JPH05242429A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH05242429A JPH05242429A JP4286992A JP4286992A JPH05242429A JP H05242429 A JPH05242429 A JP H05242429A JP 4286992 A JP4286992 A JP 4286992A JP 4286992 A JP4286992 A JP 4286992A JP H05242429 A JPH05242429 A JP H05242429A
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- JP
- Japan
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- magnetic core
- head
- magnetic
- conductive film
- insulating layer
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Abstract
(57)【要約】
【目的】 導体コイルの占める面積が小さく、導体コイ
ルと磁性コアの結合が強い高性能な薄膜磁気ヘッドを得
る。 【構成】 基板１上に下部磁性コア２を被着形成し、下
部磁性コア２の上に絶縁層３ａを介して下部縞状導電膜
６、下部縞状導電膜６の上に絶縁層３ｂを介して上部磁
性コア４を被着形成し、上部磁性コア４の上には絶縁層
５ａを介して上部縞状導電膜７を形成し、下部縞状導電
膜６及び上部縞状導電膜７の端部は連結されてヘリカル
状導体コイルを形成した薄膜磁気ヘッドであって、下部
磁性コア２と上部磁性コア４の間隔はヘッドギャップ５
の部分が最も狭い薄膜磁気ヘッド。
ルと磁性コアの結合が強い高性能な薄膜磁気ヘッドを得
る。 【構成】 基板１上に下部磁性コア２を被着形成し、下
部磁性コア２の上に絶縁層３ａを介して下部縞状導電膜
６、下部縞状導電膜６の上に絶縁層３ｂを介して上部磁
性コア４を被着形成し、上部磁性コア４の上には絶縁層
５ａを介して上部縞状導電膜７を形成し、下部縞状導電
膜６及び上部縞状導電膜７の端部は連結されてヘリカル
状導体コイルを形成した薄膜磁気ヘッドであって、下部
磁性コア２と上部磁性コア４の間隔はヘッドギャップ５
の部分が最も狭い薄膜磁気ヘッド。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は構造が簡単で製造し易い
高性能な薄膜磁気ヘッドに関する。
高性能な薄膜磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、薄膜磁気ヘッドは、基板上に薄膜
堆積法、フォトリソグラフィ技術等を用いて磁性コア、
導体コイルを絶縁層を介して形成するものであり、従来
のバルク型のヘッドに比べて小型化、高性能化が容易で
ある。従来の薄膜磁気ヘッドは、図１４に示すように、
下部磁性コア(4')上に絶縁層(3'a)を介してスパイラル
状の導体コイル(12')が被着形成されており、該導体コ
イル上に絶縁層(3'b)を介して上部磁性コア(6')が被着
形成されている。上述のようなスパイラル状の導体コイ
ル(12')を有する薄膜磁気ヘッドは、製造が容易である
が、導体コイルの占める面積が大きくなり、ヘッドを組
み立てる際には、小型実装の面で不利である。また、ス
パイラル状の導体コイル(12')に流れる電流から発生す
る磁束は、下部及び上部の磁性コア(4')(6')の高透磁率
性を利用することによりｙ方向の成分となりヘッドギャ
ップ(5')に導かれる。しかし、このときのコイルによる
磁界は、図１４のＨxに示すように、磁性コアの膜面に
垂直な、反磁界の影響を最も強く受けるｘ方向であり、
磁性コアを飽和まで到達させるにはかなり大きな起磁力
（ＡＴ）が必要である。さらに、スパイラル状導体と磁
性コアの重なっている部分がきわめて少なく、導体コイ
ル(12')と磁性コア(4')(6')の結合状態という点から見
れば、図１４の従来のスパイラル状導体コイルの構造は
好ましい構造ではない。
堆積法、フォトリソグラフィ技術等を用いて磁性コア、
導体コイルを絶縁層を介して形成するものであり、従来
のバルク型のヘッドに比べて小型化、高性能化が容易で
ある。従来の薄膜磁気ヘッドは、図１４に示すように、
下部磁性コア(4')上に絶縁層(3'a)を介してスパイラル
状の導体コイル(12')が被着形成されており、該導体コ
イル上に絶縁層(3'b)を介して上部磁性コア(6')が被着
形成されている。上述のようなスパイラル状の導体コイ
ル(12')を有する薄膜磁気ヘッドは、製造が容易である
が、導体コイルの占める面積が大きくなり、ヘッドを組
み立てる際には、小型実装の面で不利である。また、ス
パイラル状の導体コイル(12')に流れる電流から発生す
る磁束は、下部及び上部の磁性コア(4')(6')の高透磁率
性を利用することによりｙ方向の成分となりヘッドギャ
ップ(5')に導かれる。しかし、このときのコイルによる
磁界は、図１４のＨxに示すように、磁性コアの膜面に
垂直な、反磁界の影響を最も強く受けるｘ方向であり、
磁性コアを飽和まで到達させるにはかなり大きな起磁力
（ＡＴ）が必要である。さらに、スパイラル状導体と磁
性コアの重なっている部分がきわめて少なく、導体コイ
ル(12')と磁性コア(4')(6')の結合状態という点から見
れば、図１４の従来のスパイラル状導体コイルの構造は
好ましい構造ではない。
【０００３】これに対して、図１５に示されているよう
なヘリカル状の導体コイル(7")を有する薄膜磁気ヘッド
では、導体コイルの占める面積が小さく、小型実装に適
している。また、ヘリカル状の導体コイル(7")に流れる
電流から発生する磁界は、図１５のＨyに示すように、
上部磁性コアの膜面内の反磁界の小さいｙ方向を向いて
おり、小さい起磁力（ＡＴ）で磁気記録に充分な磁界を
ヘッドギャップに発生させることができる。さらに、ヘ
リカル状導体コイルではコイルと磁性コアの重なる面積
がきわめて大きく、両者の結合効率がきわめて高いとい
う大きな利点を持っている。
なヘリカル状の導体コイル(7")を有する薄膜磁気ヘッド
では、導体コイルの占める面積が小さく、小型実装に適
している。また、ヘリカル状の導体コイル(7")に流れる
電流から発生する磁界は、図１５のＨyに示すように、
上部磁性コアの膜面内の反磁界の小さいｙ方向を向いて
おり、小さい起磁力（ＡＴ）で磁気記録に充分な磁界を
ヘッドギャップに発生させることができる。さらに、ヘ
リカル状導体コイルではコイルと磁性コアの重なる面積
がきわめて大きく、両者の結合効率がきわめて高いとい
う大きな利点を持っている。
【０００４】しかし、１ターンの導体コイルを形成する
のに、導体層の形成、エッチングによる形状加工、絶縁
層の形成、スルーホール加工という複雑な工程が必要で
あること、多数巻の導体コイルを作製する場合、接続箇
所が多くなり、信頼性の面でも問題があることが欠点と
されてきた。しかし、最近のプロセス技術の進歩によ
り、これらの問題点は徐々に解決されつつあり、前述の
ヘリカル状導体コイルの利点が注目され始めている。
のに、導体層の形成、エッチングによる形状加工、絶縁
層の形成、スルーホール加工という複雑な工程が必要で
あること、多数巻の導体コイルを作製する場合、接続箇
所が多くなり、信頼性の面でも問題があることが欠点と
されてきた。しかし、最近のプロセス技術の進歩によ
り、これらの問題点は徐々に解決されつつあり、前述の
ヘリカル状導体コイルの利点が注目され始めている。
【０００５】また、図１５に示す従来構造は、下部磁性
コア(4")と上部磁性コア(6")のヘッドギャップの他方の
端は磁気的接合部分(10")により、接合されており、ヘ
ッドギャップを除けば閉磁路が形成されている。このよ
うに磁気的接合部分(10")は磁気ヘッドの磁気抵抗を低
減しヘッドギャップ磁界を改善すると考えられていた
が、ヘリカル状導体コイルを用いた薄膜磁気ヘッドでは
磁性コアとコイルの結合が強い上に、下部及び上部磁性
コアの間隔が接近しており、漏洩磁束の影響を無視でき
なくなる場合は、磁気的接合部分(10")は逆にヘッドギ
ャップの磁界を弱くする作用があることが分かった。
コア(4")と上部磁性コア(6")のヘッドギャップの他方の
端は磁気的接合部分(10")により、接合されており、ヘ
ッドギャップを除けば閉磁路が形成されている。このよ
うに磁気的接合部分(10")は磁気ヘッドの磁気抵抗を低
減しヘッドギャップ磁界を改善すると考えられていた
が、ヘリカル状導体コイルを用いた薄膜磁気ヘッドでは
磁性コアとコイルの結合が強い上に、下部及び上部磁性
コアの間隔が接近しており、漏洩磁束の影響を無視でき
なくなる場合は、磁気的接合部分(10")は逆にヘッドギ
ャップの磁界を弱くする作用があることが分かった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来例の
欠点に鑑みなされたものであり、導体コイルの占める面
積が小さく、量産性に適し、しかも導体コイルと磁性コ
アの結合が強い高性能な薄膜磁気ヘッドを提供すること
を目的とするものである。
欠点に鑑みなされたものであり、導体コイルの占める面
積が小さく、量産性に適し、しかも導体コイルと磁性コ
アの結合が強い高性能な薄膜磁気ヘッドを提供すること
を目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に下部
磁性コアを被着形成し、前記下部磁性コアの上に絶縁層
を介して下部縞状導電膜、前記下部縞状導電膜の上に絶
縁層を介して上部磁性コアを被着形成し、前記上部磁性
コアの上には絶縁層を介して上部縞状導電膜を形成し、
前記下部縞状導電膜及び上部縞状導電膜の端部は連結さ
れてヘリカル状導体コイルを形成した薄膜磁気ヘッドに
おいて、前記下部磁性コアと前記上部磁性コアの間隔は
ヘッドギャップ部分が最も狭いことを特徴としている。
磁性コアを被着形成し、前記下部磁性コアの上に絶縁層
を介して下部縞状導電膜、前記下部縞状導電膜の上に絶
縁層を介して上部磁性コアを被着形成し、前記上部磁性
コアの上には絶縁層を介して上部縞状導電膜を形成し、
前記下部縞状導電膜及び上部縞状導電膜の端部は連結さ
れてヘリカル状導体コイルを形成した薄膜磁気ヘッドに
おいて、前記下部磁性コアと前記上部磁性コアの間隔は
ヘッドギャップ部分が最も狭いことを特徴としている。
【０００８】
【作用】上記構成によれば、図１５の従来構造の磁気的
接合部分(10")は取り除かれているので、この部分の漏
洩磁束が激減し、ヘッドギャップ部分の磁界が強くなる
上に、磁気的接合部分(10")を作製する必要がなくな
り、従来構造に比較し工程が著しく簡単になる。これに
より、コイルに流れる電流により発生する磁束を効率よ
くヘッドギャップ部分に導くようにできるようになっ
た。
接合部分(10")は取り除かれているので、この部分の漏
洩磁束が激減し、ヘッドギャップ部分の磁界が強くなる
上に、磁気的接合部分(10")を作製する必要がなくな
り、従来構造に比較し工程が著しく簡単になる。これに
より、コイルに流れる電流により発生する磁束を効率よ
くヘッドギャップ部分に導くようにできるようになっ
た。
【０００９】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の実施例を詳
細に説明する。図１は本発明の一つの実施例を示す薄膜
磁気ヘッドの要部斜視図、図２(a)は上記磁気ヘッドの
平面図である。図２(b)は前記平面図のＡ-Ａ’断面図で
ある。図中、(1)はＭn-ＺnフェライトやＮi-Ｚnフェラ
イト等の強磁性酸化物材料、あるいは結晶化ガラス等の
非磁性セラミックスからなる基板であり、該基板(1)の
上面には、パーマロイ、センダスト、Ｃo系アモルファ
ス磁性合金等の高透磁率磁性薄膜よりなる下部磁性コア
(2)が被着形成されている。さらに、ＳiＯ2等の絶縁材
料よりなる約１μm厚の絶縁層(3a)を介して、Ｃu、Ａl
等の導電材料よりなる約２μm厚の下部縞状導電膜(6)が
形成されている。該下部縞状導電膜(6)の上には絶縁層
(3b)が形成されている。前記の絶縁膜(3b)の上には上部
磁性コア(4)が被着形成されている。前記磁性コア(4)の
上には約１μmの絶縁層(5a)を介して上部縞状導電膜(7)
が形成されている。
細に説明する。図１は本発明の一つの実施例を示す薄膜
磁気ヘッドの要部斜視図、図２(a)は上記磁気ヘッドの
平面図である。図２(b)は前記平面図のＡ-Ａ’断面図で
ある。図中、(1)はＭn-ＺnフェライトやＮi-Ｚnフェラ
イト等の強磁性酸化物材料、あるいは結晶化ガラス等の
非磁性セラミックスからなる基板であり、該基板(1)の
上面には、パーマロイ、センダスト、Ｃo系アモルファ
ス磁性合金等の高透磁率磁性薄膜よりなる下部磁性コア
(2)が被着形成されている。さらに、ＳiＯ2等の絶縁材
料よりなる約１μm厚の絶縁層(3a)を介して、Ｃu、Ａl
等の導電材料よりなる約２μm厚の下部縞状導電膜(6)が
形成されている。該下部縞状導電膜(6)の上には絶縁層
(3b)が形成されている。前記の絶縁膜(3b)の上には上部
磁性コア(4)が被着形成されている。前記磁性コア(4)の
上には約１μmの絶縁層(5a)を介して上部縞状導電膜(7)
が形成されている。
【００１０】前記上部磁性コア(4)は図に示すように、
効率のよいヘッドギャップ(9)を形成するために、磁極
の先端と磁性基板の間隔が狭くなるように作製されてい
る。下部磁性コア(2)と上部磁性コア(4)の端面は基板
(1)の端面と同一面に露出し、ヘッドギャップ(9)の磁極
となっている。前記下部及び上部縞状導電膜(6)(7)は、
上部磁性コア(4)を卷回するようにお互いに端部が連結
されてヘリカル状導体コイルとなる。前記上部磁性コア
(4)の他方の一端は下部磁性コア(2)と平行に配されてお
り、磁気的に接することはない。このような構造にする
ことにより、従来構造の磁気的接合部分(10")で漏洩し
ていた磁束を抑制し、効率的にヘッドギャップ(9)部分
に導くことができる。次に、上記実施例の薄膜ヘッドの
製造方法について説明する。先ず、図３に示すように、
基板(1)の上面に下部磁性コア(2)を蒸着、スパッタリン
グ及びフォトリソグラフィ等の技術により被着形成す
る。次に、図４に示すように、前記下部磁性コア(2)の
上に絶縁層(3a)を平坦に形成する。次に、図５に示すよ
うに、前記絶縁層(3a)の上に下部縞状導電膜(6)を蒸
着、スパッタリング及びフォトリソグラフィ等の技術に
より被着形成する。この際、前記下部縞状導電膜(6)
は、後工程で作製される上部縞状導電膜(7)と重なり、
ヘリカル状導体コイルとなるように配されている。次
に、図６に示すように前記下部縞状導電膜(6)上全域に
絶縁層(3b)を平坦に形成する。次に、前記絶縁層(3b)の
上面に、図７に示すように、効率のよいヘッドを形成す
るためのヘッドギャップスペーサー加工(11)を施す。次
に、図８に示すように、上部磁性コア(4)を蒸着、スパ
ッタリング及びフォトリソグラフィ等の技術により被着
形成する。次に、図９に示すように、前記上部磁性コア
(4)上全域に絶縁層(5a)を平坦に形成する。次に、前記
絶縁層(3a)上にマスクを形成し、エッチングを行うこと
により、図１０のように下部縞状導電膜(6)の接合端部
が露出するようスルーホール(10a)(10b)を作製する。次
に、図１１に示すように、上部縞状導電膜(7)と端子(8
a)(8b)を蒸着、スパッタリング及びフォトリソグラフィ
等の技術により被着形成する。前記上部縞状導電膜(7)
は下部縞状導電膜(6)と端部で電気的に連結されヘリカ
ル状導体コイルとなる。次に、図２（ｂ）にのみ示され
ているが、保護のために絶縁層(5b)が被着形成される。
以上の工程により、本発明の一つの実施例が完成する。
図１２と図１３は、本発明のもう一つの実施例を示す要
部斜視図と断面図である。前記実施例とは異なり、下部
磁性コアと上部磁性コアのヘッドギャップ近傍を除いた
部分はお互いに平行ではなく、ヘッドギャップから遠ざ
かるにつれてお互いの間隔が次第に広くなるように作製
されている。また、この場合は、磁気ヘッドの摺動面も
傾斜しており、ヘリカル状導体コイルから発生する磁束
が摺動方向（ｘ方向）の成分を持つように考慮されてい
る。この実施例は、本発明の請求の範囲の基礎的事項で
ある、下部磁性コア(2)と上部磁性コア(4)の間隔がヘッ
ドギャップが最も狭いということを含んでいることか
ら、本分野の専門家であれば上記実施例が本発明の範囲
に含まれることは容易に理解できるであろう。
効率のよいヘッドギャップ(9)を形成するために、磁極
の先端と磁性基板の間隔が狭くなるように作製されてい
る。下部磁性コア(2)と上部磁性コア(4)の端面は基板
(1)の端面と同一面に露出し、ヘッドギャップ(9)の磁極
となっている。前記下部及び上部縞状導電膜(6)(7)は、
上部磁性コア(4)を卷回するようにお互いに端部が連結
されてヘリカル状導体コイルとなる。前記上部磁性コア
(4)の他方の一端は下部磁性コア(2)と平行に配されてお
り、磁気的に接することはない。このような構造にする
ことにより、従来構造の磁気的接合部分(10")で漏洩し
ていた磁束を抑制し、効率的にヘッドギャップ(9)部分
に導くことができる。次に、上記実施例の薄膜ヘッドの
製造方法について説明する。先ず、図３に示すように、
基板(1)の上面に下部磁性コア(2)を蒸着、スパッタリン
グ及びフォトリソグラフィ等の技術により被着形成す
る。次に、図４に示すように、前記下部磁性コア(2)の
上に絶縁層(3a)を平坦に形成する。次に、図５に示すよ
うに、前記絶縁層(3a)の上に下部縞状導電膜(6)を蒸
着、スパッタリング及びフォトリソグラフィ等の技術に
より被着形成する。この際、前記下部縞状導電膜(6)
は、後工程で作製される上部縞状導電膜(7)と重なり、
ヘリカル状導体コイルとなるように配されている。次
に、図６に示すように前記下部縞状導電膜(6)上全域に
絶縁層(3b)を平坦に形成する。次に、前記絶縁層(3b)の
上面に、図７に示すように、効率のよいヘッドを形成す
るためのヘッドギャップスペーサー加工(11)を施す。次
に、図８に示すように、上部磁性コア(4)を蒸着、スパ
ッタリング及びフォトリソグラフィ等の技術により被着
形成する。次に、図９に示すように、前記上部磁性コア
(4)上全域に絶縁層(5a)を平坦に形成する。次に、前記
絶縁層(3a)上にマスクを形成し、エッチングを行うこと
により、図１０のように下部縞状導電膜(6)の接合端部
が露出するようスルーホール(10a)(10b)を作製する。次
に、図１１に示すように、上部縞状導電膜(7)と端子(8
a)(8b)を蒸着、スパッタリング及びフォトリソグラフィ
等の技術により被着形成する。前記上部縞状導電膜(7)
は下部縞状導電膜(6)と端部で電気的に連結されヘリカ
ル状導体コイルとなる。次に、図２（ｂ）にのみ示され
ているが、保護のために絶縁層(5b)が被着形成される。
以上の工程により、本発明の一つの実施例が完成する。
図１２と図１３は、本発明のもう一つの実施例を示す要
部斜視図と断面図である。前記実施例とは異なり、下部
磁性コアと上部磁性コアのヘッドギャップ近傍を除いた
部分はお互いに平行ではなく、ヘッドギャップから遠ざ
かるにつれてお互いの間隔が次第に広くなるように作製
されている。また、この場合は、磁気ヘッドの摺動面も
傾斜しており、ヘリカル状導体コイルから発生する磁束
が摺動方向（ｘ方向）の成分を持つように考慮されてい
る。この実施例は、本発明の請求の範囲の基礎的事項で
ある、下部磁性コア(2)と上部磁性コア(4)の間隔がヘッ
ドギャップが最も狭いということを含んでいることか
ら、本分野の専門家であれば上記実施例が本発明の範囲
に含まれることは容易に理解できるであろう。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、従来構造に比較し、磁
気的接合部分がないことから、ヘリカル状導体コイルか
ら発生する磁束が効率よくギャップヘッドに導かれるこ
とから、磁性コアとコイルの結合効率のよい構造が簡単
な高性能薄膜磁気ヘッドを提供し得る。
気的接合部分がないことから、ヘリカル状導体コイルか
ら発生する磁束が効率よくギャップヘッドに導かれるこ
とから、磁性コアとコイルの結合効率のよい構造が簡単
な高性能薄膜磁気ヘッドを提供し得る。
【図１】薄膜磁気ヘッドの斜視図。
【図２】薄膜磁気ヘッドの平面図と断面図。
【図３】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図４】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図５】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図６】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図７】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図８】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図９】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図１０】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図１１】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図１２】薄膜磁気ヘッドの他の実施例を示す要部斜視
図と断面図。
図と断面図。
【図１３】薄膜磁気ヘッドの他の実施例を示す要部斜視
図と断面図。
図と断面図。
【図１４】従来の薄膜ヘッドの平面図と断面図である。
【図１５】従来の薄膜ヘッドの平面図と断面図である。
１ 基板 ２ 下部磁性コア ３ 絶縁層 ４ 上部磁性コア ５ 絶縁層 ６ 下部縞状導電膜 ７ 上部縞状導電膜 ７" ヘリカル状導体コイル ８ 端子 ９ ヘッドギャップ １０" 磁気的接合部分 １０ スルーホール １２ スパイラル状導体コイル １３ 基板端面
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に下部磁性コアを被着形成し、前
記下部磁性コアの上に絶縁層を介して下部縞状導電膜、
前記下部縞状導電膜の上に絶縁層を介して上部磁性コア
を被着形成し、前記上部磁性コアの上には絶縁層を介し
て上部縞状導電膜を形成し、前記下部縞状導電膜及び上
部縞状導電膜の端部は連結されてヘリカル状導体コイル
を形成した薄膜磁気ヘッドにおいて、前記下部磁性コア
と前記上部磁性コアの間隔はヘッドギャップ部分が最も
狭いことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 請求項１において、前記下部及び上部磁
性コアの間隔はヘッドギャップ部分を除いて平行である
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】 請求項１において、前記下部及び上部磁
性コアの間隔はヘッドギャップ部分から遠ざかるにつれ
て次第に大きくなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4286992A JPH05242429A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4286992A JPH05242429A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05242429A true JPH05242429A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=12648047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4286992A Pending JPH05242429A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05242429A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6778354B2 (en) | 2000-11-29 | 2004-08-17 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Magnetic head and method of manufacturing the same |
| US7495864B2 (en) | 2005-03-11 | 2009-02-24 | Tdk Corporation Co., Ltd. | Perpendicular magnetic recording head and method of manufacturing the same |
| US7554763B2 (en) | 2003-11-14 | 2009-06-30 | Tdk Corporation | Magnetic head having an insulating layer comprised of an organic layer on an inorganic layer |
| US7667927B2 (en) | 2004-12-10 | 2010-02-23 | Tdk Corporation | Magnetic head having toroidal coil layer and manufacturing method thereof |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP4286992A patent/JPH05242429A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6778354B2 (en) | 2000-11-29 | 2004-08-17 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Magnetic head and method of manufacturing the same |
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