KR20110093882A - 규소 화합물의 정제 - Google Patents

규소 화합물의 정제 Download PDF

Info

Publication number
KR20110093882A
KR20110093882A KR1020117013252A KR20117013252A KR20110093882A KR 20110093882 A KR20110093882 A KR 20110093882A KR 1020117013252 A KR1020117013252 A KR 1020117013252A KR 20117013252 A KR20117013252 A KR 20117013252A KR 20110093882 A KR20110093882 A KR 20110093882A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
less
carbon atoms
silane
foreign metal
content
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
KR1020117013252A
Other languages
English (en)
Korean (ko)
Inventor
하르트비크 라울레더
에케하르트 뮈흐
Original Assignee
에보니크 데구사 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에보니크 데구사 게엠베하 filed Critical 에보니크 데구사 게엠베하
Publication of KR20110093882A publication Critical patent/KR20110093882A/ko
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/20—Purification, separation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D15/00—Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
KR1020117013252A 2008-12-11 2009-10-13 규소 화합물의 정제 Abandoned KR20110093882A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008054537A DE102008054537A1 (de) 2008-12-11 2008-12-11 Entfernung von Fremdmetallen aus Siliciumverbindungen durch Adsorption und/oder Filtration
DE102008054537.6 2008-12-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110093882A true KR20110093882A (ko) 2011-08-18

Family

ID=41416235

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020117013252A Abandoned KR20110093882A (ko) 2008-12-11 2009-10-13 규소 화합물의 정제

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8476468B2 (https=)
EP (1) EP2358727A1 (https=)
JP (1) JP5656862B2 (https=)
KR (1) KR20110093882A (https=)
CN (1) CN102245618A (https=)
DE (1) DE102008054537A1 (https=)
TW (1) TWI454477B (https=)
WO (1) WO2010066487A1 (https=)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009027257A1 (de) * 2009-06-26 2010-12-30 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von Organoalkoxyhydrogensilanen
DE102009027730A1 (de) 2009-07-15 2011-01-27 Evonik Degussa Gmbh Verahren und Verwendung von aminofunktionellen Harzen zur Dismutierung von Halogensilanen und zur Entfernung von Fremdmetallen
DE102009056731A1 (de) * 2009-12-04 2011-06-09 Rev Renewable Energy Ventures, Inc. Halogenierte Polysilane und Polygermane
DE102010002342A1 (de) 2010-02-25 2011-08-25 Evonik Degussa GmbH, 45128 Verwendung der spezifischen Widerstandsmessung zur indirekten Bestimmung der Reinheit von Silanen und Germanen und ein entsprechendes Verfahren
DE102011003453A1 (de) 2011-02-01 2012-08-02 Wacker Chemie Ag Verfahren zur destillativen Reinigung von Chlorsilanen
DE102011077455B4 (de) 2011-06-14 2014-02-06 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Bestimmung von Verunreinigungen in Silicium und Reaktor zur Abscheidung von polykristallinem Silicium
CN103120937B (zh) * 2011-11-18 2016-01-13 中国石油化工股份有限公司 用于对苯二甲酸精制的Pd/C催化剂的制备方法
DE102012200992A1 (de) 2012-01-24 2013-07-25 Wacker Chemie Ag Dotierstoffarmes polykristallines Siliciumstück
EP2814997A1 (en) 2012-02-16 2014-12-24 Dow Corning Corporation Deposition system and method of forming a metalloid-containing material therewith
CN104592291B (zh) * 2013-10-30 2017-12-29 中国科学院上海高等研究院 有机硅化合物中金属杂质的去除方法
DE102014203810A1 (de) * 2014-03-03 2015-09-03 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung reiner Octachlortrisilane und Decachlortetrasilane
DE102014013250B4 (de) * 2014-09-08 2021-11-25 Christian Bauch Verfahren zur Aufreinigung halogenierter Oligosilane
DE102014220539A1 (de) 2014-10-09 2016-04-14 Wacker Chemie Ag Reinigung von Chlorsilanen mittels Destillation und Adsorption
EP3056262B1 (de) * 2015-02-12 2018-05-02 Evonik Degussa GmbH Verfahren zur Gewinnung hochreiner Chlorsilanmischungen
CN108250230B (zh) * 2018-02-07 2020-09-15 浙江博瑞电子科技有限公司 一种二异丙胺硅烷的精制方法
JPWO2019244883A1 (ja) * 2018-06-19 2021-06-24 日産化学株式会社 塩類が除去されたポリシロキサンの製造方法
CN108929343A (zh) * 2018-06-27 2018-12-04 合盛硅业（泸州）有限公司 一种提纯八甲基环四硅氧烷的方法
WO2020114609A1 (de) 2018-12-07 2020-06-11 Wacker Chemie Ag Verfahren zur verminderung des gehalts an borverbindungen in halogensilan enthaltenden zusammensetzung
JP7646631B2 (ja) * 2019-08-22 2025-03-17 ダウ シリコーンズ コーポレーション ケイ素化合物を精製するためのプロセス
WO2022096098A1 (de) * 2020-11-05 2022-05-12 Wacker Chemie Ag Verfahren zur entfernung einer verunreinigung aus einem chlorsilangemisch
CN112759608B (zh) * 2020-12-31 2023-05-02 有研国晶辉新材料有限公司 一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备及工艺

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2877097A (en) * 1958-05-06 1959-03-10 Guenter A Wolff Method of purification of silicon compounds
IT1088820B (it) * 1977-12-05 1985-06-10 Smiel Spa Processo di purificazione di clorosilani impiegabili nella preparazione di silicio per elettronica
CA1207127A (en) * 1982-09-29 1986-07-08 Dow Corning Corporation Purification of chlorosilanes
JPH0688772B2 (ja) * 1985-02-27 1994-11-09 昭和電工株式会社 ジクロロシランの精製法
JP2570409B2 (ja) * 1988-12-06 1997-01-08 三菱マテリアル株式会社 クロロポリシランの精製方法
JPH0747594B2 (ja) * 1990-07-20 1995-05-24 大陽酸素株式会社 高純度アルコキシシランの製造方法
US5445742A (en) 1994-05-23 1995-08-29 Dow Corning Corporation Process for purifying halosilanes
EP0702017B1 (de) 1994-09-14 2001-11-14 Degussa AG Verfahren zur Herstellung von chloridarmen bzw. chloridfreien aminofunktionellen Organosilanen
DE19516386A1 (de) 1995-05-04 1996-11-07 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur Herstellung von an chlorfunktionellen Organosilanen armen bzw. freien aminofunktionellen Organosilanen
JP3823400B2 (ja) * 1996-05-23 2006-09-20 東亞合成株式会社 高純度アルコキシシランの製造方法
DE19649023A1 (de) 1996-11-27 1998-05-28 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur Entfernung von Restmengen an acidem Chlor in Carbonoyloxysilanen
DE19746862A1 (de) 1997-10-23 1999-04-29 Huels Chemische Werke Ag Vorrichtung und Verfahren für Probenahme und IR-spektroskopische Analyse von hochreinen, hygroskopischen Flüssigkeiten
DE19821156B4 (de) 1998-05-12 2006-04-06 Degussa Ag Verfahren zur Minderung von Resthalogengehalten und Farbzahlverbesserung in Alkoxysilanen oder Alkoxysilan-basierenden Zusammensetzungen und die Verwendung von Aktivkohle dazu
EP0999214B1 (de) 1998-11-06 2004-12-08 Degussa AG Verfahren zur Herstellung von chloridarmen oder chloridfreien Alkoxysilanen
DE19963433A1 (de) 1999-12-28 2001-07-12 Degussa Verfahren zur Abscheidung von Chlorsilanen aus Gasströmen
JP2002173495A (ja) * 2000-03-28 2002-06-21 Mitsui Chemicals Inc 高純度有機シラン類及びその精製法
DE10057482A1 (de) * 2000-11-20 2002-05-23 Solarworld Ag Verfahren zur Reinigung von Trichlorsilan
FR2843392B1 (fr) * 2002-08-09 2004-09-10 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation d'halogenoalkyldialkylchlorosilane
DE10330022A1 (de) 2003-07-03 2005-01-20 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von Iow-k dielektrischen Filmen
US20050054211A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-10 Mindi Xu Purification of silicon-containing materials
DE102004008442A1 (de) 2004-02-19 2005-09-15 Degussa Ag Siliciumverbindungen für die Erzeugung von SIO2-haltigen Isolierschichten auf Chips
WO2005092790A2 (en) * 2004-03-19 2005-10-06 Entegris, Inc. Method and apparatus for purifying inorganic halides and oxyhalides using zeolites
DE102004037675A1 (de) 2004-08-04 2006-03-16 Degussa Ag Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wasserstoffverbindungen enthaltendem Siliciumtetrachlorid oder Germaniumtetrachlorid
DE102004045245B4 (de) 2004-09-17 2007-11-15 Degussa Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen
DE102005041137A1 (de) 2005-08-30 2007-03-01 Degussa Ag Reaktor, Anlage und großtechnisches Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von hochreinem Siliciumtetrachlorid oder hochreinem Germaniumtetrachlorid
DE102006003464A1 (de) 2006-01-25 2007-07-26 Degussa Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer Siliciumschicht auf einer Substratoberfläche durch Gasphasenabscheidung
DE102007014107A1 (de) 2007-03-21 2008-09-25 Evonik Degussa Gmbh Aufarbeitung borhaltiger Chlorsilanströme
DE102007048937A1 (de) 2007-10-12 2009-04-16 Evonik Degussa Gmbh Entfernung von polaren organischen Verbindungen und Fremdmetallen aus Organosilanen
DE102007050199A1 (de) * 2007-10-20 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen
DE102007050573A1 (de) 2007-10-23 2009-04-30 Evonik Degussa Gmbh Großgebinde zur Handhabung und für den Transport von hochreinen und ultra hochreinen Chemikalien
DE102007059170A1 (de) 2007-12-06 2009-06-10 Evonik Degussa Gmbh Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen
DE102008004396A1 (de) 2008-01-14 2009-07-16 Evonik Degussa Gmbh Anlage und Verfahren zur Verminderung des Gehaltes von Elementen, wie Bor, in Halogensilanen
DE102008004397A1 (de) 2008-01-14 2009-07-16 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Verminderung des Gehaltes von Elementen, wie Bor, in Halogensilanen sowie Anlage zur Durchführung des Verfahrens
JP5206185B2 (ja) * 2008-07-14 2013-06-12 東亞合成株式会社 高純度クロロポリシランの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5656862B2 (ja) 2015-01-21
TWI454477B (zh) 2014-10-01
JP2012511529A (ja) 2012-05-24
TW201035107A (en) 2010-10-01
DE102008054537A1 (de) 2010-06-17
US8476468B2 (en) 2013-07-02
EP2358727A1 (de) 2011-08-24
CN102245618A (zh) 2011-11-16
WO2010066487A1 (de) 2010-06-17
US20110184205A1 (en) 2011-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20110093882A (ko) 규소 화합물의 정제
US20100274028A1 (en) Removal of polar organic compounds and extraneous metals from organosilanes
JP2012511529A5 (https=)
JP5738289B2 (ja) ハロゲンシランを不均化するため及び異種金属を除去するための方法及びアミノ官能性樹脂の使用
JP5653427B2 (ja) 無機シランからの異種金属の除去
KR20100087106A (ko) 무기 실란으로부터 이물 금속의 제거
CN103288867B (zh) 一种新型烷氧基硅烷基poss及其制备方法和应用
CN103180246B (zh) 选择性分解高级硅烷的方法
US12291458B2 (en) Method for removing an impurity from a chlorosilane mixture
CN110437452B (zh) 一种杂原子掺杂磷腈官能化poss基杂化多孔聚合物及其制备方法与应用
JP7646631B2 (ja) ケイ素化合物を精製するためのプロセス
EP1048697A2 (en) Preparation of hydrophobic precipitated silica
CN110382083B (zh) 使用吸附剂共聚物耗减混合物中的有机硅组分的方法和用于实施该方法的装置
EP2032588B1 (en) Method for preparation of alkoxysilanes having reduced halide content
KR102795503B1 (ko) 클로로실란 혼합물로부터 불순물을 제거하는 방법
KR102618387B1 (ko) 할로실란 함유 조성물내 보론 화합물의 함량을 감소시키는 방법
JP2005042121A (ja) 高分子量ポリオルガノシリルシリケートの製造法
JPH0380172B2 (https=)

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20110610

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20120724

Comment text: Request for Examination of Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20140320

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20150108

NORF Unpaid initial registration fee
PC1904 Unpaid initial registration fee