JP3305244B2 - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば浮上式磁気
ヘッドなどに使用されるインダクティブ型の薄膜磁気ヘ
ッドに係り、特にコア層の構造を改良することによっ
て、擬似ギャップを形成することなく、渦電流損失を低
減させることを可能にした薄膜磁気ヘッドおよびその製
造方法に関する。
ヘッドなどに使用されるインダクティブ型の薄膜磁気ヘ
ッドに係り、特にコア層の構造を改良することによっ
て、擬似ギャップを形成することなく、渦電流損失を低
減させることを可能にした薄膜磁気ヘッドおよびその製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７は従来の薄膜磁気ヘッドの縦断面図
である。図７に示す薄膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果を
利用した読み出しヘッドと、ハードディスクなどの記録
媒体へ信号を書き込むインダクティブヘッドとが積層さ
れた、いわゆる複合型薄膜磁気ヘッドであり、この複合
型薄膜磁気ヘッドは、ハードディスクなどの記録媒体に
対向する浮上式磁気ヘッドのスライダのトレーリング側
端面に設けられるものである。
である。図７に示す薄膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果を
利用した読み出しヘッドと、ハードディスクなどの記録
媒体へ信号を書き込むインダクティブヘッドとが積層さ
れた、いわゆる複合型薄膜磁気ヘッドであり、この複合
型薄膜磁気ヘッドは、ハードディスクなどの記録媒体に
対向する浮上式磁気ヘッドのスライダのトレーリング側
端面に設けられるものである。
【０００３】図７に示すように、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣから
成る基板４０上に、下地層４１、下部シールド層４２、
下部絶縁層４３、磁気抵抗硬化素子層４４、及び上部絶
縁層４５が連続して積層され、その上に書込み用のイン
ダクティブヘッドが形成されている 図７での符号２０は、Ｆｅ−Ｎｉ系合金（パーマロイ）
などの高透磁率の磁性材料で形成された下部コア層であ
る。磁気抵抗効果を利用した読み出しヘッドに図７に示
すインダクティブヘッドが連続して積層された複合型薄
膜磁気ヘッドでは、前記下部コア層２０が、読み出しヘ
ッドの上部シールド層としても機能する。
成る基板４０上に、下地層４１、下部シールド層４２、
下部絶縁層４３、磁気抵抗硬化素子層４４、及び上部絶
縁層４５が連続して積層され、その上に書込み用のイン
ダクティブヘッドが形成されている 図７での符号２０は、Ｆｅ−Ｎｉ系合金（パーマロイ）
などの高透磁率の磁性材料で形成された下部コア層であ
る。磁気抵抗効果を利用した読み出しヘッドに図７に示
すインダクティブヘッドが連続して積層された複合型薄
膜磁気ヘッドでは、前記下部コア層２０が、読み出しヘ
ッドの上部シールド層としても機能する。
【０００４】下部コア層２０の上には、Ａｌ2Ｏ3（アル
ミナ）などの非磁性材料で形成されたギャップ層２が設
けられている。ギャップ層２の上にはレジスト材料やそ
の他の有機樹脂材料で形成された絶縁層３が形成されて
いる。前記絶縁層３上には、Ｃｕなどの電気抵抗の低い
導電性材料により、コイル層４が螺旋状に形成されてい
る。なお、前記コイル層４は、上部コア層２１の基端部
２１ｂの周囲を周回するように形成されているが、図７
ではそのコイル層４の一部のみが現れている。
ミナ）などの非磁性材料で形成されたギャップ層２が設
けられている。ギャップ層２の上にはレジスト材料やそ
の他の有機樹脂材料で形成された絶縁層３が形成されて
いる。前記絶縁層３上には、Ｃｕなどの電気抵抗の低い
導電性材料により、コイル層４が螺旋状に形成されてい
る。なお、前記コイル層４は、上部コア層２１の基端部
２１ｂの周囲を周回するように形成されているが、図７
ではそのコイル層４の一部のみが現れている。
【０００５】そして、前記コイル層４上には、レジスト
材料やその他の有機樹脂材料などの絶縁層５が形成され
ている。絶縁層５の上には、パーマロイなどの磁性材料
がメッキされて上部コア層２１が形成されている。上部
コア層２１の先端部２１ａは、記録媒体との対向部にお
いて、下部コア層２０上に前記ギャップ層２を介して接
合され、ギャップ長Ｇｌ1の磁気ギャップが形成されて
いる。また前記上部コア層２１の先端部２１ａの奥行き
寸法によりギャップ深さ（ギャップデプス）Ｇｄが決め
られる。
材料やその他の有機樹脂材料などの絶縁層５が形成され
ている。絶縁層５の上には、パーマロイなどの磁性材料
がメッキされて上部コア層２１が形成されている。上部
コア層２１の先端部２１ａは、記録媒体との対向部にお
いて、下部コア層２０上に前記ギャップ層２を介して接
合され、ギャップ長Ｇｌ1の磁気ギャップが形成されて
いる。また前記上部コア層２１の先端部２１ａの奥行き
寸法によりギャップ深さ（ギャップデプス）Ｇｄが決め
られる。
【０００６】また前記上部コア層２１の基端部２１ｂ
は、ギャップ層２および絶縁層３に形成された穴を介し
て、下部コア層２０に磁気的に接続されている。書き込
み用のインダクティブヘッドでは、コイル層４に記録電
流が与えられると、下部コア層２０および上部コア層２
１に記録磁界が誘導され、下部コア層２０と上部コア層
２１の先端部２１ａとの磁気ギャップ部分からの洩れ磁
界により、ハードディスクなどの記録媒体に磁気信号が
記録される。
は、ギャップ層２および絶縁層３に形成された穴を介し
て、下部コア層２０に磁気的に接続されている。書き込
み用のインダクティブヘッドでは、コイル層４に記録電
流が与えられると、下部コア層２０および上部コア層２
１に記録磁界が誘導され、下部コア層２０と上部コア層
２１の先端部２１ａとの磁気ギャップ部分からの洩れ磁
界により、ハードディスクなどの記録媒体に磁気信号が
記録される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】高記録密度化に対応す
るために、記録周波数を高める必要があるが、下部コア
層２０および上部コア層２１の比抵抗が低いと、高周波
数帯域にて渦電流における熱損失が増大するといった問
題が発生する。このため、前記下部コア層２０および上
部コア層２１の比抵抗を高める必要があるが、その方法
の一つとして前記コア層２０，２１の構造を単層から積
層構造（ラミネート）にして比抵抗を高める方法が知ら
れている。
るために、記録周波数を高める必要があるが、下部コア
層２０および上部コア層２１の比抵抗が低いと、高周波
数帯域にて渦電流における熱損失が増大するといった問
題が発生する。このため、前記下部コア層２０および上
部コア層２１の比抵抗を高める必要があるが、その方法
の一つとして前記コア層２０，２１の構造を単層から積
層構造（ラミネート）にして比抵抗を高める方法が知ら
れている。
【０００８】特開昭６３−２４４４０７号公報や特開平
１−１０２７１２号公報では、図８に示すように、上部
コア層２１（および／または下部コア層２０）を、磁性
材料層２２，２３の間に非磁性材料層２４が介在した積
層構造で構成している。このようなラミネート構造であ
れば、渦電流損失を低減させることが可能になる。
１−１０２７１２号公報では、図８に示すように、上部
コア層２１（および／または下部コア層２０）を、磁性
材料層２２，２３の間に非磁性材料層２４が介在した積
層構造で構成している。このようなラミネート構造であ
れば、渦電流損失を低減させることが可能になる。
【０００９】しかし、図８に示すように、前記非磁性材
料層２４は、記録媒体Ｄとの対向面（ＡＢＳ面）に現れ
ており、前記非磁性材料層２４によって、ギャップ長Ｇ
ｌ2の磁気ギャップ（擬似ギャップ）が形成されてしま
う。従って、図８に示す薄膜磁気ヘッドには、ギャップ
層２によるギャップ長Ｇｌ1の磁気ギャップ以外に、非
磁性材料層２４による磁気ギャップ（以下、擬似ギャッ
プという）が形成されており、記録特性は不安定にな
る。
料層２４は、記録媒体Ｄとの対向面（ＡＢＳ面）に現れ
ており、前記非磁性材料層２４によって、ギャップ長Ｇ
ｌ2の磁気ギャップ（擬似ギャップ）が形成されてしま
う。従って、図８に示す薄膜磁気ヘッドには、ギャップ
層２によるギャップ長Ｇｌ1の磁気ギャップ以外に、非
磁性材料層２４による磁気ギャップ（以下、擬似ギャッ
プという）が形成されており、記録特性は不安定にな
る。
【００１０】特に、上部コア層２１に擬似ギャップが形
成されていると、この擬似ギャップは記録媒体Ｄに対し
て本来の磁気ギャップよりトレーリング側に位置し、記
録媒体Ｄに対して本来の磁気ギャップが走査した後に、
擬似ギャップが走査するため、擬似ギャップ部分からの
漏れ磁界が記録媒体Ｄに与える影響が大きくなる。特開
昭６３−２４７９０６号公報には、コア層に擬似ギャッ
プが形成されないように、コア層の先端部の構造を改良
した薄膜磁気ヘッドについて開示されている。
成されていると、この擬似ギャップは記録媒体Ｄに対し
て本来の磁気ギャップよりトレーリング側に位置し、記
録媒体Ｄに対して本来の磁気ギャップが走査した後に、
擬似ギャップが走査するため、擬似ギャップ部分からの
漏れ磁界が記録媒体Ｄに与える影響が大きくなる。特開
昭６３−２４７９０６号公報には、コア層に擬似ギャッ
プが形成されないように、コア層の先端部の構造を改良
した薄膜磁気ヘッドについて開示されている。
【００１１】この公報に記載されたものでは、図９に示
すように、上部コア層２１の先端部２１ａ付近以外の領
域に非磁性材料層２４が形成され、前記非磁性材料２４
が記録媒体Ｄとの対向面に現れないようにしている。こ
のような構成とすることで、擬似ギャップによる支障が
生じず、また先端部２１ａ付近以外の部分は積層構造に
なっているのだから、渦電流による熱損失が少なく、高
周波領域における記録特性を向上させることができると
している。
すように、上部コア層２１の先端部２１ａ付近以外の領
域に非磁性材料層２４が形成され、前記非磁性材料２４
が記録媒体Ｄとの対向面に現れないようにしている。こ
のような構成とすることで、擬似ギャップによる支障が
生じず、また先端部２１ａ付近以外の部分は積層構造に
なっているのだから、渦電流による熱損失が少なく、高
周波領域における記録特性を向上させることができると
している。
【００１２】しかし、上部コア層２１の先端部２１ａ付
近に非磁性材料層２４を形成しないことで、前記先端部
２１ａ付近は磁性材料層による単層になり、前記先端部
２１ａ付近では、渦電流による損失が増大するといった
問題が発生する。また製造工程が、きわめて複雑になる
欠点を有している。
近に非磁性材料層２４を形成しないことで、前記先端部
２１ａ付近は磁性材料層による単層になり、前記先端部
２１ａ付近では、渦電流による損失が増大するといった
問題が発生する。また製造工程が、きわめて複雑になる
欠点を有している。
【００１３】本発明は上記従来の課題を解決するための
ものであり、コア層を磁性材料層間に非磁性材料層が介
在した積層構造とし、特に前記コア層の先端部の構造を
改良することによって、擬似ギャップの問題も起こら
ず、渦電流損失を低減させることが可能になった薄膜磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とし
ている。
ものであり、コア層を磁性材料層間に非磁性材料層が介
在した積層構造とし、特に前記コア層の先端部の構造を
改良することによって、擬似ギャップの問題も起こら
ず、渦電流損失を低減させることが可能になった薄膜磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とし
ている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁性材料で形
成された第１のコア層と第２のコア層との間に、両コア
層に記録磁界を誘導するコイル層が設けられて成る薄膜
磁気ヘッドにおいて、トレーリング側のコア層は、磁性
材料層の間に非磁性材料層が介在した積層構造で構成さ
れており、前記非磁性材料層が、記録媒体との対向面に
て、第１のコア層と第２のコア層との間に現れ、この非
磁性材料層で磁気ギャップが形成されることを特徴とす
るものである。また前記非磁性材料層は、非磁性金属層
を酸化させて形成されたものであってもよい。
成された第１のコア層と第２のコア層との間に、両コア
層に記録磁界を誘導するコイル層が設けられて成る薄膜
磁気ヘッドにおいて、トレーリング側のコア層は、磁性
材料層の間に非磁性材料層が介在した積層構造で構成さ
れており、前記非磁性材料層が、記録媒体との対向面に
て、第１のコア層と第２のコア層との間に現れ、この非
磁性材料層で磁気ギャップが形成されることを特徴とす
るものである。また前記非磁性材料層は、非磁性金属層
を酸化させて形成されたものであってもよい。
【００１５】本発明は、例えば、第１のコア層と第２の
コア層との間に、絶縁材料からなるギャップ層が形成さ
れており、前記非磁性材料層が先端領域で前記ギャップ
層に接し、前記ギャップ層と前記非磁性材料層が、記録
媒体との対向面にて第１のコア層と第２のコア層との間
に現れて、磁気ギャップが形成されるものである。
コア層との間に、絶縁材料からなるギャップ層が形成さ
れており、前記非磁性材料層が先端領域で前記ギャップ
層に接し、前記ギャップ層と前記非磁性材料層が、記録
媒体との対向面にて第１のコア層と第２のコア層との間
に現れて、磁気ギャップが形成されるものである。
【００１６】また、本発明は、リーディング側のコア層
も、磁性材料層の間に非磁性材料層が介在した積層構造
で構成されており、前記リーディング側のコア層の非磁
性材料層が、先端領域で前記ギャップ層に接し、前記ト
レーリング側のコア層の非磁性材料層と前記ギャップ層
と前記リーディング側のコア層の非磁性材料層が、記録
媒体との対向面にて第１のコア層と第２のコア層との間
に現れて、磁気ギャップが形成されるものであってもよ
い。あるいは、リーディング側のコア層も、磁性材料層
の間に非磁性材料層が介在した積層構造で構成されてお
り、前記リーディング側のコア層の非磁性材料層が、記
録媒体との対向面にて前記磁性材料層の間に現れて、こ
の非磁性材料層で疑似ギャップが形成されるものであっ
てもよい。また、本発明では、前記トレーリング側のコ
ア層の前記非磁性材料層が先端領域で前記リーディング
側のコア層に接し、この非磁性材料層で磁気ギャップが
形成されてもよい。
も、磁性材料層の間に非磁性材料層が介在した積層構造
で構成されており、前記リーディング側のコア層の非磁
性材料層が、先端領域で前記ギャップ層に接し、前記ト
レーリング側のコア層の非磁性材料層と前記ギャップ層
と前記リーディング側のコア層の非磁性材料層が、記録
媒体との対向面にて第１のコア層と第２のコア層との間
に現れて、磁気ギャップが形成されるものであってもよ
い。あるいは、リーディング側のコア層も、磁性材料層
の間に非磁性材料層が介在した積層構造で構成されてお
り、前記リーディング側のコア層の非磁性材料層が、記
録媒体との対向面にて前記磁性材料層の間に現れて、こ
の非磁性材料層で疑似ギャップが形成されるものであっ
てもよい。また、本発明では、前記トレーリング側のコ
ア層の前記非磁性材料層が先端領域で前記リーディング
側のコア層に接し、この非磁性材料層で磁気ギャップが
形成されてもよい。
【００１７】また本発明は、磁性材料で形成された下部
コア層と上部コア層との間に、非磁性材料のギャップ層
が形成され、さらに両コア層に記録磁界を誘導するコイ
ル層、および前記コイル層を覆うための絶縁層が設けら
れて成る薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記下部
コア層上にギャップ層を形成し、さらに前記ギャップ層
上にコイル層および絶縁層を形成した後、磁性材料の下
地層を、前記ギャップ層上から絶縁層上にかけて形成す
る工程と、磁気ギャップ形成部を含む先端領域を残し
て、それ以外の前記下地層上に第１の磁性材料層を形成
する工程と、前記先端領域の下地層を除去し、下地層が
除去された先端領域のギャップ層上から第１の磁性材料
層上にかけて非磁性材料層を形成する工程と、前記非磁
性材料層上に磁性材料の下地層を形成し、さらに前記下
地層上に第２の磁性材料層を形成する工程と、を有する
ことを特徴とするものである。
コア層と上部コア層との間に、非磁性材料のギャップ層
が形成され、さらに両コア層に記録磁界を誘導するコイ
ル層、および前記コイル層を覆うための絶縁層が設けら
れて成る薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記下部
コア層上にギャップ層を形成し、さらに前記ギャップ層
上にコイル層および絶縁層を形成した後、磁性材料の下
地層を、前記ギャップ層上から絶縁層上にかけて形成す
る工程と、磁気ギャップ形成部を含む先端領域を残し
て、それ以外の前記下地層上に第１の磁性材料層を形成
する工程と、前記先端領域の下地層を除去し、下地層が
除去された先端領域のギャップ層上から第１の磁性材料
層上にかけて非磁性材料層を形成する工程と、前記非磁
性材料層上に磁性材料の下地層を形成し、さらに前記下
地層上に第２の磁性材料層を形成する工程と、を有する
ことを特徴とするものである。
【００１８】また本発明では、第１の磁性材料層を形成
した後、前記先端領域の下地層を除去し、下地層が除去
された先端領域のギャップ層上から前記第１の磁性材料
層上にかけて非磁性金属膜を形成し、前記非磁性金属膜
を酸化して、非磁性材料層を形成してもよい。
した後、前記先端領域の下地層を除去し、下地層が除去
された先端領域のギャップ層上から前記第１の磁性材料
層上にかけて非磁性金属膜を形成し、前記非磁性金属膜
を酸化して、非磁性材料層を形成してもよい。
【００１９】また本発明では、前記下部コア層と上部コ
ア層との間に前記ギャップ層を形成せず、前記先端領域
にて前記非磁性材料層を第１の磁性材料層と第２の磁性
材料層との間に介在させて磁気ギャップを形成するもの
であってもよい。
ア層との間に前記ギャップ層を形成せず、前記先端領域
にて前記非磁性材料層を第１の磁性材料層と第２の磁性
材料層との間に介在させて磁気ギャップを形成するもの
であってもよい。
【００２０】本発明では、コア層を第１の磁性材料層と
第２の磁性材料層との間に非磁性材料層が介在した積層
構造とし、特に擬似ギャップが形成されることなく、渦
電流損失の低減を可能とするものである。
第２の磁性材料層との間に非磁性材料層が介在した積層
構造とし、特に擬似ギャップが形成されることなく、渦
電流損失の低減を可能とするものである。
【００２１】本発明の上部コア層６は、図１ないし図４
に示すように、第１の磁性材料層７、非磁性材料層８、
および第２の磁性材料層９から成る積層構造（ラミネー
ト）で形成されているが、前記第１の磁性材料層７は、
先端領域には形成されておらず、前記先端領域の上部コ
ア層６は、非磁性材料層８と第２の磁性材料層９とで構
成されている。
に示すように、第１の磁性材料層７、非磁性材料層８、
および第２の磁性材料層９から成る積層構造（ラミネー
ト）で形成されているが、前記第１の磁性材料層７は、
先端領域には形成されておらず、前記先端領域の上部コ
ア層６は、非磁性材料層８と第２の磁性材料層９とで構
成されている。
【００２２】前記非磁性材料層８は、図１に示すよう
に、ギャップ層２の上に接して形成され、記録媒体Ｄと
の対向面に現れている。
に、ギャップ層２の上に接して形成され、記録媒体Ｄと
の対向面に現れている。
【００２３】そして、前記ギャップ層２と非磁性材料層
８とで、ギャップ長Ｇｌの磁気ギャップが形成されてお
り、従来のように前記非磁性材料層８が、擬似ギャップ
として機能することがない。
８とで、ギャップ長Ｇｌの磁気ギャップが形成されてお
り、従来のように前記非磁性材料層８が、擬似ギャップ
として機能することがない。
【００２４】また前記第１の磁性材料層７と第２の磁性
材料層９は、単層で形成されていた従来の上部コア層２
１（図７参照）の膜厚に比べて薄く形成されており、し
かも前記第１の磁性材料層７と第２の磁性材料層９と
は、非磁性材料層８によって電気的に分断されているの
で、適切に渦電流による損失を低減させることが可能で
ある。
材料層９は、単層で形成されていた従来の上部コア層２
１（図７参照）の膜厚に比べて薄く形成されており、し
かも前記第１の磁性材料層７と第２の磁性材料層９と
は、非磁性材料層８によって電気的に分断されているの
で、適切に渦電流による損失を低減させることが可能で
ある。
【００２５】ところで、図１に示す薄膜磁気ヘッドで
は、上部コア層６のみが積層構造で形成され、下部コア
層１は単層で形成されているが、図２及び図３に示すよ
うに、前記下部コア層１も上部コア層６と同様に積層構
造で形成されていることが好ましい。
は、上部コア層６のみが積層構造で形成され、下部コア
層１は単層で形成されているが、図２及び図３に示すよ
うに、前記下部コア層１も上部コア層６と同様に積層構
造で形成されていることが好ましい。
【００２６】この場合、図２に示すように、前記下部コ
ア層１を構成する非磁性材料層８が、上部コア層６を構
成する非磁性材料層８と同様に先端領域で、ギャップ層
２と接して形成されていることが、擬似ギャップが形成
されない点で特に好ましい。
ア層１を構成する非磁性材料層８が、上部コア層６を構
成する非磁性材料層８と同様に先端領域で、ギャップ層
２と接して形成されていることが、擬似ギャップが形成
されない点で特に好ましい。
【００２７】ただし、リーディング側のコアに相当する
下部コア層１は、第１の磁性材料層７、非磁性材料層
８、および第２の磁性材料層９が平行に形成された積層
構造、つまり、図３に示すように、前記非磁性材料層８
が、先端領域において、ギャップ層２と接して形成され
ていなくてもよい。
下部コア層１は、第１の磁性材料層７、非磁性材料層
８、および第２の磁性材料層９が平行に形成された積層
構造、つまり、図３に示すように、前記非磁性材料層８
が、先端領域において、ギャップ層２と接して形成され
ていなくてもよい。
【００２８】このような構造であると、下部コア層１の
非磁性材料層８による擬似ギャップが形成されてしまう
が、前記下部コア層１に擬似ギャップが形成されても、
記録特性にはさほど問題はないものと考えられる。これ
は以下に説明する理由からによる。
非磁性材料層８による擬似ギャップが形成されてしまう
が、前記下部コア層１に擬似ギャップが形成されても、
記録特性にはさほど問題はないものと考えられる。これ
は以下に説明する理由からによる。
【００２９】前記下部コア層１が、リーディング側のコ
ア層であるために、図３に示すように、記録媒体Ｄが矢
印方向（紙面上方向）に走行すると、前記下部コア層１
に形成された擬似ギャップによって、まず記録信号が前
記記録媒体Ｄ上に書込まれることになる。
ア層であるために、図３に示すように、記録媒体Ｄが矢
印方向（紙面上方向）に走行すると、前記下部コア層１
に形成された擬似ギャップによって、まず記録信号が前
記記録媒体Ｄ上に書込まれることになる。
【００３０】ところが、前記記録信号は、前記擬似ギャ
ップよりもトレーリング側に位置するギャップ長Ｇｌの
磁気ギャップ部分からの漏れ磁界によって消去され、正
式な前記磁気ギャップ部分からの記録信号のみが、記録
媒体Ｄ上に書き残されることになる。
ップよりもトレーリング側に位置するギャップ長Ｇｌの
磁気ギャップ部分からの漏れ磁界によって消去され、正
式な前記磁気ギャップ部分からの記録信号のみが、記録
媒体Ｄ上に書き残されることになる。
【００３１】このため、リーディング側のコア層に相当
する下部コア層１は、第１の磁性材料層７と第２の磁性
材料層９との間に非磁性材料８が介在した積層構造で形
成される場合、記録媒体の対向面において、前記非磁性
材料層８がギャップ層２と接して現れていなくても、さ
ほど記録特性には問題はないものと考えられる。
する下部コア層１は、第１の磁性材料層７と第２の磁性
材料層９との間に非磁性材料８が介在した積層構造で形
成される場合、記録媒体の対向面において、前記非磁性
材料層８がギャップ層２と接して現れていなくても、さ
ほど記録特性には問題はないものと考えられる。
【００３２】これに対し、トレーリング側のコア層に相
当する上部コア層６に擬似ギャップが形成されている
と、一旦正式な磁気ギャップ部分からの漏れ磁界によっ
て記録媒体Ｄに書込まれた記録信号が、上部コア層６に
形成された擬似ギャップ部分からの漏れ磁界によって消
去されてしまい、記録特性は不安定化してしまう。
当する上部コア層６に擬似ギャップが形成されている
と、一旦正式な磁気ギャップ部分からの漏れ磁界によっ
て記録媒体Ｄに書込まれた記録信号が、上部コア層６に
形成された擬似ギャップ部分からの漏れ磁界によって消
去されてしまい、記録特性は不安定化してしまう。
【００３３】従って、トレーリング側のコア層に相当す
る上部コア層６は、図１に示すように、先端領域の非磁
性材料層８がギャップ層２上に接して形成され、前記非
磁性材料層８によって擬似ギャップが形成されないよう
にする必要がある。
る上部コア層６は、図１に示すように、先端領域の非磁
性材料層８がギャップ層２上に接して形成され、前記非
磁性材料層８によって擬似ギャップが形成されないよう
にする必要がある。
【００３４】以上のように本発明では、少なくとも第１
コア層と第２のコア層のうち、一方のコア層を磁性材料
層の間に非磁性材料層が介在した積層構造で形成し、し
かも前記非磁性材料層を、記録媒体との対向面にて、第
１のコア層と第２のコア層との間に現れるように形成し
ているので、擬似ギャップが形成されることなく、渦電
流損失を低減させることが可能になる。
コア層と第２のコア層のうち、一方のコア層を磁性材料
層の間に非磁性材料層が介在した積層構造で形成し、し
かも前記非磁性材料層を、記録媒体との対向面にて、第
１のコア層と第２のコア層との間に現れるように形成し
ているので、擬似ギャップが形成されることなく、渦電
流損失を低減させることが可能になる。
【００３５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１実施形態の
薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断面図、図２は、本発明
の第２実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断面
図、図３は、本発明の第３実施形態の薄膜磁気ヘッドの
構造を示す縦断面図、図４は、本発明の第４実施形態の
薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断面図である。図１ない
し図４に示す薄膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果を利用し
た読取りヘッドと、書込み用のインダクティブヘッドと
が積層された、いわゆる複合型薄膜磁気ヘッドである。
薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断面図、図２は、本発明
の第２実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断面
図、図３は、本発明の第３実施形態の薄膜磁気ヘッドの
構造を示す縦断面図、図４は、本発明の第４実施形態の
薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断面図である。図１ない
し図４に示す薄膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果を利用し
た読取りヘッドと、書込み用のインダクティブヘッドと
が積層された、いわゆる複合型薄膜磁気ヘッドである。
【００３６】図１ないし図４に示すように、Ａｌ2Ｏ3−
ＴｉＣから成る基板３０上に、下地層３１、下部シール
ド層３２、下部絶縁層３３、磁気抵抗効果素子層３４、
及び上部絶縁層３５が連続して積層され、その上に書込
み用のインダクティブヘッドが形成されている。図１に
示す符号１は下部コア層１であり、ＮｉＦｅ系合金など
の磁性材料で形成されている。なお前記下部コア層１
は、前述した読出しヘッドの上部シールド層としても機
能している。前記下部コア層１の上には、絶縁材料で形
成されたギャップ層２が形成されている。
ＴｉＣから成る基板３０上に、下地層３１、下部シール
ド層３２、下部絶縁層３３、磁気抵抗効果素子層３４、
及び上部絶縁層３５が連続して積層され、その上に書込
み用のインダクティブヘッドが形成されている。図１に
示す符号１は下部コア層１であり、ＮｉＦｅ系合金など
の磁性材料で形成されている。なお前記下部コア層１
は、前述した読出しヘッドの上部シールド層としても機
能している。前記下部コア層１の上には、絶縁材料で形
成されたギャップ層２が形成されている。
【００３７】さらに前記ギャップ層２上には、有機樹脂
材料例えばレジスト材料の絶縁層３が形成されており、
この絶縁層３の上に、Ｃｕなどの電気抵抗の小さい導電
性材料により螺旋状のコイル層４が形成されている。さ
らに前記コイル層４の上には、有機樹脂材料の絶縁層５
が形成されている。そして、前記絶縁層５の上には、パ
ーマロイなどの磁性材料製の上部コア層６が形成されて
いる。
材料例えばレジスト材料の絶縁層３が形成されており、
この絶縁層３の上に、Ｃｕなどの電気抵抗の小さい導電
性材料により螺旋状のコイル層４が形成されている。さ
らに前記コイル層４の上には、有機樹脂材料の絶縁層５
が形成されている。そして、前記絶縁層５の上には、パ
ーマロイなどの磁性材料製の上部コア層６が形成されて
いる。
【００３８】前記上部コア層６の先端部６ａの奥行きの
長さ寸法は、図１に示すように、Ｇｄであり、このＧｄ
がギャップ深さ（ギャップデプス）である。また図示し
ないが、前記先端部６ａの記録媒体との対向面側におけ
る幅寸法（紙面垂直方向の幅寸法）は、前記先端部６ａ
以外の上部コア層６の幅寸法よりも小さくなっており、
ほぼトラック幅Ｔｗで形成されている。また前記上部コ
ア層６の基端部６ｂは、ギャップ層２および絶縁層３に
形成された穴を介して、下部コア層１に磁気的に接続さ
れている。
長さ寸法は、図１に示すように、Ｇｄであり、このＧｄ
がギャップ深さ（ギャップデプス）である。また図示し
ないが、前記先端部６ａの記録媒体との対向面側におけ
る幅寸法（紙面垂直方向の幅寸法）は、前記先端部６ａ
以外の上部コア層６の幅寸法よりも小さくなっており、
ほぼトラック幅Ｔｗで形成されている。また前記上部コ
ア層６の基端部６ｂは、ギャップ層２および絶縁層３に
形成された穴を介して、下部コア層１に磁気的に接続さ
れている。
【００３９】このインダクティブヘッドでは、コイル層
４に記録電流が与えられると、下部コア層１および上部
コア層６に記録磁界が誘導され、下部コア層１と上部コ
ア層６の先端部６ａとの磁気ギャップ部分からの洩れ磁
界により、ハードディスクなどの記録媒体に磁気信号が
記録される。
４に記録電流が与えられると、下部コア層１および上部
コア層６に記録磁界が誘導され、下部コア層１と上部コ
ア層６の先端部６ａとの磁気ギャップ部分からの洩れ磁
界により、ハードディスクなどの記録媒体に磁気信号が
記録される。
【００４０】本発明では、図１に示すように、前記上部
コア層６は、第１の磁性材料層７と第２の磁性材料層９
との間に、非磁性材料層８が介在した積層構造（ラミネ
ート）で形成されている。なお前記第１の磁性材料層７
および第２の磁性材料層９は、ＮｉＦｅ系合金などの磁
性材料で、前記非磁性材料層８は、ＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3
などの非磁性材料によって形成されている。また前記非
磁性材料層８は、Ａｌ，Ｔａ，Ｃｒなどの非磁性金属層
を陽極酸化して形成されたものであってもよい。
コア層６は、第１の磁性材料層７と第２の磁性材料層９
との間に、非磁性材料層８が介在した積層構造（ラミネ
ート）で形成されている。なお前記第１の磁性材料層７
および第２の磁性材料層９は、ＮｉＦｅ系合金などの磁
性材料で、前記非磁性材料層８は、ＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3
などの非磁性材料によって形成されている。また前記非
磁性材料層８は、Ａｌ，Ｔａ，Ｃｒなどの非磁性金属層
を陽極酸化して形成されたものであってもよい。
【００４１】本発明では、前記第１の磁性材料層７の膜
厚と第２の磁性材料層９の膜厚とを加えた膜厚が、従来
の上部コア層の膜厚（図７の上部コア層２１参照）と同
程度である。前記第１の磁性材料層７の膜厚と第２の磁
性材料層９との間に、非磁性材料層８を介在させること
で、前記磁性材料７，９間は、電気的に分断された状態
となっている。従って、高記録密度化に対応するため
に、記録周波数を高めても、渦電流による損失を低減さ
せることが可能である。
厚と第２の磁性材料層９の膜厚とを加えた膜厚が、従来
の上部コア層の膜厚（図７の上部コア層２１参照）と同
程度である。前記第１の磁性材料層７の膜厚と第２の磁
性材料層９との間に、非磁性材料層８を介在させること
で、前記磁性材料７，９間は、電気的に分断された状態
となっている。従って、高記録密度化に対応するため
に、記録周波数を高めても、渦電流による損失を低減さ
せることが可能である。
【００４２】また本発明では、前記上部コア層６を、単
純に第１の磁性材料層７、非磁性材料層８、および第２
の磁性材料層９を積層して形成しているのではなく、前
記上部コア層６の先端領域の構造を改良することによっ
て、従来から問題となっていた擬似ギャップの問題を解
決している。図１の上部コア層６を構成する第１の磁性
材料層７は、前記上部コア層６の先端部６ａ付近（以
下、先端領域という）には形成されておらず、前記第１
の磁性材料層７は、記録媒体Ｄとの対向面には現れてい
ないことがわかる。
純に第１の磁性材料層７、非磁性材料層８、および第２
の磁性材料層９を積層して形成しているのではなく、前
記上部コア層６の先端領域の構造を改良することによっ
て、従来から問題となっていた擬似ギャップの問題を解
決している。図１の上部コア層６を構成する第１の磁性
材料層７は、前記上部コア層６の先端部６ａ付近（以
下、先端領域という）には形成されておらず、前記第１
の磁性材料層７は、記録媒体Ｄとの対向面には現れてい
ないことがわかる。
【００４３】従って、上部コア層６は、先端領域では、
非磁性材料層８と第２の磁性材料層９との２層で構成さ
れており、前記非磁性材料層８は、奥行き寸法Ｇｄのギ
ャップ層２上に接して形成されている。そして前記ギャ
ップ層２と非磁性材料層８とは、記録媒体Ｄとの対向面
では、第２の磁性材料層９と、下部コア層１との間に現
れ、前記非磁性材料層８とギャップ層２とで、ギャップ
長Ｇｌの磁気ギャップが形成されている。
非磁性材料層８と第２の磁性材料層９との２層で構成さ
れており、前記非磁性材料層８は、奥行き寸法Ｇｄのギ
ャップ層２上に接して形成されている。そして前記ギャ
ップ層２と非磁性材料層８とは、記録媒体Ｄとの対向面
では、第２の磁性材料層９と、下部コア層１との間に現
れ、前記非磁性材料層８とギャップ層２とで、ギャップ
長Ｇｌの磁気ギャップが形成されている。
【００４４】このように本発明では、前記非磁性材料層
８が、ギャップ層２と一緒になって記録媒体Ｄとの対向
面に現れているので、従来（図８参照）のように、擬似
ギャップが形成されることがなく、安定した記録特性を
得ることが可能である。ところで、図１に示す薄膜磁気
ヘッドでは、下部コア層１が、単層で形成されている
が、前記上部コア層６と同様に、磁性材料層の間に非磁
性材料層が介在した積層構造で形成されていてもよい。
８が、ギャップ層２と一緒になって記録媒体Ｄとの対向
面に現れているので、従来（図８参照）のように、擬似
ギャップが形成されることがなく、安定した記録特性を
得ることが可能である。ところで、図１に示す薄膜磁気
ヘッドでは、下部コア層１が、単層で形成されている
が、前記上部コア層６と同様に、磁性材料層の間に非磁
性材料層が介在した積層構造で形成されていてもよい。
【００４５】この場合、図２に示すように、前記下部コ
ア層１を構成する非磁性材料層８が、先端領域でギャッ
プ層２と接して形成され、前記ギャップ層２と一緒にな
って記録媒体Ｄとの対向面に現れていると、前記非磁性
材料層による擬似ギャップが形成されないので、特に好
ましい。
ア層１を構成する非磁性材料層８が、先端領域でギャッ
プ層２と接して形成され、前記ギャップ層２と一緒にな
って記録媒体Ｄとの対向面に現れていると、前記非磁性
材料層による擬似ギャップが形成されないので、特に好
ましい。
【００４６】ただし図３に示すように、リーディング側
のコア層に相当する前記下部コア層１に非磁性材料層８
による擬似ギャップが形成されていたとしても、記録特
性にはさほど影響がないものと考えられる。前記下部コ
ア層１は、リーディング側のコア層であるために、図３
に示す記録媒体Ｄが矢印方向（紙面上方向）に走行する
と、前記下部コア層１に形成された擬似ギャップによっ
て、まず記録信号が前記記録媒体Ｄ上に書込まれること
なる。
のコア層に相当する前記下部コア層１に非磁性材料層８
による擬似ギャップが形成されていたとしても、記録特
性にはさほど影響がないものと考えられる。前記下部コ
ア層１は、リーディング側のコア層であるために、図３
に示す記録媒体Ｄが矢印方向（紙面上方向）に走行する
と、前記下部コア層１に形成された擬似ギャップによっ
て、まず記録信号が前記記録媒体Ｄ上に書込まれること
なる。
【００４７】ところが、前記記録信号は、前記擬似ギャ
ップよりもトレーリング側に位置するギャップ長Ｇｌの
磁気ギャップ部分からの漏れ磁界によって消去され、正
式な前記磁気ギャップ部分からの記録信号のみが、記録
媒体Ｄ上に書き残されることになる。このため、図３に
示すように、リーディング側のコア層に相当する下部コ
ア層１は、第１の磁性材料層７、非磁性材料層８、およ
び第２の磁性材料層９が平行に形成され、記録媒体Ｄと
の対向面にて、前記非磁性材料層８が、第１の磁性材料
層７および第２の磁性材料層９との間に現れていたとし
ても、さほど記録特性には問題はないものと考えられ
る。
ップよりもトレーリング側に位置するギャップ長Ｇｌの
磁気ギャップ部分からの漏れ磁界によって消去され、正
式な前記磁気ギャップ部分からの記録信号のみが、記録
媒体Ｄ上に書き残されることになる。このため、図３に
示すように、リーディング側のコア層に相当する下部コ
ア層１は、第１の磁性材料層７、非磁性材料層８、およ
び第２の磁性材料層９が平行に形成され、記録媒体Ｄと
の対向面にて、前記非磁性材料層８が、第１の磁性材料
層７および第２の磁性材料層９との間に現れていたとし
ても、さほど記録特性には問題はないものと考えられ
る。
【００４８】これに対し、トレーリング側のコア層に相
当する上部コア層６に擬似ギャップが形成されている
と、一旦正式な磁気ギャップ部分からの漏れ磁界によっ
て記録媒体Ｄに書込まれた記録信号が、上部コア層６に
形成された擬似ギャップ部分からの漏れ磁界によって消
去されてしまい、記録特性は不安定化してしまう。この
ため、特にトレーリング側のコア層に相当する上部コア
層６の構造は、図１ないし図３に示すように、記録媒体
Ｄとの対向面において、非磁性材料層８がギャップ層２
上に接して現れ、前記ギャップ層２と非磁性材料層６と
でギャップ長Ｇｌの磁気ギャップが形成されるようにす
る必要がある。
当する上部コア層６に擬似ギャップが形成されている
と、一旦正式な磁気ギャップ部分からの漏れ磁界によっ
て記録媒体Ｄに書込まれた記録信号が、上部コア層６に
形成された擬似ギャップ部分からの漏れ磁界によって消
去されてしまい、記録特性は不安定化してしまう。この
ため、特にトレーリング側のコア層に相当する上部コア
層６の構造は、図１ないし図３に示すように、記録媒体
Ｄとの対向面において、非磁性材料層８がギャップ層２
上に接して現れ、前記ギャップ層２と非磁性材料層６と
でギャップ長Ｇｌの磁気ギャップが形成されるようにす
る必要がある。
【００４９】また本発明では、図４に示すように、下部
コア層１上に形成されているギャップ層２が形成されて
いなくてもよい。この場合、上部コア層６を構成する非
磁性材料層８は、先端領域では、下部コア層１上に接し
て形成され、前記非磁性材料層８のみで、磁気ギャップ
が形成されることになる。
コア層１上に形成されているギャップ層２が形成されて
いなくてもよい。この場合、上部コア層６を構成する非
磁性材料層８は、先端領域では、下部コア層１上に接し
て形成され、前記非磁性材料層８のみで、磁気ギャップ
が形成されることになる。
【００５０】次に図１に示す薄膜磁気ヘッドの製造方法
について図５，６を参照しながら説明する。まず下部コ
ア層１上に、ギャップ層２を形成し、さらに前記ギャッ
プ層２上に絶縁層３を形成する。なお前記絶縁層３は図
５（ａ）に示すように、先端から奥行き寸法Ｇｄ部分
（磁気ギャップ形成部）に形成されないようにしておく
必要がある。
について図５，６を参照しながら説明する。まず下部コ
ア層１上に、ギャップ層２を形成し、さらに前記ギャッ
プ層２上に絶縁層３を形成する。なお前記絶縁層３は図
５（ａ）に示すように、先端から奥行き寸法Ｇｄ部分
（磁気ギャップ形成部）に形成されないようにしておく
必要がある。
【００５１】またギャップ層２上に、コイル層４および
絶縁層５を連続して形成する。そして、図５（ａ）に示
すように、奥行き寸法Ｇｄ部分のギャップ層２上から、
絶縁層５上にかけて、ＮｉＦｅ系合金の下地層１０を形
成する。次に、図５（ｂ）に示すように、先端領域の下
地層１０上にレジスト層１１を形成し、前記レジスト層
１１よりも後端側の下地層１０上にＮｉＦｅ系合金の第
１の磁性材料層７を形成する。
絶縁層５を連続して形成する。そして、図５（ａ）に示
すように、奥行き寸法Ｇｄ部分のギャップ層２上から、
絶縁層５上にかけて、ＮｉＦｅ系合金の下地層１０を形
成する。次に、図５（ｂ）に示すように、先端領域の下
地層１０上にレジスト層１１を形成し、前記レジスト層
１１よりも後端側の下地層１０上にＮｉＦｅ系合金の第
１の磁性材料層７を形成する。
【００５２】そして、前記レジスト層１１および前記レ
ジスト層１１下に形成されていた下地層１０を除去し、
図５（ｃ）に示すように、奥行き寸法Ｇｄ部分のギャッ
プ層２上から前記第１の磁性材料層７上にかけて非磁性
材料層８を形成する。そして図５（ｃ）に示すように、
ギャップ層２と前記ギャップ層２と接して形成された非
磁性材料層８とで、ギャップ長Ｇｌが決定される。
ジスト層１１下に形成されていた下地層１０を除去し、
図５（ｃ）に示すように、奥行き寸法Ｇｄ部分のギャッ
プ層２上から前記第１の磁性材料層７上にかけて非磁性
材料層８を形成する。そして図５（ｃ）に示すように、
ギャップ層２と前記ギャップ層２と接して形成された非
磁性材料層８とで、ギャップ長Ｇｌが決定される。
【００５３】次に、前記非磁性材料層８上に、ＮｉＦｅ
系合金の下地層１２を形成し（図６（ａ））、さらに前
記下地層１２上にＮｉＦｅ系合金の第２の磁性材料層９
を形成する（図６（ｂ））と、第１の磁性材料層７と第
２の磁性材料層９との間に非磁性材料層８が介在した積
層構造で、しかも記録媒体Ｄとの対向面に擬似ギャップ
が形成されていない上部コア層６が完成する。
系合金の下地層１２を形成し（図６（ａ））、さらに前
記下地層１２上にＮｉＦｅ系合金の第２の磁性材料層９
を形成する（図６（ｂ））と、第１の磁性材料層７と第
２の磁性材料層９との間に非磁性材料層８が介在した積
層構造で、しかも記録媒体Ｄとの対向面に擬似ギャップ
が形成されていない上部コア層６が完成する。
【００５４】なお下部コア層１を、単純な積層構造、す
なわち記録媒体Ｄとの対向面から後端部まで、第１の磁
性材料層、非磁性材料層、および第２の磁性材料層を平
行に形成した積層構造で形成する場合、上述した上部コ
ア層６の製造方法と同様の方法を用いて前記下部コア層
１を形成できる。また本発明では、下部コア層１上にギ
ャップ層２を形成しなくてもよい。このとき、磁気ギャ
ップのギャップ長Ｇｌは、上部コア層６を構成する非磁
性材料層８の膜厚のみによって決定される。
なわち記録媒体Ｄとの対向面から後端部まで、第１の磁
性材料層、非磁性材料層、および第２の磁性材料層を平
行に形成した積層構造で形成する場合、上述した上部コ
ア層６の製造方法と同様の方法を用いて前記下部コア層
１を形成できる。また本発明では、下部コア層１上にギ
ャップ層２を形成しなくてもよい。このとき、磁気ギャ
ップのギャップ長Ｇｌは、上部コア層６を構成する非磁
性材料層８の膜厚のみによって決定される。
【００５５】さらに本発明では、非磁性材料層８を陽極
酸化によって形成してもよい。陽極酸化によって非磁性
材料層８を形成する方法は、まず図５（ｃ）の工程で、
非磁性材料層８に代わって、例えばＡｌ，Ｔａ，Ｃｒな
どの非磁性金属層を、長さ寸法Ｇｄのギャップ層２上か
ら第１の磁性材料層７上にかけて形成する。そして前記
非磁性金属層を陽極酸化し、前記非磁性金属層を非磁性
材料層（陽極酸化層）８に変態させる。
酸化によって形成してもよい。陽極酸化によって非磁性
材料層８を形成する方法は、まず図５（ｃ）の工程で、
非磁性材料層８に代わって、例えばＡｌ，Ｔａ，Ｃｒな
どの非磁性金属層を、長さ寸法Ｇｄのギャップ層２上か
ら第１の磁性材料層７上にかけて形成する。そして前記
非磁性金属層を陽極酸化し、前記非磁性金属層を非磁性
材料層（陽極酸化層）８に変態させる。
【００５６】陽極酸化によって、非磁性材料層８を形成
することの利点は、より絶縁性を高めることができる点
にある。これは、前述した非磁性金属層を陽極酸化する
と、酸素を含むことにより、非磁性材料層（陽極酸化
層）８の体積が、前記非磁性金属層の体積よりも大きく
なるからである。
することの利点は、より絶縁性を高めることができる点
にある。これは、前述した非磁性金属層を陽極酸化する
と、酸素を含むことにより、非磁性材料層（陽極酸化
層）８の体積が、前記非磁性金属層の体積よりも大きく
なるからである。
【００５７】このため、仮に、非磁性金属層にピンホー
ルが形成されていても、前記非磁性金属層を陽極酸化す
ることにより、前記ピンホールが埋められたり、あるい
は前記非磁性金属層を形成する面上に、ゴミ等が付着し
ていたとしても、前記非磁性金属層を陽極酸化すること
によって、前記ゴミ等が非磁性材料層（陽極酸化層）８
内に埋没し、十分な絶縁性を保つことが可能になる。ま
たより絶縁性を高めるためには、前記非磁性材料層８を
多層構造としてもよい。
ルが形成されていても、前記非磁性金属層を陽極酸化す
ることにより、前記ピンホールが埋められたり、あるい
は前記非磁性金属層を形成する面上に、ゴミ等が付着し
ていたとしても、前記非磁性金属層を陽極酸化すること
によって、前記ゴミ等が非磁性材料層（陽極酸化層）８
内に埋没し、十分な絶縁性を保つことが可能になる。ま
たより絶縁性を高めるためには、前記非磁性材料層８を
多層構造としてもよい。
【００５８】なお前記非磁性材料層８を２層構造とする
場合、上側に形成される非磁性材料層を前述した陽極酸
化によって形成することが好ましい。上側の非磁性材料
層層を陽極酸化によって形成すれば、下側の非磁性材料
層に仮にピンホールなどが形成されていたとしても、前
記ピンホールを、上側の非磁性材料層（陽極酸化層）に
よって適切に埋めることができ、より絶縁性を高めるこ
とができるからである。
場合、上側に形成される非磁性材料層を前述した陽極酸
化によって形成することが好ましい。上側の非磁性材料
層層を陽極酸化によって形成すれば、下側の非磁性材料
層に仮にピンホールなどが形成されていたとしても、前
記ピンホールを、上側の非磁性材料層（陽極酸化層）に
よって適切に埋めることができ、より絶縁性を高めるこ
とができるからである。
【００５９】以上詳述したように本発明では、上部コア
層６を磁性材料層７，９間に非磁性材料層８が介在した
積層構造で形成し、特に、記録媒体Ｄとの対向面におい
て、前記非磁性材料層８が、ギャップ層２上に接して現
れているので、擬似ギャップが形成されることなく、高
周波数帯域において渦電流損失を低減させることが可能
である。
層６を磁性材料層７，９間に非磁性材料層８が介在した
積層構造で形成し、特に、記録媒体Ｄとの対向面におい
て、前記非磁性材料層８が、ギャップ層２上に接して現
れているので、擬似ギャップが形成されることなく、高
周波数帯域において渦電流損失を低減させることが可能
である。
【００６０】また本発明では、下部コア層１を磁性材料
層の間に非磁性材料層が介在した積層構造で形成するこ
とにより、上部コア層６のみならず下部コア層１におい
ても渦電流損失を低減させることができ、より記録特性
を向上させることが可能である。
層の間に非磁性材料層が介在した積層構造で形成するこ
とにより、上部コア層６のみならず下部コア層１におい
ても渦電流損失を低減させることができ、より記録特性
を向上させることが可能である。
【００６１】さらに本発明では、前記非磁性材料層８を
陽極酸化によって形成することが、絶縁性を向上させ、
より磁性材料層７，９間を電気的に分断できるので、効
果的に渦電流損失を低減させることが可能である。
陽極酸化によって形成することが、絶縁性を向上させ、
より磁性材料層７，９間を電気的に分断できるので、効
果的に渦電流損失を低減させることが可能である。
【００６２】
【発明の効果】以上詳述した本発明によれば、第１のコ
ア層と第２のコア層のうち少なくとも一方のコア層を磁
性材料の間に非磁性材料層が介在した積層構造で形成
し、さらに、記録媒体との対向面において、前記非磁性
材料層を、第１のコア層と第２のコア層間に現れるよう
に形成しているので、擬似ギャップが形成されることな
く、渦電流損失を低減させることが可能である。
ア層と第２のコア層のうち少なくとも一方のコア層を磁
性材料の間に非磁性材料層が介在した積層構造で形成
し、さらに、記録媒体との対向面において、前記非磁性
材料層を、第１のコア層と第２のコア層間に現れるよう
に形成しているので、擬似ギャップが形成されることな
く、渦電流損失を低減させることが可能である。
【００６３】特に、トレーリング側のコア層を、上述し
た積層構造で形成することが、安定した記録特性を得る
ことができる点で好ましい。
た積層構造で形成することが、安定した記録特性を得る
ことができる点で好ましい。
【００６４】また非磁性材料層を陽極酸化によって形成
すれば、絶縁性を高めることができ、磁性材料層間を適
切に電気的に分断できるので、より渦電流損失を低減さ
せることが可能になる。
すれば、絶縁性を高めることができ、磁性材料層間を適
切に電気的に分断できるので、より渦電流損失を低減さ
せることが可能になる。
【図１】本発明の第１実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造
を示す縦断面図、
を示す縦断面図、
【図２】本発明の第２実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造
を示す縦断面図、
を示す縦断面図、
【図３】本発明の第３実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造
を示す縦断面図、
を示す縦断面図、
【図４】本発明の第４実施形態の薄膜磁気ヘッドの構造
を示す縦断面図、
を示す縦断面図、
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の薄膜磁気ヘッドの
製造工程を途中まで表わした前記薄膜磁気ヘッドの縦断
面図、
製造工程を途中まで表わした前記薄膜磁気ヘッドの縦断
面図、
【図６】（ａ）（ｂ）は、図５に示す製造工程の続きの
製造工程を表わした薄膜磁気ヘッドの縦断面図、
製造工程を表わした薄膜磁気ヘッドの縦断面図、
【図７】第１の従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断
面図、
面図、
【図８】第２の従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断
面図、
面図、
【図９】第３の従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断
面図、
面図、
１ 下部コア層 ２ ギャップ層 ３，５ 絶縁層 ４ コイル層 ６ 上部コア層 ６ａ 先端部 ７ 第１の磁性材料層 ８ 非磁性材料層 ９ 第２の磁性材料層 １０，１２ 下地層 １１ レジスト層 Ｄ 記録媒体 Ｇｌ ギャップ長
Claims (9)
- 【請求項１】 磁性材料で形成された第１のコア層と第
２のコア層との間に、両コア層に記録磁界を誘導するコ
イル層が設けられて成る薄膜磁気ヘッドにおいて、トレーリング側 のコア層は、磁性材料層の間に非磁性材
料層が介在した積層構造で構成されており、前記非磁性
材料層が、記録媒体との対向面にて、第１のコア層と第
２のコア層との間に現れ、この非磁性材料層で磁気ギャ
ップが形成されることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記非磁性材料層は、非磁性金属層を酸
化させて形成されている請求項１に記載の薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項３】 第１のコア層と第２のコア層との間に、
絶縁材料からなるギャップ層が形成されており、前記非
磁性材料層が先端領域で前記ギャップ層に接し、前記ギ
ャップ層と前記非磁性材料層が、記録媒体との対向面に
て第１のコア層と第２のコア層との間に現れて、磁気ギ
ャップが形成される請求項１または２記載の薄膜磁気ヘ
ッド。 - 【請求項４】 リーディング側のコア層は、磁性材料層
の間に非磁性材料層が介在した積層構造で構成されてお
り、前記リーディング側のコア層の非磁性材料層が、先
端領域で前記ギャップ層に接し、前記トレーリング側の
コア層の非磁性材料層と前記ギャップ層と前記リーディ
ング側のコア層の非磁性材料層が、記録媒体との対向面
にて第１のコア層と第２のコア層との間に現れて、磁気
ギャップが形成される請求項３に記載の薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項５】 リーディング側のコア層は、磁性材料層
の間に非磁性材料層が介在した積層構造で構成されてお
り、前記リーディング側のコア層の非磁性材料層が、記
録媒体との対向面にて前記磁性材料層の間に現れて、こ
の非磁性材料層で疑似ギャップが形成される請求項３に
記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項６】 前記非磁性材料層が先端領域で前記リー
ディング側のコア層に接し、この非磁性材料層で磁気ギ
ャップが形成される請求項１または２に記載の薄膜磁気
ヘッド。 - 【請求項７】 磁性材料で形成された下部コア層と上部
コア層との間に、非磁性材料のギャップ層が形成され、
さらに両コア層に記録磁界を誘導するコイル層、および
前記コイル層を覆うための絶縁層が設けられて成る薄膜
磁気ヘッドの製造方法において、 前記下部コア層上にギャップ層を形成し、さらに前記ギ
ャップ層上にコイル層および絶縁層を形成した後、磁性
材料の下地層を、前記ギャップ層上から絶縁層上にかけ
て形成する工程と、 磁気ギャップ形成部を含む先端領域を残して、それ以外
の前記下地層上に第１の磁性材料層を形成する工程と、 前記先端領域の下地層を除去し、下地層が除去された先
端領域のギャップ層上から第１の磁性材料層上にかけて
非磁性材料層を形成する工程と、 前記非磁性材料層上に磁性材料の下地層を形成し、さら
に前記下地層上に第２の磁性材料層を形成する工程と、 を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項８】 第１の磁性材料層を形成した後、前記先
端領域の下地層を除去し、下地層が除去された先端領域
のギャップ層上から前記第１の磁性材料層上にかけて非
磁性金属膜を形成し、前記非磁性金属膜を酸化して、非
磁性材料層を形成する請求項７記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法。 - 【請求項９】 前記下部コア層と上部コア層との間に前
記ギャップ層を形成せず、前記先端領域にて前記非磁性
材料層を第１の磁性材料層と第２の磁性材料層との間に
介在させて磁気ギャップを形成する請求項７または請求
項８に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
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|---|---|---|---|
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| US6791794B2 (en) * | 2000-09-28 | 2004-09-14 | Nec Corporation | Magnetic head having an antistripping layer for preventing a magnetic layer from stripping |
| US6477765B1 (en) * | 1999-11-04 | 2002-11-12 | Storage Technology Corporation | Method of fabricating a magnetic write transducer |
| US6807031B2 (en) * | 2000-02-08 | 2004-10-19 | Seagate Technology Llc | Single domain state laminated thin film structure for use as a magnetic layer of a transducing head |
| US6724569B1 (en) | 2000-02-16 | 2004-04-20 | Western Digital (Fremont), Inc. | Thin film writer with multiplayer write gap |
| US6430806B1 (en) * | 2000-06-23 | 2002-08-13 | Read-Rite Corporation | Method for manufacturing an inductive write element employing bi-layer photoresist to define a thin high moment pole pedestal |
| US6628478B2 (en) * | 2001-04-17 | 2003-09-30 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Write head with all metallic laminated pole pieces with thickness differential |
| JP2004334945A (ja) * | 2003-05-02 | 2004-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 複合型磁気ヘッド及びその製造方法 |
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| US7215511B2 (en) * | 2004-03-31 | 2007-05-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic write head with gap termination less than half distance between pedestal and back gap |
| US7500302B2 (en) * | 2005-04-11 | 2009-03-10 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Process for fabricating a magnetic recording head with a laminated write gap |
| US7525760B2 (en) * | 2005-04-11 | 2009-04-28 | Hitachi Global Storage Technologies B.V. | Laminated write gap to improve writer performance |
| US8274758B2 (en) * | 2008-06-12 | 2012-09-25 | Headway Technologies, Inc. | Composite writer shield for improving writer performance |
| US8305709B2 (en) * | 2008-08-08 | 2012-11-06 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic head and magnetic recording system having non-magnetic region in shield layer |
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