KR960005757A - 투영 노광 방법, 이에 사용되는 투영 노광 장치 및 마스크 - Google Patents
투영 노광 방법, 이에 사용되는 투영 노광 장치 및 마스크 Download PDFInfo
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Abstract
반도체장치의 리소그래피(Lithography)공정중에 사용되는 변형 조명방법을 이용한 투영 노광 방법 및 이를 사용한 투영 노광 장치 및 상기 노광 장치에 사용되는 마스크가 제공된다. 콘덴서 렌즈를 통과한 빛의 0차 회절된 수직입사 성분을 제거하고, -/+1차로 회절된 빌의 경사 성분을 강화한 후, 패턴이 형성되어 있는 마스크에 상기 사입사 성분의 빛을 조명하여 피노광물을 노광한다. 상기 빛의 수직입사 성분은 일정한 패턴이 규칙적으로 형성되어 있는 그레이팅 마스크에 의해 광의 위상차이로 인하여 간섭되어 제거되는 반면에, 1차로 회절된 빛은 강화된다. 상기 그레이팅 마스크는 상기 마스크의 상부에 삼각형을 기본으로 하여 반복 배치되고 교대로 위상차를 갖는 그레이팅 패턴을 갖는다. 이에 따라, 콘트라스트가 증가되어 리토그래피 공정의 해상도가 개선되고, 촛점 심도도 증가한다. 64MDRAM급의 패턴을 종래의 투영 노광 장치로 형성할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명의 조명 방법에 사용되는 조명계의 구조를 나타낸 것이고;
제6A도 내지 제6C도는 본 발명의 변형 조명 방법과 종래의 조명 방법 및 변형조명 방법을 비교 설명하기 위하여 노광장치에서의 광경로를 나타내는 개략도이다.
Claims (9)
- 마스크를 이용한 투영 노광 방법에 있어서, 광원으로부터 조사된 빛의 수직 성분을 제거하여 사입사광(oblique incident light)을 발생하는 단계; 및 상기 사입사광을 마스크에 조사하여 피노광물을 노광하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 사입사광을 전환시키는 단계는 상기 마스크의 상부에 삼각형을 기본으로 하여 반복 배치되고 교대로 위상차를 갖는 그레이팅 패턴을 형성하여 수행하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 사입사광으로 전환시키는 단계는, 투명한 기판에 삼각형을 기본으로 하여 반복 배치되고 교대로 위상차를 갖는 그레이팅 패턴이 형성되어 있는 그레이팅 마스크를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 광원; 상기 광원으로 부터의 빛을 마스크에 조사하는 제1수단; 및 상기 광원과 상기 마스크 사이에 상기 빛의 수직 입사 성분을 제거하여 사입사광을 생성하는 제2수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 제2수단은 상기 마스크의 상부에 일정한 크기의 삼각형을 기본으로 하여 반복 배치되고 교대로 위상차를 갖도록 형성되어, 광의 위상차이에 의해 0차 회절된 빛이 간섭되어 제거되도록 한 그레이팅 패턴이 형성된 위상 반전 무크롬 마스크임을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
- 투명한 기판; 및 상기 기판에 규칙적으로 형성되어 광의 위상차이에 의해 간섭되어 0차 회절된 빛이 간섭 되도록 함으로써 빛의 수직 입사 성분을 제거하고 +1/-1차로 회절된 빛의 사입사 성분을 강화시키는 그레이팅 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제6항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴이 삼각형을 기본으로 하여 반복 배치되고 교대로 위상차를 갖도록 형성된 것임을 특징으로 하는 마스크.
- 제7항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴의 삼각형이 정삼각형으로 형성되어 +1/-1차로 회절된 빛의 조명 형상이 6개로 갈라져 나타나는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제7항에 있어서, 상기 그레이팅 패턴의 삼각형이 직사각형에서 대각선으로 나누어진 삼각형으로 형성되어 +1/-1차로 회절된 빛의 조명 형상이 8개로 갈라져 나타나는 것을 특징으로 하는 마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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