 그대로 반영되는 문제점이 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 광학계의 수차 에러, 오정렬 및 디 포커싱 문제점을 극복할 수 있는 EUV 마스크용 반사형 현미경을 제공하는 데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 상기와 같은 현미경을 이용한 이미지 데이터의 제공 방법을 제공하는 데 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 현미경은 반사물질을 포함하는 대상체; 상기 대상체에 복사선을 조사할 수 있도록 구성된 콘덴서 광학계(condenser optics); 상기 복사선이 상기 대상체에서 반사되어 형성되는 필드 스펙트럼(field spectrum)을 받는 검출기; 및 상기 검출기에서 받은 상기 필드 스펙트럼에서 상기 대상체의 이미지를 재구성(reconstruction)하는 연산장치; 를 포함한다. 상기 복사선은 EUV 광일 수 있으며, 특히 파장이 13.5nm 인 EUV 광일 수 있다. 상기 대상체는 반사형 마스크일 수 있으며, 바람직하게는 EUV 마스크일 수 있다. 상기 콘덴서 광학계는 구면 거울 및 평면 거울을 포함할 수 있으며, 상기 복사선이 상기 구면 거울과 상기 평면 거울에 순차적으로 반사되도록 구성될 수 있다. 상기 복사선의 조사 광량을 조절하기 위해, 상기 복사선이 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 이전에 통과하도록 배치되는 셔터를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 복사선 중에서 간섭(coherent)광을 선택하기 위해, 상기 복사선이 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 이전에 통과하도록 배치되는 핀 홀을 더 포함할 수 있다. 그리고 상기 복사선 중에서 UV광을 제거하고 EUV광을 선택하기 위해, 상기 복사선이 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 이전에 통과하도록 배치되는 지르코늄 필터를 더 포함할 수 있다. 한편, 상기 연산장치는 상기 필드 스펙트럼에서 상기 대상체의 이미지를 재구성하는 프로그램을 포함할 수 있는데, 상기 프로그램은 상기 필드 스펙트럼의 진폭 및 위상을 가지는 전자기파를 역퓨리에 변환하여 상기 대상체의 이미지를 재구성할 수 있다. 이 경우 상기 필드 스펙트럼의 상기 위상은 HIO(Hybrid Input Output) 알고리즘을 사용하여 계산적으로 구하며, 상기 필드 스펙트럼의 상기 진폭은 상기 검출기에서 받은 상기 필드 스펙트럼에서 실험적으로 측정하여 구할 수 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 이미지 데이터의 제공 방법은 콘덴서 광학계를 통하여 상기 EUV 마스크에 EUV광을 제공하는 단계; 상기 EUV광이 상기 EUV 마스크에서 반사되어 형성되는 필드 스펙트럼을 검출기를 통해 받는 단계; 및 상기 필드 스펙트럼에서 상기 EUV 마스크의 이미지를 재구성하는 연산을 수행하는 단계; 를 포함할 수 있다. 상기 EUV광을 제공하는 단계는 상기 EUV광을 구면 거울과 평면 거울에 순차적으로 반사하여 상기 EUV 마스크에 제공하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 상기 EUV광을 제공하는 단계는 상기 EUV광을 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 전에 셔터, 핀 홀 및 지르코늄 필터에 상기 EUV광을 순차적으로 통과시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 한편, 상기 연산을 수행하는 단계는 상기 필드 스펙트럼의 진폭 및 위상을 가지는 전자기파를 역퓨리에 변환하여 상기 EUV 마스크의 이미지를 재구성하는 단계를 포함할 수 있다. 여기에서, 상기 필드 스펙트럼의 위상은 HIO 알고리즘을 사용하여 계산적으로 그 값을 구하며, 상기 필드 스펙트럼의 진폭은 상기 검출기에서 받은 필드 스펙트럼에서 실험적으로 측정하여 그 값을 구한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 현미경 및 현미경을 이용한 이미지 데이터의 제공방법의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하여 위하여 과장되어진 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐서 막, 영역, 또는 기판등과 같은 하나의 구성요소가 또 다른 구성요소 "상에" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 다른 구성요소에 직접 접촉하거나 중간에 개재되는 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 또한, "하부의(lower)" 또는 "바닥(bottom)" 및 "상부의(upper)" 또는 "정상(top)"과 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면(turned over), 다른 요소들의 하부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 상부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "하부의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여, "하부의" 및 "상부의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 유사하게, 도면들의 하나에서 소자가 뒤집어 진다면, 다른 요소들의 "아래의(below or beneath)"라고 묘사되어 있는 요소들은 상기 다른 요소들의 "위 의(above)" 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "아래의"라는 용어는, 위 및 아래의 방향 모두를 포함할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 현미경의 구성 일부를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 현미경은 반사물질을 포함하는 대상체(120)에 복사선(Lc)을 조사할 수 있도록 구성된 콘덴서 광학계(condenser optics, 110)를 포함한다. 상기 복사선(Lc)은 EUV 광인 것이 바람직하며, 특히 파장이 13.5nm 일 수 있다. 반사물질을 포함하는 대상체(120)는 반사형 마스크인 것이 바람직하며, 특히 EUV 마스크일 수 있다. 상기 복사선(Lc) 중에서 간섭(coherent) 광을 선택하기 위하여 상기 복사선(Lc)이 콘덴서 광학계(110)에 입사하기 이전에 핀 홀(H)을 배치한다. 즉, 핀 홀(H)을 통과한 상기 복사선(Lc)은 비간섭(incoherent)광이 배제되고 간섭광으로 구성된다. 복사선(Lc)이 대상체(120) 상의 패턴(120a)에서 반사되어 형성되는 필드 스펙트럼(field spectrum)을 검출기(130)에서 검출한다. 복사선(Lc)이 EUV광 처럼 파장이 매우 작은 경우에는 필드 스펙트럼의 산란각이 작아서 검출기(130)에서 검출이 가능하다.
도 4는 ArF 광이 ArF 마스크를 투과한 후의 산란각을 도시한 도면이고, 도 5는 EUV 광이 EUV 마스크에서 반사한 후의 산란각을 도시한 도면이다.
도 4 및 도 5를 참조하여 살펴보면, ArF 광이 ArF 마스크(30)를 투과한 후의 산란각이 18°인데 비해, EUV 광이 EUV 마스크(130)에서 반사한 후의 산란각은 1.5°로 크게 작아진다. 이는 ArF 마스크에서의 패턴 피치(pitch)가 640nm, EUV 마스크에서의 패턴 피치가 256nm이며, ArF 광의 파장이 193nm, EUV광의 파장이 13.5nm 이라고 전제했을 경우의 결과이다. 복사선의 파장이 작아질 수록 산란각도 작아진다. 종래의 가시광선 또는 UV 광에서의 필드 스펙트럼은 산란각이 너무 커서 일정한 크기를 가지는 검출기에서 검출이 불가능하였으나, EUV 광에서의 필드 스펙트럼은 산란각이 작아서 검툴기에서 검출이 가능하게 되었다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 현미경의 구성을 구체적으로 도시한 도면이다.
도 6을 참조하면, 복사선(L)이 셔터(101), 핀 홀(102) 및 지르코늄 필터(Zr filter, 103)을 순차적으로 통과한다. 셔터(101)는 복사선(L)의 조사 광량을 조절하고, 핀 홀(102)은 복사선(L) 중에서 간섭광을 선택하기 위해 배치된다. 그리고 지르코늄 필터(103)는 복사선(L) 중에서 UV 광을 제거하고 EUV 광을 선택하기 위해 배치된다. 지르코늄 필터(103)를 통과한 복사선(Lc)은 콘덴서 광학계(110a, 110b)에 입사한다. 콘덴서 광학계는 구면 거울(110a) 및 평면 거울(110b)을 포함하여 구성된다. 바람직하게는 복사선(Lc)이 구면 거울(110a)에 먼저 입사하고 순차적으로 평면 거울(110b)에 입사된다. 구면 거울(110a)은 복사선(Lc)의 빔(beam) 크기를 대상체(120) 상의 패턴의 크기로 집속하며, 평면 거울(110b)은 대상체(120) 상의 패턴에 조사되는 복사선(Lc)의 입사각을 소정의 각도로 조절한다. 대상체가 EUV 마스크 인 경우 EUV 마스크의 법선에서 6°기울어진 각도로 복사선(Lc)이 입사할 때 반사도가 최대이므로, 평면 거울(110b)은 구면 거울(110a)에서 반사된 복사선(Lc)이 대상체(120)의 법선에서 6°기울어진 각도로 대상체(120)로 입사될 수 있도록 구성될 수 있다. 여기에서 대상체(120)의 법선이라 함은 대상체(120)의 넓은 면과 수직을 이루는 임의의 수직선을 의미한다. 구면 거울(110a) 및 평면 거울(110b)은 마그네트론 & RF 스퍼터링 방식으로 형성된 박막으로 구성된 몰리브덴층 및 실리콘층이 반복하여 적층된 다층막 구조일 수 있다. 복사선(Lc)이 대상체(120)에서 반사되어 형성되는 필드 스펙트럼은 검출기(130)에서 검출된다. 검출기(130)는 2차원 전하결합 소자(2D CCD)일 수 있다. 연산장치(140)는 검출기(130)에서 받은 필드 스펙트럼에서 대상체(120)의 이미지를 재구성(reconstruction)한다. 즉, 종래 기술에서의 이미징 광학계의 역할을 본 발명에서는 연산장치(140)가 대신하게 된다. 최근 연산 처리 속도가 비약적으로 향상됨에 따라 이미지 재구성 시간이 실질적으로 단축되어, 연산장치(140)를 이용한 이미지 재구성이 산업적으로 가능하게 되었다. 연산장치(140)는 필드 스펙트럼에서 대상체(120)의 이미지를 재구성하는 프로그램을 포함하는데, 상기 프로그램은 상기 필드 스펙트럼의 진폭 및 위상을 가지는 전자기파를 역퓨리에 변환하여 대상체(120)의 이미지를 재구성하는 것을 주내용으로 한다. 상기 필드 스펙트럼의 진폭은 검출기(130)에서 받은 필드 스펙트럼에서 실험적으로 측정하여 구하게 된다. 한편, 상기 필드 스펙트럼의 위상은 HIO(Hybrid Input Output) 알고리즘을 사용하여 계산적으로 구하게 된다.
도 7은 필드 스펙트럼과 이미지 사이의 상호관계를 설명하는 구성도이다.
도 7을 참조하여 필드 스펙트럼(400)과 대상체의 이미지(200) 사이의 상호관계를 설명하면, 대상체의 이미지(200)를 재구성하기 위해서는 필드 스펙트럼(400)의 진폭과 위상을 가지는 전자기파를 역퓨리에 변환하여야 한다. 필드 스펙트럼(400)의 진폭(amplitude)은 검출기에서 받은 필드 스펙트럼에서 실험적으로 측정하여 그 값을 구하게 된다. 필드 스펙트럼(400)의 위상은 실험적으로 측정하지 않고계산적으로 구하는 것이 바람직한데, 특히 HIO 알고리즘을 사용하여 계산적으로 구할 수 있다.
이하에서, 상기 HIO 알고리즘에 대하여 설명한다. 우선 이미지(200)를 임의로 설정한다. 이 때 이미지(200)는 진폭 성분을 축대칭(axially symmetry)이 되도록 설정한다. 다음에 이미지(200)를 퓨리에 변환을 통하여 필드 스펙트럼(400)을 구한 후, 필드 스펙트럼(400)의 진폭 성분은 이미 실험적으로 측정하여 구한 값으로 교체한다. 즉, 계산적으로 구한 위상 성분과 실험적으로 구한 진폭 성분을 결합한 필드 스펙트럼(400)을 구성한다. 다시 필드 스펙트럼(400)을 역퓨리에 변환하여 이미지(200)를 재구성하게 되고, 오버샘플링 영역(oversampling area, 300b)의 값이 0으로 수렴할 수 있도록 다시 이미지(200)를 재조정한다. 오버샘플링 영역(300b)은 검출기의 셀 사이즈에 해당하는 퓨리에 변환 영역이다. 이미지 영역(300a)은 오버샘플링 영역(300b)보다 작으며, 실제로 복사선이 조사되는 영역은 이미지 영역(300b)과 일치되는 것이 바람직하다. 이러한 과정을 오버샘플링 영역(300b)의 값이 0으로 수렴될 때까지 계속하여 반복하여 최종적인 이미지(200)를 재구성하게 된다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 이미지 데이터의 제공 방법은 앞에서 설명한 현미경에 대한 내용에서 이미 설명하였다. 발명의 특정 실시예들에 대한 이상의 설명은 예시 및 설명을 목적으로 제공되었다. 따라서, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 상기 실시예들을 조합하여 실시하는 등 여러 가지 많은 수정 및 변경이 가능함은 명백하다.
본 발명에 의한 현미경 및 이를 이용한 이미지 데이터의 제공방법에 의하면 이미징 광학계에 의한 광학적 오차를 배제하면서 반사형 마스크에 대한 이미지 데이터를 제공할 수 있다.

Claims (25)

  1. 반사물질을 포함하는 대상체;
    상기 대상체에 복사선을 조사할 수 있도록 구성된 콘덴서 광학계(condenser optics);
    상기 복사선이 상기 대상체에서 반사되어 형성되는 필드 스펙트럼(field spectrum)을 받는 검출기; 및
    상기 검출기에서 받은 상기 필드 스펙트럼에서 상기 대상체의 이미지를 재구성(reconstruction)하는 연산장치; 를 포함하고,
    상기 연산장치는 상기 필드 스펙트럼에서 상기 대상체의 이미지를 재구성하는 프로그램을 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경.
  2. 제1항에 있어서, 상기 복사선은 EUV 광인 것을 특징으로 하는 현미경.
  3. 제2항에 있어서, 상기 EUV 광은 파장이 13.5nm 인 것을 특징으로 하는 현미경.
  4. 제1항에 있어서, 상기 대상체는 반사형 마스크인 것을 특징으로 하는 현미경.
  5. 제4항에 있어서, 상기 반사형 마스크는 EUV 마스크인 것을 특징으로 하는 현미경.
  6. 제1항에 있어서, 상기 콘덴서 광학계는 구면 거울 및 평면 거울을 포함하는 현미경.
  7. 제6항에 있어서, 상기 콘덴서 광학계는 상기 복사선이 상기 구면 거울과 상기 평면 거울에 순차적으로 반사되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 현미경.
  8. 제6항에 있어서, 상기 평면 거울은 상기 구면 거울에서 반사된 상기 복사선이 상기 대상체의 법선에서 6°기울어진 각도로 상기 대상체로 입사될 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 현미경.
  9. 제6항에 있어서, 상기 구면 거울 및 평면 거울은 몰리브덴층 및 실리콘층이 반복하여 적층된 다층막 구조인 것을 특징으로 하는 현미경.
  10. 제9항에 있어서, 상기 몰리브덴층 및 실리콘층은 스퍼터링 방식으로 형성된 박막으로 구성된 것을 특징으로 하는 현미경.
  11. 제1항에 있어서, 상기 복사선의 조사 광량을 조절하기 위해, 상기 복사선이 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 이전에 통과하도록 배치되는 셔터를 더 포함하는 현미경.
  12. 제1항에 있어서, 상기 복사선 중에서 간섭(coherent)광을 선택하기 위해, 상기 복사선이 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 이전에 통과하도록 배치되는 핀 홀을 더 포함하는 현미경.
  13. 제1항에 있어서, 상기 복사선 중에서 UV광을 제거하고 EUV광을 선택하기 위해, 상기 복사선이 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 이전에 통과하도록 배치되는 지르코늄 필터를 더 포함하는 현미경.
  14. 제1항에 있어서, 상기 복사선이 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 이전에 셔터, 핀 홀 및 지르코늄 필터를 순차적으로 통과하도록 배치되는 상기 셔터, 핀 홀 및 지르코늄 필터를 더 포함하는 현미경.
  15. 제1항에 있어서, 상기 검출기는 2차원 전하결합 소자(2D CCD)를 포함하는 현미경.
  16. 삭제
  17. 제1항에 있어서, 상기 프로그램은 상기 필드 스펙트럼의 진폭 및 위상을 가지는 전자기파를 역퓨리에 변환하여 상기 대상체의 이미지를 재구성하는 것을 특징으로 하는 현미경.
  18. 제17항에 있어서, 상기 필드 스펙트럼의 상기 위상은 HIO(Hybrid Input Output) 알고리즘을 사용하여 계산적으로 구하는 것을 특징으로 하는 현미경.
  19. 제17항에 있어서, 상기 필드 스펙트럼의 상기 진폭은 상기 검출기에서 받은 상기 필드 스펙트럼에서 실험적으로 측정하여 구하는 것을 특징으로 하는 현미경.
  20. EUV 마스크에 대한 고해상도 이미지를 구성하기 위한 이미지 데이터를 제공하는 방법에 있어서,
    콘덴서 광학계를 통하여 상기 EUV 마스크에 EUV광을 제공하는 단계;
    상기 EUV광이 상기 EUV 마스크에서 반사되어 형성되는 필드 스펙트럼을 검출기를 통해 받는 단계; 및
    상기 필드 스펙트럼에서 상기 EUV 마스크의 이미지를 재구성하는 연산을 수행하는 단계; 를 포함하는 이미지 데이터의 제공 방법.
  21. 제20항에 있어서, 상기 EUV광을 제공하는 단계는 상기 EUV광을 구면 거울과 평면 거울에 순차적으로 반사하여 상기 EUV 마스크에 제공하는 단계를 포함하는 이미지 데이터의 제공 방법.
  22. 제21항에 있어서, 상기 EUV광을 제공하는 단계는 상기 EUV광을 상기 콘덴서 광학계에 입사하기 전에 셔터, 핀 홀 및 지르코늄 필터에 상기 EUV광을 순차적으로 통과시키는 단계를 더 포함하는 이미지 데이터의 제공 방법.
  23. 제20항에 있어서, 상기 연산을 수행하는 단계는 상기 필드 스펙트럼의 진폭 및 위상을 가지는 전자기파를 역퓨리에 변환하여 상기 EUV 마스크의 이미지를 재구성하는 단계를 포함하는 이미지 데이터의 제공 방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 연산을 수행하는 단계는 HIO 알고리즘을 사용하여 상기 필드 스펙트럼의 위상을 계산적으로 구하는 단계를 포함하는 이미지 데이터의 제공 방법.
  25. 제23항에 있어서, 상기 연산을 수행하는 단계는 상기 검출기에서 받은 상기 필드 스펙트럼에서 상기 필드 스펙트럼의 진폭을 실험적으로 측정하여 구하는 단계를 포함하는 이미지 데이터의 제공 방법.
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