KR950024027A - 회전 가능한 플라이-아이렌즈 장치를 갖춘 투영 노광장치 - Google Patents
회전 가능한 플라이-아이렌즈 장치를 갖춘 투영 노광장치 Download PDFInfo
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Abstract
레티클 패턴(34c)의 수직한 두 방향(D1/D2)으로 각각 배열된 수직한 대칭선에 대하여 대칭으로 배열된 4개의 부채형 구멍(32a/32b/32c/32d)을 갖는 조리개를 갖춘 투영 노광장치로서, 플라이-아이 렌즈(31f)의 수직한 두개의 대칭선(X-Y)을 조리개(32)의 수직한 두개의 대칭선과 정렬시키기위한 플라이-아이렌즈(31f)에 회전 시스템(37)이 제공되고, 따라서 포토레지스트(38)상의 레티클 패턴(34c)의 해상도가 개선된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제8도는 본 발명의 광 축소 투영 노광장치를 도시하는 개략도.
Claims (9)
- 부분동기 광선을 발생시키기 위한 복수개의 단일렌즈 장치로 만들어진 플라이-아이렌즈(31f;61)를 갖는 부분동기 광선 발생시스템(31;62)과, 상기 포토레지스트(38)상에 입사하는 상기 패턴 영상을 발생시키기 위하여 상기 레티클(34a)에 전달되도록 상기 조리개(32;42;56;63)에 의하여 형성된 상기 부분동기 광선의 광선다발을 형성하기 위하여, 구멍 영역(32a/ 32b/32c/32d;42a/42b/42c/42d;56a/56b/56c/56d)을 갖는 조리개(32;42;56;63)와, 상기 플라이-아이 렌즈(31f;61)의 회전을 통하여, 상기 플라이-아이렌즈(31f;61)와 상기 레티클(43a) 사이의 상대적 관계를 조절하기 위한 상기 플라이-아이렌즈(31f;61)와 연관되어 있는 회전시스템(37)을 구비하는, 레티클(34a)로부터 광감층(38)에 패턴영상(34c)을 전달하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 레티클(34a)은 제1방향(D1)으로 연장되고 제2방향(D2)으로 반복되는 레티클 패턴(34c)을 가지며, 상기 제1방향(D1)과 상기 제2방향(D2)은 표준좌표(X′-Y′)에 대하여 소정각도로 경사지며, 상기 구멍 영역은 상기 제1 및 제2방향(D1/D2) 중의 하나와 일치된 하나 이상의 대칭선(X′ 또는 Y′)에 대하여 대칭인 복수개의 구멍뚫린 부영역(32a/32b/32c/32d;42a/42b/42c/42d)으로 구성됨을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 레티클(34a)은 제1방향(D1)으로 연장되고 제2방향(D2)으로 반복되는 레티클 패턴(34c)을 가지며, 상기 제1방향(D1)과 상기 제2방향(D2)은 표분좌표(X′-Y′)에 대하여 소정각도로 경사지며, 상기 구멍 영역은 상기 제1 및 제2방향(D1/D2) 중의 하나와 일치된 하나 이상의 대칭선(X′ 또는 Y′)에 대하여 대칭인 복수개의 구멍뚫린 부영역(32a/32b/32c/32d;42a/42b/42c/42d)으로 구성되고, 상기 회전 시스템은 상기 표준좌표(X′-Y′)에 대하여 소정각도로 상기 플라이-아이렌즈(31f)를 회전시킴을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 구멍 영역은 복수개의 구멍뚫린 부영역(56a/56b/56c/56d)으로 구성되며, 상기 회전 시스템은 각각의 상기 구멍뚫린 부영역(56a/56b/56c/56d)에 노출된 상기 플라이-아이렌즈(31f)의 단일렌즈 장치의 중심(57) 갯수를 증가시키는 방식으로 상기 플라이-아이렌즈(31f)를 회전시킴을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 조리개(42)는 결합수단(43a/43b/43c)에 의하여 상기 플라이-아이 렌즈(31f)에 회전가능하게 지지되고 연결됨을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 조리개(32;42)는 상기 플라이-아이렌즈(31f) 보다는 상기 레티클(34a)에 더 근접한 위치에 놓여짐을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 플라이-아이렌즈(61)는 상기 조리개(63) 보다는 상기 레티클(34a)에 더 근접한 위치에 놓여짐을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 비간섭성 광선을 발생시키기 위한 광원(31a)과, 상기 비간섭성 광선을 모으기 위한 상기 광원(31a) 주변에 제공된 유도거울장치(31b)와, 상기 모여진 비간섭성 광선으로부터 장파장광선성분을 제거하기 위하여 상기 유도거울(31b) 상에서 반사되어 모여진 비간섭성 광선용 광학 경로상에 제공된 코울드 거울(31c)과, 평행광선을 발생시키기 위하여 상기 코울드 거울(31c) 상에 반사되는 장파장 광선을 제거하기 위하여 광확 경로상에 제공된 렌즈장치(31d)와, 상기 플라이-아이렌즈(31f)에 입사하는 상기 부분 동기 광선을 발생시키기 위하여 상기 평행광선에 대하여 광학 경로상에 제공된 간섭 필터장치(31e)를 더 구비하는 상기 부분 동기광선 발생 시스템(31;62)을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 조리개(32;42;56;63)를 통과하는 광학 경로를 굽어지게 하기 위하여 상기 조리개와 상기 레티클사이에 제공된 광학 경로유도 시스템(33)과, 상기 레티클과 상기 광감층 사이에 제공된 투영렌즈 장치(35)를 더 구비함을 특징으로 하는 노광장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020059045A (ko) * | 2000-12-30 | 2002-07-12 | 안민혁 | 스캔형 노광장치 |
KR100453906B1 (ko) * | 2002-05-02 | 2004-10-20 | 아남반도체 주식회사 | 반도체 소자 제조용 노광 장치 및 방법 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1020197A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Nikon Corp | 反射屈折光学系及びその調整方法 |
US6411367B1 (en) * | 1999-03-29 | 2002-06-25 | Vlsi Technology, Inc. | Modified optics for imaging of lens limited subresolution features |
JP2002131923A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-05-09 | Ushio Inc | 基板用逐次露光装置 |
TW526391B (en) * | 2000-10-25 | 2003-04-01 | Ushio Electric Inc | Device for step-and-repeat exposure of a substrate |
JP3634782B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2005-03-30 | キヤノン株式会社 | 照明装置、それを用いた露光装置及びデバイス製造方法 |
US7068349B2 (en) * | 2003-04-24 | 2006-06-27 | Asml Netherlands B.V. | Method of and preventing focal plane anomalies in the focal plane of a projection system |
DE102005004216A1 (de) * | 2005-01-29 | 2006-08-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem, insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage in der Halbleiterlithographie |
JP4725334B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2011-07-13 | ソニー株式会社 | 画像形成装置および方法 |
US7728954B2 (en) * | 2006-06-06 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Reflective loop system producing incoherent radiation |
JP5126646B2 (ja) * | 2006-11-10 | 2013-01-23 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
US8277530B2 (en) | 2008-09-24 | 2012-10-02 | Ellis Fibre Usa | Grease removal apparatus, systems and methods |
JP5617256B2 (ja) * | 2010-01-27 | 2014-11-05 | 株式会社ニコン | 液晶表示素子の製造方法及び露光装置 |
JP5772143B2 (ja) * | 2011-03-28 | 2015-09-02 | ソニー株式会社 | 照明装置、投射型表示装置および直視型表示装置 |
DE102012207866A1 (de) * | 2012-05-11 | 2013-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie |
WO2018037710A1 (ja) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | ソニー株式会社 | 照明装置、および表示装置 |
DE102017210162A1 (de) | 2017-06-19 | 2017-08-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60168147A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-08-31 | Oak Seisakusho:Kk | 露光装置 |
JPH0682598B2 (ja) * | 1984-10-11 | 1994-10-19 | 日本電信電話株式会社 | 投影露光装置 |
JPH0513300A (ja) * | 1991-06-28 | 1993-01-22 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置 |
JP3336390B2 (ja) * | 1992-05-26 | 2002-10-21 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法 |
US5383000A (en) * | 1992-11-24 | 1995-01-17 | General Signal Corporation | Partial coherence varier for microlithographic system |
-
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020059045A (ko) * | 2000-12-30 | 2002-07-12 | 안민혁 | 스캔형 노광장치 |
KR100453906B1 (ko) * | 2002-05-02 | 2004-10-20 | 아남반도체 주식회사 | 반도체 소자 제조용 노광 장치 및 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR0140911B1 (en) | 1998-06-15 |
JP2817615B2 (ja) | 1998-10-30 |
US5636005A (en) | 1997-06-03 |
JPH07221007A (ja) | 1995-08-18 |
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