JPS6292215A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6292215A JPS6292215A JP23256585A JP23256585A JPS6292215A JP S6292215 A JPS6292215 A JP S6292215A JP 23256585 A JP23256585 A JP 23256585A JP 23256585 A JP23256585 A JP 23256585A JP S6292215 A JPS6292215 A JP S6292215A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- film
- magnetic flux
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3906—Details related to the use of magnetic thin film layers or to their effects
- G11B5/3916—Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide
- G11B5/3919—Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide the guide being interposed in the flux path
- G11B5/3922—Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide the guide being interposed in the flux path the read-out elements being disposed in magnetic shunt relative to at least two parts of the flux guide structure
- G11B5/3925—Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide the guide being interposed in the flux path the read-out elements being disposed in magnetic shunt relative to at least two parts of the flux guide structure the two parts being thin films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気へ〜ドの構造および製造方法に関する。
本発明は、磁気抵抗効果薄膜および磁気へ・ノド先端か
ら磁気抵抗効果薄膜へ信号磁束を導びき。
ら磁気抵抗効果薄膜へ信号磁束を導びき。
ざらに磁気抵抗効果薄膜からこの信号磁束を磁気へラド
先端へ戻す之めの軟磁性薄膜で形成される磁束ガイドか
ら成る磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗効果薄膜よりも磁
気ヘッド先端側にある磁束ガ □イドは磁気抵抗効果
薄膜の一方の面の側に、中た磁気抵抗効果薄膜よりも磁
気ヘッド後部側にある磁束ガイドは磁気抵抗効果薄膜の
もう一方の面の側に配置し、かつ、磁気抵抗効果薄膜の
下地となる絶縁膜としてバイアススパッタ法によって平
坦化し九無機膜を用いろことによって、磁束ガイドを流
れる信号磁束な有効に磁気抵抗効果薄膜に導びいて磁気
へ９ドの再生効率を向上させるものである。
先端へ戻す之めの軟磁性薄膜で形成される磁束ガイドか
ら成る磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗効果薄膜よりも磁
気ヘッド先端側にある磁束ガ □イドは磁気抵抗効果
薄膜の一方の面の側に、中た磁気抵抗効果薄膜よりも磁
気ヘッド後部側にある磁束ガイドは磁気抵抗効果薄膜の
もう一方の面の側に配置し、かつ、磁気抵抗効果薄膜の
下地となる絶縁膜としてバイアススパッタ法によって平
坦化し九無機膜を用いろことによって、磁束ガイドを流
れる信号磁束な有効に磁気抵抗効果薄膜に導びいて磁気
へ９ドの再生効率を向上させるものである。
従来の磁束ガイドセよび磁気抵抗効果薄膜を用い之磁気
ヘッドの構造は工ＫＦｉＢ Ｔｒαｎｓ、 Ｍαｇ−
τｏｌ。
ヘッドの構造は工ＫＦｉＢ Ｔｒαｎｓ、 Ｍαｇ−
τｏｌ。
１７ ／１６６ ｐｐ ２８８４〜２８８９、ある
いは、日本応用磁気学会第３９回研究会資料 ｐｐ６１
〜７２のように、磁気抵抗薄膜の一方の面の側圧の入磁
束ガイドがあっ之。
いは、日本応用磁気学会第３９回研究会資料 ｐｐ６１
〜７２のように、磁気抵抗薄膜の一方の面の側圧の入磁
束ガイドがあっ之。
〔発明ｈ′−解決しようとする問題点および目的〕Ｌ、
かじ、前述の従来技術では第４図に示す様に磁気記録媒
体から吸い上げた信号磁束４０９のうち一部の磁束４１
０は磁気抵抗効果薄膜４０８を通って再生信号となるが
、磁気抵抗効果薄膜４０８を通らずに磁束ガイドの側面
４０６から４０７へ流れる磁束４１１もあり、この磁束
は再生信号に寄与せず、再生効率に無駄があるという問
題点な有する。
かじ、前述の従来技術では第４図に示す様に磁気記録媒
体から吸い上げた信号磁束４０９のうち一部の磁束４１
０は磁気抵抗効果薄膜４０８を通って再生信号となるが
、磁気抵抗効果薄膜４０８を通らずに磁束ガイドの側面
４０６から４０７へ流れる磁束４１１もあり、この磁束
は再生信号に寄与せず、再生効率に無駄があるという問
題点な有する。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、一方の磁束ガイドの側面からも
う一方の磁束ガイドの側面を見込む見込入角ナベでの中
に磁気抵抗効果薄膜が存在し、磁束ガイドｈ”−記録媒
体から吸い上げ次磁束なすべて磁気抵抗効果薄膜に流そ
うとし、再生効率の良い磁気へｌドを提供することにあ
る。
の目的とするところは、一方の磁束ガイドの側面からも
う一方の磁束ガイドの側面を見込む見込入角ナベでの中
に磁気抵抗効果薄膜が存在し、磁束ガイドｈ”−記録媒
体から吸い上げ次磁束なすべて磁気抵抗効果薄膜に流そ
うとし、再生効率の良い磁気へｌドを提供することにあ
る。
本発明の磁気へ一部 ｈ’は、
（１） ＦＢ磁気抵抗効果薄膜導体薄模、絶縁模、軟
磁性薄膜な積層して成る曝気ヘッドで、磁路な構成する
前記軟磁性薄膜の一部ｈＺ除去されており、該除去部に
前記磁気抵抗効果薄膜が配置されている磁気ヘッドにお
いて、前記除去部をはさんで前記磁気抵抗効果薄膜より
磁気ヘッド先端側【ある前記軟磁性薄膜が前記磁気抵抗
効果薄膜の一方の面の側圧あり、また、前記除去部をは
さんで前記磁気抵抗効果薄膜よね磁気ヘッド後部側にあ
る前記軟磁性嘆け、前記磁気抵抗効果薄膜のもう一方の
面の側にあることを特徴としており、（２） ［３気
抵抗効果薄膜の下地となる絶縁膜として、バイアススパ
ッタ法によって形成した無機膜を用いることｔＷ徴とす
る。
磁性薄膜な積層して成る曝気ヘッドで、磁路な構成する
前記軟磁性薄膜の一部ｈＺ除去されており、該除去部に
前記磁気抵抗効果薄膜が配置されている磁気ヘッドにお
いて、前記除去部をはさんで前記磁気抵抗効果薄膜より
磁気ヘッド先端側【ある前記軟磁性薄膜が前記磁気抵抗
効果薄膜の一方の面の側圧あり、また、前記除去部をは
さんで前記磁気抵抗効果薄膜よね磁気ヘッド後部側にあ
る前記軟磁性嘆け、前記磁気抵抗効果薄膜のもう一方の
面の側にあることを特徴としており、（２） ［３気
抵抗効果薄膜の下地となる絶縁膜として、バイアススパ
ッタ法によって形成した無機膜を用いることｔＷ徴とす
る。
以下、第１図から第３図までを用いて本発明の磁気ヘッ
ドの構造と製造方法を説明すると、第１図は本発明の磁
気ヘッドの主要部の断面図であり、填２図の平面図のＡ
−Ａ’の部分の断面を示している。まｔ、第２図では
絶縁膜１０３． １０５゜１０８ 、１０９ 、 ＋１
１は省いである。
ドの構造と製造方法を説明すると、第１図は本発明の磁
気ヘッドの主要部の断面図であり、填２図の平面図のＡ
−Ａ’の部分の断面を示している。まｔ、第２図では
絶縁膜１０３． １０５゜１０８ 、１０９ 、 ＋１
１は省いである。
構造から説明してゐく、記録媒体からの信号磁束は下磁
極１０２、前部上磁極１０９、後部上磁極１０４、およ
び磁気抵抗効果素子１０６で構成される磁路を流れる。
極１０２、前部上磁極１０９、後部上磁極１０４、およ
び磁気抵抗効果素子１０６で構成される磁路を流れる。
この磁束を磁気抵抗効果素子１０６で検出するものであ
る。磁気抵抗効果素子１０６のバイアスは磁気抵抗効果
素子上に形成し次導体１０７の形状によって磁気抵抗効
果素子１０６を流れる電流の向きなかえる、いわゆるバ
ーバボール法によって印加している。
る。磁気抵抗効果素子１０６のバイアスは磁気抵抗効果
素子上に形成し次導体１０７の形状によって磁気抵抗効
果素子１０６を流れる電流の向きなかえる、いわゆるバ
ーバボール法によって印加している。
続いて製造方法な説明する。
基板１０１としてけ鳩Ｏ５・Ｔｉｃの表面にｋｏｓが、
１０μｍ厚程度付いているものを用い友。この他に非出
性基板としては結晶化ガラス、サファイヤなど、ま次磁
性基板としてはフェライトなどを用いることＩ！ＩＣで
きる。磁性基板を用い友場合には、この磁性基板で下磁
極１０２の機能を代用することができ、工種短縮につな
がる。
１０μｍ厚程度付いているものを用い友。この他に非出
性基板としては結晶化ガラス、サファイヤなど、ま次磁
性基板としてはフェライトなどを用いることＩ！ＩＣで
きる。磁性基板を用い友場合には、この磁性基板で下磁
極１０２の機能を代用することができ、工種短縮につな
がる。
次に下磁極１０２としてパーマロイをめっき法で２μｍ
寸は形成し７ｔｏ下磁極１０２としてはスパッタ法で形
成し几パーマロイ、センダスト、ｃｏ系非晶質合金等も
利用できる。
寸は形成し７ｔｏ下磁極１０２としてはスパッタ法で形
成し几パーマロイ、センダスト、ｃｏ系非晶質合金等も
利用できる。
続いて、Ｓｊ ０２にスパッタ法でけ着させ、ＣＦ４ガ
スのプラズマエツチングによってパターンを形成して第
１層絶縁膜１０３を形成した。
スのプラズマエツチングによってパターンを形成して第
１層絶縁膜１０３を形成した。
次に後部上田＠１０４としてパーマロイをめっき法によ
って２總けけ形成し之。
って２總けけ形成し之。
続いて磁気抵抗効果素子１０６の下地となる第２絶縁膜
を形成するが、この方法を第３図を用いて説明する。
を形成するが、この方法を第３図を用いて説明する。
第３図社）は上述のようにして後部上磁極１０４まで形
成し友様子を示している。次如基板に小さなバイアスを
印加しなりｃらスパッタを行うバイアススパッタ法によ
って５ｆｆｌｏ２１０５ Ｉｋ寸着させる。
成し友様子を示している。次如基板に小さなバイアスを
印加しなりｃらスパッタを行うバイアススパッタ法によ
って５ｆｆｌｏ２１０５ Ｉｋ寸着させる。
この時、下地の段差の高さけＳｊＯ！１０５の表面でも
ほとんどかわらないｈｔ、下地段差部でのマイクロクラ
ックはなく 、 ５ｊＯ２１０５のステップカバレージ
は改善されている。
ほとんどかわらないｈｔ、下地段差部でのマイクロクラ
ックはなく 、 ５ｊＯ２１０５のステップカバレージ
は改善されている。
続いて、第３図（６）の場合に比べて大きなバイアスを
印加しながらスパッタな行うバイアススパッタ法でバイ
アスの大きざな適当な大きさとすることによって５ｉｏ
２なざらに付着させようとすると、Ｂｉ ０２１０５表
面な平坦化させることができる。
印加しながらスパッタな行うバイアススパッタ法でバイ
アスの大きざな適当な大きさとすることによって５ｉｏ
２なざらに付着させようとすると、Ｂｉ ０２１０５表
面な平坦化させることができる。
続いて、＄気抵抗効果素子１０６と後部上磁極１０４の
オーバーラツプ部の間隔ｔを決める比めに逆スパツタを
行う（第３図傾）、本実施例でけｔけ０．４μｍとした
。
オーバーラツプ部の間隔ｔを決める比めに逆スパツタを
行う（第３図傾）、本実施例でけｔけ０．４μｍとした
。
最後に、第３図（ｇ）に示すように磁気ヘッド先端部？
エツチングして、第２層絶縁膜１０５の形成を終了する
。
エツチングして、第２層絶縁膜１０５の形成を終了する
。
このよう忙して形成し７を第２層絶縁膜１０５の上に磁
気抵抗効果素子１０６す形成する。本実施例ではパーマ
ロイを磁気抵抗効果素子長手方向忙約７゜Ｏｅの磁界を
印加しながら５００λ蒸着法で付着させ次。この直後、
同一の真空装置内でＡｕを約５ａａａに付着させる。こ
のｋｕとパーマロイの２層膜な磁気抵抗効果素子の形状
にイオンｊ ＩＪソング法形成する。引キ続いて、バー
バボールパターン１０７ ヲパーマｐイ上のＡｔｚのみ
をイオンミリングで形成する。ソノ後、ＭＯ／Ａ’Ｌ／
ＭＯの積層膜をリフトオフすることによって引出線２０
２を形成する。パーバボール１０７と引出線２０２け接
合部２０１で接合されている。
気抵抗効果素子１０６す形成する。本実施例ではパーマ
ロイを磁気抵抗効果素子長手方向忙約７゜Ｏｅの磁界を
印加しながら５００λ蒸着法で付着させ次。この直後、
同一の真空装置内でＡｕを約５ａａａに付着させる。こ
のｋｕとパーマロイの２層膜な磁気抵抗効果素子の形状
にイオンｊ ＩＪソング法形成する。引キ続いて、バー
バボールパターン１０７ ヲパーマｐイ上のＡｔｚのみ
をイオンミリングで形成する。ソノ後、ＭＯ／Ａ’Ｌ／
ＭＯの積層膜をリフトオフすることによって引出線２０
２を形成する。パーバボール１０７と引出線２０２け接
合部２０１で接合されている。
次にＢｉ ＯｘをバイアススパッタすることによってＱ
、３μｍ厚の第３層絶縁膜１０８を形成する。
、３μｍ厚の第３層絶縁膜１０８を形成する。
次に磁気ヘッドのギャップ長な決める几めに第４層絶縁
膜１０９をα５ ｗｍ厚に形成する。このときのバタン
形状にはリフトオフ法を用いている。
膜１０９をα５ ｗｍ厚に形成する。このときのバタン
形状にはリフトオフ法を用いている。
第３層絶縁膜１０８と第４層絶縁膜１０９によって磁気
ヘッドのギャップ長が決まり、本実施例では０．８μ毒
とし友。
ヘッドのギャップ長が決まり、本実施例では０．８μ毒
とし友。
続いて、めっき法によって２μｍ厚のパーマロイで形成
される前部上磁極を形成する。
される前部上磁極を形成する。
このように形成され７ｌ−ｔｉ１１気ヘッドの上にはオ
ーバーコート膜１１３が２ｏ３ スパ・ツタ膜によって
形成され、この後、ＶＢ気ヘッドのスライダーを形成す
る切断、研削、研磨等の工程に移り、磁気ヘッド先端部
１１４１！ｌ”−形成される。
ーバーコート膜１１３が２ｏ３ スパ・ツタ膜によって
形成され、この後、ＶＢ気ヘッドのスライダーを形成す
る切断、研削、研磨等の工程に移り、磁気ヘッド先端部
１１４１！ｌ”−形成される。
本実施例の磁気ヘッドの前部上１極１１０．後部上磁極
１ａａ、および磁気抵抗効果素子１０６の配置によって
、前部上磁極１１０から後部上磁極１０４へ流れようと
する再生磁束、あるいけ逆に、後部上磁極１０４から前
部上磁極１１０へ流れようとする再生磁束のすべて１．
＝ 磁気抵抗効果素子を通ろうとし！：磁極１０４．
１１０を流れる信号磁束な有効に使うことができ再生効
率を向上させることができる。
１ａａ、および磁気抵抗効果素子１０６の配置によって
、前部上磁極１１０から後部上磁極１０４へ流れようと
する再生磁束、あるいけ逆に、後部上磁極１０４から前
部上磁極１１０へ流れようとする再生磁束のすべて１．
＝ 磁気抵抗効果素子を通ろうとし！：磁極１０４．
１１０を流れる信号磁束な有効に使うことができ再生効
率を向上させることができる。
以上述べたように本発明によれば、Ｓ束ガイドの段差を
バイアススパッタ法によって形成した無機率によって平
坦化し、その上に磁気抵抗効果薄膜な形成し、さらにそ
の上にもう一方の磁束ガイドを形成すること尾よって″
、特性の良い磁気抵抗効果膜と再生効率の良い磁気ヘッ
ドを提供できるという効果を有する。
バイアススパッタ法によって形成した無機率によって平
坦化し、その上に磁気抵抗効果薄膜な形成し、さらにそ
の上にもう一方の磁束ガイドを形成すること尾よって″
、特性の良い磁気抵抗効果膜と再生効率の良い磁気ヘッ
ドを提供できるという効果を有する。
第１図は本発明の磁気ヘッドの主要部の断面図であり、
ｌＥ２図は本発明の磁気ヘッドの主要部の平面図である
。第３図（ロ））〜（ｇ）は、バイアススパ、Ｖり法に
よる磁束ガイドの段差を平坦化する工程図である。１４
４図は従来の磁気ヘッドの主要部の断面図である。 １０１・・・・・・基板 １０２・・・・・・軟磁性膜 １０３・・・・・・第１層絶縁膜 １０４・・・・・・軟磁性膜 １０５・・・・・・第２層絶縁膜 １０６・・・・・・磁気抵抗効果薄膜 １０７・・・・・・導体薄膜 １０８・・・・・・第３層絶縁膜 １０９・・・・・・第４ Ｍ絶縁膜 １１０・・・・・・軟磁性膜 １１１・・・・・・軟白性膜側面 １１２・・・・・・軟白性膜側面 １１３・・・・・・オーバーコート膜 １１４・・・・・・磁気ヘッド先端 ２０１・・・・・・電極接合部 ２０２・・・・・・引出線 ２０３・・・・・・端子 ｔ・・・・・・第２層絶縁膜属人 ４０１・・・・・・基板 ４０２・・・・・・軟磁性膜 ４０３・・・・・・絶縁膜 ４０４・・・・・・軟磁性膜 ４０５・・・・・・軟磁性膜 ４０６・・・・・・軟磁性噂側面 ４０７・・・・・・軟磁性膜側面 ４０８・・・・・・磁気抵抗効果薄膜 ４０９・・・・・・磁束 ４１０・・・・・・磁束 ４１１・・・・・・磁束 以 上出
壓大 株式会社 諏訪精工舎 Ａ′ ノ匠坑へ、１．！−，す１邦斗ｊη３口第２図 （ｂ） Ｃシ イ多区孝Ｌ・３．ト・・ψ！塾Ｎ′Ｊ−コ＝り岨翌−図
（くジ （ｅ−〕 Ａ４４岨ヘンし／１嗜めべｔ工Ａ図 笛 つ Ｍ
ｌＥ２図は本発明の磁気ヘッドの主要部の平面図である
。第３図（ロ））〜（ｇ）は、バイアススパ、Ｖり法に
よる磁束ガイドの段差を平坦化する工程図である。１４
４図は従来の磁気ヘッドの主要部の断面図である。 １０１・・・・・・基板 １０２・・・・・・軟磁性膜 １０３・・・・・・第１層絶縁膜 １０４・・・・・・軟磁性膜 １０５・・・・・・第２層絶縁膜 １０６・・・・・・磁気抵抗効果薄膜 １０７・・・・・・導体薄膜 １０８・・・・・・第３層絶縁膜 １０９・・・・・・第４ Ｍ絶縁膜 １１０・・・・・・軟磁性膜 １１１・・・・・・軟白性膜側面 １１２・・・・・・軟白性膜側面 １１３・・・・・・オーバーコート膜 １１４・・・・・・磁気ヘッド先端 ２０１・・・・・・電極接合部 ２０２・・・・・・引出線 ２０３・・・・・・端子 ｔ・・・・・・第２層絶縁膜属人 ４０１・・・・・・基板 ４０２・・・・・・軟磁性膜 ４０３・・・・・・絶縁膜 ４０４・・・・・・軟磁性膜 ４０５・・・・・・軟磁性膜 ４０６・・・・・・軟磁性噂側面 ４０７・・・・・・軟磁性膜側面 ４０８・・・・・・磁気抵抗効果薄膜 ４０９・・・・・・磁束 ４１０・・・・・・磁束 ４１１・・・・・・磁束 以 上出
壓大 株式会社 諏訪精工舎 Ａ′ ノ匠坑へ、１．！−，す１邦斗ｊη３口第２図 （ｂ） Ｃシ イ多区孝Ｌ・３．ト・・ψ！塾Ｎ′Ｊ−コ＝り岨翌−図
（くジ （ｅ−〕 Ａ４４岨ヘンし／１嗜めべｔ工Ａ図 笛 つ Ｍ
Claims (2)
- （１）磁気抵抗効果薄膜、導体薄膜、絶縁膜、軟磁性薄
膜を積層して成る磁気ヘッドで、磁路を構成する前記軟
磁性薄膜の一部が除去されており、該除去部に前記磁気
抵抗効果薄膜が配置されている磁気ヘッドにおいて、前
記除去部をはさんで前記磁気抵抗効果薄膜より磁気ヘッ
ド先端側にある前記軟磁性薄膜が前記磁気抵抗効果薄膜
の一方の面の側にあり、また、前記除去部をはさんで前
記磁気抵抗効果薄膜より磁気ヘッド後部側にある前記軟
磁性薄膜は、前記磁気抵抗効果薄膜のもう一方の面の側
にあることを特徴とする磁気ヘッド。 - （２）磁気抵抗効果薄膜の下地となる絶縁膜としてバイ
アススパッタ法によって形成した無機膜を用いることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23256585A JPS6292215A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23256585A JPS6292215A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6292215A true JPS6292215A (ja) | 1987-04-27 |
Family
ID=16941328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23256585A Pending JPS6292215A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6292215A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02247809A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置及びこれに搭載する薄膜磁気ヘッドとその製造方法並びに情報の書込み・読出方法 |
| US5095397A (en) * | 1989-08-04 | 1992-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head of embodied recording and reproducing transducer type |
| US5097372A (en) * | 1989-08-04 | 1992-03-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head with wide recording area and narrow reproducing area |
| US5641557A (en) * | 1994-08-29 | 1997-06-24 | Nec Corporation | Magnetoresistive element |
| US5858508A (en) * | 1994-07-28 | 1999-01-12 | Custom Plastics Molding, Inc. | Method of forming antislip surfaces on thermoformed products |
-
1985
- 1985-10-18 JP JP23256585A patent/JPS6292215A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02247809A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置及びこれに搭載する薄膜磁気ヘッドとその製造方法並びに情報の書込み・読出方法 |
| US5095397A (en) * | 1989-08-04 | 1992-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head of embodied recording and reproducing transducer type |
| US5097372A (en) * | 1989-08-04 | 1992-03-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head with wide recording area and narrow reproducing area |
| US5858508A (en) * | 1994-07-28 | 1999-01-12 | Custom Plastics Molding, Inc. | Method of forming antislip surfaces on thermoformed products |
| US5641557A (en) * | 1994-08-29 | 1997-06-24 | Nec Corporation | Magnetoresistive element |
| US5876843A (en) * | 1994-08-29 | 1999-03-02 | Nec Corporation | Magnetoresistive element |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4190872A (en) | Thin film inductive transducer | |
| US6304415B1 (en) | Magnetic head | |
| JP2000285409A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法および磁気ヘッド | |
| JPS6292215A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2002230716A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JP3499490B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS6142716A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH07114717A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH026491Y2 (ja) | ||
| JPH0652517A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS6243813A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS62114113A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS6247812A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS61267914A (ja) | 磁気抵抗効果ヘツドの製造方法 | |
| JPH054088Y2 (ja) | ||
| JP2560926B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2816150B2 (ja) | 複合型磁気ヘッド | |
| JPH05101323A (ja) | 磁気ヘツド装置 | |
| JPH08263811A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH05266421A (ja) | シングルドメイン磁気素子を具える複合構造体の製造方法及び該複合構造体を含む薄膜磁気ヘッド | |
| JPH11120514A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH07114712A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS6266414A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH05101336A (ja) | 磁気ヘツド装置 | |
| JPH0744824A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド及びその製造方法 |