JP4250052B2 - パターン描画方法、及びパターン描画装置 - Google Patents
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Description
Proceedings of SPIE, Vol.4186, PP.16-21
2 縮小投影光学系
3 XYステージ
4 マスク基板
5 紫外パルスレーザ装置
6a、6b ミラー
7 整形光学系
8 ハーフミラー
9 光検出器
10 グレースケール補正装置
11a、11b 信号線
20a、20b、20c、20d、20e デジタルミラー投影パターン
100 パターン描画装置
L1、L2、L3、L4 紫外光
Claims (2)
- 二次元に配列された微小ミラーを含むミラーデバイスにパルス光源からのパルス状の露光光を入射し、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを用いて基板上にパターンを描画するパターン描画方法において、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを直接または縮小投影して前記基板上のパターン投影領域の実質的に全面を複数回オーバーラップさせて露光し、かつ前記パルス状の露光光のエネルギー値に基づいて、前記基板上のパターン投影領域における前記各微小ミラーが投影される各領域を露光する前記パルス状の露光光の重なる回数を制御することを特徴とするパターン描画方法。
- 請求項1において、前記ミラーデバイスに入射する露光光の一部を検出することにより、前記露光光のエネルギー値を測定し、測定結果に基づいて、各投影パターンを構成する各微小ミラーにおけるエネルギーばらつきを検出し、当該エネルギーばらつきを補正するように、前記微小ミラーをON、OFF制御することを特徴とするパターン描画方法。
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