KR19990022277A - 리소그래픽 스캐닝 노광 프로젝션 장치 - Google Patents

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Abstract

리소그래픽 스캐닝 노광 프로젝션 장치에서 방출 펄스를 제공하는 방출 소스(1), 렌즈 시스템(3,7), 기판(9)상에 촬상된 마스크(5), 상기 기판(9)에서 스캐닝 속도로 상기 방출 소스의 출구 윈도우(2)의 이미지를 스캐닝하는 스캐닝 수단(10)이 제공되어 있다. 제어기(13)는 기판상의 필요한 노광 도우즈와 상기 방출 펄스의 반복 속도에 따라 상기 방출 펄스의 에너지와 상기 스캐닝 속도를 제어한다. 상기 제어기는 상기 장치를 통해 기판의 최대 처리량과 상기 기판상의 최소 도우즈 불균일을 보장한다.

Description

리소그래픽 스캐닝 노광 프로젝션 장치
광학 스캐닝 리소그래피 시스템에서 엑시머 레이저와 같은 펄스 방출 소스는 슬릿형 노광 필드상에서 감광층을 노광시킨다. 이 층을 스캔 방향으로 상기 필드에 대해 상대적으로 이동시킴으로써 상기 층은 중첩 필드에서 연속적인 일련의 펄스에 의해 조사되게 된다. 상기 층의 한 지점에 의해 수신된 방출 펄스 수는 상기 필드의 중첩 정도에 좌우된다. 예컨대, 20개의 펄수 이후에 상기 필드가 상기 스캔 방향으로 그 폭과 동일한 거리에 걸쳐 이동하면 상기 층의 한 지점은 20의 방출을 수신하게 된다. 하지만, 상기 층과 상기 필드 간의 상대적인 속도는 상기 층이 배열되어 있는 테이블의 액츄에이터에서의 허용오차 때문에 두 펄스간의 폭의 1/20의 이동에 필요한 속도와는 정확하게 동일하지는 않으며 상기 방출 펄스의 타이밍에서 부정확하다. 따라서, 인접해 있는 순간적인 노광 필드의 정확한 버팅(butting)에서 이탈이 일어난다. 상기 층의 지점들은 이들의 위치와 중첩 정도에 따라 19개, 20개 또는 21개의 방출 펄스를 수신한다. 이른바 이 띠형 불균일은 후속되는 노광 필드가 적절히 버팅되지 않은 위치에서 상기 감광층상에서의 불균일 노광의 띠형 영역을 노출시킨다. 민틈없이 촬상된 슬릿 형상 순간 필드 정지, 예컨대 방출 소스의 출구 윈도우의 형태의 정지의 경우에, 상기 불균일은 각각의 방출 펄스에 대해 슬릿 에지의 위치에서 노광 불연속 형태를 취한다. 상기 노광시에 띠형 불균일은 펄스간 변동이 없을 때에도 존재한다. 그러므로, 상기 층의 노광 도우즈 제어는 스캔 방향을 따라 불균일 제어의 노광과 직접적으로 관련되어 있다.
SPIE의 화보(Volumn 922(1988), 페이지 437-443)에 발표된다. 디. 에이치. 트레이시(D.H.Tracy)와 에프.와이.와우(F.Y.Wu)의 논문 '엑시머 레이저 리소그래피용의 노광 도우즈 제어 기술'에는 리소그래픽 스캐닝 노광 프로젝션 장치가 공개되어 있다.
이 프로젝션 장치는 방출 펄스의 충분히 높은 반복 속도를 이용함으로써 노광 불연속을 감소시키며, 이에 따라 감광층의 조사된 위치당 펄스 수는 100개 정도이다. 이와 같은 위치당 다수의 펄스는 상기 기판의 스캐닝 속도가 방출 소스에 의해 생성될 수 있는 제한된 반복 속도 때문에 비교적 느려진다는 점에 단점이 있다. 느린 스캐닝 속도로 인해, 상기 장치를 통한 기판의 처리량이 적어지고 기판당 비용이 상승한다.
본 발명은 리소그래픽 스캐닝 노광 프로젝션 장치에 관한 것으로, 특히 반도체 장치, 액정 표시 장치 또는 자기 헤드와 같은 마이크로장치 제조용의 노광 장치에 관한 것으로, 이 노광 장치는 방출 펄스인 스캐닝 빔에 의해 감광층(radiation sensitive layer)을 조사한다. 본 발명은 또한 방사 펄스의 스캐닝 빔에 의해 감광층을 조사하는 방법에 관한 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 리소그래픽 스캐닝 프로젝션 장치의 일실시예를 보인 도면.
도 2는 기판상에서의 세기 분포를 보인 도면.
본 발명의 목적은 상기 장치의 높은 처리량을 유지하면서 띠형 불균일을 줄이는데 있다.
이 목적은, 소정의 노광 도우즈로 감광층을 가지고 있는 기판을 조사하기 위해 출구 윈도우에서 소정의 반복 속도로 실질적으로 동일한 에너지의 방출 펄스를 제공하기 위한 출구 윈도르를 가지고 있는 방출 소스와; 상기 감광층상에 상기 출구 윈도우를 촬상하는 촬상 시스템과; 스캔 방향으로 스캐닝 속도로 서로에 대해 상기 출구 윈도우의 이미지와 기판을 스캐닝하는 스캐닝 수단과; 상기 방출 소스와 상기 스캐닝 수단에 연결되어, 상기 노광 도우즈와 반복 속도에 따라 상기 방출 펄스의 에너지와 상기 스캐닝 속도를 제어하는 제어기를 구비하고 있는 리소그래픽 스캐닝 프로젝션 장치에서 달성된다.
상기 장치의 최대 처리량은 상기 방출 소스의 반복 속도와 상기 방출 펄스당 최대 에너지에 의해 결정된다. 일단, 엑시머 레이저와 같은 방출 소스가 최대 출력 전력에 맞게 조절되면, 상기 반복 속도는 동일한 출력 전력을 유지해 주면서 자유자재로 변동될 수 없는데, 이는 그러한 레이저의 레이저 방출 조건이 이 파라미터에 대해 비교적 비판적이기 때문이다. 흔히, 상기 반복 속도는 크리스탈 제어된다. 그러므로, 본 발명에 따른 장치는 감광층상에서 필요한 노광 도우즈가 가능한 한 짧은 시간내에 그리고 소정의 최대치 이하로 유지되는 도우즈 불균일으로 가지고 증착될 수 있도록 하는 방법으로 상기 펄스의 에너지와 상기 스캐닝 속도를 제어한다. 각각의 방출 펄스의 에너지는 도우즈 불균일을 피하기 위해 특정 기판의 스캐닝 조사동안에는 실질적으로 동일하다. 기판이 다른 경우에, 상기 에너지는 상기 기판상의 감광층의 특성에 따라 다를 수도 있다.
감광층을 조사하는 펄스의 수와, 그 펄스의 에너지와, 그 스캐닝 속도를 제어하는 바람직한 실시예가 청구의 범위의 종속항에 제공되어 있다.
본 발명의 이들 측면 및 기타 다른 측면은 이하에서 설명되는 실시예들로부터 명백해지며 그리고 이들 실시예를 참조하여 설명된다.
도 1에는 본 발명에 따른 리소그래픽 스캐닝 프로젝션 장치가 개략적으로 도시되어 있다. 상기 장치는 출구 윈도우(2)쪽에서 방출 펄스를 방출하는 예컨대 엑시머 레이저와 같은 방출 소스(1)를 구비하고 있다. 상기 출구 윈도우는 예컨대 유럽 출원 제0 658 810호에 설명되어 있는 수정 로드(quarts rod)와 같은 광학 적분기의 출구 평면일 수도 있다. 상기 적분기는 상기 출구 윈도우상에서 균일한 세기 분포를 형성한다. 상기 출구 윈도우는 연장된 형상을 가지고 있는 것이 바람직하다. 도면에 도시되어 있는, 3개의 렌즈(3', 3'', 3''')를 구비하고 있는 촬상 시스템(3)은 하나의 패턴을 가지고 있는 마스크, 즉 레티클(reticle)(5)의 표면(4)상에서 상기 출구 윈도우(2)를 촬상한다. 선형 엑츄에이터와 같은 제1스캐닝 수단(6)은 상기 표면(4)상에 제공된 전체 패턴이 조명되도록 하는 방법으로 상기 윈도우 이미지에 대해 상기 마스크(5)를 스캐닝한다. 또한, 상기 마스크(5)는 고정되어 있을 수도 있고, 그리고 출구 윈도우(2)가 스캐닝된다. 상기 마스크상의 출구 윈도우의 이미지의 길이 방향은 상기 스캔 방향, 즉 상기 스캐닝 수단(6)이 펄스 방출에 노출중인 동안에 상기 마스크(5)를 변위시키는 방향에 수직이다. 참조 부호 1 내지 6의 소자는 스캐닝 슬릿 노광 장치를 형성하고 있다.
단일의 구성 요소에 의해 도면에 개략적으로 지시되어 있는 프로젝션 렌즈 시스템(7)은 기판(9)상에 배열되어 있는 감광층(8)쪽에 상기 마스크(4)의 조명된 부분을 촬상한다. 상기 기판은 반도체 웨이퍼일 수도 있다. 상기 프로젝션 렌즈 시스템(7)은 1/4의 배율을 가지고 있는 것이 바람직하다. 상기 기판(9)은 상기 프로젝션 렌즈 시스템(7)의 배율을 고려하여, 상기 마스크(5)의 스캐닝과 동시에 제2스캐닝 수단(10)에 의해 스캐닝되며, 이때 상기 기판의 이동 방향은 상기 마스크의 이동과 동일한 방향이거나 반대 방향이다. 상기 마스크와 상기 기판의 조합된 스캐닝은 상기 스캔 방향으로 변위된 일련의 이미지가 상기 기판상에 형성되도록 하는 방법으로 수행되며, 이때 상기 이미지는 상기 마스크(5)의 표면(4)상에 제공된 패턴의 슬릿 형상 부분의 이미지이다. 가능한 스캐닝 스퀀스에 대해서는 저널 세미컨덕터 인터내셔널(Semiconductor International)(1986년 5월, 페이지 137-142)에 디.에이.마클(D.A.Markle)이 발표한 서브 미크론 1:1 광학 리소그래피라는 논문에 설명되어 있다. 상기 장치의 광경로는 상기 노광 장치에 미러(11)를 사용함으로써 포개질 수 있다.
제어기(13)는 방출 소스(1)와, 제1스캐닝 수단(6)과, 제2스캐닝 수단(10)을 제어한다. 상기 제어기는 마이크로프로세서, 디지탈 신호 처리기, 아날로그 신호 처리기, 디지탈 논리 회로 또는 신경망을 구비하고 있을 수도 있다. 상기 제어기는 상기 감광층(8)상에 조사될 필요한 노광 도우즈(D)를 제1입력 파라미터로서 가지고 있다. 이 도우즈는 상기 층의 재료의 특성과 상기 조사에 사용된 파장에 따라 좌우된다. 상기 제2입력 파라미터는 상기 방출 펄스의 반복 속도(f)이고, 그 값은 일반적으로 엑시머 레이저와 같은 방출 소스용으로 고정되어 있다. 제3입력 파라미터는 상기 감광층(8)상에 입사되는 방출 펄스당 최대 에너지(E(max))이고, 이때 상기 에너지는 지속된 동작 모드에서 상기 방출 소스에 의해 전달될 수 있다. E(max)의 값은 사용된 특정 방출 소스, 및 상기 방출 소스와 상기 층사이에서의 광전송에 의해 결정된다. 상기 제어기는 상기 에너지를 제어하기 위한 신호와 상기 스캐닝 속도를 제어하기 위한 신호를 출력 신호로서 가지고 있다.
상기 에너지와 스캐닝 속도의 결정을 위해, 상기 제어기는 특정 층(8)의 지점의 조사에 필요한 펄스 수를 필요로 하며, 상기 층의 최적의 노광 도우즈(D)와, 이용가능한 에너지(E(max))와, 상기 층상의 노광 필드의 크기에 따라 좌우된다. 그러므로, 상기 제어기(13)는 방출 펄스 수(N1)를 결정하며, 이때 이 펄스 수를 가지고 상기 감광층(8)상의 지점이 수학식 1에 따라 필요한 노광 도우즈(D)를 얻어지도록 조사되어야 한다:
[수학식 1]
N1=D·W·H/E(max),
이때, W는 상기 노광 필드의 폭, 즉 상기 스캔 방향으로의 상기 층의 출구 윈도우(2)의 이미지의 폭이고, H는 상기 스캔 방향에 수직인 방향으로의 상기 필드의 높이이다.
띠형 불균일은 필요한 펄스 수가 정수일 때 최소이다. 이때 나머지 불균일은 인접해 있는 순간적인 노출 필드의 앞에서 언급한 부정확한 버팅에 적어도 부분적으로 기여한다. 대부분의 노광 장치는, 후술되는 바와 같이, 부정확한 버팅의 효과를 완화하기 위한 조치를 취한다. 상기 버팅의 결과적으로 얻어진 허용 오차는 또한 상기 층(8)의 한 지점의 노광에 필요한 펄스 수에 허용 오차를 야기한다. 따라서, 상기 펄스 수는 N-dN(max)에서 N+dN(max)의 범위에 속하는 것이 바람직하며, 이때 N은 정수이고 dN(max)은 상기 펄스 수의 허용 오차이다. 상기 허용 오차의 값은 특히 상기 출구 윈도우(2)의 형상에 따라 좌우되는데, 이에 대해서는 후술한다.
필요한 노광 도우즈로부터 노출된 N1의 값은 일반적으로 정수이다. 본 발명에 따라, 상기 노광 동안에 실제로 사용된 펄스 수는 다음과 같이 도출된다.
제1경우에서, N1의 값과 가장 가까운 정수(N2)간의 차가 허용치(dN(max))보다 작으면, 펄스 수(N3)는 N2-dN(max)에서 N2+dN(max)의 범위내에서 선택되게 된다. 상기 차는 제약되지 않는 것으로 이해된다. 이때, 상기 불균일은 여전히 받아들여진다. N3의 값은 가능한 한 N2에 가까운 것이 바람직하다. 제1경우에서, 상기 제어기(13)는 상기 방출 펄스가 최대 에너지(E(max))와 동일한 에너지(E)를 가질 수 있도록 상기 방출 소스를 제어한다. 상기 기판(9)의 상기 스캐닝 속도(v)는 수학식 2로 설정된다:
[수학식 2]
v = W·f / N3
상기 마스크의 스캐닝 속도도 이와 유사하게 조절된다.
제2경우에서, N1의 값은 정수값으로부터 dN(max)보다 많은 값만큼 이탈한다. 이때, 상기 층(8)의 한 지점을 조사하는 방출 펄스 수단(N3)는 N1보다 큰 가장 가까운 정수값(N2)에 가깝도록 취해진다. 필요한 도우즈 균일을 얻기 위해, 상기 상기 펄스 수(N3)는 N'2-dN(max)에서 N'2+dN(max)의 범위내에 속하는 것이 바람직하다. N3의 값은 가장 낮은 도우즈 불균일을 얻기 위해 N2에 가능한 한 가까운 것이 바람직하다.
상기 제2경우에서, 필요한 노광 도우즈를 증착시키기 위해, 상기 제어기(13)는 수학식 3과 동일한 에너지(E)를 각각 가지고 있는 방출 펄스가 발생되도록 상기 방출 소스를 제어한다:
[수학식 3]
E = E(max)·N1/ N3
이러한 상기 에너지의 감쇠는 예컨대 상기 방출 소스(1)에서 엑시머 레이저의 여기 전압을 제어함으로써 또는 상기 레이저와 상기 출구 윈도우(2)사이의 방출 소스(1)내에 배열되어 있는 감쇠기를 제어함으로써 실현될 수 있다. 이러한 감쇠기의 가능한 실시예들에 대해서는 6개의 상이한 에너지량 제어 수단을 보여 주는 미국 특허 제5,119,390호에 설명되어 있다. 상기 기판(9)의 스캐닝 속도(v)는 수학식 4가 되도록 제어된다:
[수학식 4]
v = W·f / N3
상기 노광 필드가 상기 층(8)상의 지점을 통과하는 시간내에 상기 지점에 의해 수신된 방출 펄스 수는 이제 정수와 동일하다.
정확한 펄스 수를 선택한 후에, 상기 층(8)의 나머지 띠형 불균일은 이제 특히 인접해 있는 순간적인 노광 필드의 부정확한 버팅 때문이다. 이들 불균일은 예컨대 상기 광경로에의 스캐터링 소자(scattering element)(12)의 삽입에 의해 또는 상기 출구 윈도우(2)의 초점 흐림에 의해 감소될 수도 있다.
상기 스캐터링 소자(12)는 상기 출구 윈도우(2)와 상기 마스크(5)사이의 방출 펄스의 경로에, 바람직하게는 촬상 시스템(3)의 구성요소에 배열되어 있다. 상기 소자는 상기 층(8)상에서 인접해 있는 순간적인 노광 필드의 버팅에 대한 허용치를 감소시킨다. 상기 스캐터링 소자(12)는 상기 스캔 방향에서만 바람직하게 상기 출구 윈도우 이미지의 블럭(blur)를 야기시킨다. 상기 마스크(5)의 스캔 방향이 도면의 평면내에 존재하도록 취해지면, 상기 스캐터링 소자(12)는 상기 도면의 평면내에서 또한 블러를 야기시킨다. 상기 스캐터링 소자에 의해 생기는 대신에, 상기 블러는 또한 상기 표면(4)상의 출구 윈도우의 이미지의 약간의 초점 흐림에 의해 생길 수도 있다.
상기 제1경우와 제2경우사이에서 상기 제어기(13)에서 행해진 선택은 상기 허용치(dN(max))의 값에 따라 좌우된다. 상기 출구 윈도우의 형상과, 상기 촬상시스템(3)과 프로젝션 렌즈(7)의 촬상 특성을 알면, 상기 층(8)의 한 지점상에서 방출 펄스 수의 함수로서 상기 도우즈 불균일(dD)이 계산될 수 있다. 이 결과로부터, 상기 펄스 수에 대한 허용치와 결과적으로 얻어진 도우즈 불균일(dB)간의 관계가 얻어질 수 있다. 상기 불균일(dD)은 상기 장치를 가지고 실행되는 제조 공정에 의해 요구되는 소정의 최대치(dD)의 이하로 유지되어야 한다. 상기 펄스 수에 대한 대응 허용치는 dN(max)이다.
상기 스캐닝 방향으로의 노광 필드의 세기 분포는 예컨대 상기 출구 윈도우(2)의 초점을 흐리게 함으로써 실현되는 실질적인 사다리꼴 형상을 가질 수 있다. 상기 허용치(dN(max))와 필요한 최대 불균일dD(max)간의 관계는 수학식 5와 같다:
[수학식 5]
dN(max) = dD(max)·d·N3/ (D·W),
이때, d는 사다리꼴의 한쪽 변의 폭이고, 그리고 W는 상기 층(8)상의 상기 출구 윈도우 이미지의 폭, 즉 도 2에 도시된 1/2 높이에서의 세기 분포의 폭이다. 전체적인 분포의 전체 폭은 W+d와 동일하다. 상기 도우즈 불균일(dD)은 상기 도우즈의 피크-피크 변화로 정의된다. 상기 파라미터(N)는 폭(W)을 가지고 있는 직사각형 세기 분포를 가지고 있는 스캐닝된 출구 윈도우 이미지의 통과 중에 상기 층(8)의 한 지점에 입사하는 펄스 수이다. N의 값은 dN(max)의 계산을 위해 N1으로서 취해질 수 있다.
상기 에지 세기가 사다리꼴 분포의 경우와 같이 선형적으로 떨어지지 않고 예컨대 코사인 함수 또는 오류 함수의 경우와 같이 보다 스무스하게 떨어지면, 상기 띠형 불균일은 보다 적어지며, 따라서 주어진 dD(max)에 대한 dN(max)의 값은 사다리꼴 분포의 경우보다 크다. 코사인 형상 에지 세기에 대한 dN(max)의 함수인 dN(max)의 값은 수학식 6과 같다:
[수학식 6]
dN(max) = dD(max) 1.7 d2·N3/ (D·W2),
이때, d는 또한 세기 분포의 한쪽 변의 폭이고, 이때 변은 코사인 함수의 1/2 주기의 형상을 가지고 있다. 오류 함수 형상을 가지고 있는 에지 세기에 대한 관계는 수학식 7과 같다:
[수학식 7]
dN(max) = dN(max) 12.5 N2/D
일예로서, 상기 이미지의 에지의 폭은 사이 이미지의 폭(W)의 0.2배, 즉 d/W = 0.2가 되도록 취해지며, 필요한 최대의 상대적 도우즈 불균일(dN(max)/D)은 0.001이고, 펄스 수(N)는 15이다. 이때, 선형 에지 세기에 대한 dN(max)의 값은 0.05이다. 코사인 형상 에지인 경우에 세기 dN(max)는 0.2이고, 오류 함수 형상 에지인 경우에 세기 dN(max)는 2.8이다. 수와 가장 가까운 정수값간의 가능한 최대차인 0.5보다 큰 dN(max)의 값은 적어도 N-0.5에서 n+0.5의 범위내의 모든 N값이 언급된 값 0.001보다 양호한 상대적 균일을 보장해 줌을 나타낸다. 이 경우에, N의 값은 필요한 도우즈 균일을 얻기 위해 더 이상 정수에 가까울 필요가 없다.
표 1에는 다음의 세트의 파라미터 값, 즉 W = 0.8cm, H = 2.6cm, d=0.2cm, E(max) = 1.5mJ, dN(max) = 0.2, f = 1000 Hz를 이용하여 필요한 일련의 도우즈(D)에 대한 제어기(13)의 동작에 대한 일예가 나타내어져 있다. 사다리꼴 세기 분포인 경우에, dN(max) = 0.2는 dN(max)/D = 0.1%의 최대 불균일에 해당한다. 상기 제1경우와 제2경우는 경우 1과 경우 2에 의해 지시되어 있다. 제1경우에 N3은 N1과 동일한 값을 가지고 있고, 제2경우에 N3은 N2의 값과 동일한 값을 가지고 있다. 표 1은 소정값의 반복 속도에서 필요한 노광 도우즈에 대한 감쇠 및 스캐닝 속도의 의존성을 나타낸 것이다.
[표 1]
본 발명에 따라 동작하는 제어기(13)는 최대 허용치보다 적은 도우즈 불균일을 유지하면서 상기 감광층(8)상에 최대 방출량을 전달하게 된다. 이 방법으로, 상기 장치를 통한 기판의 최대 처리량 속도가 얻어진다.

Claims (8)

  1. 스캐닝 노광 장치에 있어서,
    소정의 노광 도우즈로 감광층을 가지고 있는 기판을 조사하기 위해 출구 윈도우에서 소정의 반복 속도로 실질적으로 동일한 에너지의 방출 펄스를 제공하기 위한 출구 윈도우를 가지고 있는 방출 소스와; 상기 감광층상에 상기 출구 윈도우를 촬상하는 촬상 시스템과; 스캔 방향으로 스캐닝 속도로 서로에 대해 상기 출구 윈도우의 이미지와 기판을 스캐닝하는 스캐닝 수단과; 상기 방출 소스와 상기 스캐닝 수단에 연결되어, 상기 노광 도우즈와 반복 속도에 따라 상기 방출 펄스의 에너지와 상기 스캐닝 속도를 제어하는 제어기를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제어기는 다음 식과 동일한 개수(N1)를 결정하기 위해 동작가능하게 접속되어 있고,
    N1= (D·W·H) / E(max),
    이때, D는 소정의 노광 도우즈이고, W는 상기 스캔 방향으로의 상기 출구 윈도우의 폭이고, H는 상기 스캔 방향에 수직인 상기 출구 윈도우 이미지의 높이이고, E(max)는 방출 펄스당 이용가능한 최대 에너지이고,
    그리고, 제1경우에 N1과 N2의 값의 차가 dN(max)보다 작거나 동일하면 N2-dN(max)에서 N2+dN(max)의 범위(단, N2는 N1에 가장 가까운 정수)에서, 또는 제2경우에 N1과 N2의 값의 차가 dN(max)보다 크면 N'2-dN(max)에서 N'2+dN(max)의 범위(단, N'2는 N1의 값보다 큰 가장 가까운 정수)에서, 상기 감광층상의 한 지점을 조사하기 위한 방출 펄스 수(N3)를 결정하기 위해 동작가능하게 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 리소그래픽 스캐닝 프로젝션 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1경우에서 상기 방출 펄스의 에너지는 감쇠되지 않으며, 제2경우에서는 상기 방출 펄스의 에너지가 N1/N3와 실질적으로 동일한 인자만큼 감쇠되는 것을 특징으로 하는 리소그래픽 스캐닝 프로젝션 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 스캐닝 속도는 다음 식과 실질적으로 동일하고,
    v = W·f / N3,
    이때, f는 상기 펄스의 반복 속도인 것을 특징으로 하는 리소그래픽 스캐닝 프로젝션 장치.
  5. 스캔 방향으로 스캐닝 속도로 노광 중에 감광층상에서 방출의 세기 분포를 스캐닝함으로써, 소정의 반복 속도로 실질적으로 동일한 에너지를 가지고 있는 방출 펄스에 의해 소정의 노광 도우즈로 감광층을 조사하는 방법에 있어서,
    노광 도우즈와 반복 속도에 따라 상기 방출 펄스의 에너지와 스캐닝 속도를 제어하는 단계를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 개수(N1)는 다음 식에 따라 결정되며,
    N1= (D·W·H) / E(max),
    이때, D는 소정의 노광 도우즈이고, W는 상기 스캔 방향으로의 출구 윈도우의 폭이며, H는 상기 스캔 방향에 수직인 출구 윈도우 이미지의 높이이고, E(max)는 방출 펄스당 이용가능한 최대 에너지이고, 허용치(dN(max))는 상기 감광층상의 소정의 최대 도우즈 불균일에 의해 결정되며, 상기 감광층상의 한 지점을 조사하기 위한 방출 펄스 수(N3)는 제1경우에 N1과 N2의 값의 차가 dN(max)보다 작거나 동일하면 N2-dN(max)에서 N2+dN(max)의 범위(단, N2는 N1에 가장 가까운 정수)내에 속하고, 제2경우에 N1과 N2의 값의 차가 dN(max)보다 크면 N'2-dN(max)에서 N'2+dN(max)의 범위(단, N'2는 N1의 값보다 큰 가장 가까운 정수)내에 속하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제1경우에서 상기 방출 펄스의 에너지는 감쇠되지 않고, 제2경우에서는 상기 방출 펄스의 에너지가 N1/N3와 실질적으로 동일한 인자만큼 감쇠되는 것을 특징으로 하는 리소그래픽 스캐닝 프로젝션 장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 스캐닝 속도는 다음 식과 실질적으로 동일하며,
    v = W·f / N3,
    이때, f는 상기 펄스의 반복 속도인 것을 특징으로 하는 리소그래픽 스캐닝 프로젝션 장치.
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