JP2005123234A - パターン描画方法、及びパターン描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 紫外光L2を、ハーフミラー8を僅かに透過させて、そのエネルギーを光検出器9によって測定し、これによって、各パルスごとのエネルギーのデータを取得し、エネルギーのばらつきを考慮するように、グレースケールにおける重ね合わせるスポットの回数を補正する。すなわち、光検出器からのエネルギー値によって、グレースケール補正装置10は、エネルギーばらつきを補正するようなグレースケールを計算し、計算結果に基づき、ミラーデバイス1における各マイクロミラーのON、OFF動作を制御する。
【選択図】 図1
Description
Proceedings of SPIE, Vol.4186, PP.16-21
2 縮小投影光学系
3 XYステージ
4 マスク基板
5 紫外パルスレーザ装置
6a、6b ミラー
7 整形光学系
8 ハーフミラー
9 光検出器
10 グレースケール補正装置
11a、11b 信号線
20a、20b、20c、20d、20e デジタルミラー投影パターン
100 パターン描画装置
L1、L2、L3、L4 紫外光
Claims (4)
- 二次元に配列された微小ミラーを含むミラーデバイスにパルス光源からのパルス状の露光光を入射し、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを用いて基板上にパターンを描画するパターン描画方法において、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを直接または縮小投影して前記基板上のパターン投影領域の実質的に全面を複数回オーバーラップさせて露光し、かつ前記パルス状の露光光のエネルギー値に基づいて、前記基板上のパターン投影領域における前記各微小ミラーが投影される各領域を露光する前記パルス状の露光光の重なる回数を制御することを特徴とするパターン描画方法。
- 請求項1において、前記ミラーデバイスに入射する露光光の一部を検出することにより、前記露光光のエネルギー値を測定し、測定結果に基づいて、前記微小ミラーをON、OFF制御することを特徴とするパターン描画方法。
- 二次元に配列された微小ミラーを含むミラーデバイスにパルス光源からのパルス状の露光光を入射し、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを用いて基板上にパターンを描画するパターン描画方法において、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを前記基板上のパターン投影領域に部分的にオーバーラップさせて複数回露光し、当該露光光の重なる回数によってグレースケールを再現することを特徴とするパターン描画方法。
- 二次元に配列された微小ミラーを含むミラーデバイスにパルス光源からのパルス状の露光光を入射し、前記ミラーデバイスから出力される投影パターンを用いて基板上にパターンを描画するパターン描画装置において、前記パルス状の露光光のエネルギー値を検出する検出手段と、前記検出手段によって検出された検出結果に基づき、前記パルス状の露光光におけるエネルギーバラツキを補正するグレースケールを計算し、計算結果によって前記ミラーデバイスを構成する微小ミラーをON、OFF制御する補正装置を含むことを特徴とするパターン描画装置。
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