JPH05258240A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH05258240A JPH05258240A JP5126592A JP5126592A JPH05258240A JP H05258240 A JPH05258240 A JP H05258240A JP 5126592 A JP5126592 A JP 5126592A JP 5126592 A JP5126592 A JP 5126592A JP H05258240 A JPH05258240 A JP H05258240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic core
- head
- core
- conductive film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/02—Recording, reproducing, or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B5/027—Analogue recording
- G11B5/035—Equalising
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/488—Disposition of heads
- G11B5/4893—Disposition of heads relative to moving tape
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘッドギャップの絞り込み加工の容易な構造
を有する高性能な薄膜磁気ヘッドを得る。 【構成】 基板１上に下部縞状導電膜２、その上に絶縁
層３ａを介して下部磁性コア４、下部磁性コア４の上に
絶縁層３ｂを介して上部縞状導電膜７が形成され、下部
及び上部縞状導電膜２，７の端部は連結されてヘリカル
状導体コイルが形成され、下部磁性コア４の一端の上に
絶縁層を介して上部磁性コア６が形成され、下部と上部
磁性コア２，４の一端によりヘッドギャップ５の磁極が
構成され、下部と上部磁性コア２，４の磁極でない端が
磁気的接合部分で接合され、下部と上部磁性コア２，４
の間隔は磁極近傍で平面状で一定であり、磁極となる端
面は磁気ヘッドの摺動端面に露出し、該摺動面の中心近
傍で部分的に重なる部分を有し、かつ重なる部分の幅
が、摺動端面から内側に次第に小さくなってゆくする薄
膜磁気ヘッド。
を有する高性能な薄膜磁気ヘッドを得る。 【構成】 基板１上に下部縞状導電膜２、その上に絶縁
層３ａを介して下部磁性コア４、下部磁性コア４の上に
絶縁層３ｂを介して上部縞状導電膜７が形成され、下部
及び上部縞状導電膜２，７の端部は連結されてヘリカル
状導体コイルが形成され、下部磁性コア４の一端の上に
絶縁層を介して上部磁性コア６が形成され、下部と上部
磁性コア２，４の一端によりヘッドギャップ５の磁極が
構成され、下部と上部磁性コア２，４の磁極でない端が
磁気的接合部分で接合され、下部と上部磁性コア２，４
の間隔は磁極近傍で平面状で一定であり、磁極となる端
面は磁気ヘッドの摺動端面に露出し、該摺動面の中心近
傍で部分的に重なる部分を有し、かつ重なる部分の幅
が、摺動端面から内側に次第に小さくなってゆくする薄
膜磁気ヘッド。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は構造が簡単で製造し易い
高性能な薄膜磁気ヘッドに関する。
高性能な薄膜磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、薄膜磁気ヘッドは、基板上に薄膜
堆積法、フォトリソグラフィ技術等を用いて磁性コア、
導体コイルを絶縁層を介して形成するものであり、従来
のバルク型のヘッドに比べて小型化、高性能化が容易で
ある。従来の薄膜磁気ヘッドは、図１１に示すように、
下部磁性コア(4')上に絶縁層(3'a)を介してスパイラル
状の導体コイル(12')が被着形成されており、該導体コ
イル上に絶縁層(3'b)を介して上部磁性コア(6')が被着
形成されている。上述のようなスパイラル状の導体コイ
ル(12')を有する薄膜磁気ヘッドは、製造が容易である
が、導体コイルの占める面積が大きくなり、ヘッドを組
み立てる際には、小型実装の面で不利である。また、ス
パイラル状の導体コイル(12')に流れる電流から発生す
る磁束は、下部及び上部の磁性コア(4')(6')の高透磁率
性を利用することによりｙ方向の成分となりヘッドギャ
ップ(5')に導かれる。しかし、このときのコイルによる
磁界は、図１１のＨxに示すように、反磁界の大きい磁
性コアの膜面に垂直なｘ方向であり、磁性コアを飽和ま
で到達させるにはかなり大きな起磁力が必要である。さ
らに、スパイラル状導体(12')と磁性コア(4')(6')の重
なっている部分がきわめて少なく、導体コイルと磁性コ
アの結合状態という点から見れば、図１１の従来のスパ
イラル状導体コイルの構造は好ましい構造ではない。こ
れに対して、図１２に示されているようなヘリカル状の
導体コイル(7")を有する薄膜磁気ヘッドでは、導体コイ
ルの占める面積が小さく、小型実装に適している。ま
た、ヘリカル状の導体コイル(7")に流れる電流から発生
する磁界は、図１２のＨyに示すように、反磁界の小さ
い上部磁性コアの膜面内のｙ方向を向いており、コイル
による小さい起磁力で充分な磁界をヘッドギャップに形
成することができる。さらに、ヘリカル状導体コイルで
はコイルと磁性コアの重なる部分の面積比率がきわめて
大きく、両者の結合効率がきわめて高いという大きな利
点を持っている。しかし、１タ−ンの導体コイルを形成
するのに、導体層の形成、エッチングによる形状加工、
絶縁層の形成、スルーホール加工という複雑な工程が必
要であること、多数巻の導体コイルを作製する場合、接
続箇所が多くなり、信頼性の面でも問題があることが欠
点とされてきた。しかし、最近のプロセス技術の進歩に
より、これらの問題点は徐々に解決されつつあり、前述
のヘリカル状導体コイルの利点が注目され始めている。
また、このヘリカル状導体の構造では、磁気ヘッドの性
能向上のため、ヘッドギャップ(5")の立体的な絞り込み
加工が必要であった。しかし、この加工がきわめて複雑
で微妙なものであるため、安定して高性能な薄膜ヘッド
を生産できないという欠点があった。
堆積法、フォトリソグラフィ技術等を用いて磁性コア、
導体コイルを絶縁層を介して形成するものであり、従来
のバルク型のヘッドに比べて小型化、高性能化が容易で
ある。従来の薄膜磁気ヘッドは、図１１に示すように、
下部磁性コア(4')上に絶縁層(3'a)を介してスパイラル
状の導体コイル(12')が被着形成されており、該導体コ
イル上に絶縁層(3'b)を介して上部磁性コア(6')が被着
形成されている。上述のようなスパイラル状の導体コイ
ル(12')を有する薄膜磁気ヘッドは、製造が容易である
が、導体コイルの占める面積が大きくなり、ヘッドを組
み立てる際には、小型実装の面で不利である。また、ス
パイラル状の導体コイル(12')に流れる電流から発生す
る磁束は、下部及び上部の磁性コア(4')(6')の高透磁率
性を利用することによりｙ方向の成分となりヘッドギャ
ップ(5')に導かれる。しかし、このときのコイルによる
磁界は、図１１のＨxに示すように、反磁界の大きい磁
性コアの膜面に垂直なｘ方向であり、磁性コアを飽和ま
で到達させるにはかなり大きな起磁力が必要である。さ
らに、スパイラル状導体(12')と磁性コア(4')(6')の重
なっている部分がきわめて少なく、導体コイルと磁性コ
アの結合状態という点から見れば、図１１の従来のスパ
イラル状導体コイルの構造は好ましい構造ではない。こ
れに対して、図１２に示されているようなヘリカル状の
導体コイル(7")を有する薄膜磁気ヘッドでは、導体コイ
ルの占める面積が小さく、小型実装に適している。ま
た、ヘリカル状の導体コイル(7")に流れる電流から発生
する磁界は、図１２のＨyに示すように、反磁界の小さ
い上部磁性コアの膜面内のｙ方向を向いており、コイル
による小さい起磁力で充分な磁界をヘッドギャップに形
成することができる。さらに、ヘリカル状導体コイルで
はコイルと磁性コアの重なる部分の面積比率がきわめて
大きく、両者の結合効率がきわめて高いという大きな利
点を持っている。しかし、１タ−ンの導体コイルを形成
するのに、導体層の形成、エッチングによる形状加工、
絶縁層の形成、スルーホール加工という複雑な工程が必
要であること、多数巻の導体コイルを作製する場合、接
続箇所が多くなり、信頼性の面でも問題があることが欠
点とされてきた。しかし、最近のプロセス技術の進歩に
より、これらの問題点は徐々に解決されつつあり、前述
のヘリカル状導体コイルの利点が注目され始めている。
また、このヘリカル状導体の構造では、磁気ヘッドの性
能向上のため、ヘッドギャップ(5")の立体的な絞り込み
加工が必要であった。しかし、この加工がきわめて複雑
で微妙なものであるため、安定して高性能な薄膜ヘッド
を生産できないという欠点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来例の
欠点に鑑みなされたものであり、ヘッドギャップの絞り
込み加工の容易な構造を有する高性能な薄膜磁気ヘッド
を提供することを目的とするものである。
欠点に鑑みなされたものであり、ヘッドギャップの絞り
込み加工の容易な構造を有する高性能な薄膜磁気ヘッド
を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に下部
縞状導電膜、前記下部縞状導電膜の上に絶縁層を介して
下部磁性コア、前記下部磁気コアの上に絶縁層を介して
上部縞状導電膜が形成され、前記下部縞状導電膜及び上
部縞状導電膜の端部は連結されてヘリカル状導体コイル
が形成され、前記下部磁性コアの一端の上に絶縁層を介
して上部磁性コアが形成され、前記下部磁性コアの一端
と前記上部磁性コアの一端によりヘッドギャップの磁極
が構成され、前記下部磁性コアの磁極でない端と前記上
部磁性コアの磁極でない端が磁気的接合部分で接合され
た薄膜磁気ヘッドにおいて、前記上部磁性コアは磁極近
傍で平面状であり、前記下部磁性コアと前記上部磁性コ
アの磁極となる端面は磁気ヘッドの摺動端面に露出し、
前記下部磁性コアと前記上部磁性コアは該摺動面の中心
近傍で部分的に重なる部分を有し、かつ前記中心近傍の
重なる部分の幅が、前記摺動端面から内側に離れるにつ
れて次第に小さくなってゆくことを特徴としている。
縞状導電膜、前記下部縞状導電膜の上に絶縁層を介して
下部磁性コア、前記下部磁気コアの上に絶縁層を介して
上部縞状導電膜が形成され、前記下部縞状導電膜及び上
部縞状導電膜の端部は連結されてヘリカル状導体コイル
が形成され、前記下部磁性コアの一端の上に絶縁層を介
して上部磁性コアが形成され、前記下部磁性コアの一端
と前記上部磁性コアの一端によりヘッドギャップの磁極
が構成され、前記下部磁性コアの磁極でない端と前記上
部磁性コアの磁極でない端が磁気的接合部分で接合され
た薄膜磁気ヘッドにおいて、前記上部磁性コアは磁極近
傍で平面状であり、前記下部磁性コアと前記上部磁性コ
アの磁極となる端面は磁気ヘッドの摺動端面に露出し、
前記下部磁性コアと前記上部磁性コアは該摺動面の中心
近傍で部分的に重なる部分を有し、かつ前記中心近傍の
重なる部分の幅が、前記摺動端面から内側に離れるにつ
れて次第に小さくなってゆくことを特徴としている。
【０００５】
【作用】上記構成によれば、ヘッドギャップの絞り込み
加工が同一平面内だけで実現できることから、高性能な
薄膜磁気ヘッドを安定に実現できる。
加工が同一平面内だけで実現できることから、高性能な
薄膜磁気ヘッドを安定に実現できる。
【０００６】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の実施例を詳
細に説明する。図１は本発明の一つの実施例を示す薄膜
磁気ヘッドの要部斜視図、図２(a)は上記磁気ヘッドの
平面図である。図２(b)は前記平面図のＡ-Ａ’断面図で
ある。図中、(1)は結晶化ガラス等の非磁性セラミック
スからなる基板であり、該基板(1)の上面にはＣu、Ａl
等の導電材料よりなる約２μm厚の下部縞状導電膜(2)が
形成されている。該下部縞状導電膜(2)の上にはＳiＯ2
等の絶縁材料よりなる約１μm厚の絶縁層(3a)が形成さ
れている。前記の絶縁膜(3a)の上にはセンダスト、Ｃo
系アモルファス磁性合金等の高透磁率磁性薄膜よりなる
下部磁性コア(4)が被着形成されている。前記下部磁性
コア(4)上には約１μmの絶縁層(3b)を介して上部縞状導
電膜(7)((7a)(7b))が形成されている。前記下部磁性コ
ア(4)は図に示すように、閉ループの一部分が欠如した
形状（開ループ）となっており、該開ループを形成する
二つの辺がお互いに平行である。前記開ループの一端の
端面は非磁性基板(1)の端面に露出し、ヘッドギャップ
(5)の一つの磁極となっている。前記下部及び上部縞状
導電膜(2)(7)は、前記下部磁性コア(4)を卷回するよう
にお互いに端部が連結されてヘリカル状導体コイルとな
る。前記下部磁性コア(4)の他方の一端は、前記磁極と
なった一端の近傍で基板上で終端となる。これら両方の
端は磁気的な干渉がないよう充分離れている必要がある
が、後工程で作製される上部磁性コア(6)の長さをでき
るだけ短くするためには近い方がよい。前記下部磁性コ
ア(4)の磁極となった一端の上には、ＳiＯ2等の絶縁材
料よりなるヘッドギャップ(5)を介して上部磁性コア(6)
が平面状に被着形成されており、この一端は基板の端面
に露出し、ヘッドギャップのもう一つの磁極となる。上
部磁性コア(6)の他端は、折曲がって下部磁性コア(4)の
他の端の上面に磁気的に接合されている。これは、図１
及び図２に磁気的接合部分(9)として示されている。前
記下部磁性コア(4)及び上部磁性コア(6)の基板の端面に
露出した部分は磁気ヘッドの摺動端面となり、磁気記録
のトラック幅に相当した幅で部分的に重なっている。前
記下部磁性コア(4)及び上部磁性コア(6)の重なっている
部分(11)の長さが基板端面から離れて内部に入るに従
い、次第に小さくなっている。これが本発明の技術の特
徴であり、効率よくヘッドギャップ(5)の先端部分に磁
束を集中させる従来技術のヘッドギャップ絞り込み加工
に相当する。従来技術の複雑かつ微妙な立体加工と著し
く異なり、より量産性に向いた磁極の平面形状すなわち
フォトリソグラフィのパタ−ン加工でこれを実現できる
ことが利点である。本発明の技術では、下部磁性コア
(4)及び上部磁性コア(6)はヘッドギャップ(5)近傍では
平面状で平行に配されている。次に、上記実施例の薄膜
ヘッドの製造方法について説明する。先ず、図３に示す
ように基板(1)の上面に下部縞状導電膜(2a)(2b)を蒸
着、スパッタリング等による被着形成する。この際、前
記下部縞状導電膜(2a)(2b)は、後工程で作製される上部
縞状導電膜(7a)(7b)と重なり、ヘリカル状導体コイルと
なるように配されている。次に、図４に示すように前記
下部縞状導電膜(2a)(2b)上全域に絶縁層(3a)を平坦に形
成する。次に、前記絶縁層(3a)の上面に、図５に示すよ
うに、閉ループの一部が欠如した形状の下部磁性コア
(4)を被着形成する。上記ループを構成する２辺は対向
して平行に配されており、それぞれの端の一端は基板面
内で折れ曲がり基板(1)の端面にヘッドギャップの一つ
の磁極として露出し、他端は基板(1)の上面内で終わっ
ている。次に、図６に示すように前記下部磁性コア(4)
上全域に絶縁層(3b)を平坦に形成する。次に、前記絶縁
層(3b)上にマスクを形成し、エッチングを行うことによ
り、図７のように下部縞状導電膜(2)の接合端部が露出
するように、スルーホール加工(10a)(10b)(10c)を施
す。同時に、前記下部磁性コア(4)の基板上で終わって
いる他の端の上の部分も、エッチング加工により露出さ
せる。次に、図８に示すように、上部縞状導電膜(7a)(7
b)を下部縞状導電膜(2a)(2b)と電気的に接合しヘリカル
状導体コイルとなるように形成する。次に、図９に示す
ように、効率のよいヘッドギャップを作製するために、
上部磁性コア(6)を絶縁層(3b)を介して下部磁性コア(4)
の上に形成する。ヘッドギャップ(5)の厚みは絶縁層(3
b)の厚みと同じである。下部磁性コア(4)と上部磁性コ
ア(6)の重なる部分の両方の境界ははヘッドギャップ(5)
の近傍ではほぼ平行であるが、少し離れた部分から下部
磁性コア(4)及び上部磁性コア(6)の形状はテーパがつい
て、重なる部分が次第に小さくなって分かれてゆく。以
上の工程により、本発明の一つの実施例が完成する。図
１１(a)(b)は、本発明のもう一つの実施例を示す平面図
と断面図である。図２の前記実施例とは異なり、下部磁
性コア(4)の平行な２辺に巻回されている上部縞上導電
膜と下部縞状導電膜よりなるヘリカル状導体コイルが並
列に接続されているのが特徴である。このような構造に
することによりヘリカル状導体コイルのインダクタンス
を下げることができる。この実施例は、本発明の請求の
範囲の基礎的事項である、下部磁性コア及び上部磁性コ
アの重なる部分が磁気ヘッド摺動端面から離れるにつれ
て次第に小さくなることを含んでいることから、本分野
の専門家であれば上記実施例が本発明の範囲に含まれる
ことは容易に理解できるであろう。
細に説明する。図１は本発明の一つの実施例を示す薄膜
磁気ヘッドの要部斜視図、図２(a)は上記磁気ヘッドの
平面図である。図２(b)は前記平面図のＡ-Ａ’断面図で
ある。図中、(1)は結晶化ガラス等の非磁性セラミック
スからなる基板であり、該基板(1)の上面にはＣu、Ａl
等の導電材料よりなる約２μm厚の下部縞状導電膜(2)が
形成されている。該下部縞状導電膜(2)の上にはＳiＯ2
等の絶縁材料よりなる約１μm厚の絶縁層(3a)が形成さ
れている。前記の絶縁膜(3a)の上にはセンダスト、Ｃo
系アモルファス磁性合金等の高透磁率磁性薄膜よりなる
下部磁性コア(4)が被着形成されている。前記下部磁性
コア(4)上には約１μmの絶縁層(3b)を介して上部縞状導
電膜(7)((7a)(7b))が形成されている。前記下部磁性コ
ア(4)は図に示すように、閉ループの一部分が欠如した
形状（開ループ）となっており、該開ループを形成する
二つの辺がお互いに平行である。前記開ループの一端の
端面は非磁性基板(1)の端面に露出し、ヘッドギャップ
(5)の一つの磁極となっている。前記下部及び上部縞状
導電膜(2)(7)は、前記下部磁性コア(4)を卷回するよう
にお互いに端部が連結されてヘリカル状導体コイルとな
る。前記下部磁性コア(4)の他方の一端は、前記磁極と
なった一端の近傍で基板上で終端となる。これら両方の
端は磁気的な干渉がないよう充分離れている必要がある
が、後工程で作製される上部磁性コア(6)の長さをでき
るだけ短くするためには近い方がよい。前記下部磁性コ
ア(4)の磁極となった一端の上には、ＳiＯ2等の絶縁材
料よりなるヘッドギャップ(5)を介して上部磁性コア(6)
が平面状に被着形成されており、この一端は基板の端面
に露出し、ヘッドギャップのもう一つの磁極となる。上
部磁性コア(6)の他端は、折曲がって下部磁性コア(4)の
他の端の上面に磁気的に接合されている。これは、図１
及び図２に磁気的接合部分(9)として示されている。前
記下部磁性コア(4)及び上部磁性コア(6)の基板の端面に
露出した部分は磁気ヘッドの摺動端面となり、磁気記録
のトラック幅に相当した幅で部分的に重なっている。前
記下部磁性コア(4)及び上部磁性コア(6)の重なっている
部分(11)の長さが基板端面から離れて内部に入るに従
い、次第に小さくなっている。これが本発明の技術の特
徴であり、効率よくヘッドギャップ(5)の先端部分に磁
束を集中させる従来技術のヘッドギャップ絞り込み加工
に相当する。従来技術の複雑かつ微妙な立体加工と著し
く異なり、より量産性に向いた磁極の平面形状すなわち
フォトリソグラフィのパタ−ン加工でこれを実現できる
ことが利点である。本発明の技術では、下部磁性コア
(4)及び上部磁性コア(6)はヘッドギャップ(5)近傍では
平面状で平行に配されている。次に、上記実施例の薄膜
ヘッドの製造方法について説明する。先ず、図３に示す
ように基板(1)の上面に下部縞状導電膜(2a)(2b)を蒸
着、スパッタリング等による被着形成する。この際、前
記下部縞状導電膜(2a)(2b)は、後工程で作製される上部
縞状導電膜(7a)(7b)と重なり、ヘリカル状導体コイルと
なるように配されている。次に、図４に示すように前記
下部縞状導電膜(2a)(2b)上全域に絶縁層(3a)を平坦に形
成する。次に、前記絶縁層(3a)の上面に、図５に示すよ
うに、閉ループの一部が欠如した形状の下部磁性コア
(4)を被着形成する。上記ループを構成する２辺は対向
して平行に配されており、それぞれの端の一端は基板面
内で折れ曲がり基板(1)の端面にヘッドギャップの一つ
の磁極として露出し、他端は基板(1)の上面内で終わっ
ている。次に、図６に示すように前記下部磁性コア(4)
上全域に絶縁層(3b)を平坦に形成する。次に、前記絶縁
層(3b)上にマスクを形成し、エッチングを行うことによ
り、図７のように下部縞状導電膜(2)の接合端部が露出
するように、スルーホール加工(10a)(10b)(10c)を施
す。同時に、前記下部磁性コア(4)の基板上で終わって
いる他の端の上の部分も、エッチング加工により露出さ
せる。次に、図８に示すように、上部縞状導電膜(7a)(7
b)を下部縞状導電膜(2a)(2b)と電気的に接合しヘリカル
状導体コイルとなるように形成する。次に、図９に示す
ように、効率のよいヘッドギャップを作製するために、
上部磁性コア(6)を絶縁層(3b)を介して下部磁性コア(4)
の上に形成する。ヘッドギャップ(5)の厚みは絶縁層(3
b)の厚みと同じである。下部磁性コア(4)と上部磁性コ
ア(6)の重なる部分の両方の境界ははヘッドギャップ(5)
の近傍ではほぼ平行であるが、少し離れた部分から下部
磁性コア(4)及び上部磁性コア(6)の形状はテーパがつい
て、重なる部分が次第に小さくなって分かれてゆく。以
上の工程により、本発明の一つの実施例が完成する。図
１１(a)(b)は、本発明のもう一つの実施例を示す平面図
と断面図である。図２の前記実施例とは異なり、下部磁
性コア(4)の平行な２辺に巻回されている上部縞上導電
膜と下部縞状導電膜よりなるヘリカル状導体コイルが並
列に接続されているのが特徴である。このような構造に
することによりヘリカル状導体コイルのインダクタンス
を下げることができる。この実施例は、本発明の請求の
範囲の基礎的事項である、下部磁性コア及び上部磁性コ
アの重なる部分が磁気ヘッド摺動端面から離れるにつれ
て次第に小さくなることを含んでいることから、本分野
の専門家であれば上記実施例が本発明の範囲に含まれる
ことは容易に理解できるであろう。
【０００７】
【発明の効果】本発明によれば、従来構造における複雑
な立体加工を必要とするギャップ絞り加工をフォトリソ
グラフィのパタ−ン加工で代行できることから、高性能
な薄膜磁気ヘッドを安定に提供し得る。
な立体加工を必要とするギャップ絞り加工をフォトリソ
グラフィのパタ−ン加工で代行できることから、高性能
な薄膜磁気ヘッドを安定に提供し得る。
【図１】薄膜磁気ヘッドの斜視図。
【図２】薄膜磁気ヘッドの平面図と断面図。
【図３】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図４】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図５】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図６】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図７】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図８】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図９】薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。
【図１０】薄膜磁気ヘッドの他の実施例を示す平面図と
断面図。
断面図。
【図１１】従来の薄膜ヘッドの平面図と断面図である。
【図１２】従来の薄膜ヘッドの平面図と断面図である。
１ 基板 ２ 下部縞状導電膜 ３ 絶縁層 ４ 下部磁性コア ５ ヘッドギャップ ６ 上部磁性コア ７ 上部縞状導電膜 ７” ヘリカル状導体コイル ８ 端子 ９ 磁気的接合部分 １０ スルーホール １１ 重なる部分 １２' スパイラル状導体コイル
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に下部縞状導電膜、前記下部縞状
導電膜の上に絶縁層を介して下部磁性コア、前記下部磁
気コアの上に絶縁層を介して上部縞状導電膜が形成さ
れ、前記下部縞状導電膜及び上部縞状導電膜の端部は連
結されてヘリカル状導体コイルが形成され、前記下部磁
性コアの一端の上に絶縁層を介して上部磁性コアが形成
され、前記下部磁性コアの一端と前記上部磁性コアの一
端によりヘッドギャップの磁極が構成され、前記下部磁
性コアの磁極でない端と前記上部磁性コアの磁極でない
端が磁気的接合部分で接合された薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記下部磁性コアと前記上部磁性コアの間隔は磁極
近傍で平面状で一定であり、前記下部磁性コアと前記上
部磁性コアの磁極となる端面は磁気ヘッドの摺動端面に
露出し、前記下部磁性コアと前記上部磁性コアは該摺動
面の中心近傍で部分的に重なる部分を有し、かつ前記中
心近傍の重なる部分の幅が、前記摺動端面から内側に入
るにつれて次第に小さくなってゆくことを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5126592A JPH05258240A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5126592A JPH05258240A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05258240A true JPH05258240A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=12882119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5126592A Pending JPH05258240A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05258240A (ja) |
-
1992
- 1992-03-10 JP JP5126592A patent/JPH05258240A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11110717A (ja) | 薄膜単磁極ヘッド | |
| US5260845A (en) | Magnetic head having a thin film conductor coil assembly formed separate from a magnetic head core | |
| JPH05250636A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH05258240A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH05242429A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS61178710A (ja) | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS60129915A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS58108017A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH05342529A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH05258238A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH05234033A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH05242432A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS62114113A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0348570B2 (ja) | ||
| JPH01166309A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2551749B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH05342531A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2618860B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2633907B2 (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH01159816A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP3163797B2 (ja) | 磁気共振装置及びその製造方法 | |
| JPS626421A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH01119911A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS58215713A (ja) | 垂直磁気記録用薄膜ヘツド | |
| JPH09282608A (ja) | 薄膜磁気ヘッド |