JPH05101336A - 磁気ヘツド装置 - Google Patents
磁気ヘツド装置Info
- Publication number
- JPH05101336A JPH05101336A JP29246391A JP29246391A JPH05101336A JP H05101336 A JPH05101336 A JP H05101336A JP 29246391 A JP29246391 A JP 29246391A JP 29246391 A JP29246391 A JP 29246391A JP H05101336 A JPH05101336 A JP H05101336A
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- JP
- Japan
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- thin film
- magnetic
- coil
- film portion
- magnetic thin
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 非磁性のスライダ1の空気流出端側に、薄膜
でコイルの半分(コイル用パターン2)を形成し、その
上に第1絶縁層3及び磁性薄膜部4を形成する。そし
て、前記磁性薄膜部4上に第2絶縁層5を形成した後、
残りの半分のコイルをボンディングマシンを用いて例え
ば金線7で形成する。これにより、磁性薄膜部4の周囲
に実質的にコイルが巻回されたことになる。その後、前
記磁性薄膜部4の下部にギャップ層6を形成し、該ギャ
ップ層6及び前記磁性薄膜部4の上部をヘッドコア8で
連結する。 【効果】 コイル部を自動化技術を用いて構成すること
ができるので、コイルを手巻きする必要がなく、当該磁
気ヘッド装置の製造が容易である。またヘッドコアの断
面積が大きいので、当該磁気ヘッド装置の磁気抵抗が従
来の薄膜ヘッドに比較して小さくなり、感度が上昇す
る。
でコイルの半分(コイル用パターン2)を形成し、その
上に第1絶縁層3及び磁性薄膜部4を形成する。そし
て、前記磁性薄膜部4上に第2絶縁層5を形成した後、
残りの半分のコイルをボンディングマシンを用いて例え
ば金線7で形成する。これにより、磁性薄膜部4の周囲
に実質的にコイルが巻回されたことになる。その後、前
記磁性薄膜部4の下部にギャップ層6を形成し、該ギャ
ップ層6及び前記磁性薄膜部4の上部をヘッドコア8で
連結する。 【効果】 コイル部を自動化技術を用いて構成すること
ができるので、コイルを手巻きする必要がなく、当該磁
気ヘッド装置の製造が容易である。またヘッドコアの断
面積が大きいので、当該磁気ヘッド装置の磁気抵抗が従
来の薄膜ヘッドに比較して小さくなり、感度が上昇す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド装置に関する
ものであり、特に製造が容易でかつ高感度な磁気ヘッド
装置に関するものである。
ものであり、特に製造が容易でかつ高感度な磁気ヘッド
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電算機等の磁気記録再生装置に用いられ
る磁気ヘッド装置は、従来より種々提案されているが、
コイル及びコアの製造方法の観点からは、ヘッドコアに
機械的にコイルを巻回する方式(機械的磁気ヘッド装
置)と、薄膜によりコイル及びコアを形成する方式(薄
膜磁気ヘッド装置)とに分類できる。
る磁気ヘッド装置は、従来より種々提案されているが、
コイル及びコアの製造方法の観点からは、ヘッドコアに
機械的にコイルを巻回する方式(機械的磁気ヘッド装
置)と、薄膜によりコイル及びコアを形成する方式(薄
膜磁気ヘッド装置)とに分類できる。
【0003】機械的磁気ヘッド装置は、例えばフェライ
ト等の磁性材料により成型されたスライダの空気流出端
側(以下、後部という)にC字型のヘッドコアを取り付
け、該コアにコイルを巻回するものである。また薄膜磁
気ヘッド装置は、例えば非磁性材料のスライダの後部
に、薄膜製造技術を用いて、薄膜ヘッドを形成するもの
である。
ト等の磁性材料により成型されたスライダの空気流出端
側(以下、後部という)にC字型のヘッドコアを取り付
け、該コアにコイルを巻回するものである。また薄膜磁
気ヘッド装置は、例えば非磁性材料のスライダの後部
に、薄膜製造技術を用いて、薄膜ヘッドを形成するもの
である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記した機械的ヘッド
では、磁気抵抗が小さく高感度であるが、ヘッドコアに
コイルを巻回しなければならない。このコイルの巻回に
は極めて精密技術を要し、現状では、人手に頼らなけれ
ばならない。このために、当該機械的ヘッドの歩留まり
が悪く、その製造が面倒である。
では、磁気抵抗が小さく高感度であるが、ヘッドコアに
コイルを巻回しなければならない。このコイルの巻回に
は極めて精密技術を要し、現状では、人手に頼らなけれ
ばならない。このために、当該機械的ヘッドの歩留まり
が悪く、その製造が面倒である。
【0005】一方、薄膜ヘッドでは、その製造中に人手
に頼らざるを得ない工程はあまりなく、製造は容易であ
るが、磁気抵抗が大きいので低感度である。
に頼らざるを得ない工程はあまりなく、製造は容易であ
るが、磁気抵抗が大きいので低感度である。
【0006】本発明は、前述の問題点を解決するために
なされたものであり、その目的は、製造が容易でかつ高
感度の磁気ヘッド装置を提供することにある。
なされたものであり、その目的は、製造が容易でかつ高
感度の磁気ヘッド装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記の問題点を解決する
ために、本発明は、非磁性スライダの後部に、薄膜又は
線材でコイルの半分を形成し、その上に第1絶縁層を介
して磁性薄膜部を形成した後、該磁性薄膜部上に、第2
絶縁層を介して残りの半分のコイルを薄膜又は線材で形
成し、そして、前記磁性薄膜部の記録媒体対向面側(以
下、下部という)にギャップ層を形成した後、該ギャッ
プ層及び前記磁性薄膜部の記録媒体対向面側と反対側
(以下、上部という)をヘッドコアで連結するようにし
た点に特徴がある。
ために、本発明は、非磁性スライダの後部に、薄膜又は
線材でコイルの半分を形成し、その上に第1絶縁層を介
して磁性薄膜部を形成した後、該磁性薄膜部上に、第2
絶縁層を介して残りの半分のコイルを薄膜又は線材で形
成し、そして、前記磁性薄膜部の記録媒体対向面側(以
下、下部という)にギャップ層を形成した後、該ギャッ
プ層及び前記磁性薄膜部の記録媒体対向面側と反対側
(以下、上部という)をヘッドコアで連結するようにし
た点に特徴がある。
【0008】
【作用】上記の構成によれば、コイル部を自動化技術を
用いて構成することができる。またヘッドコアの断面積
が大きいので、当該磁気ヘッド装置の磁気抵抗が小さく
なる。
用いて構成することができる。またヘッドコアの断面積
が大きいので、当該磁気ヘッド装置の磁気抵抗が小さく
なる。
【0009】
【実施例】以下に図面を参照して、本発明を詳細に説明
する。図1は本発明の一実施例の要部拡大断面図であ
る。同図においては、スライダ1、並びにヘッドコア
8、高飽和磁束密度材8A及び8Bは、断面では示され
ていない。同図において、符号1は非磁性のスライダ、
符号2はコイル用パターン、符号3は第1絶縁層、符号
4は磁性薄膜部、符号5は第2絶縁層、符号6はギャッ
プ層、符号7は金線、符号8はヘッドコアである。符号
8A及び8Bは高飽和磁束密度材である。
する。図1は本発明の一実施例の要部拡大断面図であ
る。同図においては、スライダ1、並びにヘッドコア
8、高飽和磁束密度材8A及び8Bは、断面では示され
ていない。同図において、符号1は非磁性のスライダ、
符号2はコイル用パターン、符号3は第1絶縁層、符号
4は磁性薄膜部、符号5は第2絶縁層、符号6はギャッ
プ層、符号7は金線、符号8はヘッドコアである。符号
8A及び8Bは高飽和磁束密度材である。
【0010】以上の構造を有する本発明の一実施例の製
造手順を図2ないし図7を用いて説明する。まず図2に
おいて、非磁性材料により形成されたスライダ1は、そ
の記録媒体対向面(以下、底面という)に複数のレール
1Aを備えていて、その走行方向Fの下流側端部、すな
わちその後部にヘッド形成位置1Bが設定される。な
お、図2においては、スライダ1の走行方向F上流側端
部底面に形成されるテーパ部は省略されている。
造手順を図2ないし図7を用いて説明する。まず図2に
おいて、非磁性材料により形成されたスライダ1は、そ
の記録媒体対向面(以下、底面という)に複数のレール
1Aを備えていて、その走行方向Fの下流側端部、すな
わちその後部にヘッド形成位置1Bが設定される。な
お、図2においては、スライダ1の走行方向F上流側端
部底面に形成されるテーパ部は省略されている。
【0011】次に前記ヘッド形成位置1B上に、図3に
示されるように、コイル用パターン2を形成する。この
コイル用パターン2は複数のストリップラインであり、
各ラインの両端には幅広の端子部2Aが設けられる。前
記コイル用パターン2の形成は、具体的には、前記パタ
ーン形成位置に1〜2[μm]厚の銅箔をスパッタ又は
メッキ等で形成し、その上にフォトレジスト等でパター
ンを形成し、そしてエッチングを施すことにより行われ
ることができる。
示されるように、コイル用パターン2を形成する。この
コイル用パターン2は複数のストリップラインであり、
各ラインの両端には幅広の端子部2Aが設けられる。前
記コイル用パターン2の形成は、具体的には、前記パタ
ーン形成位置に1〜2[μm]厚の銅箔をスパッタ又は
メッキ等で形成し、その上にフォトレジスト等でパター
ンを形成し、そしてエッチングを施すことにより行われ
ることができる。
【0012】なお、端子部2Aに相当する部分のみをエ
ッチングで形成し、左右の端子部2AをIC作成機であ
るボンディングマシンを用いて金線、アルミニウム線等
で接続し、実質的に図3と同様のパターンを形成しても
良い。前記線材の線径は、例えば10[μm]である。
ッチングで形成し、左右の端子部2AをIC作成機であ
るボンディングマシンを用いて金線、アルミニウム線等
で接続し、実質的に図3と同様のパターンを形成しても
良い。前記線材の線径は、例えば10[μm]である。
【0013】コイル用パターン2が形成されたならば、
図4に示されるように、前記コイル用パターン2上に、
端子部2Aを残すようにして、SiO2 又はガラス等の
スパッタで第1絶縁層3を形成する。膜厚は1〜2[μ
m]が望ましい。
図4に示されるように、前記コイル用パターン2上に、
端子部2Aを残すようにして、SiO2 又はガラス等の
スパッタで第1絶縁層3を形成する。膜厚は1〜2[μ
m]が望ましい。
【0014】次に図5に示されるように、前記第1絶縁
層3上にセンダストあるいはパーマロイ等をスパッタあ
るいはメッキして、磁性薄膜部4を形成する。膜厚は1
[μm]以上、望ましくは2〜8[μm]である。図5
においては、磁性薄膜部4は、その上部及び下部がスラ
イダ1に直接接触するように、前記コイル用パターン2
のストリップラインと垂直な方向に、前記第1絶縁層3
よりも突出するように行われているが、第1絶縁層3が
縦方向に比較的長く形成されていれば、磁性薄膜部4の
上部及び下部はスライダ1に直接接触しなくても良い。
層3上にセンダストあるいはパーマロイ等をスパッタあ
るいはメッキして、磁性薄膜部4を形成する。膜厚は1
[μm]以上、望ましくは2〜8[μm]である。図5
においては、磁性薄膜部4は、その上部及び下部がスラ
イダ1に直接接触するように、前記コイル用パターン2
のストリップラインと垂直な方向に、前記第1絶縁層3
よりも突出するように行われているが、第1絶縁層3が
縦方向に比較的長く形成されていれば、磁性薄膜部4の
上部及び下部はスライダ1に直接接触しなくても良い。
【0015】なお、前記磁性薄膜部4の下部端はスライ
ダ1の底面と一致しており、トラック幅を制御するため
に、幅狭に形成されている。
ダ1の底面と一致しており、トラック幅を制御するため
に、幅狭に形成されている。
【0016】次に、図6に示されるように、磁性薄膜部
4の下部にギャップ層6を形成する。このギャップ層6
は、SiO2 又はガラス等のスパッタで1[μm]以
下、望ましくは0.3〜0.6[μm]の厚みで形成さ
れる。このギャップ層6は、樹脂で形成されても良い。
4の下部にギャップ層6を形成する。このギャップ層6
は、SiO2 又はガラス等のスパッタで1[μm]以
下、望ましくは0.3〜0.6[μm]の厚みで形成さ
れる。このギャップ層6は、樹脂で形成されても良い。
【0017】また磁性薄膜部4の、コイル用パターン2
に対応する部分に、第2絶縁層5を形成する。この第2
絶縁層5は、第1絶縁層3と同様にSiO2又はガラス
等のスパッタで例えば1〜2[μm]程度の膜厚で形成
され、かつ磁性薄膜部4の上部4B及びギャップ層6が
露出するように行われる。なおこの例では、第2絶縁層
5は、符号4Cで示された、磁性薄膜部4の、ギャップ
層6の形成部上部が露出するように形成されているが、
この露出部が形成されないように、すなわちギャップ層
6の上端部から第2絶縁層5を形成しても良い。
に対応する部分に、第2絶縁層5を形成する。この第2
絶縁層5は、第1絶縁層3と同様にSiO2又はガラス
等のスパッタで例えば1〜2[μm]程度の膜厚で形成
され、かつ磁性薄膜部4の上部4B及びギャップ層6が
露出するように行われる。なおこの例では、第2絶縁層
5は、符号4Cで示された、磁性薄膜部4の、ギャップ
層6の形成部上部が露出するように形成されているが、
この露出部が形成されないように、すなわちギャップ層
6の上端部から第2絶縁層5を形成しても良い。
【0018】次に、左右の端子部2Aを、ボンディング
マシンを用いて、例えば10[μm]径の金線7で順次
接続する。この接続により、磁性薄膜部4の周囲に実質
的にコイルが巻回されたことになる。なお、金線を用い
る代わりにアルミニウム線を用いても良く、また金線、
アルミニウム線等の導線を用いて接続する代りに、コイ
ル用パターン2と同様の手法により、薄膜で左右の端子
部2Aを接続しても良い。
マシンを用いて、例えば10[μm]径の金線7で順次
接続する。この接続により、磁性薄膜部4の周囲に実質
的にコイルが巻回されたことになる。なお、金線を用い
る代わりにアルミニウム線を用いても良く、また金線、
アルミニウム線等の導線を用いて接続する代りに、コイ
ル用パターン2と同様の手法により、薄膜で左右の端子
部2Aを接続しても良い。
【0019】なお、前記金線7は、表面絶縁が施されて
いるものであれば密着巻きもできる。この絶縁被覆線
は、高圧電流によりカットされるので、先端部は剥離状
態となっており、ボンディングに都合が良い。
いるものであれば密着巻きもできる。この絶縁被覆線
は、高圧電流によりカットされるので、先端部は剥離状
態となっており、ボンディングに都合が良い。
【0020】その後、図7に示されたような、フェライ
ト等の磁性材料により形成されたC字状のヘッドコア8
を、前記磁性薄膜部4の上部4B及びギャップ層6に溶
着する。ここで、ヘッドコア8の溶着面に高飽和磁束密
度材8A及び8Bを形成しておくと、いわゆるMIG
(Metal In Gap)ヘッドとなり、当該磁気
ヘッド装置の特性は一段と向上する。なお、前記高飽和
磁束密度材は、符号8Aで示されるヘッドコア8の下部
溶着面のみに形成されるだけで良い。
ト等の磁性材料により形成されたC字状のヘッドコア8
を、前記磁性薄膜部4の上部4B及びギャップ層6に溶
着する。ここで、ヘッドコア8の溶着面に高飽和磁束密
度材8A及び8Bを形成しておくと、いわゆるMIG
(Metal In Gap)ヘッドとなり、当該磁気
ヘッド装置の特性は一段と向上する。なお、前記高飽和
磁束密度材は、符号8Aで示されるヘッドコア8の下部
溶着面のみに形成されるだけで良い。
【0021】このようにして、図1に示したように、コ
イル用パターン2及び磁性薄膜部4より成るコイルが巻
回された磁性薄膜部4の上部及び下部がヘッドコア8に
より接続され、磁性薄膜部4及びヘッドコア8による磁
気的な閉回路が形成される。そして前記閉回路にはギャ
ップ層6が介在される。
イル用パターン2及び磁性薄膜部4より成るコイルが巻
回された磁性薄膜部4の上部及び下部がヘッドコア8に
より接続され、磁性薄膜部4及びヘッドコア8による磁
気的な閉回路が形成される。そして前記閉回路にはギャ
ップ層6が介在される。
【0022】このようにして磁気ヘッド装置が完成する
が、この後、必要に応じて、スライダ1の底面を研磨し
て、ギャップ深さを調整し、またヘッドギャップ部のス
ライダレールをトラック幅に仕上げても良い。
が、この後、必要に応じて、スライダ1の底面を研磨し
て、ギャップ深さを調整し、またヘッドギャップ部のス
ライダレールをトラック幅に仕上げても良い。
【0023】さて、図3に示されたように、コイル用パ
ターン2の両端には、幅広の端子部2Aが形成されるも
のとしたが、該幅広部は、特に設けられなくても良い。
ターン2の両端には、幅広の端子部2Aが形成されるも
のとしたが、該幅広部は、特に設けられなくても良い。
【0024】また、ヘッドコア8を溶着する代りに、さ
らに別の絶縁層を第2絶縁層5の上部からギャップ層6
の上方にまで形成し、その後、磁性薄膜部4の上端4B
からギャップ層6の下部にまで、他の金属磁性膜を形成
しても良い。
らに別の絶縁層を第2絶縁層5の上部からギャップ層6
の上方にまで形成し、その後、磁性薄膜部4の上端4B
からギャップ層6の下部にまで、他の金属磁性膜を形成
しても良い。
【0025】また、図2に示されたように、スライダ1
にはレール1Aが2本設けられているが、本発明は、3
本のレールを有するスライダに適用されても良いことは
当然である。
にはレール1Aが2本設けられているが、本発明は、3
本のレールを有するスライダに適用されても良いことは
当然である。
【0026】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、コイル部を自動化技術を用いて構成すること
ができるので、コイルを手巻きする必要がなく、当該磁
気ヘッド装置の製造が容易であり、またヘッドコアの断
面積が大きいので、当該磁気ヘッド装置の磁気抵抗が従
来の薄膜ヘッドに比較して小さくなり、感度が上昇す
る。すなわち、従来の機械的磁気ヘッド装置及び薄膜磁
気ヘッド装置双方の利点を兼ね備えることができる。
によれば、コイル部を自動化技術を用いて構成すること
ができるので、コイルを手巻きする必要がなく、当該磁
気ヘッド装置の製造が容易であり、またヘッドコアの断
面積が大きいので、当該磁気ヘッド装置の磁気抵抗が従
来の薄膜ヘッドに比較して小さくなり、感度が上昇す
る。すなわち、従来の機械的磁気ヘッド装置及び薄膜磁
気ヘッド装置双方の利点を兼ね備えることができる。
【図1】 本発明の一実施例の要部拡大断面図である。
【図2】 スライダの斜視図である。
【図3】 コイル用パターンを示す図である。
【図4】 コイル用パターン上に第1絶縁層が形成され
た様子を示す図である。
た様子を示す図である。
【図5】 第1絶縁層上に磁性薄膜部が形成された様子
を示す図である。
を示す図である。
【図6】 磁性薄膜部上に第2絶縁層及びギャップ層を
形成し、コイル用パターン両端を金線を用いて接続した
様子を示す図である。
形成し、コイル用パターン両端を金線を用いて接続した
様子を示す図である。
【図7】 ヘッドコアの側面図である。
1…スライダ、1B…ヘッド形成位置、2…コイル用パ
ターン、2A…端子部、3…第1絶縁層、4…磁性薄膜
部、5…第2絶縁層、6…ギャップ層、7…金線、8…
ヘッドコア、8A,8B…高飽和磁束密度材
ターン、2A…端子部、3…第1絶縁層、4…磁性薄膜
部、5…第2絶縁層、6…ギャップ層、7…金線、8…
ヘッドコア、8A,8B…高飽和磁束密度材
Claims (4)
- 【請求項1】 非磁性材で形成された空気浮上型磁気ヘ
ッドスライダと、 前記スライダの空気流出端側に導電性薄膜で形成された
複数本のコイル用パターンと、 前記各コイル用パターンの両端部を残すように、該コイ
ル用パターン上に形成された第1絶縁層と、 前記第1絶縁層上に形成された磁性薄膜部と、 前記磁性薄膜部の下端部上に形成されたギャップ層と、 少なくとも前記各コイル用パターンの両端部間に位置す
る前記磁性薄膜部を覆うように、かつ少なくとも前記磁
性薄膜部の上端部、及び前記ギャップ層を露出するよう
に、前記磁性薄膜部上に形成された第2絶縁層と、 前記各コイル用パターンのうちの、それぞれ隣接するも
の同士の左端及び右端を前記第2絶縁層上において接続
し、前記各コイル用パターンと共に、前記磁性薄膜部に
実質的にコイルを巻回する導電性接続手段と、 前記磁性薄膜部の上端部、及び前記ギャップ層に接続さ
れたヘッドコアとを具備したことを特徴とする磁気ヘッ
ド装置。 - 【請求項2】 非磁性で形成された空気浮上型磁気ヘッ
ドスライダと、 前記スライダの空気流出端側に、導電性薄膜で、所定の
間隔をおいて左右2列に複数個形成された端子部と、 前記端子部のうちの、それぞれ左右に対応するもの同士
を接続し、複数本のコイル用パターンを構成する複数本
のコイル用導電性線材と、 前記各コイル用パターンの両端部を残すように、該コイ
ル用パターン上に形成された第1絶縁層と、 前記第1絶縁層上に形成された磁性薄膜部と、 前記磁性薄膜部の下端部上に形成されたギャップ層と、 少なくとも前記各コイル用パターンの両端部間に位置す
る前記磁性薄膜部を覆うように、かつ少なくとも前記磁
性薄膜部の上端部、及び前記ギャップ層を露出するよう
に、前記磁性薄膜部上に形成された第2絶縁層と、 前記各コイル用パターンのうちの、それぞれ隣接するも
の同士の左端及び右端を前記第2絶縁層上において接続
し、前記各コイル用パターンと共に、前記磁性薄膜部に
実質的にコイルを巻回する導電性接続手段と、 前記磁性薄膜部の上端部、及び前記ギャップ層に接続さ
れたヘッドコアとを具備したことを特徴とする磁気ヘッ
ド装置。 - 【請求項3】 前記導電性接続手段は、導電性の線材で
あることを特徴とする請求項1又は2記載の磁気ヘッド
装置。 - 【請求項4】 前記導電性接続手段は、導電性薄膜で形
成されたことを特徴とする請求項1又は2記載の磁気ヘ
ッド装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29246391A JPH05101336A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 磁気ヘツド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29246391A JPH05101336A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 磁気ヘツド装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05101336A true JPH05101336A (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=17782137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29246391A Withdrawn JPH05101336A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 磁気ヘツド装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05101336A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100667733B1 (ko) * | 1999-10-29 | 2007-01-11 | 삼성전자주식회사 | 광자기 기록재생용 광자기헤드 및 그 제조방법 |
-
1991
- 1991-10-11 JP JP29246391A patent/JPH05101336A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100667733B1 (ko) * | 1999-10-29 | 2007-01-11 | 삼성전자주식회사 | 광자기 기록재생용 광자기헤드 및 그 제조방법 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990107 |