JP2006128732A - リソグラフィ走査露光投影装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ走査露光投影装置は、放射パルスを発生する放射源(1)と、レンズ系(3,7)と、基板(9)上に結像されるマスク(5)と、放射源(1)の出射窓(2)の像を基板(9)に対してある走査速度で走査する走査手段(10)とを具える。コントローラ(13)は放射パルスのエネルギー及び走査速度の両方を基板に対する必要な露光量及び放射パルスの繰り返しレートに応じて制御する。このコントローラにより、この装置における基板のスループット及び基板に対する最小不均一露光量を最大にすることができる。
【選択図】図1
Description
コントローラ13は、放射源1、第1の走査手段6及び第2の走査手段10を制御する。コントローラはマイクロプロセッサ、ディジタル信号プロセッサ、アナログ信号プロセッサ、ディジタル論理回路又はニューラルネットワークで構成することができる。このコントローラは、第1の入力パラメータとして放射感知層8に照射すべき必要な露光量Dを有する。この露光量は層の材料の特性及び照射に用いられる波長に依存する。第2の入力パラメータは放射パルスの繰り返し速度fであり、その値は一般的にエキシマレーザのような放射源について固定されている。第3の入力パラメータは放射感知層8上に入射する放射パルス当たりの最大エネルギーE(max)であり、これは持続動作モードの放射源から供給される。E(max)の値は用いられる特定の放射源及び放射源と層との間の光学系の透過率により決定される。コントローラは出力信号としてエネルギーを制御する信号及び走査速度を制御する信号を有する。
ここで、Wは露光視野、すなわち層8上の出射窓2の像の走査方向における幅であり、Hはこの視野の走査方向と直交する方向の高さである。
マスクの速度は対応するように適合される。
このエネルギー減衰は、例えば放射源1のエキシマレーザの励起電圧を制御することにより又はレーザと出射窓2との間の放射源内に配置した減衰器を制御することにより行なうことができる。この減衰器の取り得る実施例は、6個の異なるエネルギー量制御手段を示す米国特許第5119390号に記載されている。基板の走査速度vは以下のように制御する。
露光視野が層8上の点を通過する時間内でこの点により受光される放射パルス数は整数に等しくなる。
dN(max)=dD(max)・d・N2/(D・W)
ここで、dは台形の側辺の幅であり、Wは層8上の出射窓の幅、すなわち図2に示す強度分布が半分になる位置の幅である。全体の分布の全幅はWtdに等しくなる。この露光量の不均一性dDは、露光量のピーク対ピーク変化として規定される。パラメータNは、幅Wの矩形の強度分布を有する走査される出射窓の像が通過する期間中に層8の一点に入射するパルス数である。Nの値は、dN(max)の計算に対してN1とすることができる。
dN(max)=dD(max)1.7d2・N3/(D・W2)
ここで、dは強度分布の側部の幅であり、この側部はコサイン関数の半周期の形状を有している。誤差関数形状を有する縁部強度の関係は、
dN(max)=dD(max)12.5N2/D
一例として、像の縁部の幅は象の幅Wの0.2倍、すなわちd/W=0.2とし、必要な最大値に対する不均一な露光量dD(max)/Dを0.001とし、パルス数Nを15とする。この場合、線形な縁部強度の場合のdN(max)の値は0.05に等しくなる。コサイン形状の縁部強度の場合dN(max)は0.2に等しく、誤差関数形状の縁部強度の場合dN(max)は2.8に等しくなる。0.5以上のdN(max)の値はパルス数と最も近い整数との間の最大の取り得る差であり、この値は少なくともN−0.5からN+0.5の範囲の全てのNの値が上記0.001の値の場合よりも一層良好な相対的均一性を保証することを示している。この場合、必要な露光量の均一性を得るためNの値をこれ以上整数に近づける必要はない。
必要な露光量 パルス数 ケース 減 衰 走査速度
D(mJ) N1 N3 E/E(max)(%) v(cm/s)
20 27.73 28 2 99.0 28.57
21 29.12 29.12 1 100 27.47
22 30.50 31 2 98.4 25.81
23 31.89 31.89 1 100 25.09
24 33.28 34 2 97.9 23.53
25 34.67 35 2 99.1 22.86
表1:予め定めた値の繰り返しレートにおける必要な
露光量に対する減衰及び走査速度依存性
Claims (2)
- 出射窓を有し、この出射窓に予め定めた繰り返し速度でほぼ等しいエネルギーの放射パルスを供給して放射感知層を有する基板を予め定めた露光量で出射する放射源と、前記出射窓を放射感知層上に結像する結像光学系と、前記出射窓の像と基板とを互いに走査方向の走査速度で走査する走査手段と、前記放射源及び走査手段と関連し、前記露光量及び繰り返し速度に応じて前記放射パルスのエネルギー及び走査速度を制御するコントローラとを具える走査露光装置。
- 予め定めた繰り返しレートにおいてほぼ等しいエネルギーを有する放射パルスにより露光中に走査方向のある走査速度で放射感知層を放射分布強度で走査することにより予め定めた露光量で放射感知層を照射するに当たり、露光量及び繰り返しレートに応じて放射パルスのエネルギーを制御する工程を含む放射感知層の照射方法。
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