KR940007983A - 투영 노광방법, 이에 사용되는 투영 노광 장치 및 마스크 - Google Patents

투영 노광방법, 이에 사용되는 투영 노광 장치 및 마스크 Download PDF

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Abstract

반도체장치의 리소그래피(Lithography)공정중에 사용되는 변형 조명방법을 이용한 투영 노광 방법 및 이를 사용한 투영 노광 장치 및 상기 노광 장치에 사용되는 마스크가 제공된다. 콘덴서 렌즈를 통과한 빛의 0차 회절된 수, 입사성분을 제거하고, -/+1차로 회절된 빛의 경사성분을 강화한후 패턴이 형성되어 있는 마스크에 상기 사입사 성분의 빛을 조명하여 피노광물을 노광한다. 상기 빛의 수직입사 성분은 일정한 패턴이 규칙적으로 형성되어 있는 그레이팅 마스크에 의해 광의 위상차이로 인하여 간섭되어 제거되는 반면에, 1차로 회절된 빛은 강화된다. 콘트라스트가 증가되어 리토그래피 공정의 해상도가 개선되고, 촛점 심도로 증가한다. 64MDRAM급의 패턴을 종래의 투영 노광 장치로 형성할수 있다.

Description

투영 노광방법, 이에 사용되는 투영 노광 장치 및 마스크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명의 조명 방법에 사용되는 조명계의 구조를 나타낸 것이고,
제7A도 및 제7B도는 본 발명의 그레이팅 마스크를 통상의 패턴이 형성된 마스크에 부착한 경우를 나타내는 단면도들이고,
제8A도 및 제8B도는 제7A도 및 제7B도의 그레이팅 마스크가 부착되어 있는 마스크의 사시도들이고,
제9A도 및 제9B도는 본 발명의 그레이팅 마스크를 통상의 마스크에 부착시킨 다른 일 예를 나타낸다.

Claims (32)

  1. 마스크를 이용한 투영 노광 방법에 있어서, 광원으로부터 조사된 빛이 수직 성분을 제거하여 사입사광(oblique incident light)을 발생하는 단계 및 상기 사입사광을 마스크에 조사하여 피노광들을 노광하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 사입사광은 기수차 회절광임을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 사입사광은 +/-1차 회절된 광임을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 사입사관으로 전환시키는 단계는 상기 마스크의 상부에 그레이팅 패턴을 형성하여 수행하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴은 마스크에 조사되는 광선의 전부의 수직 입사 성분을 제거하도록 상기 마스크의 상부 전면에 형성된 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴은 마스크에 조사되는 광선의 일부의 수직 입사 성분을 제거하도록 상기 마스크의 상부 전면에 형성된 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  7. 제4항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴은 주기는 λ/sin(0.2×sin-1(NAi))~λ/sin(0.8×sin(NAi))(λ:파장, NAi:노광 장치의 입사측 개구수)임을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  8. 내용없음
  9. 내용없음
  10. 내용없음
  11. 마스크를 이용한 피노광물을 노광하기 위한 투영 노광 방법에 있어서, 마스크와 광원 사이에 광의 0차 회절된 빛을 상호 간섭시켜 제거하여 경사 성분을 갖는 사입사광을 상기 마스크를 통하여 상기 피노광물에 조사하여 노광하는 것으로 구성된 투영 노광 방법.
  12. 광원, 상기 광원으로 부터의 빛을 마스크에 조사하는 제1수단, 및 상기 광원과 상기 마스크 사이에 상기 빛의 수직 입사 성분을 제거하여 사입광을 생성하는 제2수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제1수단은 콘덴서 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제2수단은 상기 콘덴서 렌즈와 상기 마스크 사이에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  15. 제12항에 있어서, 상기 제2수단은 일정한 패턴이 규칙적으로 형성되어 광의 위상차이에 의해 0차 회절된 빛이 간석되어 제거되도록 한 그레이팅 패턴이 형성된 위상 반전 무크롬 마스크임을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  16. 제12항에 있어서, 상기 제2수단은 상기 마스크의 상부에 일정한 크기로 규칙적으로 형성되어 광의 위상차이에 의해 0차 회절된 빛이 간섭되어 제거되도록 형성된 그레이팅 패턴인 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 패턴이 상기 마스크의 일부분 또는 전체에 동일한 선폭으로 반복되어 형성된 것임을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  18. 투명한 기판 및 상기 기판에 규칙적으로 형성되어 광의 위상차이에 의해 간섭되어 0차 회절된 빛이 간섭되도록 함으로써 빛의 수직 입사 성분을 제거하고 +1/-1차로 회절된 빛의 사입사 성분을 강화시키는 그레이팅 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
  19. 제18항에 있어서, 상기 마스크는 무크롬 위상 반전 마스크인 것을 특징으로 하는 마스크.
  20. 제18항에 있어서, 상기 패턴은 주기는 λ/sin(0.2×sin-1(NAi))~λ/sin(0.8×sin(NAi))(λ:파장, NAi:노광 장치의 입사측 개구수)임을 특징으로 하는 마스크.
  21. 제18항에 있어서, 상기 패턴이 바둑판 형태로 교대로 위상차를 갖도록 형성된 것임을 특징으로 하는 마스크.
  22. 제18항에 있어서, 상기 마스크는 소다 라임 유리, 보로 실리케이트 글래스 또는 석영으로 구성된 것임을 특징으로 하는 마스크.
  23. 제18항에 있어서, 상기 마스크는 상기 기판의 일측면에 X축 방향으로 일정한 간격으로 규칙적으로 배열되어 제1그레이팅 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
  24. 제23항에 있어서, 상기 마스크는 상기 기판의 다른면에 상기 제1그레이팅 패턴과 동일하고, 상기 X축방향과 수직인 Y축 방향으로 있는 제2그레이팅 패턴을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
  25. 투명한 제1기판, 상기 투명한 기판상에 형성되어 노광 영역을 한정하기 위한 패턴, 상기 패턴이 형성되지 않은 제1기판의 일측면에 부착되고, 일정한 패턴이 규칙적으로 형성되어 광의 위상차이에 의해 간섭되어 우수차회절된 및을 간섭되어 제거되고, 기수차 회절된 빛은 증강되도록 하는 그레이팅 패턴이 형성된 제2기판으로 구성된 것을 특징으로 하는 마스크.
  26. 제25항에 있어서, 상기 제1기판 및 제2기판사이에 상기 제2기판을 상기 제1기판에 접착 지지하기 위한 접착 지지대가 더 구비되어 있는 마스크.
  27. 제25항에 있어서, 상기 제1기판 및 상기 제2기판은 같은 크기임을 특징으로 하는 마스크.
  28. 제27항에 있어서, 상기 제2기판은 상기 제1기판에 비해 큰 것을 특징으로 하는 마스크.
  29. 투명한 기판, 상기 기판의 일면에 노광영역을 한정하기 위하여 형성된 패턴, 상기 기판의 다른면에 형성되고, 일정한 패턴이 규칙적으로 형성되어 광의 위상차이에 의해 간섭되어 우수차로 회절된 빛의 수직성분은 제거하고, 기수차로 회절된 빛의 경사 성분은 강화하는 그레이팅 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
  30. 제29항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴은 상기 기판의 배면부위가 패터닝되어 형성된 것임을 특징으로 하는 마스크.
  31. 제29항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴은 상기 기판을 구성하는 물질과는 다른 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 마스크.
  32. 제29항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴은 펠리클을 패터닝하여 형성한 것임을 특징으로 하는 마스크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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