KR940009723B1 - 박막자기헤드 제조방법과 그것을 내장한 자기정보 저장장치 - Google Patents

박막자기헤드 제조방법과 그것을 내장한 자기정보 저장장치 Download PDF

Info

Publication number
KR940009723B1
KR940009723B1 KR1019900003715A KR900003715A KR940009723B1 KR 940009723 B1 KR940009723 B1 KR 940009723B1 KR 1019900003715 A KR1019900003715 A KR 1019900003715A KR 900003715 A KR900003715 A KR 900003715A KR 940009723 B1 KR940009723 B1 KR 940009723B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnetic
reading
tip portion
magnetic head
pole piece
Prior art date
Application number
KR1019900003715A
Other languages
English (en)
Other versions
KR900015071A (ko
Inventor
다까시 가와베
모리아끼 후야마
신쥬 나리시게
에이지 아시다
마고또 모리지리
마사노리 다나베
히로시 후꾸이
유다까 스기다
히로시 이케다
마사끼 하야시
간지 나까고시
간지 가와가미
요꼬 사이또
신찌로 구와쯔가
Original Assignee
가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼
미다 가쓰시게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼, 미다 가쓰시게 filed Critical 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼
Publication of KR900015071A publication Critical patent/KR900015071A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR940009723B1 publication Critical patent/KR940009723B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/33Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
    • G11B5/39Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
    • G11B5/3903Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
    • G11B5/3906Details related to the use of magnetic thin film layers or to their effects
    • G11B5/3916Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide
    • G11B5/3919Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide the guide being interposed in the flux path
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/012Recording on, or reproducing or erasing from, magnetic disks
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3109Details
    • G11B5/3116Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3109Details
    • G11B5/313Disposition of layers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3163Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/33Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
    • G11B5/39Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
    • G11B5/3903Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/33Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
    • G11B5/39Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
    • G11B5/3903Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
    • G11B5/3967Composite structural arrangements of transducers, e.g. inductive write and magnetoresistive read

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

박막자기헤드 제조방법과 그것을 내장한 자기정보 저장장치
제 1 도는 정보처리 시스템의 일부로서 자기디스크 장치의 구조를 나타내는 개략도.
제 2a 도 및 제 2b 도는 종래 기술의 박막자기헤드의 사시도 및 단면도.
제 3 도는 본 발명에 따른 자기헤드가 적용된 자기디스크 장치의 사시도.
제 4 도는 본 발명의 박막자기헤드가 슬라이더상에 형성되는 방법을 보여주는 사시도.
제 5 도는 슬라이더가 로드암상에 형성된 경우의 사시도.
제 6 도는 자기헤드의 일정 효과를 보여주는 다이어그램.
제 7a 도 및 제 7b 도, 제 9a 도 및 제 9b 도, 제 10 도, 제 11 도, 제 12 도, 제 13 도는 본 발명을 구체화 한 박막자기헤드 단면도 및 평면도.
제 8a 도는 종래 기술에서 얻어진 결과를 설명하는 히스토그램.
제 8b 도는 본 발명에서 얻어진 결과를 설명하는 히스토그램.
제 14 도 및 제 15 도는 본 발명의 실시예에 따른 박막자기헤드의 제조방법을 보여주는 단면도.
제 16 도는 웨이퍼상의 박막자기헤드의 구성을 설명하는 구성도.
본 발명은 자기정보 저장매체에의 기록 및 자기정보 저장매체로 부터의 판독을 위한 자기헤드에 관한 것으로, 특히 박막기술에 의하여 형성되며, 자기 하드디스크 저장장치에 이용되는 것에만 제한되지 않는 자기 헤드 및 그러한 헤드의 제조방법에 관한 것이다.
자기 하드디스크 저장장치에 필요한 저장용량은 컴퓨터 처리용량의 증가로 점점 증가하고 있다. 이에 따라, 하드디스크장치의 크기가 증가하게 되는 것은 바람직하지 않기 때문에, 디스크의 트랙 넓이를 축소시켜야 하는데, 이것은 이 디스크에의 기록 및 디스크로부터의 판독에 사용되는 자기헤드의 자기극편의 트랙 넓이를 또한 축소하게 되는 것을 의미한다. 그들 자기헤드의 폭두께(폭길이)를 제어하는 것이 필요하다. 이러한 자기헤드의 제조시, 폭의 두께와 헤드의 트랙넓이에 있어서 고정밀도를 성취하여 저질이나 불완전한 제품을 방지하는 것이 중요하다.
디스크상의 비트길이에 관련하는 많은 요소중에서, 자기헤드의 폭두께가 중요하다.
박막기술은 매우 좁은 폭두께와 매우 좁은 트랙넓이를 갖는 자기헤드의 제조에 응용된다. 이 기술은 많은 층을 기판상에 형성하는 것을 포함한다. 이 경우의 기판은 보통 자기헤드의 세라믹 슬라이더이다.
종래 기술의 박막자기헤드의 구조는 헤드의 주요부의 구조를 보여주는 사시도 및 단면도인 제 2a 도 및 제 2b 도를 참조하여 설명한다.
하부 자기막(22)는 기판(21)상에 형성되어, 후에 형성되는 상부 자극편막(23)과 함께 자기헤드를 형성하는 하부자극편을 구성한다. 비자성재료(25)는 선단부(24)에서 상부와 하부 자성막(23,22) 사이에 위치되어, 자성갭을 형성하게 된다. 기록과 판독작업은 자성갭(25)과 상부 및 하부 자성막(23,22)에 의하여 행해진다.
자기헤드의 중심부분에서, 도체코일(26)은 극편들 사이에 배치되어 자기회로를 둘러싸며 교차하게 된다. 이 도체코일(26)은 절연막(27)에 의해 상부와 하부 자성막(23,22)과 절연된다. 이 장치의 상측부는 두꺼운 보호막(28)으로 피복된다.
박막자기헤드를 사용하는 자기디스크 장치의 기록밀도는 본래 선단부(24)의 형상으로 결정된다. 특히, 트랙폭을 결정하는 상부 자성막(23)의 넓이(d)와 중복기재(over-write)와 해상도를 결정하는 폴두께(t)(상부 자성막(23)과 자성갭(25), 하부 자성막(22)의 두께의 총합)는 매우 정밀하게 형성되어야 한다. 넓이치(d)를 매우 정밀히 형성하기 위하여, 상부 자성막(23)의 패턴은 약 10μm의 높이를 갖는 절연막(27)의 단차 하부에 매우 정밀하게 형성되어야 한다. 그러나, 감광성 수지가 높은 단차에 도포되면, 그 단차의 다음 영역에서의 감광성 수지는 약 최소한 10μm의 두께가 되어 버리므로 매우 정밀한 자성막(23)의 패턴이 형성될 수 없다.
따라서, 상부 극편의 선단부를 후방부로부터 분리하여 형성하는 것이 제안되고 있다.
예를 들면, 일본 특개소 공개번호 JP-A-60-10409에서는, 상부 자성막의 선단부만이 절연막의 형성 전에 형성되고 그런 후에 상부 절연막과 자성막의 후방부가 형성된다. 이 방법에 따르면 상부 자성막의 넓이는 단차가 거의 없는 상태에서 결정될 수 있으며, 트랙넓이를 고정밀하게 할 수 있다고 기재되어 있다.
일본 특개소 공개번호 JP-A-62-62415와 JP-A-63-168811는 절연체의 최하층이 형성된 후 상부 자성막의 선단부가 형성되고, 다음에 절연체의 상층과 상부 자성막의 후방부가 형성되는 방법을 개시하고 있다. 이러한 방법에 의하면, 상부 자성막의 넓이는 단차가 낮은 상태에서 결정되고, 트랙넓이가 고정밀하게 된다고 기재되어 있다.
상부와 하부 자성막 각각이 선단부와 후방부로 분리하여 형성되는 방법에 대해서는, 일본극 특개소 공개 번호 JP-A-60-10410에 재시되어 있다. 이 방법에 따르면, 고투과성 자성재료의 후방부와 고포화 자성합금의 자성막의 선단부의 형성이 가능하다. 여기에서 우수한 기록특성을 갖는 박막자기헤드를 성취할 수 있다고 기재되어 있다.
이들 종래 기술들은 상부 극편의 선단부의 형성을 기술하고 있지만, 선단부에 대한 뒤이은 처리에 따른 영향을 고려하지 못했다. 상부 극편의 후방부에 대한 충의 에칭은 또한 선단부의 높이와 두께에도 영향을 미치게 된다. 중요한 요소가 되는 폴두께에 관련하여서는 하등 고려되고 있지 않다.
제 6 도를 참조하여, 폴두께 또는 길이의 변동에 의하여 박막자기헤드의 특성에 미치는 영향을 설명한다. 제 6 도는 박막자기헤드의 판독용량과 기록용량을 각각 나타내는 해상도값 및 중복기재값과, 폴길의 사이의 관계를 보여준다. 이 도면은 Journal of Applied Physics, Vol. 61, 15 April 1987, Number 8, part Ⅱ B, page 4158에 기재되어 있다.
제 6 도에서 보여주는 바와 같이, 폴길이가 증가하게 되면, 중복기재는 증가하지만 해상도는 떨어지게 된다. 박막자기헤드에서, 중복기재와 해상도는 큰 것이 바람직하므로 폴길이를 일정 범위내의 값으로 정밀하게 제어하여야 한다. 더욱 명확히 하자면, 폴길이를 목표값의 약 ±10% 이내로 제어하면서 박막자기헤드가 생산되지 않으면, 특성이 좋은 박막자기헤드가 안정되게 제조될 수 없는 것을 알 수 있다.
그러나, 상기 기술한 바와 같은 종래 기술을 응용하게 되면, 폴의 두께나 길이는 상부 자성막의 선단부 형성 후에 절연층과, 도체코일과, 상부 자성막의 후방부가 적층되기 때문에 변동하여 버린다. 이 과정에서, 이미 형성되어 있는 상부 자성막의 선단부 표면은 에칭되거나 손상되기도 한다.
일반적으로, 도체코일은 예를 들어 전기도금이나 이온밀링법에 의하여 형성되며, 도금 기초막의 에칭단계동안이나 이온밀링시의 초과 에칭에 의하여 상부 자성막의 선단부 표면이 에칭되는 것은 피할 수 없게 된다. 유사하게, 상부 자성막의 선단부의 표면은 상부 자성막의 후방부의 형성단계동안 에칭되는 것이 불가피하므로 폴길이의 변동이 불가피하게 된다. 큰 두께를 갖는 상부 자성막의 선단부를 먼저 형성하여, 에칭에 의하여 폴길이의 감소를 보상하고 에칭 후의 폴의 목표길이를 얻을 수 있다. 이러한 경우에, 상부 자성막의 후방부와 도체코일의 형성시 에칭변동에는 상부 자성막의 선단부, 자성갭막 및 하부 자성막의 막두께의 변동이 부가된다. 이러한 이유로, 폴길이의 변동이 커지게 되어 상기 기술한 ±10% 범위내에서 제어하는 것이 불가능하였다.
상기 인용된 JP-A-60-10410에는, 상부 자성막을 두부분으로 분할하고 후방부 형성후 선단부를 형성하는 방법이 개시되어 있다. 이 방법을 이용하면, 상부 자성막의 선단부 표면은 제조공정동안 에칭되지 않지만, 트랙넓이를 결정하는 선단부의 패턴이 약 10μm 높이를 갖는 단차의 최저부에서 형성되어야 한다. 따라서, 트랙넓이가 고정밀화 될 수 없는 문제점이 남게 된다.
실제의 박막자기헤드의 구조와 그의 기록특성 사이의 관계를 고려해 볼 때, 상부 자성막의 후방부와 선단부 사이의 연결위치의 관계는 대단히 중요하며, 헤드의 기록특성에 상당한 영향을 미치게 된다. 그러나 종래 기술은 모두 상부 자성막의 후방부와 선단부의 위치와 형태를 고려하고 있지 않다.
본 발명의 목적은 상기 기술한 종래 기술의 문제점을 적어도 부분적으로 극복하여 트랙넓이와 폴길이를 고정밀하게 형성할 수 있는 박막자기헤드를 제공하는데 있다.
본 발명의 또다른 목적은 형상과 구조를 개선한 우수한 기록 및 판독특성을 갖는 박막자기헤드를 제공하는데 있다.
일형태에 있어서의 본 발명은, 복수개의 박막이 순서대로 형성되어 있는 기판을 가지고, 자기정보 저장매체로부터의 판독과 자기정보 저장매체에의 기록중 적어도 하나에 대해 자기헤드를 제공하고 있다. 이 박막은 자성갭, 하부 극편, 및 하부 극편 위에 놓인 상부 극편을 갖는 자기회로를 제공한다. 상부 극편은 상기 자성갭에 인접한 상부 극편의 선단부를 제공하는 제1막과, 이 제1막이 형성된 후 다음 순서에서 형성되어 선단부와 자기 접촉하는 상부 극편의 후방부를 제공하는 제2막으로 이루어지는 상기 막중 적어도 두개의 막으로부터 형성된다. 이 막은 또한 상기 제1막 상기 제2막 형성 전 단계에서 형성된 선단부상에 비자기 보호막을 포함하고 있다. 보호막은, 선단부 형성 후 예를 들면 상부 극편의 후방부를 제공하게 되는 막의 뒤이은 에칭공정 동안에 선단부를 보호한다.
본 발명의 일형태에 있어서, 상기 선단부의 상측면상의 비자기 보호막은 선단부와 후방부의 자기 접촉영역중 적어도 하나의 모서리 영역을 한정하는 단부면을 가지며, 이 모서리영역은 상부 극편의 트랙형성 단부면쪽의 측면상에 있게 된다. 상기 비자기 보호막의 단부면은 그 에칭된 모서리에 있을 수 있다. 보호막의 단부면은 상기 보호막의 구멍을 둘러싸는 표면의 적어도 일부일 수 있고, 자기 접촉영역은 상기 구멍에 위치한다.
상부 극편의 후방부는 보호막의 일부 위에 놓여 있는 것이 바람직하다. 보호막은 무기질인 것이 바람직하며, 0.5~2μm 범위내의 두께를 갖는다.
선단부와 후방부의 자기 접촉영역의 표면적은 상부 극편의 트랙 형성 단부면과 자기 접촉영역 사이의 선단부의 가장 작은 단면적 보다 더 큰 것이 바람직하다.
기판을 평면도로 나타낼 때, 선단부는 상기 극편의 트랙형성 단부면에 평행한 방향으로 상기 상부 극편의 상기 단부면에서 보다 자기 접촉영역에서 더 넓은 것이 바람직하다.
본 발명의 또다른 형태에서는, 기판을 평면도로 나타낼 때, 상부 극편의 선단부와 후방부의 자기 접촉영역의 범위에서, 후방부는 극편의 트랙형성 표면에 평행한 방향으로 상기 선단부보다 더 넓다.
발명의 또 다른 형태에서는, 자기헤드는 자기 저항성소자를 갖고, 선단부는 후방부와의 자기 접촉영역으로부터 연장되어 자기저항소자와 자기 접촉된다.
이러한 관점의 방법에서, 본 발명은 자기정보 저장매체에의 기록 및 판독중 적어도 하나를 위한 자기헤드를 제조하는 방법은 :
(ⅰ) 적어도 하나의 하부 극편 박막을 기판에 증착하는 단계와,
(ⅱ) 단계 (ⅰ)후에, 적어도 부분적으로 상기 하부 극편막 위에 놓여 있으며, 최종 자기헤드에 자성갭에 인접한 단부면을 제공하는 선단부를 갖는 제1상부 극편 박막을 상기 기판상에 형성하는 단계와,
(ⅲ) 단계 (ⅱ)후에, 상기 제1하부 극편막의 상기 선단부의 영역 즉, 상기 선단부에 대한 자기 접촉영역을 노출시키는 보호막을 상기 기판상에 형성하는 단계와,
(ⅳ) 단계(ⅲ)후에, 제2상부 극편 박막을 증착하여 상기 자기 접촉 영역에서 상기 선단부와 자기 접촉시키는 단계와,
(ⅴ) 상기 보호막이 상기 선단부의 위치에서 유지되어 있는 동안, 상기 자기 접촉영역과 최종 자기헤드에서 상기 선단부 단부면의 위치 사이의 범위에서 제2상부 극편막을 제거하는 단계를 포함한다. 보호막은 직후에 완전히 제거될 수 있다.
본 발명은 또한 상기 기술한 바와 같은 자기헤드를 포함하는 자기정보 저장장치용 헤드디스크 어셈블리를 제공한다.
본 발명은 더욱 상기 기술한 바와 같은 자기헤드를 포함하는 자기정보 저장장치를 제공한다.
본 발명의 실시예들은 첨부한 도면을 참조하여 제한되지 않은 예를 들어서 이하 기술될 것이다.
제 1 도는 본 발명이 적용된 자기디스크 정보저장장치의 구조를 보여주는 개략도이다. 이 장치는 헤드디스크 어셈블리를 포함한다. 복수의 자기디스크(4)(하드디스크)는 베이스(1)에 장착된 하나의 스핀들(2)에 설치된다. 다섯개의 자기디스크가 하나의 스핀들에 설치된 것을 나타내고 있지만, 이 개수는 다섯개에 국한되지 않는다. 상기 기술한 바와 같이 복수개의 자기디스크가 각각 설치되는 복수개의 스핀들이 제공될 수도 있다.
모타(3)는 스핀들(2)을 구동하여 자기디스크를 회전시킨다. 데이타용 자기헤드(5), 위치선정용 자기헤드(5a), 캐리지(6), 음성코일(7), 및 마그네트(8)가 구성되어 있다. 음성코일(7) 및 마그네트(8)는 함께 음성코일 모터를 형성하고, 소자(6,7,8)에 의해 헤드가 위치 결정된다. 음성코일(7)가 자기헤드(5,5a)는 음성코일 모타 제어회로를 통하여 연결된다.
자기디스크(4)는 그 표면의 한쪽 또는 양쪽에 자기 재료층을 갖춘 알루미늄과 같은 비자기 디스크로 되어 있다. 다수개의 기록트랙은 자기금속층(4)에 배치되어 있다. 이 장치의 바람직한 파라메터를 얻기 위하여, 디스크(4)의 기록밀도는 일평방인치당 54메가비트 이상이다. 트랙밀도는 인치당 1800트랙 이상으로 높게 해야 한다. 선형 기록밀도는 인치당 30K비트가 바람직하다. 이러한 요구조건이 성취될 수 있으면, 기록밀도는 디스크 직경을 현저하게 증가시키지 않고 증가될 수 있다.
기록밀도가 증가하고 정보의 저장용량이 커져도 데이타 전송비가 떨어지게 되면 디스크 이용가치를 떨어뜨리게 된다. 데이타는 데이타 전송비가 일초당 적어도 4메가바이트가 되면 급속히 인출될 수 있다. 이 데이타 전송비는 선형 기록밀도는 디스크의 주속의 곱에 의하여 결정된다. 선형 기록밀도가 인치당 최소한 30K비트가 바람직하기 때문에, 일초당 최소한 4메가바이트의 데이타 전송비는 8~11인치 범위의 직경을 갖는 디스크의 경우에 적어도 3500rpm으로 디스크 속도를 설정하여 성취될 수 있다. 3500rpm의 속도는 일반적으로 자기디스크 장치에 보통 이용되어 쉽게 성취할 수 있는 것이다.
제 1 도는, 예를 들면 자기디스크 장치에 기록된 정보의 처리기능을 갖는 CPU나 컴퓨터 시스템을 나타내고 있다. 기록/판독회로는 기록과 판독을 위한 정보를 구별하여 자기디스크 장치에 신호를 보낸다. 인터페이스는 자기디스크 장치를 컴퓨터에 연결시킨다. 이 컴퓨터와 자기디스크 장치를 포함하는 시스템은 정보처리 시스템이다.
제 3 도는 제 1 도의 자기디스크 장치가 소정의 공간에 저장되는 방법을 보여주는 사시도이다.
헤드/디스크 어셈블리(HDA)(101)와 전자회로부(102)는 콘테이너(100) 내측에서 헤드/디스크 어셈블리 유니트(HDU)(103)을 형성한다. 8개의 HDU(103)가 배열되는데 각각 2개가 4개의 레벨로 저장되어 있다. 콘테이너(100)는 약 2m의 높이이고 하부의 각 측의 길이는 0.5~1.5m이다. 제 3 도에서, 심볼 A와 B는 HDA 및 각 HDU의 회로부에 청정공기를 공급하는 공기의 흐름을 각각 나타낸다.
본 발명의 이러한 자기디스크 장치에서 여러가지 장점을 제공한다. 자기헤드에서, 상부 자기극편의 선단부용 재료는 후방부의 재료와 다른데, 이 이유로 자기디스크에의 기록자계가 증가될 수 있다. 따라서, 박막자기헤드는 기록작업이 종래의 자기디스크 장치와 동일한 자계로 충분히 행해질 수 있으면 소형화 될 수가 있다. 도체코일의 회전수는 감소될 수 있기 때문에, 박막자기헤드의 인덕턴스가 감소되어 자기디스크 장치가 고주파수에서 이용될 수 있다. 한편, 데이타 전송비는 증가될 수 있고 9.5 내경의 자기디스크가 4500~5500rpm으로 회전할 때, 일초당 4.5~6.5메가바이트로 데이타를 전송할 수 있게 된다.
기록자계가 증가하게 되면, 높은 유지력을 갖는 자기디스크가 이용될 수 있으므로 기록은 큰 선형밀도에서 행해질 수 있다.
더구나, 고밀도 기록을 얻게 되어, 큰 용량이 성취될 수 있으며 60기가바이트 이상의 용량을 갖는 자기디스크 장치를 제공할 수 있다. 저장용량이 실제 자기디스크 장치의 용량과 동일하게 되면, 자기디스크 장치는 소형화가 되고 자기디스크도 또한 작아질 수가 있다. 그러므로, 어세스 시간을 단축할 수 있으며, 고속 조사가 가능해지고 전력소모가 적은 자기디스크 장치를 제공할 수 있다.
제 4 도는 본 발명의 박막자기헤드를 비자성 세라믹으로 만들어진 슬라이더(41)상에 형성한 상태를 보여주는 사시도이다. 제 2a 도에서 나타낸 일반적인 형상을 가지고 있는 박막자기헤드(42)는, 슬라이더의 한 종단면상에서 슬라이더의 면(43)에서의 헤드의 트랙형성 표면과 일체로 형성되어 있다. 두 헤드(42)는 하나의 슬라이더상에 설치되어 있다. 면(43)은 유동 표면으로, 자기디스크에 면하게 된다.
제 5 도는 로드암(51)상에 설치된 제 4 도의 슬라이더를 나타내고 있다. 짐벌(gimbals)스프링(51)은 자기디스크로부터 일정한 간격 떨어져 유지하고 있다. 자기디스크가 회전하고 있는 슬라이더(41)의 선단에 형성된 박막자기헤드(42)로부터 자기디스크의 간격은 일반적으로 "스패닝"이라 칭해지며, 자기디스크 장치의 성능에 중요 요소중 하나이다. 본 발명의 박막자기헤드에서 이 스페이싱은 0.3μm 이하로 유지될 수 있다.
제 7a 도는 본 발명의 박막자기헤드의 주요부의 단면도이다. 기판(21)상에는, 다수개의 박막이 있다. 하부자성막(22), 하층절연막(11), 갭막(25), 상부 자기막 선단부(12), 보호막(13), 두 도체코일막(26), 두 상측 절연막(14), 상부 자성막의 후방부(15)과 소자보호막(28)은 슬라이더의 세라믹재료로 형성되거나 세라믹 재료의 표면상에 기본막을 형성하고 판(21)의 상측면상에 적층된다. 상부 자기 극편은 보호막(13)의 접촉구멍(16)을 통하여 자기 접촉영역에 연결되는 선단부(12)와 후방부(15)로 분할되어, 하부 자성막(22)과 함께 자기회로를 형성한다.
상부 자성막의 후방부(15)의 막두께는 4μm로, 선단부(12)의 막두께 2μm보다 더 커 자속의 수축효과를 개선한다.
상부 자성막의 후방부(15)의 모서리(A)는 캡깊이가 없는 지점보다 더욱 후방측에 위치한다. 이것은 캡깊이가 가능한한 축소되게 되면 상부 자성막 후방부(15)로부터 발생하는 자속의 누손이 기록매체에 영향을 미치지 않도록 하는 동시에 기록매체로부터의 신호자계가 후방부(15)를 통하여 신호 왜곡을 발생시키지 않도록 하는 것이다.
자성막 선단부(12)의 후방단(D)은 접촉구멍(16)의 후방단(C)보다 더욱 후측으로 돌출한다. 이것은 접촉구멍(16)을 통하여 그의 후방부에 상부 자성막의 선단부(12)를 확실히 연결시키게 한다. 만일 이 돌출 길이가(수평방향에서 C와 D사이의 거리) 너무 커지게 되면, 하부 자성막(22)의 자속의 누손량은 증가하게 되고 어떤 경우에는 자기헤드의 효율이 떨어지게 된다.
다른 한편, 하부 자성막(22)은 막두께가 중간위치(E)로부터 후방부로 갈수록 증가하여 상부 자성막에서와 동일한 방법으로 자속의 수축효과를 개선할 수 있는 구조를 갖는다. 상부 자성막으로부터 하부 자성막으로의 자손 누손 방지 관점에서 보면, 막두께는 또한 증가되는 것이 바람직하다.
위치(E)는 위치 D의 앞에 있어 자속의 포화를 방지할 수 있다.
제 7a 도에서, 하층 절연체(11)는 하나의 층으로 되어 있는 반면 도체코일(26)과 상층 절연체(14) 각각은 두층 구조로 되어 있다. 여기에서 다른 구조를 이용해도 된다.
제 2 도에서 보여주는 종래 기술예의 박막자기헤드와는 달리, 제 7a 도에서 보여주는 박막자기헤드는 하층 절연막(11)위에 자성갭막(25)이 배치되어 있는 구조를 갖는다. 이것은 상부 자성막 선단부(12)의 패턴이 에칭에 의해 형성될 때나 에칭마스크가 제거될 때 하층 절연막(11)의 표면이 손상되지 않도록 하는데에 효과적이다.
제 7b 도는 제 7a 도의 상부 자성극편만의 평면도이다. 자기 접촉영역(16)을 가능한한 크게 하기 위하여, 접촉구멍(16)은 자기극편이 넓어지기 시작하는 위치(E)의 후방위치에 형성된다. 제조공정 동안에 상부 자성막의 후방부(15)와 선단부(12) 사이의 위치선정의 오차를 조절하기 위하여, 선단부(12)의 각도는 후방부(15)의 각도보다 더 작게 한다. 이것은 또한 막(15)의 에칭단계가 선단부에 영향을 미치는 것을 방지하는데 도움이 된다. 또한 이것은 자기극편의 형상의 주름 형성을 방지할 수가 있다.
제 7a 도 및 제 7b 도의 헤드의 제조방법은 제 14 도를 참조하여 이하 설명한다.
제 7a 도 및 제 7b 도에서 보여주는 바와 같이, 보호층(13)은 선단부(12)의 증착 및 형상화 후 형성되고, 뒤이은 처리공정동안, 특히 정면모서리(A)에서와 넓이방향에서의 막(15)의 에칭동안에 선단부를 보호하게 된다. 막(15)의 정면모서리는 층(13)위에 놓여 있다. 막(13)은 관통 에칭되어 상부 극편의 두부분(12,15)의 자기 접촉영역이 있는 구멍(16)을 형성하는 단부면(측면 표면이 아니고)을 제공하게 된다.
자기 접촉영역인 구멍(16)의 영역은 트랙에 면하는 선단부의 단부면과 구멍(16) 사이의 영역에서 기판(21) 표면에 수직인 평면에서 선단부(12)의 단면적보다 크게 선택되어 있다. 이것은 자속특성을 양호하게 한다.
제 8 도는 본 발명의 작용효과를 나타내는 히스토그램을 보여준다. 제 8 도는 제 7a 도 및 제 7b 도에서 제조된 박막자기헤드의 폴길이 분포를 종래 기술방법으로 제조된 박막자기헤드의 폴길이 분포와 비교하고 있으며, 목표값이 3.7μm인 폴길이를 가지고 제조된 결과를 나타내고 있다. 종래 기술방법을 응용하게 되면, 상부 자성막의 선단부는 자기헤드의 제조공정 동안에 에칭되어, 폴길이 분류는 커지게 된다. 반면에, 본 발명을 응용하게 되면, 폴길이의 변동은 갭막 및 자성막의 막두께의 변동에 의하여 이루어진다. 따라서 폴길이를 매우 정밀하게 제어할 수 있다는 것을 알 수가 있다.
트랙넓이의 정밀도를 본 발명과 종래 기술에서 비교하여 보면, 상부 자성막의 선단부(12)의 측벽이 그 형성 후에 처리공정 단계에서 에칭되지 않는 구조를 이용하고 있기 때문에 종래의 기술방법보다 트랙넓이의 정밀도를 +0.1~0.2μm 더 크게 성취할 수 있다는 것을 알 수 있다.
따라서, 본 발명을 응용하게 되면, 높은 치수 정밀도를 가지며 고정밀 기록에 알맞는 박막자기헤드가 성취될 수 있다는 것을 알 수 있다.
제 9a 도는 본 발명의 또다른 박막자기헤드의 구조의 주요부를 보여주는 단면도이다. 제 7a 도와는 달리, 하측 절연체(11)는 두층 구조를 가지며 상부 자성막의 선단부(12)는 그 위에 형성된다. 자성갭막(25)은 종래 구조의 자기헤드와 동일하게 하부 자성막(22)과 하측 절연체(1) 사이에 형성되어 있다.
제 9a 도에서 보여주는 구조를 응용하게 되면, 본 발명의 첫번째 목적인, 고정밀하게 제어할 수 있는 트랙 넓이와 폴길이를 갖는 박막자기헤드를 성취할 수 있다.
이러한 실시예에 따르면, 상부 자성막의 후방부는 단차가 적을 때 형성되기 때문에, 상부 자성막의 후방부가 정확히 형성될 수 있다.
제 9b 도는 제 9a 도의 상부 자기극편만을 나타낸 평면도이다. 자기 접촉영역을 확장하기 위하여, 접촉구멍(16)은 선단부(12)와 후방부(15)의 패턴으로부터 확장되는 식으로 형성된다. 후방부는 접촉영역에서 선단부 보다 더 넓게 된다.
제 10 도에서는, 제 7 도 및 제 9 도와는 달리, 상부 자성막 선단부(12)가 하부 자성막(22)과 자성갭막(25) 바로 위에 형성되어 하측 절연막에 대응하는 층은 없다. 절연막(11)은 상층 절연막(14) 바로 아래에 배치된다.
이러한 실시예에 따르면, 상부 자성막의 선단부는 갭막상의 평평부에 형성될 수 있다. 따라서, 선단부의 트랙넓이는 매우 정밀하게 형성될 수 있다.
제 11 도의 구조에서는, 단차가 기판(21)상에 형성되어 있다. 자기헤드의 선단부는 단차의 상층부에 형성되고, 후방부는 단차의 하층부에 형성된다. 제 11 도에서 나타낸 구조를 응용하게 되면, 상부 자기극편의 선단부(12)를 형성할 때의 단차의 높이는 제 7 도보다 더 크게 축소될 수 있으므로 트랙넓이의 정밀도는 더욱 개선될 수 있다.
도체코일(26)의 형성시 단차의 높이를 축소할 수 있기 때문에, 더 큰 종횡비와 소형의 크기를 갖는 도체 코일이 쉽게 형성될 수 있으며 좋은 특성을 갖는 박막자기헤드가 성취될 수 있다.
제 12 도의 전체 구조는 제 7a 도에서 보여주는 구조와 유사하다. 그러나, 자기 보호막(81)은 종래 방법에서 상부 자기극편의 선단부(12)의 후방 단부에 배치되고, 전류는 자기 저항성막(81)을 통하여 흐르게 될 수 있다. 제 12 도에서 보여주는 박막자기헤드에서, 신호의 기록동작은 제 7 도에서 보여주는 자기헤드에서와 같은 동작으로 이루어지나 신호 판독동작은 신호로서 자기 저항성 막(81)의 전기 저항값의 변화 검출에 의해 이루어진다. 이때, 선단부(12)는 자석 저항성막에의 자속 인도부로서 동작한다. 고감도를 가지며 고기록 밀도에 알맞은 박막자기헤드는 제 12 도에서 보여주는 바와 같이 기록/판독 분리형 자기헤드를 사용하여 성취될 수 있다.
제 13 도는 다른 실시예에서의 상부 극편의 일부를 나타내는 평면도이다. 가능한한 자성막 접촉영역을 넓히기 위하여, 접촉구멍(16)은 선단부(12)의 넓은 영역보다 더 크게 형성된다. 이러한 배열에 따라, 위치 설정의 에러가 제조공정동안 상부 자성막의 후방부(15)와 선단부(12) 사이에 생겨도, 그들은 자기적으로 매우 정밀하게 연결될 수 있다.
제 14 도는 본 발명의 또다른 실시예에서 박막자기헤드의 제조공정을 보여주는 일련의 단면도이다.
제 14a 에서 보여주는 바와 같이, 하부 자성막 패턴(22), 제1절연막 패턴(91), 및 갭막 패턴(25)은 기판(21)상에 형성되어 있다.
제 14b 도에서 보여주는 바와 같이, 2μm 두께의 자성막은 스퍼터링(sputtering)법에 의하여 인가되고 다음에 상부 극편 선단부(12)가 고정밀한 두께와 넓이로 이온압연법에 의해 형성된다.
제 14c 도에서 보여주는 바와 같이, 1μm 두께의 알루미나막이 스퍼터링 처리되어 보호막(13)을 형성하고, 다음에 제1도체코일막(92), 제2의 절연막(93), 제2도체코일막(94), 및 제3의 절연막(95)이 형성된다.
제 14d 도에서 보여주는 바와 같이, 광레지스트 패턴(96)이 형성되고 광레지스트 패턴(96)과 제2층 절연막(93)를 마스크재료로 이용하여 보호막(13)이 에칭처리되어 접촉구멍(16)을 형성하게 된다.
광레지스트 패턴(96)이 제거된 후, 4μm 두께의 자성막은 제 14e 도에서 보여주는 바와 같이 스퍼터링 처리된다. 그런 뒤, 상부 자성막 후방부(15)은 이온압연에 의해 형성된다. 이러한 단계에서 선단부(12)는 보호막(13)에 의하여 보호된다.
후에 자기헤드의 선단영역이 극편의 트랙형성 단부면을 만들도록 형상된다.
상기된 설명은 자성막이 스퍼터링법에 의하여 형성되는 경우를 기술하고 있지만, 유사한 구조를 갖는 박막자기헤드가 자성막이 도금이나 진공중착 등에 의하여 형성돌 때 성취될 수 있다.
제 14d 도를 참조하여 기술한 바와 같이, 접촉구멍(16)의 위치는 접촉구멍(16)의 에치용 마스크의 일부로서 제2층 절연막(93)을 사용함으로써 셀프-얼라인먼트(self-alignment)에 의하여 정확히 결정될 수 있다.
제 14 도에서 보여주는 구조 이외에, 유사한 셀프-얼라인먼트는 제3의 절연막(95)의 종단부분이 제2층 절연막(93)의 종단부의 전방에 위치 선정되면 마스크재료로서 제3층 절연막을 사용하여 성취될 수 있다. 이러한 셀프-얼라인먼트가 이용되면, 접촉구멍(16)의 종단부는 상층 절연막의 종단부분과 일치하게 된다.
제 15 도는 본 발명의 또 다른 박막자기헤드의 제조방법의 일부를 보여주는 단면도이다. 제 14a~d의 단계와 동일한 제조단계가 실행된다. 상부 극편의 후방부에 대한 4μm두께의 자성막(15)은 광레지스터(96)가 유지되어 있는 동안에 형성되고 광레지스터 패턴(97)이 그 위에 형성되어 제 15a 도에서 나타내는 구조를 성취하게 된다.
자성막(15)이 에칭된 후, 광레지스터(96,97)는 제 15a 도에서 보여주는 바와 같이 제거되어 상부 자성막 후방부(15)를 형성하게 된다. 상부 자성막의 후방부(15)의 모서리 (F)와 접촉구멍(16)의 모서리는 동일한 광레지스트 패턴(96)에 의하여 결정된다. 따라서, 매우 정밀한 자기극편 형상이 가능하고 우수한 특성을 갖는 박막자기헤드를 성취할 수 있다.
제 16 도는 웨이퍼상 박막자기헤드가 형성되는 방법을 보여준다. 복수개의 박막자기헤드는 제 14 도에서 보여주는 바와 같이 박막자기헤드의 제조단계를 응용하여 비자성 세라믹 등으로 만들어진 웨이퍼(40)상에 동시에 형성된다. 다음에 웨이퍼의 일부는 제 4 도에서 보여주는 슬라이더형 박막자기헤드로 형상된다. 이러한 방법으로, 복수개의 박막자기헤드가 동시에 가공되어 개별의 박막자기헤드는 높은 정밀도를 가지게 된다.
10μm보다 작거나 또는 6μm보다도 더 작은 자기헤드의 트랙넓이를 본 발명에 의하여 정밀하게 성취할 수 있다.
본 발명은 하드디스크 자기저장장치에 국한되지 않고 플로피디스크나 비디오 테이프와 같은 자기 기록매체를 이용하여 소형의 자기저장장치에 응용될 수가 있다.

Claims (32)

  1. 복수의 박막이 순서대로 형성되어 있는 기판(21)을 가지며, 상기 박막들은, 자성갭(25)을 하부 극편(22), 및 상기 하부 극편 위에 놓인 상부 극편(12,15)을 가지는 자기회로를 제공하고, 상기 상부 극편(12,15)은, 상기 자성갭에 인접하는 상부 극편의 선단부(12)를 제공하는 제1박막과, 상기 선단부(12)와 자기적으로 접촉하는 상부 극편의 후방부(15)를 제공하는 제2박막으로 된 상기 박막들중의 적어도 두개의 박막으로 형성되며, 상기 제2박막은 상기 순서에서 상기 제1의 박막의 다음에 형성되는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드에 있어서, 상기 선단부상에, 상기 순서내에서 상기 선단부(12) 이후 상기 후방부(15) 이전에 형성되는 비자기 보호막(13)을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  2. 복수개의 박막들을 지지하는 기판(21)을 구비하며, 상기 박막들은 각 단부면이 자기갭(25)에 의하여 분리되어 있고 사용시 기록 또는 판독용 자기매체를 향하는 하부 극편(22)과 상부 극편(12,15)을 구비하고, 상기 상부 극편(12,15)은 그 단부면을 제공하는 선단부(12)와 상기 상부 극편의 상기 단부면으로부터 이격되어 있는 자기 접촉 영역(16)에서 상기 선단부와 자기적으로 접촉하는 후방부(15)를 구비하고, 상기 선단부(12)와 상기 후방부(15)는 상기 박막들중 서로 다른 박막으로 형성되어 있고, 상기 후방부(15)는 상기 자기 접촉영역에서 상기 선단부의 상부에 있는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드에 있어서, 상기 선단부(12)의 상측면상에, 상기 자기 접촉영역(16)의 적어도 한 연부영역을 형성하는 단부면을 가지는 비자기 보호막(13)을 포함하고, 상기 연부영역은 상기 상부 극편의 상기 단부면쪽으로 향해 있는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 보호막(13)의 상기 단부면은 에칭되어진 모서리에 있는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 보호막(13)의 상기 단부면은 상기 보호막의 구멍(16)을 둘러싸는 표면의 적어도 일부분이고, 상기 자기 접촉영역은 상기 구멍에 위치되는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 상부 극편의 상기 후방부(15)는 보호층의 상기 단부면에 인접한 상기 보호막(13)의 일부 위에 놓여 있는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 보호막(13)은 상기 상부 극편(12,15)과 상기 하부 극편(22) 사이에 놓인 전기도체(26)을 제공하는 적어도 하나의 상기 박막 아래에 놓여 있는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 보호막(13)은 무기재료로 되어 있는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 보호막(13)의 두께는 0.5~2μm범위내에 있는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 상부 극편의 상기 후방부(15)을 제공하는 상기 박막의 두께는 선단부(13)의 두께보다 더 두꺼운 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 기판을 평면도로 볼때, 후방부(15)와 선단부(12)의 자기 접촉영역(16)의 범위에서, 후방부(15)는 극편의 기록/판독 단부면에 평행한 방향으로 상기 선단부(12)보다 더 넓은 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 선단부(12)는 후방부(15)와의 자기 접촉영역 뒤로 연장하여 상기 자기헤드에 설치된 자기 저항성소자(81)와 자기 접촉하는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  12. 제 1 항에 있어서, 상기 후방부(15)과 상기 선단부(12)의 자기 접촉영역의 표면적은 기록/판독 단부면과 상기 자기 접촉영역 사이의 선단부(12)중 가장 작은 단면적보다 더 큰 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 기판의 평면도를 볼때, 상기 선단부(12)는 기록/판독 단부면과 평행한 방향으로 상기 상부 극편의 기록/판독 단부면에서보다 상기 후방부(15)와의 자기 접촉영역에서 더 넓은 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 후방부(15)와 상기 선단부(12)는 서로 다른 재료로 만들어진 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  15. 제 1 항에 있어서, 상부 자기 극편(12,15)의 트랙넓이가 10μm보다 크지 않는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  16. 복수개의 박막들을 지지하는 기판(21)을 구비하며, 상기 박막들은 각 단부면이 자기갭(25)에 의하여 분리되어 있고 사용시 기록 또는 판독용 자기매체를 향하는 하부 극편(22)과 상부 극편(12,15)을 구비하고, 상기 상부 극편(12,15)은 그 단부면을 제공하는 선단부(12)와 상기 상부 극편의 상기 단부면으로부터 이격되어 있는 자기적으로 접촉영역(16)에서 상기 선단부와 자기 접촉하는 후방부(15)를 구비하고, 상기 선단부(12)와 상기 후방부(15)는 상기 박막들중 서로 다른 박막으로 형성되어 있고, 상기 후방부(15)는 상기 자기 접촉영역에서 상기 선단부의 상부에 있는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드에 있어서, 상기 기판을 평면도로 볼때, 상기 자기 접촉영역(16)에서, 상기 후방부(15)는 상기 극편의 상기 단부면에 평행한 방향에서 상기 선단부(12)보다 더 넓은 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  17. 복수개의 박막들을 지지하는 기판(21)을 구비하며, 상기 박막들은 각 단부면이 자기갭(25)에 의하여 분리되어 있고 사용시 기록 또는 판독용 자기매체를 향하는 하부 극편(22)과 상부 극편(12,15)을 구비하고, 상기 상부 극편(12,15)은 그 단부면을 제공하는 선단부(12)와 상기 상부 극편의 상기 단부면으로부터 이격되어 있는 자기적으로 접촉영역(16)에서 상기 선단부와 자기 접촉하는 후방부(15)를 구비하고, 상기 선단부(12)와 상기 후방부(15)는 상기 박막들중 서로 다른 박막으로 형성되어 있고, 상기 후방부(15)는 상기 자기 접촉영역에서 상기 선단부의 상부에 있는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드에 있어서, 상기 자기 접촉영역보다 상기 극편의 상기 단부면으로부터 더 멀리 위치되어 있는 자기 저항성소자(81)를 포함하며, 상기 선단부(12)는 상기 자기 접촉영역으로부터 연장하여 상기 자기 저항성소자(81)와 자기 접촉하는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  18. 복수개의 박막들을 지지하는 기판(21)을 구비하며, 상기 박막들은 각 단부면이 자기갭(25)에 의하여 분리되어 있고 사용시 기록 또는 판독용 자기매체를 향하는 하부 극편(22)과 상부 극편(12,15)을 구비하고, 상기 상부 극편(12,15)은 그 단부면을 제공하는 선단부(12)와 상기 상부 극편의 상기 단부면으로부터 이격되어 있는 자기적으로 접촉영역(16)에서 상기 선단부와 자기 접촉하는 후방부(15)를 구비하고, 상기 선단부(12)와 상기 후방부(15)는 상기 박막들중 서로 다른 박막으로 형성되어 있고, 상기 후방부(15)는 상기 자기접촉영역에서 상기 선단부의 상부에 있는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록을 자기헤드에 있어서, 상기 자기 접촉영역(16)의 표면적은, 상기 자기 접촉영역과 상기 상부 극편의 상기 단부면 사이의 상기 선단부(12)의 상기 기판에 수직인 방향에서 가장 작은 단면적보다 더 큰 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  19. 자기정보 저장매체로부터의 판독 및/또는 자기 저장매체로의 기록용 자기헤드를 제조하는 방법에 있어서, (a) 적어도 하나의 하부 극편 박막(22)을 기판(21)에 인가하는 단계와, (b) 단계(a) 후, 완성된 자기헤드에서 자성갭에 인접하는 단부면을 제공하는 선단부분을 가지며 적어도 부분적으로 상기 하부 극편막 위에 놓이는 제1상부 극편층을 상기 기판(21)상에 형성하는 단계와, (c) 단계(b) 후, 자기 접촉영역(16)에서 상기 선단부와 자기 접촉하도록 제2상부 극편막(15)을 증착하는 단계와, (d) 최종 자기헤드에서 상기 선단부 단부면의 위치와 상기 자기 접촉영역 사이의 범위에서 제2상부 극편막을 제거하는 단계를 포함하여, 단계(b) 이후 단계(c) 이전에, 상기 자기 접촉영역에서 상기 선단부(12)를 노출시키는 보호막(13)이 형성되고, 상기 보호막(13)은 단계(d)동안 상기 선단부(12) 위에 유지되는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드 제조방법.
  20. 제 19 항에 있어서, 단계(d)에서 상기 제2상부 극편막이 에칭처리에 의해 상기 영역에서 제거되는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드 제조방법.
  21. 제 19 항 또는 20 항에 있어서, 상기 제1상부 극편막은 박막을 증착한 후에 상기 박막을 부분적으로 제거하여 형성됨으로써 상기 선단부(12)를 형성하는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드 제조방법.
  22. 제 19 항에 있어서, 상기 보호막(13)은 박막을 증착한 후 이 박막을 부분적으로 제거하여 형성됨으로써 상기 자기 접촉영역을 노출하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드 제조방법.
  23. 제 19 항에 있어서, 상기 보호막(13)의 형성 이후 상기 단계(c) 이전에, 최종의 자기헤드에서 상기 하부 극편막(22)과 상기 제2상부 극편막(15) 사이에 놓여 있는 전기도체(26)를 제공하는 적어도 하나의 전기적 도전성 박막을 증착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드 제조방법.
  24. 제 19 항에 있어서, 상기 보호막(13)에는 구멍(16)이 형성되어, 상기 자기 접촉영역이 상기 구멍에 위치되는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드 제조방법.
  25. 제 19 항 내지 24 항 어느 한 항의 방법에 의하여 제조된 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드를 포함하는 자기정보 기록장치용 헤드디스크 어셈블리.
  26. 제 19 항 내지 24 항중 어느 한 항의 방법에 의하여 제조된 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드를 포함하는 자기정보 저장장치.
  27. 제 26 항에 있어서, 적어도 하나의 하드디스크를 자기정보매체로 구비하는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장장치.
  28. 제 27 항에 있어서, 상기 하드디스크는 평방인치당 적어도 54메가비트의 기록밀도와, 인치당 적어도 1800 트랙의 트랙밀도를 가지고, 상기 자기헤드는 초당 적어도 4메가바이트의 데이타 전송비로 상기 하드디스크에 기록 및/또는 상기 하드디스크로부터 판독하는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장장치.
  29. 제 28 항에 있어서, 상기 하드디스크는 직경이 9.5인치이고, 상기 데이타 전송비는 초당 4.5~6.0메가바이트의 범위내에 있으며, 상기 하드디스크의 회전속도는 4500~5500rpm의 범위내에 있는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장장치.
  30. 단차가 형성되어 있으며 복수의 박막들이 순서대로 형성되는 기판을 가지며, 상기 박막들은 자성갭(25)을 구비하는 자기회로, 선단부가 상기 단차의 상측부상에 형성되며 다른 부분은 상기 단차의 하측부상에 형성되는 저부 극편(22) ; 및 상기 저부 극편 위에 놓이는 상부 극편(12,15)을 제공하고, 상기 상부 극편은 상기 박막들중 적어도 두 박막으로 형성되어 상기 자성갭에 인접하는 상기 상부 극편의 선단부(12)를 제공하는 제1박막과 상기 선단부(12)와 자기 접촉하는 상기 상부 극편의 후방부(15)를 제공하는 제2박막을 포함하고, 상기 제2박막은 상기 순서내에서 상기 제1박막 이후에 형성되는 자기정보 저장매체의 판독 및/또는 기록용 자기헤드에 있어서, 상기 선단부(12)상에, 상기 순서내에서 상기 선단부(12) 이후에 상기 후방부(15)이전에 형성되는 비자기 보호막(13)을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드.
  31. 제 1 항 내지 18 항중의 어느 한 항에 따른 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드를 포함하는 자기정보 기록장치용 헤드디스크 어셈블리.
  32. 제 1 항 내지 18 항중의 어느 한 항에 따른 자기정보 저장매체의 판독 및 기록용 자기헤드를 포함하는 정보저장장치.
KR1019900003715A 1989-03-20 1990-03-20 박막자기헤드 제조방법과 그것을 내장한 자기정보 저장장치 KR940009723B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1-66230 1989-03-20
JP1066230A JPH0810485B2 (ja) 1989-03-20 1989-03-20 磁気ディスク装置及びこれに搭載する薄膜磁気ヘッドとその製造方法並びに情報の書込み・読出方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR900015071A KR900015071A (ko) 1990-10-25
KR940009723B1 true KR940009723B1 (ko) 1994-10-17

Family

ID=13309839

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900003715A KR940009723B1 (ko) 1989-03-20 1990-03-20 박막자기헤드 제조방법과 그것을 내장한 자기정보 저장장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5245493A (ko)
EP (1) EP0389143B1 (ko)
JP (1) JPH0810485B2 (ko)
KR (1) KR940009723B1 (ko)
DE (1) DE69030891T2 (ko)

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0810485B2 (ja) * 1989-03-20 1996-01-31 株式会社日立製作所 磁気ディスク装置及びこれに搭載する薄膜磁気ヘッドとその製造方法並びに情報の書込み・読出方法
EP0452846B1 (en) 1990-04-16 1996-02-28 Hitachi, Ltd. Narrow track thin film magnetic head and fabrication method thereof
US5590008A (en) * 1991-04-25 1996-12-31 Hitachi, Ltd. Magnetic disc unit having a plurality of magnetic heads which include multilayer magnetic films
US5285340A (en) * 1992-02-28 1994-02-08 International Business Machines Corporation Thin film magnetic head with conformable pole tips
US5872693A (en) * 1993-08-10 1999-02-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Thin-film magnetic head having a portion of the upper magnetic core coplanar with a portion of the lower magnetic core
US6198597B1 (en) 1993-08-10 2001-03-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Thin-film magnetic head having improved magnetic pole structure
US6118627A (en) * 1994-10-31 2000-09-12 Seagate Technology Llc Thin film head design improving top pole width control
US5600519A (en) * 1995-03-06 1997-02-04 International Business Machines Corporation Controlled saturation thin film magnetic write head
JPH08339508A (ja) * 1995-06-14 1996-12-24 Nec Corp 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気記憶装 置
US5710683A (en) * 1996-04-18 1998-01-20 Storage Technology Corporation Thin film tape head with substrate for reduced pole-tip recession
US5798897A (en) * 1996-10-21 1998-08-25 International Business Machines Corporation Inductive write head with insulation stack configured for eliminating reflective notching
US5805391A (en) * 1996-10-28 1998-09-08 International Business Machines Corporation Write head with recessed stitched yoke on a planar portion of an insulation layer defining zero throat height
KR100233401B1 (ko) * 1996-12-31 1999-12-01 윤종용 박막헤드를 구비하는 디스크 구동 기록장치의 위글 노이즈 제거방법
US5801910A (en) * 1997-06-02 1998-09-01 Quantum Corporation Long saturation zone magnetic write head
US6810578B1 (en) * 1997-11-19 2004-11-02 Tdk Corporation Method of manufacturing thin film magnetic head with improved performance
JP3305244B2 (ja) * 1997-12-10 2002-07-22 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US20020067570A1 (en) * 1997-12-12 2002-06-06 Yoshitaka Sasaki Thin film magnetic head recessed partially into substrate and including plantarization layersi
US6016242A (en) * 1998-03-20 2000-01-18 Seagate Technology, Inc. Narrow top poles for inductive magnetic heads, masks and processes for making the same
JPH11288503A (ja) 1998-04-02 1999-10-19 Tdk Corp 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US6104576A (en) * 1998-04-10 2000-08-15 International Business Machines Corporation Inductive head with reduced height insulation stack due to partial coverage zero throat height defining insulation layer
JP3292148B2 (ja) * 1998-07-15 2002-06-17 日本電気株式会社 薄膜磁気ヘッド、その製造方法及び磁気記憶装置
JP2000105907A (ja) 1998-07-30 2000-04-11 Tdk Corp 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
JP2000057522A (ja) * 1998-08-06 2000-02-25 Tdk Corp 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
US6337783B1 (en) 1998-08-12 2002-01-08 International Business Machines Corporation Write head with multi-stitched second pole piece
US6525902B1 (en) * 1998-10-13 2003-02-25 Seagate Technology Llc High areal density thin film magnetic head
US6944938B1 (en) 1999-05-03 2005-09-20 Western Digital (Fremont), Inc. Method of forming a magnetoresistive device
US6829819B1 (en) 1999-05-03 2004-12-14 Western Digital (Fremont), Inc. Method of forming a magnetoresistive device
JP3522593B2 (ja) * 1999-06-15 2004-04-26 Tdk株式会社 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
JP3499164B2 (ja) 1999-09-24 2004-02-23 株式会社東芝 磁気ヘッド、その製造方法及び垂直磁気記録装置
JP3529678B2 (ja) 1999-10-06 2004-05-24 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
US6504677B1 (en) * 1999-12-28 2003-01-07 Headway Technologies, Inc. Multi-layer stitched write head design for high data rate application
JP2001351204A (ja) * 2000-03-10 2001-12-21 Tdk Corp 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
JP3883357B2 (ja) * 2000-03-22 2007-02-21 Tdk株式会社 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US7190553B2 (en) * 2000-04-04 2007-03-13 Alps Electric Co., Ltd. Thin-film magnetic head having lower magnetic pole layer and insulator layer behind the lower magnetic pole layer in the direction of height of the pole layer, and method for manufacturing the thin-film magnetic head
JP3602038B2 (ja) * 2000-07-24 2004-12-15 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ 磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置
US6633453B1 (en) 2000-09-01 2003-10-14 International Business Machines Corporation Shallow recessed T-head with reduced side-writing and method for making the same
US6785953B2 (en) 2001-06-18 2004-09-07 International Business Machines Corporation Process of fabricating a write head with protection of a second pole tip thickness
US6798616B1 (en) * 2001-07-10 2004-09-28 Western Digital (Fremont), Inc. Write head architecture for improved manufacturability
KR20030034383A (ko) * 2001-10-23 2003-05-09 주식회사 한소닉테크 박막 자기 헤드의 제조방법
US7298587B2 (en) * 2002-08-05 2007-11-20 Seagate Technology Llc Rounded top pole
US6906893B2 (en) 2002-10-08 2005-06-14 Hitachi Global Storage Technologies Magnetic head coil and structure for protecting same during pole notch processing
US7684150B2 (en) 2003-07-09 2010-03-23 Seagate Technology Llc Recording head for reducing side track erasure
US8331058B2 (en) * 2004-05-28 2012-12-11 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method and apparatus for providing a write head with an improved pole tip to improve overwrite and/or adjacent track interference
JP4595789B2 (ja) * 2005-11-17 2010-12-08 富士ゼロックス株式会社 画像処理装置、画像処理方法、及び画像処理プログラム
US8553361B2 (en) * 2008-04-25 2013-10-08 HGST Netherlands B.V. Perpendicular write head having a trailing shield with a short gap, short throat and high apex angle for improved linear density recording
US8449752B2 (en) * 2009-09-30 2013-05-28 HGST Netherlands B.V. Trailing plated step
US20110075299A1 (en) * 2009-09-30 2011-03-31 Olson Trevor W Magnetic write heads for hard disk drives and method of forming same
US8724258B2 (en) * 2009-09-30 2014-05-13 HGST Netherlands B.V. Slanted bump design for magnetic shields in perpendicular write heads and method of making same
JP6027819B2 (ja) * 2012-08-20 2016-11-16 日東電工株式会社 配線回路基板
KR102194727B1 (ko) * 2015-04-29 2020-12-23 삼성전기주식회사 인덕터

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59104717A (ja) * 1982-12-08 1984-06-16 Comput Basic Mach Technol Res Assoc 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法
US4589042A (en) * 1983-06-27 1986-05-13 International Business Machines Corporation Composite thin film transducer head
JPS6010409A (ja) * 1983-06-29 1985-01-19 Fujitsu Ltd 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPS6045918A (ja) * 1983-08-24 1985-03-12 Fujitsu Ltd 薄膜磁気ヘッドの製造方法
ATE36088T1 (de) * 1984-12-21 1988-08-15 Siemens Ag Duennfilm-magnetkopf auf einem nicht-magnetischen substrat zur senkrechten magnetisierung.
JPS61222012A (ja) * 1985-03-28 1986-10-02 Sony Corp 薄膜磁気ヘツド
US4890378A (en) * 1985-08-28 1990-01-02 Canon Kabushiki Kaisha Method for manufacturing a magnetic head core having a magnetic film
JPH0736208B2 (ja) * 1985-09-12 1995-04-19 セイコーエプソン株式会社 磁気ヘッドの製造方法
JPS6271006A (ja) * 1985-09-24 1987-04-01 Seiko Epson Corp 磁気ヘツドの製造方法
JPS6275924A (ja) * 1985-09-27 1987-04-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 一体化薄膜磁気ヘツド
JPS6292215A (ja) * 1985-10-18 1987-04-27 Seiko Epson Corp 磁気ヘツド
JPS62173607A (ja) * 1986-01-27 1987-07-30 Hitachi Ltd 薄膜磁気ヘツド
JPS63146202A (ja) * 1986-12-09 1988-06-18 Canon Electronics Inc 磁気ヘツド及びその製造方法
JPH087848B2 (ja) * 1987-01-06 1996-01-29 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法
JPS63173213A (ja) * 1987-01-13 1988-07-16 Hitachi Ltd 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPS63281209A (ja) * 1987-05-13 1988-11-17 Sharp Corp 薄膜磁気ヘッドの製造方法
EP0311854A1 (de) * 1987-10-16 1989-04-19 Siemens Aktiengesellschaft Dünnfilm-Magnetkopf mit schichtweisem Aufbau zur senkrechten Magnetisierung
US4962437A (en) * 1988-02-24 1990-10-09 Magnetic Peripherals Inc. Thin film servo head employing the inactive transducer coils to cancel write noise from nearby data heads
US4839197A (en) * 1988-04-13 1989-06-13 Storage Technology Corporation Process for fabricating thin film magnetic recording heads having precision control of the width tolerance of the upper pole tip
US5060098A (en) * 1988-04-18 1991-10-22 Hitachi, Ltd. Magnetic recorder provided with a magnetic head slider having a non-magnetic oxide of spinel structure
JPH0810485B2 (ja) * 1989-03-20 1996-01-31 株式会社日立製作所 磁気ディスク装置及びこれに搭載する薄膜磁気ヘッドとその製造方法並びに情報の書込み・読出方法
JPH0383213A (ja) * 1989-08-24 1991-04-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜磁気ヘッド
US5142425A (en) * 1990-08-09 1992-08-25 Hewlett-Packard Company Disk drive in which magnetic head-to-disk capacitive coupling is eliminated

Also Published As

Publication number Publication date
EP0389143B1 (en) 1997-06-11
KR900015071A (ko) 1990-10-25
DE69030891D1 (de) 1997-07-17
US5245493A (en) 1993-09-14
EP0389143A3 (en) 1993-07-14
JPH02247809A (ja) 1990-10-03
JPH0810485B2 (ja) 1996-01-31
DE69030891T2 (de) 1998-01-02
EP0389143A2 (en) 1990-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940009723B1 (ko) 박막자기헤드 제조방법과 그것을 내장한 자기정보 저장장치
US6417998B1 (en) Ultra small advanced write transducer and method for making same
US6226149B1 (en) Planar stitched write head having write coil insulated with inorganic insulation
CA2110135C (en) Integrated transducer-suspension assembly for vertical recording
US6552874B1 (en) Shared pole magnetic read-write head for achieving optimized erase band width and method of fabricating the same
EP0558195B1 (en) Thin film magnetic head
US6496329B2 (en) Highly aligned thin film tape head
US5349745A (en) Method of fabricating thin-film magnetic head
US5363265A (en) Planarized magnetoresistive sensor
US7154691B2 (en) Multi-format thinfilm head and associated methods
US6693769B2 (en) High data rate write head
US20060256471A1 (en) Magnetic writing pole and a perpendicular writing element
US6034848A (en) Low profile multi-layer coil merged thin film magnetic head
US6687083B2 (en) Enhanced low profile magnet write head
JP3415432B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
JP2003510737A (ja) 記録ヘッド上のトラック幅を規定するための方法および構造
US5296979A (en) Magnetic disc apparatus with thin film head suitable for high-density recording
US6328859B1 (en) Method of making second pole tip of a write head with a narrow track width
US6436560B1 (en) Magnetic head and magnetic disk device using the same
US7111384B2 (en) Method for manufacturing magnetic head including coil
JP2779526B2 (ja) 複合薄膜磁気ヘッド
JP2776948B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US20020078551A1 (en) Method of fabricating thin-film magnetic head
JPH0444610A (ja) 複合型薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US7583477B2 (en) Magnetic recording head with a point writer pole

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20071018

Year of fee payment: 14

LAPS Lapse due to unpaid annual fee