JPS6271006A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS6271006A JPS6271006A JP21060485A JP21060485A JPS6271006A JP S6271006 A JPS6271006 A JP S6271006A JP 21060485 A JP21060485 A JP 21060485A JP 21060485 A JP21060485 A JP 21060485A JP S6271006 A JPS6271006 A JP S6271006A
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- JP
- Japan
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- film
- magnetic
- patterning
- magnetic film
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は複数の高透磁率薄膜、薄膜コイル、層間絶縁層
からなる磁気ヘッドの製造方法に関する。
からなる磁気ヘッドの製造方法に関する。
〔発明の概要〕。
本発明は、磁性膜、コイル等を薄膜により形成する磁気
ヘッドの製造方法において、−・層の磁性膜を分断し、
下部磁性の一部と上部磁極の一部に分けると”とにより
、ヘッド製造プロセスの簡略化、ギャップ幅（上部磁極
と下部磁極の突き合わせ幅トラック幅）加工精度の向上
を行なったものである。
ヘッドの製造方法において、−・層の磁性膜を分断し、
下部磁性の一部と上部磁極の一部に分けると”とにより
、ヘッド製造プロセスの簡略化、ギャップ幅（上部磁極
と下部磁極の突き合わせ幅トラック幅）加工精度の向上
を行なったものである。
本発明に関わる磁気ヘッドの製造方法の、樽来例けドａ
ｔ：Ｌｏｎａｌ Ｔｅａｌ：ｎ１＝ａ：Ｌ Ｒｅｐｒ＞
ｔ Ｖｏム ３１４２ Ａｐｒ、 １９８５の１３〜
１８ページに示されているように、（１） 下部磁性
層形成、（２）ギャップ１−形成、（３） 第１絶縁
層形成、 （４）第１コイル層形成、 （５） 第２
絶縁層形成、 （６）第２コイル形成、 （７ン 第
３虻縁層形成、 （８） 上部磁性層形成、というよ
うな工程である。そして、下部磁性層、上部磁性層それ
ぞれス・よ磁路抵抗減少、磁束の紋り込みを目尻とし、
て嶺数の磁性膜で構成されている。
ｔ：Ｌｏｎａｌ Ｔｅａｌ：ｎ１＝ａ：Ｌ Ｒｅｐｒ＞
ｔ Ｖｏム ３１４２ Ａｐｒ、 １９８５の１３〜
１８ページに示されているように、（１） 下部磁性
層形成、（２）ギャップ１−形成、（３） 第１絶縁
層形成、 （４）第１コイル層形成、 （５） 第２
絶縁層形成、 （６）第２コイル形成、 （７ン 第
３虻縁層形成、 （８） 上部磁性層形成、というよ
うな工程である。そして、下部磁性層、上部磁性層それ
ぞれス・よ磁路抵抗減少、磁束の紋り込みを目尻とし、
て嶺数の磁性膜で構成されている。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しｄ＝し、
従来の磁気ヘッドの製造方法では、大きな２つの問題点
が存在する。即ち、第一に、上部磁性層の一ツド先端部
と池の部分では１０ｐｍ以上の段差を生じ、しかもヘッ
ド先端部が低いため、先端部でのバター二／グ寸法精度
が極めて悪い。この問題は精度の最も要求されるギャッ
プ幅の精度悪化に直接間わるため、根本的−な解決を迫
られている。第二にギャップデプスゼロに位置を精度良
く決められない。即ち前述の文献にも述べられているよ
うに絶縁層として感光性レジンが使われるため流動性が
あり、かつ絶縁層が厚いため（５〜４μｍ以上）１μｍ
以内の精度に加工するのは困難である。ヘッド完成体と
してのギャップデプスは１〜２μｍ程度でなければなら
ないのでこの問題点も深刻である。
従来の磁気ヘッドの製造方法では、大きな２つの問題点
が存在する。即ち、第一に、上部磁性層の一ツド先端部
と池の部分では１０ｐｍ以上の段差を生じ、しかもヘッ
ド先端部が低いため、先端部でのバター二／グ寸法精度
が極めて悪い。この問題は精度の最も要求されるギャッ
プ幅の精度悪化に直接間わるため、根本的−な解決を迫
られている。第二にギャップデプスゼロに位置を精度良
く決められない。即ち前述の文献にも述べられているよ
うに絶縁層として感光性レジンが使われるため流動性が
あり、かつ絶縁層が厚いため（５〜４μｍ以上）１μｍ
以内の精度に加工するのは困難である。ヘッド完成体と
してのギャップデプスは１〜２μｍ程度でなければなら
ないのでこの問題点も深刻である。
そこで本発明はかかる問題点を解決するもので、その目
的とするところは、ギャップ幅寸法とギャップデプスゼ
ロの位置の高精度加工が可能となる磁気ヘッドの製造方
法を提供するもので、より一層の工程の簡略化をもはか
ったものである。
的とするところは、ギャップ幅寸法とギャップデプスゼ
ロの位置の高精度加工が可能となる磁気ヘッドの製造方
法を提供するもので、より一層の工程の簡略化をもはか
ったものである。
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、
ａ）下部磁性膜を形成、パターニングする工程、ｂ）該
下部磁性膜先端にギャップ誘電体膜を形成パターニング
する工程、 Ｃ）該ギャップ誘電体膜後端部に電気絶縁膜を形成、パ
ターニングする工程、 ｄ）該Ｔ部磁性ｌ；鈍上に高透磁率薄膜を形成する工程
、 ａ）該電気絶縁膜上の該高透磁率薄膜をエツチングし取
り除く工程、 ｆ）複数の１気絶縁膜及びコイルを形成する工程、 ｇ）該高透磁率薄膜のエツチングされ分断された部分を
結ぶ上部磁性膜を形成、パターニングする工程、 からなることを特徴とする。
下部磁性膜先端にギャップ誘電体膜を形成パターニング
する工程、 Ｃ）該ギャップ誘電体膜後端部に電気絶縁膜を形成、パ
ターニングする工程、 ｄ）該Ｔ部磁性ｌ；鈍上に高透磁率薄膜を形成する工程
、 ａ）該電気絶縁膜上の該高透磁率薄膜をエツチングし取
り除く工程、 ｆ）複数の１気絶縁膜及びコイルを形成する工程、 ｇ）該高透磁率薄膜のエツチングされ分断された部分を
結ぶ上部磁性膜を形成、パターニングする工程、 からなることを特徴とする。
第１図が革発明の実施例を示す磁気ヘッドの工程を示す
断面因である。下部磁性膜２、ギャップ誘電体力ｑ３を
形成後、ギヤツブ糾電体膜の後部を覆うように電気絶縁
膜４を形成する（第４図（Ｃ））。
断面因である。下部磁性膜２、ギャップ誘電体力ｑ３を
形成後、ギヤツブ糾電体膜の後部を覆うように電気絶縁
膜４を形成する（第４図（Ｃ））。
電気絶縁膜の材質はレジンでもよいし、Ｓ１０．あるい
はＡ４０２のような無機膜でもよい。前者の場合、ハー
ドベークによりパターン端部に傾斜面を形成する。後者
の場合、テーパーエツチングによシバターン端部に傾斜
面を形成する。電気絶縁膜４のヘッド先端側の端でギャ
ップデプスゼロが決まる。膜４は薄くて良いため１、レ
ジンであっても精度良く加工可能である。
はＡ４０２のような無機膜でもよい。前者の場合、ハー
ドベークによりパターン端部に傾斜面を形成する。後者
の場合、テーパーエツチングによシバターン端部に傾斜
面を形成する。電気絶縁膜４のヘッド先端側の端でギャ
ップデプスゼロが決まる。膜４は薄くて良いため１、レ
ジンであっても精度良く加工可能である。
次に第１図（ｄ＞＋ （ｅ）で示されているように高透
磁率薄膜５を形成、パターニングする。高透磁率薄膜５
は上部磁性膜のヘッド先端部と下部磁性膜のバックコア
の２つの部分に分かれる。
磁率薄膜５を形成、パターニングする。高透磁率薄膜５
は上部磁性膜のヘッド先端部と下部磁性膜のバックコア
の２つの部分に分かれる。
従来では大きな段差ができて後、形成、パターニングさ
れた上部磁性膜先端部が、コイル形成前の段差の小さい
段階で形成、パターニングされる。
れた上部磁性膜先端部が、コイル形成前の段差の小さい
段階で形成、パターニングされる。
このため上部磁性膜先端部のパターン精度が通常の技術
でも非常に高く加工できる。この結果ギャップ幅の°絶
対値ずれ、バラツキが小さくすることができた。上部磁
性膜は第１図（ｇ）で示される１１の磁性膜て完全なも
のとなる。上部磁性膜１１はヘッド先端部に出ないため
、さらに精度も要求されないため十分に厚くすることが
できる。
でも非常に高く加工できる。この結果ギャップ幅の°絶
対値ずれ、バラツキが小さくすることができた。上部磁
性膜は第１図（ｇ）で示される１１の磁性膜て完全なも
のとなる。上部磁性膜１１はヘッド先端部に出ないため
、さらに精度も要求されないため十分に厚くすることが
できる。
その結果、磁気抵抗の低下、下地段差に対する磁気特性
の劣化する度合の低下を実現できる。
の劣化する度合の低下を実現できる。
本発明の磁気へ、ラドの製造工程では実施例かられかる
ように磁性膜形成工程数を減らせることができる。実施
例では工程数は３であるが、従来は前述の文献かられか
るように磁性膜工程数は４〜５以上ある。
ように磁性膜形成工程数を減らせることができる。実施
例では工程数は３であるが、従来は前述の文献かられか
るように磁性膜工程数は４〜５以上ある。
本発明は実施例から明らかなように、最も精度の要求さ
れるギャップデプスセロ位置決めとギャップ幅寸法につ
いて製造工程の初期の段階の段差が小さい時期にパター
ン形成終了してしまうので、精度安定性が高い、また、
磁極の２つの部分を磁性膜一層で形成することができた
結果、磁性膜形成、パターニング工程数を減らすことが
できた。
れるギャップデプスセロ位置決めとギャップ幅寸法につ
いて製造工程の初期の段階の段差が小さい時期にパター
ン形成終了してしまうので、精度安定性が高い、また、
磁極の２つの部分を磁性膜一層で形成することができた
結果、磁性膜形成、パターニング工程数を減らすことが
できた。
そのためコストダウン、歩留り向上にも寄与することが
できる。
できる。
第１図（ａ）〜ｒｇ）は本発明の実施例を示す磁気ヘッ
ドの製造工程図である。 １・・・基板 ２・・・下部磁性膜３・・
・ギャップ誘電体膜 ４・・・電気絶縁膜５・・・高透
磁率薄膜 ６・・・第１絶縁層７・・・第１コイル
８・・・第２絶縁層９・・・第２コイル
１０・・・第５絶縁層１１・・・上部磁性膜 以 上
ドの製造工程図である。 １・・・基板 ２・・・下部磁性膜３・・
・ギャップ誘電体膜 ４・・・電気絶縁膜５・・・高透
磁率薄膜 ６・・・第１絶縁層７・・・第１コイル
８・・・第２絶縁層９・・・第２コイル
１０・・・第５絶縁層１１・・・上部磁性膜 以 上
Claims (1)
- （１）複数の高透磁隆薄膜、薄膜コイル、層間絶縁層か
らなる磁気ヘッドにおいて、以下の構成要件を有するこ
とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 ａ）下部磁性膜を形成、パターニングする工程、ｂ）該
下部磁性膜先端にギャップ誘電体膜を形成、パターニン
グする工程、 ｃ）該ギャップ誘電体膜後端部に電気絶縁膜を形成、パ
ターニングする工程、 ｄ）該下部磁性膜上に高透磁率薄膜を形成する工程、 ｅ）該電気絶縁膜上の該高透磁率薄膜をエッチングし取
り除く工程、 ｆ）複数の電気絶縁膜及びコイルを形成する工程、 ｇ）該高透磁率薄膜のエッチングされ分断された部分を
結ぶ上部磁性膜を形成、パターニングする工程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21060485A JPS6271006A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21060485A JPS6271006A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271006A true JPS6271006A (ja) | 1987-04-01 |
Family
ID=16592075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21060485A Pending JPS6271006A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6271006A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02247809A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置及びこれに搭載する薄膜磁気ヘッドとその製造方法並びに情報の書込み・読出方法 |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP21060485A patent/JPS6271006A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02247809A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置及びこれに搭載する薄膜磁気ヘッドとその製造方法並びに情報の書込み・読出方法 |
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