KR920702502A - 컬러필터 및 그 제조방법 - Google Patents

컬러필터 및 그 제조방법

Info

Publication number
KR920702502A
KR920702502A KR1019920700354A KR920700354A KR920702502A KR 920702502 A KR920702502 A KR 920702502A KR 1019920700354 A KR1019920700354 A KR 1019920700354A KR 920700354 A KR920700354 A KR 920700354A KR 920702502 A KR920702502 A KR 920702502A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
color filter
resin composition
photopolymerizable resin
filter according
protective film
Prior art date
Application number
KR1019920700354A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100343080B1 (ko
Inventor
미쯔스루 이이다
세이따로오 쯔쯔미
다께히고 이시다
Original Assignee
기따지마 요시도시
다이니뽄인사쯔 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP16159190A external-priority patent/JP2839936B2/ja
Priority claimed from JP16159090A external-priority patent/JP2933991B2/ja
Priority claimed from JP2161593A external-priority patent/JPH0451204A/ja
Priority claimed from JP16159290A external-priority patent/JP2933992B2/ja
Application filed by 기따지마 요시도시, 다이니뽄인사쯔 가부시끼가이샤 filed Critical 기따지마 요시도시
Publication of KR920702502A publication Critical patent/KR920702502A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100343080B1 publication Critical patent/KR100343080B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133519—Overcoatings

Abstract

내용 없음

Description

컬러필터 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 컬러 액정 표시장치의 단면을 나타내는 도면이다, 제2도는 컬러필터의 제조공정을 나타내는 도면, 제3도는 착색층상에 보호막을 형성하는 공정을 설명하는 도면이다.

Claims (13)

  1. 투명기판상에 착색화소를 형성한 컬러필터에 있어서, 착색화소상에는 광중합성 수지조성물을 경화시킨 보호막을 가지며, 광중합성 수지조성물은 적어도 광중합성 아크릴레이트 올리고머와 2관능 이상의 다관능 광중합성 아크릴레이트 모노머를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬리필터.
  2. 제1항에 있어서, 광중합성 수지조성물이 에폭시수지를 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  3. 제1항에 있어서, 광중합성 아크릴레이트 올리고머가 에폭시 아크릴레이트의 일부 아크릴레이트가 에폭시기인 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  4. 제3항에 있어서, 에폭시기가 에폭시 아크릴레이트의 전구체와 에폭시기의 일부를 잔류시킨 것인 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  5. 제1 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, 투명기판상에 시란커플링제를 도포한 후에 광중합성 수지조성물을 도포한 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  6. 제1 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, 시란커플링제를 광중합성 수지조성물에 첨가하여 도포한 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  7. 제1 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 주연부의 두께가 완만하게 변화하는 보호막을 갖는 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  8. 제1 내지 7항 중 어느 한 항에 있어서, 착색화소는 안료를 분산한 투명수지로 되는 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  9. 투명기판상에 형성한 착색화소에 광중합성 수지조성물을 경화시킨 보호막을 갖는 컬러필터의 제조방법에 있어서, 광중합성 수지 조성물의 도포층의 소정영역에만 광조사하여 경화시키고, 미경화부의 광중합성 수지조성물의 상용성을 갖는 용액으로 미경화부의 광중합성 수지조성물을 용해제거하여 소정영역에만 보호막을 형성한 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  10. 제9항에 있어서, 광조사를 적정한 감광성 마스크와 도포막의 간격보다도 큰 간격을 두고 배치한 감광성 마스크를 개재하여 행하는 것에 의해 감광성 마스크의 구멍 주변부분의 빛을 분산시켜 보호막 주연부의 막두께를 변화시키는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  11. 제9 내지 10항중 어느 한 항에 있어서, 광중합성 수지조성물에 산무수물(酸無水物)을 함유시키고, 미경화부를 알칼리수용액으로 용해제거하며, 컬러필터의 소정영역에만 보호막을 형성한 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  12. 제9 내지 11항중 어느 한 항에 있어서, 투명기판 상에 시란커플링제를 도포한 후에 광중합성 수지조성물을 도포한 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  13. 제9 내지 11항에 있어서, 시란커플링제를 광중합성 수지조성물에 첨가하여 도포한 것을 특징으로 하는 컬러필터.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920700354A 1990-06-20 1991-06-20 컬러필터및그제조방법 KR100343080B1 (ko)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1990-161590 1990-06-20
JP1990-161592 1990-06-20
JP1990-161593 1990-06-20
JP16159190A JP2839936B2 (ja) 1990-01-12 1990-06-20 カラーフィルター
JP16159090A JP2933991B2 (ja) 1990-06-20 1990-06-20 カラーフィルター
JP1990-161591 1990-06-20
JP2161593A JPH0451204A (ja) 1990-06-20 1990-06-20 カラーフィルターおよびその製造方法
JP16159290A JP2933992B2 (ja) 1990-06-20 1990-06-20 カラーフィルター
PCT/JP1991/000827 WO1991020006A1 (en) 1990-06-20 1991-06-20 Color filter and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR920702502A true KR920702502A (ko) 1992-09-04
KR100343080B1 KR100343080B1 (ko) 2002-12-28

Family

ID=27473736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920700354A KR100343080B1 (ko) 1990-06-20 1991-06-20 컬러필터및그제조방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5278009A (ko)
EP (1) EP0571625B1 (ko)
KR (1) KR100343080B1 (ko)
DE (1) DE69132630T2 (ko)
WO (1) WO1991020006A1 (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8216770B2 (en) 2006-10-16 2012-07-10 Cheil Industries Inc. Resin composition comprising cardo resin, method for forming pattern using the resin composition and color filter using pattern formed by the method
US8273270B2 (en) 2010-10-13 2012-09-25 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US8298454B2 (en) 2010-12-10 2012-10-30 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US8318053B2 (en) 2010-12-24 2012-11-27 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and color filter using the same
US10876046B2 (en) 2018-07-02 2020-12-29 Samsung Sdi Co., Ltd. Curable composition including quantum dot, resin layer using the same and display device

Families Citing this family (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2652072B2 (ja) * 1990-02-26 1997-09-10 キヤノン株式会社 遮光層の形成方法
JP3350991B2 (ja) * 1992-03-06 2002-11-25 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置用基板、及び電気光学装置
GB9211283D0 (en) * 1992-05-28 1992-07-15 Philips Electronics Uk Ltd Liquid crystal display devices
WO1993024240A1 (en) * 1992-06-01 1993-12-09 Advanced Technology Incubator, Inc. Light influencing element for high resolution optical systems and method of making same
KR100294194B1 (ko) * 1993-02-05 2001-09-17 김순택 액정표시소자
JP3345089B2 (ja) * 1993-03-26 2002-11-18 株式会社半導体エネルギー研究所 カラーフィルタ基板の作製方法
US5650251A (en) * 1993-07-07 1997-07-22 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing color filter comprising an ultrasonic wave projected perpendicularly to the substrate
TW417034B (en) 1993-11-24 2001-01-01 Canon Kk Color filter, method for manufacturing it, and liquid crystal panel
JP3332515B2 (ja) * 1993-11-24 2002-10-07 キヤノン株式会社 カラーフィルタ、その製造方法及び液晶パネル
US6686104B1 (en) 1993-11-24 2004-02-03 Canon Kabushiki Kaisha Color filter, method for manufacturing it, and liquid crystal panel
JP2952143B2 (ja) * 1993-12-21 1999-09-20 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法
EP0665449B1 (en) * 1994-01-28 2001-10-24 Canon Kabushiki Kaisha Color filter, production process thereof, and liquid crystal panel
JP3376169B2 (ja) * 1994-06-17 2003-02-10 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法及びその方法により製造されたカラーフィルタ
JP3014923B2 (ja) * 1994-06-24 2000-02-28 キヤノン株式会社 カラーフィルターおよびその製造方法ならびにそのフィルターを用いた液晶表示装置
JPH08146214A (ja) * 1994-09-19 1996-06-07 Canon Inc カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、液晶パネル、および同液晶パネルを備えた情報処理装置
JP3372724B2 (ja) * 1994-09-21 2003-02-04 キヤノン株式会社 カラーフィルタおよびその製造方法、液晶パネルならびに情報処理装置
JPH08227011A (ja) * 1994-09-30 1996-09-03 Canon Inc カラーフィルタ、その製造方法、液晶パネル、及びこれを備えた情報処理装置
EP0723167A3 (en) * 1995-01-17 1997-04-02 Mitsubishi Chem Corp Light-curing composition for color filter
US5866481A (en) * 1996-06-07 1999-02-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Selective partial curing of spin-on-glass by ultraviolet radiation to protect integrated circuit dice near the wafer edge
US5989451A (en) * 1997-02-07 1999-11-23 Queen's University At Kingston Compounds and methods for doping liquid crystal hosts
KR100477984B1 (ko) * 1997-08-30 2005-12-30 삼성에스디아이 주식회사 포토레지스트용 감광성 고분자 및 이의 제조방법
US6603510B1 (en) * 1997-12-08 2003-08-05 Intel Corporation Formation of protective coatings for color filters
KR100263860B1 (ko) * 1998-04-14 2000-08-16 김순택 적색 필터막 형성방법
US7157302B2 (en) * 1998-06-04 2007-01-02 Micron Technology, Inc. Imaging device and method of manufacture
US6057903A (en) * 1998-08-18 2000-05-02 International Business Machines Corporation Liquid crystal display device employing a guard plane between a layer for measuring touch position and common electrode layer
US6225389B1 (en) 1998-08-20 2001-05-01 Henkel Corp. Screen coating composition and method for applying same
US6211308B1 (en) 1998-08-20 2001-04-03 Henkel Corporation Method for coating a textile
US6156816A (en) * 1998-08-20 2000-12-05 Henkel Corporation Screen coating composition and method for applying same
JP2001181579A (ja) * 1999-12-27 2001-07-03 Clariant (Japan) Kk コーティング組成物
TW538271B (en) * 2001-02-09 2003-06-21 Hannstar Display Corp Method for preventing ITO opening
JP2003288030A (ja) * 2002-03-27 2003-10-10 Seiko Epson Corp 電気光学装置とその製造方法及びデバイス並びに電子機器
KR100482953B1 (ko) * 2003-04-15 2005-04-15 삼성전자주식회사 컬러필터 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 제조 방법 및컬러필터 제조 장치
JP2006526678A (ja) * 2003-06-03 2006-11-24 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 放射線硬化性コーティングにおいて用いるための顔料濃厚物の製造方法
TW200506452A (en) * 2003-08-11 2005-02-16 Hannstar Display Corp Liquid crystal display (LCD) having an electro-optical light shutter
KR101055187B1 (ko) 2003-12-18 2011-08-08 엘지디스플레이 주식회사 컬러필터 어레이 기판의 제조방법
KR100640531B1 (ko) * 2004-08-20 2006-10-30 동부일렉트로닉스 주식회사 자기 정렬 이미지 센서 제조방법
US20090009694A1 (en) * 2004-10-08 2009-01-08 Fujifilm Corporation Color Filter, Process For Manufacturing Color Filter, And Liquid Crystal Display Device
KR100595601B1 (ko) * 2004-12-14 2006-07-05 동부일렉트로닉스 주식회사 씨모스 이미지 센서 제조방법
KR100734080B1 (ko) * 2004-12-28 2007-07-02 건설화학공업주식회사 디스플레이용 광경화성 수지 조성물
JP5066836B2 (ja) * 2005-08-11 2012-11-07 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電子機器
JP2007101908A (ja) * 2005-10-05 2007-04-19 Fuji Xerox Co Ltd 光変調素子
JP2007147698A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 波長選択吸収性光学部材
KR100881860B1 (ko) * 2007-01-17 2009-02-06 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터
TWI418603B (zh) * 2007-03-16 2013-12-11 Mitsubishi Gas Chemical Co 光穿透型電磁波屏蔽積層體及其製造方法、光穿透型電波吸收體，以及接著劑組成物
KR100959187B1 (ko) * 2007-10-18 2010-05-24 제일모직주식회사 컬러필터용 잉크 조성물, 이를 이용한 컬러필터의 제조방법, 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터
KR101023088B1 (ko) * 2007-11-08 2011-03-24 제일모직주식회사 컬러필터용 잉크 조성물, 이를 이용한 컬러필터의제조방법, 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터
US20090155717A1 (en) * 2007-12-18 2009-06-18 Cheil Industries Inc. Photosensitive Resin Composition with Good Stripper-Resistance for Color Filter and Color Filter Formed Using the Same
JP2010044273A (ja) * 2008-08-14 2010-02-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子
CN101727003B (zh) * 2008-10-24 2012-07-18 第一毛织株式会社 用于彩色滤光片的光敏树脂组合物以及使用其制备的彩色滤光片
KR20110077881A (ko) * 2009-12-30 2011-07-07 제일모직주식회사 투명성 및 난연성이 우수한 인계 아크릴계 공중합체 수지 및 그 조성물
KR101805224B1 (ko) * 2010-05-03 2017-12-05 바스프 에스이 저온 적용을 위한 컬러 필터
KR101293787B1 (ko) 2010-07-28 2013-08-06 제일모직주식회사 난연성 및 내열성이 우수한 투명 열가소성 수지 조성물
CN102436142B (zh) 2010-09-29 2013-11-06 第一毛织株式会社 黑色光敏树脂组合物以及使用其的光阻层
KR101351614B1 (ko) 2010-11-05 2014-02-17 제일모직주식회사 난연 내스크래치성 폴리카보네이트 수지 조성물
KR101374360B1 (ko) 2010-12-14 2014-03-18 제일모직주식회사 난연 내스크래치성 폴리카보네이트 수지 조성물
JP5816428B2 (ja) * 2010-12-24 2015-11-18 富士フイルム株式会社 固体撮像素子のカラーフィルタ用感光性透明組成物、並びに、これを用いた固体撮像素子のカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子のカラーフィルタ、及び、固体撮像素子
KR20130002789A (ko) 2011-06-29 2013-01-08 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101400185B1 (ko) 2011-11-29 2014-06-19 제일모직 주식회사 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조한 컬러 필터
KR101344786B1 (ko) 2011-12-02 2013-12-26 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한　컬러필터
KR20130072954A (ko) 2011-12-22 2013-07-02 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101674990B1 (ko) 2012-12-07 2016-11-10 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20140076320A (ko) 2012-12-12 2014-06-20 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 스페이서
KR101664121B1 (ko) 2012-12-13 2016-10-10 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101609634B1 (ko) 2012-12-26 2016-04-06 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR20140083620A (ko) 2012-12-26 2014-07-04 제일모직주식회사 차광층용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR101656000B1 (ko) 2014-02-24 2016-09-08 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 차광층 및 컬러필터
CN110120470B (zh) * 2019-05-14 2021-04-27 京东方科技集团股份有限公司 一种平坦膜的制备方法及阵列基板

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS513621A (ja) * 1974-06-28 1976-01-13 Shigeru Usami Reriifusakuseihoho
JPS5344204A (en) * 1976-10-04 1978-04-20 Kansai Paint Co Ltd Method of producing photosensitive resin
JPS60129739A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Agency Of Ind Science & Technol 透明着色画像形成用感光性樹脂組成物
JPS61113611A (ja) * 1984-11-07 1986-05-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 樹脂組成物
JPH0833545B2 (ja) * 1985-07-16 1996-03-29 三井東圧化学株式会社 液晶封止用セルの製造方法
JPS63289532A (ja) * 1987-05-22 1988-11-28 Seiko Epson Corp カラ−フイルタ−
US5051295A (en) * 1987-08-10 1991-09-24 Idemitsu Petrochemical Company Limited Protective film for photo masks and lith films
JP2587653B2 (ja) * 1987-09-24 1997-03-05 富士写真フイルム株式会社 カラーフィルターの製造方法
EP0326112B1 (en) * 1988-01-29 1994-09-14 Toppan Printing Co., Ltd. Electrode plate for display device and method for preparation thereof
JPH0224602A (ja) * 1988-07-14 1990-01-26 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフイルターの製造方法
DE68927229T2 (de) * 1989-04-27 1997-02-06 Nippon Kayaku Kk Harzzusammensetzung und verfahren zur herstellung eines durchsichtigen dünnen filmes
US5196296A (en) * 1989-10-06 1993-03-23 Nippon Steel Corporation Epoxy acrylate resins and photosensitive resin compositions therefrom
WO1991019212A1 (en) * 1990-06-06 1991-12-12 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Color filter overcoating material for liquid crystal display, color filter material, formation of overcoat, and formation of color filter

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8216770B2 (en) 2006-10-16 2012-07-10 Cheil Industries Inc. Resin composition comprising cardo resin, method for forming pattern using the resin composition and color filter using pattern formed by the method
US8273270B2 (en) 2010-10-13 2012-09-25 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US8298454B2 (en) 2010-12-10 2012-10-30 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US8318053B2 (en) 2010-12-24 2012-11-27 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and color filter using the same
US10876046B2 (en) 2018-07-02 2020-12-29 Samsung Sdi Co., Ltd. Curable composition including quantum dot, resin layer using the same and display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR100343080B1 (ko) 2002-12-28
EP0571625A4 (en) 1995-10-25
EP0571625A1 (en) 1993-12-01
DE69132630D1 (de) 2001-07-12
WO1991020006A1 (en) 1991-12-26
US5278009A (en) 1994-01-11
DE69132630T2 (de) 2002-02-07
EP0571625B1 (en) 2001-06-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR920702502A (ko) 컬러필터 및 그 제조방법
DE2831101A1 (de) Lichtempfindliches bildausbildungsmaterial und anwendungsverfahren hierfuer
CH633373A5 (de) Verfahren zur herstellung eines mehrfarbigen anzeigepolarisators.
KR890002700A (ko) 칼라디스플레이의 제조방법
NL173790B (nl) Samengesteld fotohardbaar element.
KR960029844A (ko) 컬러 필터, 그의 제조 방법 및 컬러 필터를 구비한 액정 표시 장치
KR920702501A (ko) 액정표시용 색필터 보호피막 재료, 색 필터 재료, 보호피막 형성방법 및 색필터의 형성방법
JPH05288913A (ja) カラーフィルターの製造方法
KR950019780A (ko) 컬러필터의 제조방법
KR950003895A (ko) 표면에 윈도우형 및 프레임형 코팅막이 형성된 기판의 제조방법
JPS5734522A (en) Production of electrode substrate for liquid crystal display element
KR880011900A (ko) 패턴형성방법
JPH0381122B2 (ko)
JPS63298242A (ja) 感光性樹脂層の形成法
JPH04243B2 (ko)
JPH0727912A (ja) 遮光性薄膜形成用樹脂
JPS63123002A (ja) 液晶表示体用カラ−フイルタ及びその製造法
KR930004788A (ko) 액정표시장치의 칼라 필터 제조방법
DE869008C (de) Verfahren zur direkten Herstellung von Positiven
KR950009322A (ko) 기능성 도막을 형성하는 방법
JPH0511256A (ja) 液晶パネル用スペーサーの形成方法
KR960042141A (ko) 액정기판의 제조방법
KR970028714A (ko) 액정표시패널 및 그 제조방법
JP2933991B2 (ja) カラーフィルター
JPS6235346A (ja) 感光性塗布液およびそれを用いた微細パタ−ン形成法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E801 Decision on dismissal of amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
B601 Maintenance of original decision after re-examination before a trial
J301 Trial decision

Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20000317

Effective date: 20010430

S901 Examination by remand of revocation
E902 Notification of reason for refusal
GRNO Decision to grant (after opposition)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090527

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee