KR20090024832A - 유기 반도체로서의 디케토피롤로피롤 중합체 - Google Patents
유기 반도체로서의 디케토피롤로피롤 중합체 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090024832A KR20090024832A KR1020097002103A KR20097002103A KR20090024832A KR 20090024832 A KR20090024832 A KR 20090024832A KR 1020097002103 A KR1020097002103 A KR 1020097002103A KR 20097002103 A KR20097002103 A KR 20097002103A KR 20090024832 A KR20090024832 A KR 20090024832A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- alkyl
- group
- substituted
- aryl
- alkoxy
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 116
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 44
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 42
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 130
- -1 cyano, Cyclohexyl Chemical group 0.000 claims description 91
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 59
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 46
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 38
- GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[6-(trimethylazaniumyl)hexyl]azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 26
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 23
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 21
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 20
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 15
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 9
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 7
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 7
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 7
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims description 5
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 5
- 125000006731 (C1-C8) thioalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 2
- 125000005401 siloxanyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 4
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 19
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 abstract description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 74
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 43
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 15
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 12
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 0 CC(C)(/C=C1)/C=C/C(/C)=C/C1(C)NC=* Chemical compound CC(C)(/C=C1)/C=C/C(/C)=C/C1(C)NC=* 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 10
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 10
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 9
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 8
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 8
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 7
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N phenylmethyl ester of formic acid Natural products O=COCC1=CC=CC=C1 UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 7
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 6
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 6
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001374 small-angle light scattering Methods 0.000 description 4
- VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N sphos Chemical group COC1=CC=CC(OC)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 description 3
- AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 1-[6-[4-(5-chloro-6-methyl-1H-indazol-4-yl)-5-methyl-3-(1-methylindazol-5-yl)pyrazol-1-yl]-2-azaspiro[3.3]heptan-2-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound ClC=1C(=C2C=NNC2=CC=1C)C=1C(=NN(C=1C)C1CC2(CN(C2)C(C=C)=O)C1)C=1C=C2C=NN(C2=CC=1)C AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 3
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013374 right angle light scattering Methods 0.000 description 3
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- KKFDJZZADQONDE-UHFFFAOYSA-N (hydridonitrato)hydroxidocarbon(.) Chemical compound O[C]=N KKFDJZZADQONDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003184 C60 fullerene group Chemical group 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004947 alkyl aryl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000006268 biphenyl-3-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000309464 bull Species 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 2
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000262 haloalkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000232 haloalkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 125000002463 lignoceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000813 microcontact printing Methods 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N palladium(II) acetate Substances [Pd].CC(O)=O.CC(O)=O LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 2
- MNWBNISUBARLIT-UHFFFAOYSA-N sodium cyanide Chemical compound [Na+].N#[C-] MNWBNISUBARLIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyrrole Natural products C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004305 thiazinyl group Chemical group S1NC(=CC=C1)* 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006700 (C1-C6) alkylthio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYZYQCACSQDPSB-UHFFFAOYSA-N 12,15-dioxatricyclo[8.6.0.02,7]hexadeca-1(10),2,4,6,8-pentaene-11,16-dione Chemical compound O=C1OCCOC(=O)C2=C1C=CC1=CC=CC=C21 ZYZYQCACSQDPSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKHZWDIUNGOHBN-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane-2,3-diol;phenylboronic acid Chemical compound CC(C)(O)C(C)(C)O.OB(O)C1=CC=CC=C1 LKHZWDIUNGOHBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- UOJCDDLTVQJPGH-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetramethyl-2-[4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)phenyl]-1,3,2-dioxaborolane Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1C1=CC=C(B2OC(C)(C)C(C)(C)O2)C=C1 UOJCDDLTVQJPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N Adipamide Chemical compound NC(=O)CCCCC(N)=O GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APQSQLNWAIULLK-UHFFFAOYSA-N Cc1c(cccc2)c2c(C)cc1 Chemical compound Cc1c(cccc2)c2c(C)cc1 APQSQLNWAIULLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSXSIQXFVQCFLZ-UHFFFAOYSA-N Cc1c2OCCOc2c(C)[s]1 Chemical compound Cc1c2OCCOc2c(C)[s]1 WSXSIQXFVQCFLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHJMFSMPSZREIF-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(cccc2)c2c(C)c1 Chemical compound Cc1cc(cccc2)c2c(C)c1 QHJMFSMPSZREIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Cc1ccc(C)cc1 Chemical compound Cc1ccc(C)cc1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N Cc1cccc(C)c1 Chemical compound Cc1cccc(C)c1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNXVRCFYYCRUCY-UHFFFAOYSA-N Cc1nc([s]c(C)n2)c2[s]1 Chemical compound Cc1nc([s]c(C)n2)c2[s]1 GNXVRCFYYCRUCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002422 La(NO3)3·6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019800 NbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006411 Negishi coupling reaction Methods 0.000 description 1
- LYXFCGCYJQCSRL-UHFFFAOYSA-N OOSO Chemical compound OOSO LYXFCGCYJQCSRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020684 PbZr Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910018287 SbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006619 Stille reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007099 Yamamoto allylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical group [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- OIPILFWXSMYKGL-UHFFFAOYSA-N acetylcholine Chemical compound CC(=O)OCC[N+](C)(C)C OIPILFWXSMYKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004373 acetylcholine Drugs 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005013 aryl ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004832 aryl thioethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000002908 as-indacenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC3=CC=CC3=C12)* 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005350 bicyclononyls Chemical group 0.000 description 1
- 210000005098 blood-cerebrospinal fluid barrier Anatomy 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- HJDKCHUESYFUMG-UHFFFAOYSA-N cycloocta-1,5-diene;nickel Chemical compound [Ni].C1CC=CCCC=C1 HJDKCHUESYFUMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 1
- UZVGSSNIUNSOFA-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran-1-carboxylic acid Chemical compound O1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2C(=O)O UZVGSSNIUNSOFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBXDEEVJTYBRJJ-UHFFFAOYSA-N diboronic acid Chemical compound OBOBO VBXDEEVJTYBRJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 description 1
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001633 hexacenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC6=CC=CC=C6C=C5C=C4C=C3C=C12)* 0.000 description 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229920000587 hyperbranched polymer Polymers 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 1
- 238000005442 molecular electronic Methods 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002829 nitrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 125000002460 pentacosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JQQSUOJIMKJQHS-UHFFFAOYSA-N pentaphenyl group Chemical group C1=CC=CC2=CC3=CC=C4C=C5C=CC=CC5=CC4=C3C=C12 JQQSUOJIMKJQHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001388 picenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=C3C4=CC=C5C=CC=CC5=C4C=CC3=C21)* 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000013047 polymeric layer Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYCAUPASBSROMS-AWQJXPNKSA-M sodium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Na+].[O-][13C](=O)[13C](F)(F)F UYCAUPASBSROMS-AWQJXPNKSA-M 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- TYHJXGDMRRJCRY-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) tin(4+) Chemical compound [O-2].[Zn+2].[Sn+4].[In+3] TYHJXGDMRRJCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/02—Macromolecular compounds containing only carbon atoms in the main chain of the macromolecule, e.g. polyxylylenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/124—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one nitrogen atom in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/126—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B69/00—Dyes not provided for by a single group of this subclass
- C09B69/10—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
- C09B69/109—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing other specific dyes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
- H10K85/1135—Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/151—Copolymers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/466—Lateral bottom-gate IGFETs comprising only a single gate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/484—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the channel regions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/30—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/50—Photovoltaic [PV] devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/80—Constructional details
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/17—Carrier injection layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/20—Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
- H10K85/211—Fullerenes, e.g. C60
- H10K85/215—Fullerenes, e.g. C60 comprising substituents, e.g. PCBM
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/615—Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene
- H10K85/621—Aromatic anhydride or imide compounds, e.g. perylene tetra-carboxylic dianhydride or perylene tetracarboxylic di-imide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
본 발명은 화학식 I의 반복 단위를 포함하는 중합체 및 유기 장치, 특히 다이오드, 유기 전계효과 트랜지스터 및/또는 태양 전지, 또는 다이오드 및/또는 유기 전계효과 트랜지스터 및/또는 태양 전지를 함유하는 장치에서 유기 반도체로서의 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명에 따르는 중합체는 유기 용매에 대한 용해도가 우수하고, 필름 형성 특성이 탁월하다. 또한, 본 발명에 따르는 중합체가 반도체 장치 또는 유기 광전지(PV) 장치(태양 전지)에 사용될 경우에, 높은 에너지 변환 효율, 우수한 전계효과 이동성, 우수한 온/오프 전류 비 및/또는 우수한 안정성이 관찰될 수 있다.
화학식 I
중합체, 유기 반도체 장치, 다이오드, 유기 전계효과 트랜지스터, 태양 전지, 용해도, 필름 형성 특성, 온/오프 전류 비, 안정성
Description
본 발명은 화학식 I의 반복 단위를 포함하는 중합체, 및 유기 장치, 특히 다이오드, 유기 전계효과 트랜지스터 및/또는 태양 전지, 또는 다이오드 및/또는 유기 전계효과 트랜지스터 및/또는 태양 전지를 함유하는 장치에서 유기 반도체로서의 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명에 따르는 중합체는 유기 용매에 대한 용해도가 우수하고, 필름 형성 특성이 탁월하다. 또한, 본 발명에 따르는 중합체가 반도체 장치 또는 유기 광전지(PV) 장치(태양 전지)에 사용될 경우에, 높은 에너지 변환 효율, 우수한 전계효과 이동성, 우수한 온/오프 전류 비 및/또는 우수한 안정성이 관찰될 수 있다.
문헌[참조: M. Smet et al., Tetrahedron Lett. 42 (2001) 6527-6530]에는 단량체로서 브롬화 1,4-디옥소-3,6-디페닐피롤로[3,4-c]피롤(DPP) 유도체 및 1,4-디브로모-2,5-디-n-헥실벤젠을 사용하는 스즈키(Suzuki) 커플링의 단계적 순서에 의해 로드형(rod-like) 디케토피롤로피롤 올리고머를 제조하는 방법이 기재되어 있다.
문헌[참조: M. Horn et al., Eur. Polymer J. 38 (2002) 2197-2205]에는 주쇄에 2,5-디하이드로피롤로[3,4-c]피롤 단위를 갖는 써모메소제 닉(thermomesogenic) 폴리실록산의 합성 및 특성이 기재되어 있다.
EP-A 제787,730호에는 화학식 Ia의 DPP의 중합으로 수득한 폴리아크릴레이트 및 폴리우레탄이 기재되어 있다.
위의 화학식 Ia에서,
Q1 및 Q4는 서로 독립적으로 중합성 반응성 그룹이고,
Q2 및 Q3은 서로 독립적으로 수소, C12-C24 알킬, O 또는 S가 1회 이상 삽입된 C6-C24 알킬, 또는 화학식 의 그룹(여기서, Q5는 C4-C18 알킬 또는 C5-C10 사이클로알킬이다)이다.
화학식 Ia의 화합물은 광전도성 및 전기전도성 중합체의 제조에 사용될 수 있다고 언급되어 있지만, 상응하는 실시예가 제시되어 있지 않다. 추가로, DPP계 중합체를 포함하는 EL 장치를 어떻게 제조하는지 그리고 DPP 중합체에 대한 적합한 DPP 단량체를 어떻게 선택하는지에 대한 교시가 전혀 제시되어 있지 않다.
문헌[참조: Macromol. Chem. Phys. 200 (1999) 106-112]에는 이작용성 단량체성 DPP-유도체를 디이소시아네이트 또는 디올 또는 이산(diacid)과 공중합시켜 수득가능한 형광 DPP-중합체(여기서, 작용성 그룹은 DPP-분자의 N-원자에 결합된다)가 기재되어 있다.
문헌[참조: J. Am. Chem. Soc. 117 (1995) 12426-12435]은 작용성 중합체의 합성을 위한 팔라듐 촉매된 스틸(Stille) 커플링 반응의 탐구에 관한 것이다. 반응식 7에 다음 중합체의 합성이 제시되어 있다:
중합체 13: y = 0.05, x = 0.95.
중합체 14: y = 0, x = 1
기재된 중합체가 EL 장치에 사용될 수 있는지에 대해서는 전혀 교시되어 있지 않다.
문헌[참조: J. Am. Chem. Soc. 115 (1993) 11735-11743]에는 광굴절성을 나타내는, 즉 광전도성 및 2차 비선형 광학 활성을 나타내는 DPP-중합체가 기재되어 있다. 당해 장치에서, 광전도성 특성은 당해 장치를 레이저 빔으로 조사시킨 다음, 이러한 조사로부터 발생된 전류를 측정함으로써 측정되고, 전기발광에 대해서는 전혀 측정하지 않았다.
추가로, 다른 DPP-중합체를 어떻게 선택하는지에 대해 전혀 교시되어 있지 않다.
문헌[참조: Appl. Phys. Lett. 64 (1994) 2489-2491]에는 추가의 연구, 즉 문헌[참조: J. Am. Chem. Soc. 115 (1993) 11735-11743]에 기재된 중합체를 사용한, 2개-빔 커플링 실험이 광굴절성 연구를 위하여 수행되어 있다. 2개-빔 커플링 실험으로부터 영-자기장하(zero-field)의 비대칭성 에너지 교환, 즉 문헌[참조: J. Am. Chem. Soc. 115 (1993) 11735-11743]에 기재된 중합체의 광굴절성이 입증된다.
미국 특허공보 제6,451,459호[참조: B. Tieke et al., Synth. Met. 130 (2002) 115-119; Macromol. Rapid Commun. 21 (4) (2000) 182-189]에는 다음 반복 단위를 포함하는 디케토피롤로피롤계 중합체 및 공중합체 및 EL 장치에서의 이들의 용도가 기술되어 있다:
위의 식에서,
x는 0.005 내지 1, 바람직하게는 0.01 내지 1 범위에서 선택되고,
y는 0.995 내지 0, 바람직하게는 0.99 내지 0이고, x + y는 1이고,
Ar1 및 Ar2는 서로 독립적으로
이고,
m 및 n은 1 내지 10의 수이고,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 H, C1-C18알킬, -C(O)O-C1-C18알킬, 퍼플루오로-C1-C12알킬, 치환되지 않거나 C1-C12알킬, C1-C12알콕시 또는 할로겐으로 1 내지 3회 치환된 C6-C12아릴, C1-C12알킬-C6-C12아릴 또는 C6-C12아릴-C1-C12알킬이고,
R3 및 R4는 바람직하게는 수소, C1-C12알킬, C1-C12알콕시, 치환되지 않거나 C1-C12알킬, C1-C12알콕시 또는 할로겐으로 1 내지 3회 치환된 C6-C12아릴 또는 퍼플루오로-C1-C12알킬이고,
R5는 바람직하게는 C1-C12알킬, C1-C12알콕시, 치환되지 않거나 C1-C12알킬, C1-C12알콕시 또는 할로겐으로 1 내지 3회 치환된 C6-C12아릴 또는 퍼플루오로-C1-C12알킬이다. 다음 중합체 는 문헌[참조: Tieke et al., Synth. Met. 130 (2002) 115-119]에 명백하게 기술된다. 다음 중합체 는 문헌[참조: Macromol. Rapid Commun. 21 (4) (2000) 182-189]에 명백하게 기술된다.
국제 공개공보 제WO 05/049695호에는 디케토피롤로피롤(DPP)계 중합체 및 PLEDs, 유기 집적회로(O-ICs), 유기 전계효과 트랜지스터(OFETs), 유기 박막 트랜지스터(OTFTs), 유기 태양 전지(0-SCs), 또는 유기 레이저 다이오드에서의 이들의 용도가 기술되지만, 화학식 I의 특정 DPP계 중합체는 기술되지 않는다. 실시예 12에서, 다음 중합체의 제조방법이 기술된다:
본 발명의 목적은, 예를 들어, 반도체 장치, 광다이오드 또는 유기 광전지(PV) 장치(태양 전지)에 사용될 경우, 우수한 성능, 예를 들어, 높은 에너지 변환 효율, 우수한 전계효과 이동성, 우수한 온/오프 전류 비 및/또는 우수한 안정성을 나타내는 신규한 중합체를 제공하는 것이다.
상기한 목적은 화학식 I의 반복 단위를 포함하는 중합체로 달성된다.
위의 화학식 I에서,
a, b, c, d, e 및 f는 0 내지 200, 특히 0, 1, 2 또는 3이고;
Ar1 및 Ar1'는 서로 독립적으로 화학식
의 그룹이고,
Ar2, Ar2', Ar3, Ar3', Ar4 및 Ar4'는 서로 독립적으로 화학식
의 그룹이고,
p는 가능하면 0, 1, 2, 3 또는 4이고,
R1 및 R2는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소, C1-C25알킬 그룹, 알케닐 그룹, 알키닐 그룹(이는 E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있다), C1-C4알킬로 1 내지 3회 치환될 수 있는 알릴 그룹; C1-C8알킬, C1-C8티오알콕시 또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 사이클로알킬 그룹, 또는 C1-C4알킬, 할로겐, 니트로 또는 시아노로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐로 1회 또는 2회 축합될 수 있는 사이클로알킬 그룹; 사이클로알케닐 그룹, 케톤 또는 알데히드 그룹, 에스테르 그룹, 카바모일 그룹, 실릴 그룹, 실록사닐 그룹, Ar10 또는 -CR5R6-(CH2)g-Ar10(여기서, R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소, 불소, 시아노, 또는 불소, 염소 또는 브롬으로 치환될 수 있는 C1-C4알킬, 또는 C1-C4알킬로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐이고, Ar10은 G로 임의로 치환될 수 있는 아릴 또는 헤테로아릴, 특히 C1-C8알킬, C1-C8티오알콕시 및/또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐 또는 1- 또는 2-나프틸이고, g는 0, 1, 2, 3 또는 4이다)이고,
R3은 한 그룹 내에서 동일하거나 상이할 수 있고, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C25알킬, G로 임의로 치환될 수 있는 C6-C24아릴, G로 임의로 치환될 수 있는 C2-C20헤테로아릴, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C18알콕시, C7-C25아르알킬(여기서, 아르알킬의 아르(=아릴)는 G로 임의로 치환될 수 있다) 또는 -CO-R28이거나, 서로 이웃한 둘 이상의 그룹 R3은 환을 형성하고;
R4, R4', R7 및 R7'는 서로 독립적으로 수소, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C25알킬, G로 임의로 치환될 수 있는 C6-C24아릴, G로 임의로 치환될 수 있는 C2-C20헤테로아릴, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C18알콕시, C7-C25아르알킬(여기서, 아르알킬의 아르(=아릴)는 G로 임의로 치환될 수 있다) 또는 -CO-R28이거나, R4 및 R4'는 환을 형성하고;
D는 -CO-; -COO-; -S-; -SO-; -SO2-; -O-; -NR25-; -CR23=CR24-; 또는 -C≡C-이고;
E는 -OR29; -SR29; -NR25R26; -COR28; -COOR27; -CONR25R26; -CN; 또는 할로겐이고;
G는 E이거나, D가 삽입될 수 있는 C1-C18알킬, 또는 E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알콕시이고,
R23, R24, R25 및 R26은 서로 독립적으로 H; C6-C18아릴; C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환된 C6-C18아릴; C1-C18알킬; 또는 -O-가 삽입된 C1-C18알킬이고; R27 및 R28은 서로 독립적으로 H; C6-C18아릴; C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환된 C6-C18아 릴; C1-C18알킬; 또는 -O-가 삽입된 C1-C18알킬이고, R29는 H; C6-C18아릴; C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환된 C6-C18아릴; C1-C18알킬; 또는 -O-가 삽입된 C1-C18알킬이고;
R109 및 R110은 서로 독립적으로 H, C1-C18알킬, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알킬, C6-C24아릴, G로 치환된 C6-C24아릴, C2-C20헤테로아릴, G로 치환된 C2-C20헤테로아릴, C2-C18알케닐, C2-C18알키닐, C1-C18알콕시, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알콕시, 또는 C7-C25아르알킬이거나,
R109와 R110은 함께 화학식 =CR100R101의 그룹(여기서, R100 및 R101은 서로 독립적으로 H, C1-C18알킬, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알킬, C6-C24아릴, G로 치환된 C6-C24아릴, C2-C20헤테로아릴, 또는 G로 치환된 C2-C20헤테로아릴이다)을 형성하거나,
R109와 R110은 함께, C1-C18알킬, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알킬, C6-C24아릴, G로 치환된 C6-C24아릴, C2-C20헤테로아릴, G로 치환된 C2-C20헤테로아릴, C2-C18알케닐, C2-C18알키닐, C1-C18알콕시, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알콕시, C7-C25아르알킬 또는 -C(=O)-R18로 임의로 치환될 수 있는 5원 또는 6원 환을 형성하고,
R111은 H, C1-C25알킬 그룹, C4-C18사이클로알킬 그룹, C1-C25알콕시 그룹(여기서, 서로 이웃하지 않는 하나 이상의 탄소원자는 -O-, -S- 또는 -C(=O)-O-로 대체될 수 있고/있거나 하나 이상의 수소원자는 F로 대체될 수 있다), C6-C24아릴 그룹 또는 C6-C24아릴옥시 그룹(여기서, 하나 이상의 탄소원자는 O, S 또는 N으로 치환될 수 있고/있거나 하나 이상의 비방향족 그룹 R111로 치환될 수 있다)이고;
m은 각각 동일하거나 상이할 수 있고, 0, 1, 2 또는 3, 특히 0, 1 또는 2, 매우 특히 0 또는 1이고;
X1은 수소원자 또는 시아노 그룹이고,
R1 및/또는 R2가 수소인 중합체는 중합후 제거될 수 있는 보호 그룹을 사용하여 수득할 수 있다(참조: 예를 들어, EP-A 제O 648 770호, EP-A 제O 648 817호, EP-A 제O 742 255호, EP-A 제O 761 772호, 국제 공개공보 제WO 98/32802호, 제WO 98/45757호, 제WO 98/58027호, 제WO 99/01511호, 제WO 00/17275호, 제WO 00/39221호, 제WO 00/63297호 및 EP-A 제1 086 984호). 안료 전구체의 이의 안료 형태로의 전환은 공지된 조건하에 절단시켜, 예를 들어, 임의로 추가의 촉매, 예를 들어, 국제 공개공보 제WO 00/36210호에 기재된 촉매의 존재하에 열적으로 수행된다.
Y1, Y2 및 Y3은 서로 독립적으로 C1-C6알킬이고,
Y4 및 Y8은 서로 독립적으로 C1-C6알킬, 산소, 황 또는 N(Y12)2로 차단된 C1-C6알킬, 또는 치환되지 않거나 C1-C6알킬-, C1-C6알콕시-, 할로-, 시아노- 또는 니트로-치환된 페닐 또는 비페닐이고,
Y5, Y6 및 Y7은 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C6알킬이고,
Y10 및 Y11은 각각 서로 독립적으로 수소, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 할로겐, 시아노, 니트로, N(Y12)2, 또는 치환되지 않거나 할로-, 시아노-, 니트로-, C1-C6알킬- 또는 C1-C6알콕시 치환된 페닐이고,
Y12 및 Y13은 C1-C6알킬이고,
Y14는 수소 또는 C1-C6알킬이고,
Y15는 수소, C1-C6알킬 또는 치환되지 않거나 C1-C6알킬-치환된 페닐이고,
Q는 치환되지 않거나 C1-C6알콕시, C1-C6알킬티오 또는 C2-C12디알킬아미노로 일치환 또는 다치환된 p,q-C2-C6알킬렌(여기서, p 및 q는 상이한 위치 번호이다)이고,
X는 질소, 산소 및 황으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 헤테로원자이고,
m은 X가 산소 또는 황일 경우, 0이고, X가 질소일 경우, 1이고,
L1 및 L2는 서로 독립적으로, 치환되지 않거나 C1-C12알콕시-, -C1-C12알킬티오-, -C2-C24디알킬아미노-, -C6-C12아릴옥시-, -C6-C12아릴티오-, -C7-C24알킬아릴아미노- 또는 -C12-C24디아릴아미노로 일치한 또는 다치환된 C1-C6알킬 또는 [-(p',q'-C2-C6알킬렌)-Z-]n'-C1-C6알킬(여기서, n'는 1 내지 1000의 수이고, p' 및 q'는 상이한 위치 번호이고, Z는 각각 서로 독립적으로 헤테로원자인 산소, 황 또는 C1-C12알킬-치환된 질소이고, [-C2-C6알킬렌-Z-] 반복 단위에서 C2-C6알킬렌은 동일하거나 상이할 수 있다)이고,
L1 및 L2는 포화되거나 1 내지 10회 불포화될 수 있고, 삽입되지 않거나 임의의 위치에서 -(C=O)- 및 -C6H4-로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 내지 10개의 그룹이 삽입될 수 있고, 추가의 치환체를 포함하지 않거나 할로겐, 시아노 및 니트로로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 내지 10개의 추가의 치환체를 포함할 수 있 다. 가장 바람직한 L은 화학식 의 그룹이다.
본 발명의 중합체는 전지, 정렬 층 또는 OFETs, ICs, TFTs, 디스플레이, RFITD 택(tag), 전계 발광 장치 또는 광발광 장치, 디스플레이 역광, 광전지 장치 또는 센서 장치, 전하 주입 층, 쇼트키 다이오드(Schottky diodes), 기억 장치(예: FeFET), 평탄화 층, 대전 방지물, 전도성 기판 또는 패턴, 광전도체 또는 전자사진 용품(기록)에서 전하-수송, 반도체성, 전기전도성, 광전도성, 발광 재료, 표면-개질 재료, 전극 재료로서 사용될 수 있다.
본 발명의 중합체는 하나 또는 그 이상(상이한)의 화학식 I의 반복 단위, 예를 들어, 화학식 Ia 및 Id의 반복 단위를 포함할 수 있다.
화학식 I의 반복 단위는 비대칭성 구조를 가질 수 있지만, 바람직하게는 대칭 구조: a = d; b = e; c = f; Ar1 = Ar1'; Ar2 = Ar2'; Ar3 = Ar3'; Ar4 = Ar4'를 갖는다.
R1 및 R2는 동일하거나 상이할 수 있고, 바람직하게는 수소, 하나 이상의 산소원자가 임의로 삽입될 수 있는 C1-C25알킬 그룹, C1-C25퍼플루오로알킬 그룹, C1-C4알킬로 1 내지 3회 치환될 수 있는 알릴 그룹; C1-C8알킬, C1-C8티오알콕시 또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 사이클로알킬 그룹, 또는 C1-C4알킬, 할로겐, 니트로 또는 시아노로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐에 의해 1회 또는 2회 축합될 수 있는 사이클로알킬 그룹, 알케닐 그룹, 사이클로알케닐 그룹, 알키닐 그룹, 할로알킬 그룹, 할로알케닐 그룹, 할로알키닐 그룹, 케톤 또는 알데히드 그룹, 에스테르 그룹, 카바모일 그룹, 케톤 그룹, 실릴 그룹, 실록사닐 그룹, Ar10 및 -CR5R6-(CH2)g-Ar10(여기서, R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소, 불소, 시아노, 또는 불소, 염소 또는 브롬으로 치환될 수 있는 C1-C4알킬, 또는 C1-C4알킬로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐이다)로부터 선택되고,
R1 및 R2는 더욱 바람직하게는 하나 이상의 산소원자가 임의로 삽입될 수 있는 C1-C25알킬, C5-C12-사이클로알킬, 특히 C1-C8알킬 및/또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 사이클로헥실, 또는 C5-C12사이클로알킬, 특히 C1-C4알킬, 할로겐, 니트로 또는 시아노로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐로 1회 또는 2회 축합될 수 있는 사이클로헥실, C1-C8알킬 및/또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐 또는 1- 또는 2-나프틸, 및 -CR5R6-(CH2)g-Ar10(여기서, R3 및 R4는 수소이고, Ar10은 C1-C8알킬 및/또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐 또는 1- 또는 2-나프틸이고, g는 0 또는 1이다)으로부터 선택된다. -O-가 1회 이상 삽입된 알킬 그룹은 -O-가 1회 이상, 예를 들어, -O-가 1, 2 또는 3회 삽입되어, 예를 들어, -(CH2)2OCH3, -(CH2CH2O)2CH2CH3, -CH2-O-CH3, -CH2CH2-O-CH2CH3, -CH2CH2CH2-O- CH(CH3)2, -[CH2CH2O]Y1-CH3(여기서, Y1은 1 내지 10이다), -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3 및 -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH3와 같은 구조 단위를 생성할 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C2-C25알킬 라디칼인 것으로 이해된다.
가장 바람직한 R1 및 R2는 C1-C25알킬 그룹, 특히 C4-C25알킬 그룹, 예를 들어, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, 3급-부틸, n-펜틸, 2-펜틸, 3-펜틸, 2,2,-디메틸프로필, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 2-에틸헥실, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 2-헥실데실, 헵타데실, 옥타데실, 에이코실, 헨에이코실, 도코실, 테트라코실 또는 펜타코실이고, 여기서 유리한 그룹은 화학식 (여기서, ml은 n1 + 4이고, ml + n1은 22 이하이다)일 수 있다.
키랄 측쇄, 예를 들어, R1 및 R2는 중합체의 모폴로지에 영향을 미칠 수 있는 호모키랄성 또는 라세미성일 수 있다.
본 발명은
R1 및 R2가 서로 독립적으로 C1-C25알킬 그룹, 특히 하나 이상의 산소원자가 삽입될 수 있는 C4-C12알킬 그룹이고,
a = b = c = f가 0이고;
d = e가 1이고;
위의 화학식 VIb에서,
X1은 수소원자 또는 시아노 그룹이고,
Ar2, Ar2', Ar3, Ar3', Ar4 및 Ar4'는 서로 독립적으로 화학식 의 그룹이고, 여기서, p는 0, 1 또는 2이고, R3은 한 그룹 내에서 동일하거나 상이할 수 있고, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C25알킬, 및 E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C18알콕시로부터 선택되고; R4는 E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C6-C25알킬, G로 임의로 치환될 수 있는 C6-C14아릴, 예를 들어, 페닐, 나프틸 또는 비페닐릴, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C25알콕시, 및 C7-C15아르알킬(여기서, 아르는 임의로 G로 치환될 수 있다)로부터 선택되고,
D는 -CO-, -COO-, -S-, -SO-, -SO2-, -O- 또는 -NR25-(여기서, R25는 C1-C12알 킬, 예를 들어, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소부틸 또는 2급 부틸이다)이고;
E는 -OR29; -SR29; -NR25R25; -COR28; -COOR27; -CONR25R25; 또는 -CN(여기서, R25, R27, R28 및 R29는 서로 독립적으로 C1-C12알킬, 예를 들어, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소부틸, 2급-부틸, 헥실, 옥틸 또는 2-에틸-헥실, 또는 C6-C14 아릴, 예를 들어, 페닐, 나프틸 또는 비페닐릴이다)이고,
G는 E의 바람직한 경우와 동일하거나, C1-C18알킬, 특히 C1-C12알킬, 예를 들어, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소부틸, 2급-부틸, 헥실, 옥틸 또는 2-에틸-헥실이다.
본 발명의 또 다른 바람직한 양태에서, 단위 는 상이할 수 있지만, 바람직하게는 동일하고, 화학식 의 그룹(여기서, R4는 하나 이상의 산소원자가 임의로 삽입될 수 있는 C6-C25알킬이다)이다.
본 발명의 또 다른 바람직한 양태에서, 중합체는 화학식 II의 반복 단위를 포함하거나, 중합체는 화학식 III의 구조를 갖는다.
위의 화학식 II 및 III에서,
a, b, c, d, e, f, R1, R2, Ar1, Ar1', Ar2, Ar2', Ar3, Ar3', Ar4 및 Ar4'는 위에서 정의한 바와 같고,
h는 1이고,
의 그룹(여기서, R7 및 R7'는 위에서 정의한 바와 같다)이고;
제1 "반복 단위"는 화학식 I의 반복 단위이고,
"분지 단위"는 2개 이상의 연결 부위를 갖는 단위이고,
q 및 t는 정수이고, 여기서 q/t는 화학식 I의 반복 단위 대 "분지 단위"의 비이다.
화학식 II의 반복 단위는 유리하게는 대칭 구조: a = d; b = e; c = f; Ar1 = Ar1'; Ar2 = Ar2'; Ar3 = Ar3'; Ar4 = Ar4'를 갖는다.
"분지 단위"는 2개 이상의 연결 부위를 갖는 단위이다. 분지 단위의 예는, 예를 들어, 문헌[참조: Dendrimers and Other Dendritic Polymers, D. A. Tomalia, J. M. J. Frechet (Eds), John Wiley & Sons, Ltd. 2002; Star and Hyperbranched Polymers, M. K. Mishra 및 S. Kobayashi (Eds), Marcel Dekker 2000]에 기술되어 있다.
특히 적합한 "분지" 단위의 예가 이하 제시된다.
위의 식에서,
(여기서, R200, R201 및 R202는 서로 독립적으로 H 또는 C1-C25알킬이다),
다작용성 단위("분지 단위")의 사용으로 2개의 다작용성 단위에 대해 이하 예시되는 바와 같이(단지 예시적 목적으로), 분지된 중합체성 물질을 유도한다:
(A는 화학식 I의 반복 단위이고, o, q, r 및 t는 0 내지 500이다) 또는
본 발명의 또 다른 바람직한 양태에서, 중합체는 화학식 , 특히
의 반복 단위(여기서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 C1-C25알킬이고, R3 및 R3'는 서로 독립적으로, 하나 이상의 산소원자가 임의로 삽입될 수 있는 C6-C25알킬이고, R4 및 R4'는 서로 독립적으로, 하나 이상의 산소원자가 임의로 삽입될 수 있는 C6-C25알킬이고, R7 및 R7'는 서로 독립적으로, 하나 이상의 산소원자가 임의로 삽입될 수 있는 C6-C25알킬이다)를 포함한다.
본 발명의 또 다른 바람직한 양태에서, 중합체는 화학식 의 중합체(여기서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 H 또는 C1-C25알킬이고, R4는 하나 이상의 산소원자가 임의로 삽입될 수 있는 C6-C25알킬이다)이다.
하나의 양태에서, 본 발명에 따르는 중합체는 화학식 I의 반복 단위의 하나 이상의 유형으로만 이루어져 있다. 바람직한 양태에서, 본 발명에 따르는 중합체는 정확하게는 화학식 I의 반복 단위 한 유형(단독중합체)으로 이루어진다.
본 발명에 따라, 용어 "중합체"는 중합체 및 올리고머를 포함하는데, 여기서, 중합체는 상대 분자 질량이 큰 분자로, 이의 구조는 상대 분자 질량이 작은 분자로부터 사실상 또는 개념적으로 유도된 단위의 반복을 본질적으로 포함하고, 올리고머는 중간 분자 질량의 분자로, 이의 구조는 상대 분자 질량이 작은 분자로부 터 사실상 또는 개념적으로 유도된 소수의 복수 단위를 본질적으로 포함한다. 분자는 하나 또는 몇 개의 단위를 제거하여도 현저히 변화되지 않는 특성을 갖는 경우, 상대 분자 질량이 큰 것으로 간주된다. 분자는 하나 또는 몇 개의 단위의 제거로 현저히 변화되는 특성을 갖는 경우, 중간 분자 질량을 갖는 것으로 간주된다.
본 발명에 따르면, 단독중합체는 1종의 (사실적, 함축적 또는 가정적) 단량체로부터 유도된 중합체이다. 다수의 중합체는 보완적 단량체의 상호 반응에 의해 제조된다. 이러한 단량체는 반응하여 "함축적 단량체"를 제공하도록 용이하게 가시화될 수 있으며, 이의 단독중합은 실제 생성물을 제공하고, 이는 단독중합체로 간주될 수 있다. 일부 중합체는 생성되는 중합체를 구성하는 마크로분자의 구조가 가정적 단량체를 단독중합시켜 형성되는 것으로 생각될 수 있도록 다른 중합체를 화학적으로 개질시켜 수득한다.
따라서, 공중합체는 1종 이상의 단량체로부터 유도된 중합체, 예를 들어, 이원공중합체, 삼원공중합체, 사원공중합체 등이다.
본 발명의 올리고머의 중량 평균 분자량은 2,000달톤 미만이다. 본 발명의 중합체의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 2,000달톤 이상, 특히 2,000 내지 2,000,000달톤, 더욱 바람직하게는 10,000 내지 1,000,000달톤, 가장 바람직하게는 10,000 내지 750,000달톤이다. 분자량은 폴리스티렌 표준물을 사용하여 겔 투과 크로마토그래피법에 따라 측정한다.
바람직한 양태에서, 본 발명의 중합체는 화학식 I의 반복 단위를 포함하는 단독중합체이고, 이는 화학식 VII일 수 있다.
위의 화학식 VII에서,
A는 화학식 I의 반복 단위이다.
상기한 국면에서, 중합체는 바람직하게는 화학식 Ia 내지 Ii의 반복 단위 중의 하나를 포함하고, 여기서 화학식 Ie, Id, Ih 및 Ii의 반복 단위가 특히 바람직하다.
화학식 I의 반복 단위 및 COM1 또는 COM2(v는 0.995 내지 0.005이고, w는 0.005 내지 0.995이다)를 포함하는 화학식 VII의 공중합체는 또한 커플링 반응, 예를 들어, 니켈 커플링 반응으로 수득할 수 있다:
위의 화학식 VIIa 및 VIIb에서,
A는 위에서 정의한 바와 같고,
-COM1-은 화학식
의 반복 단위[여기서, R7 및 R7'는 위에서 정의한 바와 같고, R44 및 R41은 수소, C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시이고, R45는 H, C1-C18알킬 또는 E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알킬, 특히 -O-가 삽입된 C1-C18알킬(여기서, D 및 E는 위에서 정의한 바와 같다)이다]이고,
-COM2-는 화학식 의 그룹[여기서, R116 및 R117은 서로 독립적으로 H, O로 임의로 차단될 수 있는 C1-C18알킬 또는 O로 임의로 차단될 수 있는 C1-C18알콕시이고, R119 와 R120은 서로 독립적으로 H, 또는 O로 임의로 차단 될 수 있는 C1-C18알킬이거나, R119 와 R120은 함께, 화학식 =CR100R101의 그룹(여기서, R100 및 R101은 서로 독립적으로 H 또는 C1-C18알킬이다)을 형성하거나, R119 와 R120은 함께 C1-C18알킬로 임의로 치환될 수 있는 5원 또는 6원 환을 형성한다]이다.
상기한 양태에서, 중합체는 화학식 VIIc의 중합체이다.
위의 화학식 VIIc에서,
A, COM1 및 COM2는 위에서 정의된 바와 같고,
o는 1이고,
p는 0 또는 1이고,
q는 0.005 내지 1이고,
r은 0 또는 1이고,
s는 0 또는 1이고, 이때 d가 0이면, e는 1이 아니고,
t는 0.995 내지 0이고, 여기서 c와 f의 합은 1이다.
화학식 VII의 단독중합체는, 예를 들어, 니켈 커플링 반응, 특히 야마모토 반응(Yamamoto reaction)으로 수득된다:
화학식 VII
위의 화학식 VII에서,
A는 화학식 I의 반복 단위이다.
디할로-작용성 반응물만을 포함하는 중합 공정은 니켈 커플링 반응을 사용하여 수행할 수 있다. 하나의 이러한 커플링 반응은 문헌[참조: Colon et al., J. Pol. Sci., Part A, Polymer Chemistry Edition 28 (1990) 367] 및 문헌[참조: Colon et al., J. Org. Chem. 51 (1986) 2627]에 기재되어 있다. 당해 반응은 통상적으로 극성 비양성자성 용매(예: 디메틸아세트아미드) 중에서 촉매량의 니켈 염, 상당량의 트리페닐포스핀 및 다량의 아연 분진을 사용하여 수행한다. 유기-가용성 요오드화물을 촉진제로서 사용하는 당해 공정의 변형법은 문헌[참조: Ioyda et al., Bull. Chem. Soc. Jpn, 63 (1990) 80]에 기재되어 있다.
디할로방향족 화합물의 혼합물을 불활성 용매 중에서 과량의 니켈 (1,5-사이클로옥타디엔) 착체로 처리하는 또 다른 니켈 커플링 반응은 문헌[참조: Yamamoto, Progress in Polymer Science 17 (1992) 1153]에 기재되어 있다. 모든 니켈 커플링 반응은 2개 이상의 방향족 디할라이드의 반응성 혼합물에 적용하는 경우, 본질적으로 랜덤 공중합체를 생성한다. 이러한 중합 반응은 소량의 물을 중합 반응 혼합물에 가하여 종결시킬 수 있는데, 이는 말단 할로겐 그룹을 수소 그룹으로 대체시킨다. 또 다른 방법으로, 일작용성 아릴 할라이드를 이러한 반응에서 연쇄 종결 제로서 사용할 수 있는데, 이는 말단 아릴 그룹을 형성시킨다.
니켈-커플링 중합으로 본질적으로 단독중합체 또는 DPP 그룹 함유 단위 및 다른 공단량체로부터 유도된 단위를 포함하는 랜덤 공중합체를 생성한다.
화학식 VIId 또는 VIIe의 단독중합체는, 예를 들어, 스즈키 반응으로 수득할 수 있다:
위의 화학식 VIId 및 VIIe에서,
A, COM1 및 COM2는 위에서 정의한 바와 같다.
바람직한 화학식 VIId 또는 VIIe의 단독중합체의 예는 다음과 같다:
화학식 VIId의 단독중합체의 또하나의 예는 화학식 의 중합체(여기서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 H 또는 C1-C25알킬이고, R4는 임의로 하나 이상의 산소원자가 삽입될 수 있는 C6-C25알킬이다)이다.
통상적으로 "스즈키 반응"으로 칭명되는, 방향족 보레이트와 할로게나이드, 특히 브로마이드와의 축합 반응은 문헌[참조: N. Miyaua and A. Suzuki, Chemical Reviews, Vol. 95, pp. 457-2483 (1995)]에 보고된 바와 같은 다양한 유기 작용성 그룹의 존재를 허용한다. 바람직한 촉매는 2-디사이클로헥실포스피노-2',6'-디알콕시비페닐/팔라듐(II) 아세테이트이다. 특히 바람직한 촉매는 2-디사이클로헥실포스피노-2',6'-디-메톡시비페닐(sPhos)/팔라듐(II) 아세테이트이다. 당해 반응은 고분자량 중합체와 공중합체를 제조하는 데 적용될 수 있다.
화학식 VIId 또는 VIIe에 상응하는 중합체를 제조하기 위해, 디할로게나이드, 예를 들어, 디브로마이드 또는 디클로라이드, 특히 화학식 에 상응하는 디브로마이드를, Pd 및 트리페닐포스핀의 촉매 작용하에, 화학식 또는 에 상응하는 디보론산 또는 디보로네이트{여기서, X11은 각각 독립적으로 -B(OH)2, -B(OY1)2 또는 [여기서, Y1은 각각 독립적으로 C1-C10 알킬 그룹이고, Y2는 각각 독립적으로 C2-C20 알킬렌 그룹, 예를 들면, -CY3Y4-CY5Y6- 또는 -CY7Y8-CY9Y10- CY11Y12-(여기서, Y3, Y4, Y5, Y6, Y7, Y8, Y9, Y10, Y11 및 Y12는 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C10 알킬 그룹, 특히 -C(CH3)2C(CH3)2- 또는 -C(CH3)2CH2C(CH3)2-이다)이다]이다}의 등몰량과 반응시킨다. 당해 반응은 통상적으로 톨루엔 등의 방향족 탄화수소 용매 중에서 약 70 내지 180℃에서 수행한다. 디메틸포름아미드 및 테트라하이드로푸란 등의 기타 용매는 또한 단독으로, 또는 방향족 탄화수소와의 혼합물로 사용될 수 있다. 수성 상, 바람 직하게는 탄산나트륨 또는 중탄산나트륨이 HBr 스캐빈져로서 사용된다. 반응물의 반응성에 따라, 중합 반응은 2 내지 100시간이 소요될 수 있다. 유기 염기, 예를 들면, 테트라알킬암모늄 하이드록사이드 및 상 전이 촉매, 예를 들면, TBAB가 붕소의 활성을 촉진시킬 수 있다{예를 들면, 문헌[참조: Leadbeater & Marco; Angew. Chem. Int. Ed. Eng. 42 (2003) 1407] 및 당해 문헌에 인용된 문헌 참조}. 반응 조건의 기타 변형은 문헌[참조: T. I. Wallow and B. M. Novak, J. Org. Chem. 59 (1994) 5034-5037; 및 M. Remmers, M. Schulze, and G. Wegner, Macromol. Rapid Commun. 17 (1996) 239-252]에 제시되어 있다.
필요한 경우, 일작용성 아릴 할라이드 또는 아릴 보로네이트는 이러한 반응에서 연쇄 종결제로서 사용될 수 있고, 이는 말단 아릴 그룹을 형성시킨다.
스즈키 반응에서 단량체 공급물의 공급 순서 및 조성을 조절함므로써, 생성되는 공중합체 중의 단량체 단위의 순서를 조절할 수 있다.
본 발명의 중합체는 또한 스틸 커플링으로 합성될 수 있다{예를 들어, 문헌[참조: Babudri et al, J. Mater. Chem., 2004, 14, 11-34; J. K. Stille, Angew. Chemie Int. Ed. Engl. 1986, 25, 508] 참조}. 화학식 VIId 또는 VIIe에 상응하는 중합체를 제조하기 위해, 디할로게나이드, 예를 들어, 디브로마이드 또는 디클로라이드, 특히 화학식 에 상응하는 디브로마이드를, 팔라듐 함유 촉매의 존재하에 0 내지 200℃ 범위의 온도에서 불활성 용매 중에서 화학식 또 는 의 화합물(여기서, X11은 화학식 -SnR207R208R209의 그룹이다)과 반응시킨다. 본원에서, 사용되는 모든 단량체의 총계가 매우 균형잡힌 유기주석 작용기 대 할로겐 작용기의 비율을 갖는다는 것이 입증되어야 한다. 또한, 반응 말기에 일작용성 시약으로 말단 캡핑시켜 과량의 반응성 그룹을 제거하는 것이 유리하다는 것을 입증할 수 있다. 당해 공정을 수행하기 위해, 주석 화합물 및 할로겐 화합물을 바람직하게는 하나 이상의 불활성 유기 용매에 도입하고, 0 내지 200℃, 바람직하게는 30 내지 170℃의 온도에서 1 내지 200시간 동안, 바람직하게는 5 내지 150시간 동안 교반시킨다. 조악한 생성물을 당업자에게 공지되고 각각의 중합체에 적합한 방법, 예를 들어, 반복 재침전으로 또는 심지어 투석으로 정제시킬 수 있다.
기술된 공정에 적합한 유기 용매는, 예를 들어, 에테르, 예를 들어, 디에틸 에테르, 디메톡시에탄, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 디옥솔란, 디이소프로필 에테르 및 3급-부틸 메틸 에테르, 탄화수소, 예를 들어, 헥산, 이소헥산, 헵탄, 사이클로헥산, 벤젠, 톨루엔 및 크실렌, 알콜, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 에틸렌 글리콜, 1-부탄올, 2-부탄올 3급-부탄올, 케톤, 예를 들어, 아세톤, 에틸 메틸 케톤 및 이소부틸 메틸 케톤, 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드 및 N-메틸피롤리돈, 니트릴, 예를 들어, 아세토니트릴, 프로피오니트릴 및 부티로니트릴, 및 이의 혼합물이다.
팔라듐 및 포스핀 성분은 스즈키 변형법에 대한 기술에서와 유사하게 선택되어야 한다.
또는, 본 발명의 중합체는 또한 아연 시약[A-(ZnX12)2, 여기서 X12는 할로겐이다] 및 할라이드 또는 트리플레이트[COM1-(X11)2, 여기서 X11은 할로겐 또는 트리플레이트이다]를 사용하는 네기시 반응(Negishi reaction)에 의해 합성할 수 있다. 예를 들어, 문헌[참조: E. Negishi et al., Heterocycles 18 (1982) 117-22]을 참조한다.
또한, DPPs의 할로겐 유도체는 산화적으로[예: FeCl3 사용, 특히 문헌(참조: P. Kovacic et al., Chem. Ber. 87 (1987) 357-379; M. Wenda et al., Macromolecules 25 (1992) 5125) 참조] 또는 전기화학적으로[특히 문헌(참조: N. Saito et al., Polym. Bull. 30 (1993) 285) 참조] 중합시킬 수 있다.
화학식 X 및 XI의 단량체는 신규하고, 본 발명의 추가의 국면을 형성한다.
위의 화학식 X 및 XI에서,
B 및 C는 서로 독립적으로 임의로 축합된 방향족 또는 헤테로방향족 환이고
a, b, c, d, e, f, Ar1, Ar1', Ar2, Ar2', Ar3, Ar3', Ar4 및 Ar4'는 제1항에서 정의한 바와 같고,
X는 ZnX12, -SnR207R208R209[여기서, R207, R208 및 R209는 동일하거나 상이하고, H 또는 C1-C6알킬(여기서, 2개의 라디칼은 임의로 공통 환을 형성하고, 이들 라디칼은 임의로 분지되거나 분지되지 않는다)이고, X12는 할로겐 원자, 매우 특히 I 또는 Br이다]; 또는 -OS(O)2CF3, -OS(O)2-아릴, 특히 , -OS(O)2CH3, -B(OH)2, -B(OY1)2, , BF4Na 또는 -BF4K[여기서, Y1은 각각 독립적으로 C1-C10 알킬 그룹이고, Y2는 각각 독립적으로 C2-C10 알킬렌 그룹, 예를 들면, -CY3Y4-CY5Y6- 또는 -CY7Y8-CY9Y10- CY11Y12-(여기서, Y3, Y4, Y5, Y6, Y7, Y8, Y9, Y10, Y11 및 Y12는 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C10 알킬 그룹, 특히 -C(CH3)2C(CH3)2- 또는 -C(CH3)2CH2C(CH3)2-이다)이다]이고,
본 발명의 추가의 국면은 본 발명에 따르는 중합체 및 물질의 산화된 형태 및 환원된 형태 둘 다에 관한 것이다. 전자의 손실 또는 획득은 전도성이 높은 매우 비편재된 이온 형태를 형성시킨다. 이는 통상적인 도판트에 노출시 발생할 수 있다. 적합한 도판트 및 도핑 방법은, 예를 들어, EP 제0528662호, 미국 특허 제5,198,153호 또는 국제 공개공보 제WO 96/21659호로부터 당업자에게 공지되어 있다.
도핑 방법은 통상적으로 반도체 재료를 산화환원 반응에서 산화제 또는 환원 제로 처리하여 재료에 적용된 도판트로부터 유도된 상응하는 카운터이온과 함께 비편재된 이온 중심을 형성시킴을 포함한다. 적합한 도핑 방법은, 예를 들어, 대기압 또는 감압에서 도핑 증기에의 노출, 도판트를 함유하는 용액 중에서의 전기화학적 도핑, 도판트와 열적을 확산되는 반도체 재료와의 접촉 및 도판트의 반도체 재료로의 이온 주입을 포함한다.
전자가 캐리어로서 사용될 경우, 적합한 도판트는, 예를 들어, 할로겐(예: I2, Cl2, Br2, ICl, ICl3, IBr 및 IF), 루이스 산(예: PF5, AsF5, SbF5, BF3, BCl3, SbCl5, BBr3 및 SO3), 양성자산, 유기 산 또는 아미노산(예: HF, HCl, HNO3, H2SO4, HClO4, FSO3H 및 ClSO3H), 전이 금속 화합물(예: FeCl3, FeOCl, Fe(ClO4)3, Fe(4-CH3C6H4SOa)3, TiCl4, ZrCl4, HfCl4, NbF5, NbCl5, TaCl5, MoF5, MoCl5, WF5, WCl6, UF6 및 LnCl3(여기서, Ln은 란탄족 원소이다), 음이온(예: Cl-, Br-, I-, I3-, HSO4 -, SO2-, NO3-, ClO4-, BF4-, PF6-, AsF6-, SbF6-, FeCl4-, Fe(CN)6 3-, 각종 설폰산의 음이온, 예를 들어, 아릴-SO3 -)이다.
정공(hole)이 캐리어로서 사용될 경우, 도판트의 예는 양이온(예: H+, Li+, Na+, K+, Rb+ 및 Cs+), 알칼리 금속(예: Li, Na, K, Rb 및 Cs), 알칼리 토금속(예: Ca, Sr 및 Ba), O2, XeOF4, (NO2 +)(SbF6 -), (NO2 +)(SbCl6 -), (NO2 +)(BF4 -), AgClO4, H2IrCl6, La(NO3)3·6H2O, FSO2OOSO2F, Eu, 아세틸콜린, R4N+(R은 알킬 그룹이다), R4P+(R은 알킬 그룹이다), R6As+(R은 알킬 그룹이다) 및 R3S+(R은 알킬 그룹이다)이다.
본 발명의 화합물 및 재료의 전도성 형태는 용품에서의 유기 "금속", 예를 들어, 유기 발광 다이오드 용품에서의 전하 주입 층 및 ITO 편광화 층, 편평한 패널 디스플레이 및 터치 스크린용 필름, 대전방지성 필름, 인쇄 전도성 기판, 전자 용품에서의 패턴 또는 트랙, 예를 들어, 인쇄 회로 기판 및 콘덴서로서 사용될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
할로겐은 불소, 염소, 브롬 및 요오드이다.
C1-C25 알킬은 가능한 경우, 통상적으로 직쇄 또는 측쇄이다. 이의 예로는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, 3급-부틸, n-펜틸, 2-펜틸, 3-펜틸, 2,2-디메틸프로필, 1,1,3,3-테트라메틸펜틸, n-헥실, 1-메틸헥실, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸-헵틸, n-옥틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 및 2-에틸헥실, n-노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 에이코실, 헨에이코실, 도코실, 테트라코실 또는 펜타코실이 있다. C1-C8 알킬은 통상적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, 3급-부틸, n-펜틸, 2-펜틸, 3-펜틸, 2,2-디메틸-프로필, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 및 2-에틸헥실이다. C1-C4 알킬은 통상적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, 3급-부틸이다.
C1-C25 알콕시 그룹은 직쇄 또는 측쇄 알콕시 그룹, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 2급-부톡시, 3급-부톡시, 아밀옥시, 이소아밀옥시 또는 3급 아밀옥시, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 이소옥틸옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 운데실옥시, 도데실옥시, 테트라데실옥시, 펜타데실옥시, 헥사데실옥시, 헵타데실옥시 및 옥타데실옥시이다. C1-C8 알콕시의 예는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 2급 부톡시, 이소부톡시, 3급-부톡시, n-펜톡시, 2-펜톡시, 3-펜톡시, 2,2-디메틸프로폭시, n-헥속시, n-헵톡시, n-옥톡시, 1,1,3,3-테트라메틸부톡시 및 2-에틸헥속시, 바람직하게는, C1-C4 알콕시, 예를 들면, 통상적으로 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 2급-부톡시, 이소부톡시, 3급-부톡시이다. 용어 "알킬티오 그룹"은 에테르 결합의 산소원자가 황원자로 대체된 것을 제외하고는, 알콕시 그룹과 동일한 그룹을 의미한다.
C2-C25 알케닐 그룹은 직쇄 또는 측쇄 알케닐 그룹, 예를 들면, 비닐, 알릴, 메탈릴, 이소프로페닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 이소부테닐, n-펜타-2,4-디에닐, 3-메틸-부트-2-에닐, n-옥트-2-에닐, n-도데크-2-에닐, 이소도데세닐, n-도데크-2-에닐 또는 n-옥타데크-4-에닐이다.
C2-C24 알키닐은 직쇄 또는 측쇄, 바람직하게는 치환되지 않거나 치환될 수 있는 C2-8 알키닐, 예를 들면, 에티닐, 1-프로핀-3-일, 1-부틴-4-일, 1-펜틴-5-일, 2-메틸-3-부틴-2-일, 1,4-펜타디인-3-일, 1,3-펜타디인-5-일, 1-헥신-6-일, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일, 1,3-헥사디인-5-일, 1-옥틴-8-일, 1-노닌-9-일, 1-데신-10-일 또는 1-테트라코신-24-일이다.
용어 "할로알킬, 할로알케닐 및 할로알키닐"은 위에서 언급한 알킬 그룹, 알케닐 그룹 및 알키닐 그룹을 할로겐으로 부분적으로 또는 전체적으로 치환시켜 수득한 그룹, 예를 들면, 트리플루오로메틸 등이다. "알데히드 그룹, 케톤 그룹, 에스테르 그룹, 카바모일 그룹 및 아미노 그룹"은 알킬 그룹, 사이클로알킬 그룹, 아릴 그룹, 아르알킬 그룹 또는 헤테로사이클릭 그룹(여기서, 알킬 그룹, 사이클로알킬 그룹, 아릴 그룹, 아르알킬 그룹 및 헤테로사이클릭 그룹은 치환되지 않거나 치환될 수 있다)에 의해 치환된 것들을 포함한다. 용어 "실릴 그룹"은 화학식 -SiR62R63R64의 그룹, 예를 들어, 트리메틸실릴 그룹이고, 여기서, R62, R63 및 R64는 서로 독립적으로 C1-C8 알킬 그룹, 특히 C1-C4 알킬 그룹, C6-C24 아릴 그룹 또는 C7-C12 아르알킬 그룹이다.
용어 "사이클로알킬 그룹"은 통상적으로 C5-C12 사이클로알킬, 예를 들면, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸, 사이클로노닐, 사이클로 데실, 사이클로운데실, 사이클로도데실, 바람직하게는 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸 또는 사이클로옥틸이고, 이는 치환되지 않거나 치환될 수 있다. 용어 "사이클로알케닐 그룹"은 하나 이상의 이중 결합을 함유하는 불포화 지환족 탄화수소 그룹, 예를 들면, 사이클로펜테닐, 사이클로펜타디에닐, 사이클로헥세닐 등을 의미하고, 이는 치환되지 않거나 치환될 수 있다. 사이클로알킬 그룹, 특히 사이클로헥실 그룹은 C1-C4 알킬, 할로겐 및 시아노로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐에 의해 1회 또는 2회 축합될 수 있다. 이러한 축합된 사이클로알킬 그룹의 예는, , 특히 이고, 여기서, R51, R52, R53, R54, R55 및 R56은 서로 독립적으로 C1-C8-알킬, C1-C8-알콕시, 할로겐 및 시아노, 특히 수소이다.
용어 "아릴 그룹"은 통상적으로 C6-C24 아릴, 예를 들면, 페닐, 인데닐, 아줄레닐, 나프틸, 비페닐, 아스-인다세닐, s-인다세닐, 아세나프틸레닐, 플루오레닐, 페난트릴, 플루오란테닐, 트리펜레닐, 크리세닐, 나프타센, 피세닐, 페릴레닐, 펜타페닐, 헥사세닐, 피레닐 또는 안트라세닐, 바람직하게는 페닐, 1-나프틸, 2-나프틸, 4-비페닐, 9-페난트릴, 2-플루오레닐, 9-플루오레닐, 3-비페닐 또는 4-비페닐 이고, 이는 치환되지 않거나 치환될 수 있다. C6-C12아릴의 예는 페닐, 1-나프틸, 2-나프틸, 3-비페닐, 4-비페닐, 2-플루오레닐, 9-플루오레닐 또는 9-페난트릴이고, 이는 치환되지 않거나 치환될 수 있다.
용어 "아르알킬 그룹"은 통상적으로 C7-C24 아르알킬, 예를 들면, 벤질, 2-벤질-2-프로필, β-페닐-에틸, α,α-디메틸벤질, ω-페닐-부틸, ω,ω-디메틸-ω-페닐-부틸, ω-페닐-도데실, ω-페닐-옥타데실, ω-페닐-에이코실 또는 ω-페닐-도코실, 바람직하게는 C7-C18 아르알킬, 예를 들면, 벤질, 2-벤질-2-프로필, β-페닐-에틸, α,α-디메틸벤질, ω-페닐-부틸, ω,ω-디메틸-ω-페닐-부틸, ω-페닐-도데실 또는 ω-페닐-옥타데실이고, 특히 바람직하게는 C7-C12 아르알킬, 예를 들면, 벤질, 2-벤질-2-프로필, β-페닐-에틸, α,α-디메틸벤질, ω-페닐-부틸 또는 ω,ω-디메틸-ω-페닐-부틸이고, 여기서, 지방족 탄화수소 그룹 및 방향족 탄화수소 그룹은 둘 다 치환되지 않거나 치환될 수 있다.
용어 "아릴 에테르 그룹"은 통상적으로 C6-24아릴옥시 그룹, 즉 O-C6-24 아릴, 예를 들면, 페녹시 또는 4-메톡시페닐이다. 용어 "아릴 티오에테르 그룹"은 통상적으로 C6-24 아릴티오 그룹, 즉 S-C6-24 아릴, 예를 들면, 페닐티오 또는 4-메톡시페닐티오이다. 용어 "카바모일 그룹"은 통상적으로 C1-18 카바모일 라디칼, 바람직하게는 치환되지 않거나 치환될 수 있는 C1-8 카바모일 라디칼, 예를 들면, 카바모일, 메틸카바모일, 에틸카바모일, n-부틸카바모일, 3급-부틸카바모일, 디메틸카바모일 옥시, 모르폴리노카바모일 또는 피롤리딘카바모일이다.
알킬아미노 그룹, 디알킬아미노 그룹, 알킬아릴아미노 그룹, 아릴아미노 그룹 및 디아릴 그룹에서 용어 "아릴" 및 "알킬"은 통상적으로 각각 C1-C25 알킬 및 C6-C24 아릴이다.
알킬아릴은 알킬-치환된 아릴 라디칼, 특히 C7-C12 알킬아릴을 말한다. 이의 예는 톨릴, 예를 들면, 3-메틸- 또는 4-메틸페닐 또는 크실릴, 예를 들면, 3,4-디메틸페닐 또는 3,5-디메틸페닐이다.
헤테로아릴은 통상적으로 C2-C26 헤테로아릴, 즉 5 내지 7개의 환 원자를 갖는 환 또는 축합 환 시스템(여기서, 질소, 산소 또는 황이 가능한 헤테로원자이다)이고, 통상적으로 6개 이상의 공액 π-전자를 갖는, 원자수 5 내지 30의 불포화 헤테로사이클릭 그룹, 예를 들면, 티에닐, 벤조[b]티에닐, 디벤조[b,d]티에닐, 티안트레닐, 푸릴, 푸르푸릴, 2H-피라닐, 벤조푸라닐, 이소벤조푸라닐, 디벤조푸라닐, 페녹시티에닐, 피롤릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피리딜, 비피리딜, 티아지닐, 피리미디닐, 피라지닐, 피리다지닐, 인돌리지닐, 이소인돌릴, 인돌릴, 인다졸릴, 푸리닐, 퀴놀리지닐, 키놀릴, 이소키놀릴, 프탈라지닐, 나프티리디닐, 키녹살리닐, 키나졸리닐, 신놀리닐, 프테리디닐, 카바졸릴, 카볼리닐, 벤조트리아졸릴, 벤즈옥사졸릴, 페난트리디닐, 아크리디닐, 피리미디닐, 페난트롤리닐, 페나지닐, 이소티아졸릴, 페노티아지닐, 이소옥사졸릴, 푸라자닐 또는 페녹사지닐이고, 이는 치환되지 않거나 치환될 수 있다.
상기한 그룹의 가능한 치환체는 C1-C8알킬, 하이드록실 그룹, 머캅토 그룹, C1-C8알콕시, C1-C8알킬티오, 할로겐, 할로-C1-C8알킬, 시아노 그룹, 알데히드 그룹, 케톤 그룹, 카복실 그룹, 에스테르 그룹, 카바모일 그룹, 아미노 그룹, 니트로 그룹 또는 실릴 그룹이다.
상기한 바와 같이, 상기한 그룹은 E로 치환될 수 있고/있거나, 경우에 따라, D가 삽입될 수 있다. 물론, 삽입은 단일 결합으로 서로 결합된 2개 이상의 탄소원자를 함유하는 그룹의 경우에만 가능하고; C6-C18아릴에는 삽입되지 않고, 삽입된 아르알킬 또는 알킬아릴은 알킬 잔기에 단위 D를 함유한다. 하나 이상의 E로 치환되고/되거나 하나 이상의 단위 D가 삽입된 C1-C18알킬은, 예를 들면, (CH2CH2O)1-9-Rx[여기서, Rx는 H, C1-C10알킬 또는 C2-C10알카노일(예: CO-CH(C2H5)C4H9)이다], CH2-CH(ORy')-CH2-O-Ry[여기서, Ry는 C1-C18알킬, C5-C12사이클로알킬, 페닐 또는 C7-C15페닐알킬이고, Ry'는 Ry와 동일한 정의를 포함하거나 H이다]; C1-C8알킬렌-COO-Rz, 예를 들면, CH2COORz, CH(CH3)COORz, C(CH3)2COORz[여기서, Rz는 H, C1-C18알킬, (CH2CH2O)1-9-Rx이고, 여기서 Rx는 위에서 정의한 바와 같다]; CH2CH2-O-CO-CH=CH2; CH2CH(OH)CH2-O-CO-C(CH3)=CH2이다.
본 발명의 중합체는 반도체 장치에서 반도체 층으로서 사용될 수 있다. 따라서, 본 발명은 또한 화학식 I의 중합체를 포함하는 반도체 장치에 관한 것이기도 하다. 반도체 장치는 특히 다이오드, 유기 전계효과 트랜지스터 및/또는 태양 전지, 또는 다이오드 및/또는 유기 전계효과 트랜지스터 및/또는 태양 전지를 함유하는 장치이다. 수많은 종류의 반도체 장치가 있다. 하나 이상의 반도체 재료의 존재가 모두에게 통상적이다. 반도체 장치는, 예를 들면, 문헌[참조: S. M. Sze in Physics of Semiconductor Devices, 2nd edition, John Wiley and Sons, New York (1981)]에 기재되어 있다. 이러한 장치는 정류기, 트랜지스터(p-n-p, n-p-n 및 박막 트랜지스터를 포함하여 다수 종류가 있다), 발광 반도체 장치(예: 디스플레이 용품에서의 유기 발광 다이오드 또는 예를 들어, 액정 디스플레이에서의 역광), 광전도체, 제한 전류기, 태양 전지, 서미스터(thermister), p-n 접합, 전계효과 다이오드, 쇼트키 다이오드 등을 포함한다. 각 반도체 장치에서, 반도체 재료는 장치를 형성하기 위한 하나 이상의 금속 및/또는 절연체와 결합된다. 반도체 장치는 공지된 방법, 예를 들면, 문헌[참조: Peter Van Zant, Microchip Fabrication, Fourth Edition, McGraw-Hill, New York (2000)]에 기술된 방법으로 제조되거나 제품화될 수 있다. 특히, 유기 전자 성분은 문헌[참조: D. R. Gamota et al., Printed Organic and Molecular Electronics, Kluver Academic Publ., Boston, 2004]에 기술된 바와 같이 제품화될 수 있다.
특히 유용한 형태의 트랜지스터 장치인 박막 트랜지스터(TFT)는 일반적으로 게이트 전극, 게이트 전극 상 게이트 유전체, 게이트 유전체에 인접한 소스 전극(source electrode) 및 드레인 전극(drain electrode), 및 게이트 유전체에 인접하고 소스 전극 및 드레인 전극에 인접한 반도체 층을 포함한다[참조: 예를 들어, 문헌(S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2.sup.nd edition, John Wiley and Sons, page 492, New York (1981))]. 이들 성분은 다양한 배열로 어셈블리될 수 있다. 보다 구체적으로, 유기 박막 트랜지스터(OTFT)는 유기 반도체 층을 갖는다.
통상적으로, 기판은 제조, 시험 및/또는 사용 동안 OTFT를 지지한다. 임의로, 기판은 OTFT에 전기적 기능을 제공할 수 있다. 유용한 기판 재료는 유기 및 무기 재료를 포함한다. 예를 들어, 기판은 각종 적합한 형태의 규소를 포함하는 규소 물질, 무기 유리, 세라믹 호일, 중합체성 물질[예: 아크릴, 폴리에스테르, 에폭시, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리케톤, 폴리(옥시-1,4-페닐렌옥시-1,4-페닐렌카보닐-1,4-페닐렌)(종종 폴리(에테르 에테르 케톤) 또는 PEEK로서 칭명됨), 폴리노르보르넨, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리(에틸렌 나프탈렌디카복실레이트(PEN), 폴리(에틸렌 테레프탈레이트)(PET), 폴리(페닐렌 설파이드)(PPS)], 충전된 중합체성 물질(예: 섬유 강화된 플라스틱(FRP)) 및 피복된 금속성 호일을 포함할 수 있다.
게이트 전극은 유용한 전도성 재료일 수 있다. 예를 들어, 게이트 전극은 도핑된 규소, 또는 금속, 예를 들어, 알루미늄, 크롬, 금, 은, 니켈, 팔라듐, 백금, 탄탈 및 티탄을 포함할 수 있다. 전도성 산화물, 예를 들어, 산화인듐주석, 또는 임의로 중합체 결합체를 함유하는, 카본 블랙/석연 또는 콜로이드성 은 분산액으로 이루어진 전도성 잉크/페이스트가 또한 사용될 수 있다. 전도성 중합체, 예를 들어, 폴리아닐린 또는 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(스티렌 설포네이트)(PEDOT:PSS)가 또한 사용될 수 있다. 또한, 이들 금속의 합금, 배합물 및 다층이 유용할 수 있다. 일부 OTFT에서, 동일한 재료는 게이트 전극 기능을 제공할 수 있고, 또한 기판의 지지체 기능을 제공할 수 있다. 예를 들어, 도핑된 규소는 게이트 전극으로서 기능하고 OTFT를 지지할 수 있다.
게이트 유전체는 일반적으로 게이트 전극 위에 제공된다. 이 게이트 유전체는 OTFT 장치의 균형으로부터 게이트 전극을 전기적으로 절연시킨다. 게이트 유전체용으로 유용한 재료는, 예를 들어, 무기 전기 절연재를 포함할 수 있다.
게이트 유전체(절연체)는 옥사이드, 니트라이드 등의 재료일 수 있거나, 이는 강유전성 절연체 계열(예: 유기 재료, 예를 들어, 폴리(비닐리덴 플루오라이드/트리플루오로에틸렌 또는 폴리(m-크실릴렌 아디파미드))로부터 선택된 재료일 수 있거나, 이는, 예를 들어, 문헌[참조: J. Veres et al. Chem. Mat. 2004, 16, 4543 또는 A. Facchetti et al. Adv. Mat. 2005, 17, 1705]에 기술된 바와 같이 유기 중합체성 절연체(예: 폴리(메타크릴레이트), 폴리(아크릴레이트), 폴리이미드, 벤조사이클로부텐(BCBs), 파릴렌, 폴리비닐알콜, 폴리비닐페놀(PVP), 폴리스티렌, 폴리에스테르, 폴리카보네이트)일 수 있다. 게이트 유전체용으로 유용한 재료의 구체적인 예는, 이에 제한되지 않지만, PbZrxTi1-xO3(PZT), Bi4Ti3O12, BaMgF4, Ba(Zr1- xTix)O3(BZT)를 포함하여, 스트론티에이트, 탄탈레이트, 티타네이트, 지르코네이트, 산화알루미늄, 산화규소, 산화탄탈, 산화티탄, 질화규소, 티탄산바륨, 티탄산바륨스트론튬, 티탄산바륨지르코늄, 셀렌화아연 및 황화아연을 포함한다. 또한, 이들 재료로 이루어진 합금, 하이브리드 물질(예: 폴리실록산, 나노입자 충전된 중합체) 배합물 및 다층이 게이트 유전체용으로 사용될 수 있다. 유전체 층의 두께는, 예를 들어, 약 10 내지 1000㎚이고, 보다 구체적인 두께는 약 100 내지 500㎚로, 0.1 내지 100nF(nanofarads)의 용량을 제공한다.
소스 전극 및 드레인 전극은 게이트 유전체에 의해 게이트 전극으로부터 분리되고, 유기 반도체 층은 소스 전극 및 드레인 전극의 위 또는 아래에 존재할 수 있다. 소스 전극 및 드레인 전극은 유리하게는 반도체 층에 저저항 옴 접촉을 제공하는 유용한 전도성 재료일 수 있다. 유용한 재료는 게이트 전극용으로 상기한 재료 대부분, 예를 들어, 알루미늄, 바륨, 칼슘, 크롬, 금, 은, 니켈, 팔라듐, 백금, 티탄, 폴리아닐린, PEDOT:PSS, 기타 전도성 중합체, 이의 합금, 이의 배합물 및 이의 다층을 포함한다. 이들 재료 중의 일부는 당해 기술 분야에 공지된 바와 같이, n-형 반도체 재료와 함께 사용하기에 적합하고, 나머지는 p-형 반도체 재료와 함께 사용하기에 적합하다.
박막 전극(즉, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극)은 유용한 방법, 예를 들어, 물리적 기상 증착(예: 열 증착 또는 스퍼터링) 또는 (잉크 젯) 인쇄 방법으로 제공될 수 있다. 이들 전극의 패턴화는 공지된 방법, 예를 들어, 셰도우 마 스킹(shadow masking), 부가 사진식각법, 감쇄 사진식각법, 인쇄, 미세접촉 인쇄 및 패턴 피복으로 달성될 수 있다.
본 발명은 추가로 기판 상에 배치된 다수의 전기 전도성 게이트 전극; 상기 전기 전도성 게이트 전극 상에 배치된 게이트 절연체 층; 세트 각각이 상기한 게이트 전극 각각과 일직선상으로 정렬되도록 상기 절연체 층 상에 배치된 다수 세트의 전기 전도성 소스 전극 및 드레인 전극; 실질적으로 상기 게이트 전극과 중복되는 상기 절연체 층 상의 소스 전극과 드레인 전극 사이의 채널에 배치된 유기 반도체 층을 포함하는 박막 트랜지스터 장치를 제공하고, 여기서 상기 유기 반도체 층은 화학식 I의 중합체 또는 화학식 I의 중합체를 함유하는 혼합물을 포함한다.
본 발명은 추가로 하기 단계를 포함하는, 박막 트랜지스터 장치의 제조방법을 제공한다:
다수의 전기 전도성 게이트 전극을 기판 상에 증착시키는 단계;
게이트 절연체 층을 상기 전기 전도성 게이트 전극 상에 증착시키는 단계;
세트 각각이 상기한 게이트 전극 각각과 일직선상으로 정렬되도록 상기 층 상에 다수 세트의 전기 전도성 소스 전극 및 드레인 전극을 증착시키는 단계;
화학식 I의 화합물 또는 화학식 I의 중합체를 함유하는 혼합물이 실질적으로 상기 게이트 전극을 중첩시키도록 상기 절연체 층 상에 화학식 I의 중합체 층을 증착시키는 단계; 따라서 박막 트랜지스터 장치를 제조하는 단계.
화학식 I의 중합체를 함유하는 혼합물은 화학식 I의 중합체(통상적으로, 5 내지 99.9999중량%, 특히 20 내지 85중량%) 및 적어도 다른 재료를 포함하는 반도 체성 층을 생성한다. 기타 재료는 상이한 분자량의 화학식 I의 동일 중합체 분획, 화학식 I의 다른 중합체, 반도체성 중합체, 유기 소분자, 탄소 나노튜브, 풀러렌(fullerene) 유도체, 무기 입자[양자도트, 양자 로드, 양자 트리포드(tripod), TiO2, ZnO 등], 전도성 입자(Au, Ag 등), 게이트 유전체용으로 기술된 것과 같은 절연재(PET, PS 등)일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
헤테로접합 태양 전지에서, 활성 층은 바람직하게는 1:1 내지 1:3의 중량비의 화학식 I의 중합체와 풀러렌의 혼합물, 예를 들어, [6O]PCBM(= 6,6-페닐-C61-부티르산 메틸 에스테르) 또는 [7O]PCBM을 포함한다.
임의의 적합한 기판을 사용하여 본 발명의 중합체의 박막을 제조할 수 있다. 바람직하게는, 상기 박막을 제조하는데 사용되는 기판은 금속, 규소, 플라스틱, 종이, 피복지, 직물, 유리 또는 피복된 유리이다.
또는, TFT는, 예를 들어, 열적으로 증대된 산화물 층으로 피복된 고도로 도핑된 규소 기판 상에 중합체의 용액 증착에 이어, 소스 전극 및 드레인 전극의 진공 증착 및 패턴화에 의해 제조된다.
또하나의 접근법으로, TFT는 소스 전극 및 드레인 전극을 열적으로 증대된 산화물로 피복된 고도로 도핑된 규소 기판 상에 증착시킨 다음, 중합체의 용액 증착으로 박막을 형성시킴으로써 제조된다.
게이트 전극은 또한 기판 상의 패턴화 금속 게이트 전극 또는 전도성 재료, 예를 들어, 전도성 중합체일 수 있고, 이는 이어서 용액 피복 또는 진공 증착에 의 해 패턴화된 게이트 전극 상에 도포되는 절연체로 피복된다.
임의의 적합한 용매를 사용하여 본 발명의 중합체를 용해시키고/시키거나 분산시킬 수 있고, 단 이는 불활성이고, 통상적인 건조 수단(예: 열 적용, 감압, 기류 등)으로 기판으로부터 부분적으로 또는 완전히 제거될 수 있다. 본 발명의 반도체를 처리하는데 적합한 유기 용매는, 이에 제한되지 않지만, 방향족 또는 지방족 탄화수소, 할로겐화, 예를 들어, 염소화 또는 불소화 탄화수소, 에스테르, 에테르 아미드, 예를 들어, 클로로포름, 테트라클로로에탄, 테트라하이드로푸란, 톨루엔, 테트랄린, 아니솔, 크실렌, 에틸 아세테이트, 메틸 에틸 케톤, 디메틸 포름아미드, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(PGMEA) 및 이의 혼합물을 포함한다. 이어서, 용액 및/또는 분산액은 스핀-피복, 침지-피복, 스크린 인쇄, 미세접촉 인쇄, 닥터 블레이딩(doctor blading) 또는 당해 기술 분야에 공지된 기타 용액 도포 기법과 같은 방법으로 기판 상에 도포하여 반도체 재료의 박막을 수득한다.
용어 "분산액"은 용매에 완전히 용해되지 않는 본 발명의 반도체 재료를 포함하는 모든 조성물을 포함한다. 분산은 적어도 화학식 I의 중합체, 또는 화학식 I의 중합체를 함유하는 혼합물 및 용매를 포함하는 조성물을 선택하는 단계[여기서, 중합체는 실온에서는 용매에 대해 낮은 용해도를 나타내지만, 승온에서는 용매에 대해 보다 큰 용해도를 나타내고, 조성물은, 승온이 진탕시키지 않고 제1 저온으로 강하될 경우에, 겔화된다];
- 승온에서 적어도 중합체의 일부를 용매에 용해시키는 단계;
상기 조성물의 온도를 승온에서 제1 저온으로 강하시키는 단계;
상기 조성물을 진탕시켜 임의의 겔화를 파괴하는 단계[여기서, 진탕은 조성물의 승온에서 제1 저온으로의 강하 전 임의 시간에, 강하와 동시에 또는 강하 후에 시작한다];
상기 조성물 층을 증착시키는 단계[여기서, 조성물은 승온보다 낮은 제2 저온에 존재한다] 및
층을 적어도 부분적으로 건조시키는 단계에 의해 수행될 수 있다.
분산액은 또한 (a) 용매, 결합제 수지 및 임의로 분산제를 포함하는 연속 상 및 (b) 본 발명의 화학식 I의 중합체, 또는 화학식 I의 중합체를 함유하는 혼합물을 포함하는 분산 상으로 구성될 수 있다.
용매에 대한 화학식 I의 중합체의 용해도는, 예를 들어, 0 내지 약 20% 용해도, 특히 0 내지 약 5% 용해도로 가변적일 수 있다.
바람직하게는, 유기 반도체 층의 두께는 약 5 내지 약 1000㎚, 특히 약 10 내지 약 100㎚ 범위내이다.
본 발명의 중합체는 단독으로 또는 배합되어 반도체 장치의 유기 반도체 층으로서 사용될 수 있다. 층은 임의의 유용한 방법, 예를 들어, 기상 증착(비교적 저분자량 물질의 경우) 및 인쇄 기법에 의해 제공될 수 있다. 본 발명의 화합물은 유기 용매에 충분히 가용성일 수 있고, [예를 들어, 스핀 피복, 침지 피복, 잉크젯 잉크, 그라비어 인쇄, 플렉소 인쇄, 오프셋 인쇄, 스크린 인쇄, 마이크로접촉(웨이브)-인쇄, 드롭 및 구역 캐스팅(zone casting) 또는 기타 공지된 기법에 의해] 용 액 증착 및 패턴화될 수 있다.
본 발명의 중합체는 다수의 OTFTs를 포함하는 집적회로 뿐만 아니라, 각종 전자 제품에 사용될 수 있다. 이러한 제품은, 예를 들어, 무선 주파수 식별(RFID) 태그, 가요성 디스플레이용(예를 들어, 퍼서날 컴퓨터, 셀 폰 또는 핸드헬드 장치에 사용하기 위한) 백플레인(backplane), 스마트 카드, 기억 장치, 센서(예: 광-, 이미지-, 바이오-, 케모-, 기계적- 또는 온도 센서), 특히 광다이오드, 또는 안전 장치 등을 포함한다. 이의 양극성으로 인해, 재료는 유기 발광 트랜지스터(OLET)에 사용될 수도 있다.
본 발명은 본 발명에 따르는 중합체를 포함하는 유기 광전지(PV) 장치(태양 전지)를 제공한다.
PV 장치는 (a) 캐소드(전극), (b) 임의로 전이 층, 예를 들어, 알칼리 할로게나이드, 특히 불화리튬, (c) 광활성 층, (d) 임의로 평활 층, (e) 애노드(전극) 및 (f) 기판 순서로 포함한다.
광활성 층은 본 발명의 중합체를 포함한다. 바람직하게는, 광활성 층은 전자 공여체로서의 본 발명의 공액 중합체 및 전자 수용체로서의 수용체 재료, 예를 들어, 풀러렌, 특히 작용화된 풀러렌 PCBM으로 이루어진다.
본 발명에 유용한 풀러렌은 광범위한 범위의 크기(분자당 탄소수)를 가질 수 있다. 본원에서 사용된 용어 풀러렌은 벅민스터풀러렌(Buckminsterfullerene)(C60) 및 관련 "구형" 풀러렌 뿐만 아니라 탄소 나노튜브를 포함하여 순수한 탄소의 각종 우리형 분자를 포함한다. 풀러렌은, 예를 들어, C20-C1000 범위에서 당해 기술 분야에 공지된 것들로부터 선택될 수 있다. 바람직하게는, 풀러렌은 C60 내지 C96의 범위로부터 선택된다. 가장 바람직하게는, 풀러렌은 C60 또는 C70, 예를 들어, [6O]PCBM 또는 [7O]PCBM이다. 화학적으로 개질된 풀러렌을 사용할 수도 있지만, 단 개질된 풀러렌은 수용체-유형 및 전자 이동 특성은 유지한다. 수용체 재료는 또한 화학식 I의 다른 중합체 또는 임의의 반도체성 중합체(단, 중합체는 수용체 유형 및 전자 이동 특성은 유지한다), 유기 소분자, 탄소 나노튜브, 무기 입자(양자점, 양자 로드, 양자 삼각대, TiO2, ZnO 등)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료일 수 있다.
전극은 바람직하게는 금속 또는 "금속 치환체"로 구성된다. 본원에서, 용어 "금속"은 기본적으로 순수한 금속, 예를 들어, Mg로 이루어진 재료, 및 또한 2개 이상의 기본적으로 순수한 금속, 예를 들어, Mg 및 Ag로 함께 이루어진 재료로서 Mg:Ag를 나타내는 금속 합금 둘 다를 포함하도록 사용된다. 본원에서, 용어 "금속 치환체"는 통상적 정의내의 금속은 아니지만, 특정의 적합한 용도에서 바람직한 금속형 특성을 갖는 재료를 의미한다. 전극 및 전하 이동 층에 통상적으로 사용되는 금속 치환체는 도핑된 와이드-밴드갭 반도체, 예를 들어, 투명한 전도성 산화물, 예를 들어, 산화인듐주석(ITO), 산화갈륨인듐주석(GITO) 및 산화아연인듐주석(ZITO)을 포함한다. 또다른 적합한 금속 치환체는 투명한 전도성 중합체 폴리아날린(PANI) 및 이의 화학적 상대물 또는 PEDOT:PSS이다. 금속 치환체는 추가로 광 범위한 범위의 비금속성 재료로부터 선택될 수 있고, 여기서, 용어 "비금속성"은 광범위한 범위의 재료를 포함하지만, 단 당해 재료는 이의 화학적으로 결합되지 않은 형태의 금속은 함유하지 않는다. 매우 투명한 비금속성, 저저항성 캐소드 또는 고효율성, 저저항성 금속성/비금속성 화합물 캐소드는, 예를 들어, 미국 특허 공보제6,420,031호 및 미국 특허 공보 제5,703,436호에 기재되어 있다.
기판은, 예를 들어, 플라스틱(가요성 기판) 또는 유리 기판일 수 있다.
본 발명의 다른 바람직한 양태에서, 평활 층은 애노드와 광활성 층 사이에 위치된다. 이러한 평활 층용으로 바람직한 물질은 3,4-폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDOT) 또는 3,4-폴리에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌-설포네이트(PEDOT:PSS)의 필름을 포함한다.
본 발명의 바람직한 양태에서, 광전지는 미국 특허 공보 제6,933,436호에 기술된 바와 같이, 위에 인듐/주석 산화물(ITO)로 제조된 전극 층이 도포되어 있는 투명한 유리 캐리어를 포함한다. 이 전극 층은 일반적으로 비교적 강성 표면 구조를 가져 도핑을 통해 전기적으로 전도성으로 된 중합체, 통상적으로 PEDOT로 제조된 평활 층으로 피복된다. 광활성 층은 층 두께가, 예를 들어, 도포 방법에 따라 100㎚ 내지 수㎛인 2개의 성분으로 이루어지고, 이 평활 층 위에 도포된다. 광활성 층은 전자 공여체로서의 본 발명의 공액 중합체 및 전자 수용체로서의 풀러렌, 특히 작용화된 풀러렌 PCBM으로 제조된다. 이들 두 성분은 용매와 혼합되고, 예를 들어, 스핀-피복법, 캐스팅법, 랭무어-블로짓(Langmuir-Blodgett)("LB") 방법, 잉크젯 인쇄 방법 및 적하 방법으로 평활 층 위에 용액으로서 도포된다. 스퀴지 또 는 인쇄 방법을 또한 사용하여 큰 표면을 상기한 광활성 층으로 피복시킬 수 있다. 통상적인 톨루엔 대신, 분산제, 얘를 들어, 클로로벤젠이 용매로서 바람직하게 사용된다. 이들 방법 중에서, 진공 증착법, 스핀-피복법, 잉크젯 인쇄 방법 및 캐스팅법이 작동 용이성 및 비용 면에서 특히 바람직하다.
스핀-피복법, 캐스팅법 및 잉크젯 인쇄 방법을 사용하여 층을 형성하는 경우, 피복은 조성물을 적합한 유기 용매, 예를 들어, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 테트라하이드로푸란, 메틸테트라하이드로푸란, N,N-디메틸포름아미드, 아세톤, 아세토니트릴, 아니솔, 디클로로메탄, 디메틸설폭사이드, 클로로벤젠, 1,2-디클로로벤젠 및 이의 혼합물에 0.01 내지 90중량%의 농도로 용해시키거나 분산시킴으로써 제조되는 용액 및/또는 분산액을 사용하여 수행할 수 있다.
카운터 전극을 도포하기 전에, 전기적으로 절연성이어야 하고 층 두께가, 예를 들어, 0.6㎚인 박막 트랜지스터를 광활성 층(4)에 도포한다. 이러한 예시적 양태에서, 이 전이 층은 알칼리 할로게나이드, 즉 불화리튬으로 제조되고, 이는 0.2㎚/분의 속도로 2·10-6torr의 진공에서 기상 증착된다.
ITO가 정공 수집 전극으로 사용될 경우, 전기 절연성 전이 층 위에 기상 증착된 알루미늄은 전자 수집 전극으로서 사용된다. 전이 층의 전기 절연 특성은 전하 캐리어의 교차를 방해하는 영향을 명백하게 억제하여 특히 광활성 층으로부터 전이층으로의 전이 영역에서 효과적이도록 한다.
본 발명의 추가의 양태에서, 하나 이상의 층을 다음 층을 증착시키기 전에 플라즈마로 처리할 수 있다. PEDOT:PSS 층을 다음 층을 증착시키기 전에 완만한 플라즈마 처리하는 것이 특히 유리하다.
광전지(PV) 장치는 또한 태양 스펙트럼을 더욱 흡수하기 위해 서로 상부에서 처리되는 다수의 접합 태양 전지로 이루어질 수 있다. 이러한 구조는, 예를 들어, 문헌[참조: App. Phys. Let. 90, 143512 (2007), Adv. Funct. Mater. 16, 1897-1903 (2006)] 및 국제 공개공보 제WO 2004/112161호에 기재되어 있다.
소위 '적층형 태양 전지'는 (a) 캐소드(전극), (b) 임의로 전이 층, 예를 들어, 알칼리 할로게나이드, 특히 불화리튬, (c) 광활성 층, (d) 임의로 평활 층, (e) 중간 전극(예: Au, Al, ZnO, TiO2 등), (f) 임의로 에너지 수준을 맞추기 위한 여분 전극, (g) 임의로 전이 층, 예를 들어, 알칼리 할로게나이드, 특히 불화리튬, (h) 광활성 층, (i) 임의로 평활 층, (j) 애노드(전극) 및 (k) 기판 순서로 포함한다.
PV 장치는 또한, 예를 들어, 제US 20070079867호 및 제US 20060013549호에 기술된 바와 같은 섬유 상에서 처리될 수도 있다.
이들의 우수한 자기 조직화 특성으로 인해, 본 발명의 화합물, 재료 또는 필름은 또한 단독으로 또는 기타 물질과 함께 제US 2003/0021913호에 기술된 바와 같이, LCD 또는 OLED 장치에서의 정렬층에 또는 정렬층으로서 사용될 수 있다..
다음 실시예는 단지 예시용으로 포함되는 것으로서, 청구의 범위의 범위를 제한하는 것은 아니다. 다르게 기술되지 않는 한, 모든 부 및 퍼센트는 중량 기준 이다.
중량-평균 분자량(Mw) 및 다분산도(Mw/Mn = PD)는 겔 투과 크로마토그래피(GPC)[장치: 반응 형태 굴절률(RI), 낮은 각 광 산란(LALS), 직각 광 산란(RALS) 및 시차 점도(DP) 측정치를 수득하는, 비스코텍(Viscotek(Houston, TX, USA))으로부터의 GPCmax + TDA 302; 크로마토그래피 조건: 컬럼: 폴리머 라보라토리즈(Polymer Laboratories; Church Stretton, UK)로부터의, 분자량 범위 약 1 x 103 내지 약 2.5 x 106Da을 커버하는 PLgel 혼합된 C(300 x 7.5mm, 5㎛ 입자); 이동상: 5g/l의 나트륨 트리플루오로아세테이트를 함유하는 테트라하이드로푸란; 이동상 유속: 0.5 또는 0.7ml/분; 용질 농도: 약 1 내지 2mg/ml; 주입 용적: 100㎕; 검출: RI, LALS, RALS, DP. 분자량 보정 절차: 상대적 보정은 폴리머 라보라토리즈(Church Stretton, UK)로부터 수득된, 분자량 범위가 1,930,0OODa 내지 5,050Da, 즉, PS 1,930,000, PS 1,460,000, PS 1,O75,O00, PS 560,O00, PS 330,O00, PS 96,O00, PS 52,O00, PS 30,300, PS 10,100, PS 5,05ODa인 10개의 폴리스티렌 보정 세트를 사용하여 수행한다. 절대 보정은 LALS, RALS 및 DP의 반응을 기준으로 하여 수행한다. 다수의 조사에서 경험한 바와 같이, 이러한 조합은 분자량 데이터를 최적으로 보정한다. 일반적으로, PS 96,00O이 분자량 보정 표준으로서 사용되지만, 일반적으로 측정될 분자량 범위 내에 존재하는 모든 기타 PS 표준이 이러한 목적으로 선택될 수 있다.
이하 실시예에 제공된 모든 중합체 구조는 상기한 중합 절차를 통해 수득된 중합체 생성물의 이상적 대표이다. 둘 이상의 성분이 서로 공중합될 경우, 중합체 중의 서열은 중합 조건에 따라 교호 또는 랜덤일 수 있다.
실시예
실시예 1
a) 60ml의 N-메틸-피롤리돈(NMP) 중의 4.5g의 DPP(1), 6.23g의 K2CO3 및 8.68g의 1-브로모-2-에틸-헥실의 용액을 14O℃로 6시간 동안 가열한다. 혼합물을 물로 세척하고, 디클로로메탄으로 추출시킨다. 이어서, 유기 상을 건조시키고, 실리카 겔 및 HyfloR(CAS 91053-39-3; Fluka 56678)의 이중층 상에서 여과시킨 후, 이를 농축시킨다. 잔사를 100ml의 클로로포름에 용해시키고, O℃로 냉각시킨 다음, 2당량의 N-브로모석신이미드를 1시간 동안 적가한다. 반응을 완료한 후, 혼합물을 물로 세척한다. 유기 상을 추출시키고, 건조시키고 농축시킨다. 이어서, 화합물을 실리카 겔 컬럼 상에서 정제시켜 DPP(2)의 바이올렛색 분말 1.90g을 수득한다.
b) 30ml의 무수 톨루엔 중의 500mg의 디브롬화 DPP(2), 990mg의 주석 유도체 및 85mg의 Pd(PPh3)4의 용액을 불활성 조건하에 밤새 환류시킨다. 냉각시킨 후, 혼합물을 이중충 실리카 겔/HyfloR 상에서 여과시키고, 농축시키고 메탄올로 침전시킨다. 침전물을 여과시키고, 메탄올로 세정하여 DPP(3)의 청색 고체 530mg을 수득한다.
c) 클로로벤젠 중의 2.55g의 상응하는 단량체(3)의 용액을 아르곤으로 5O℃에서 15분 동안 탈기시킨다. 이어서, 1.6g의 FeCl3를 니트로메탄에 첨가하고, 혼합물을 50℃에서 4시간 동안 탈기시키면서 교반시킨다. 이어서, 용액을 메탄올에 부은 다음, 청색 침전물을 여과시키고, 메탄올로 세척한다. 이어서, 고체를, 정제하기 위한 메탄올 및 헥산 및 추출시키기 위한 클로로포름을 사용하여 속슬레 추출로 정제시켜 2g의 중합체 분획(4)을 수득한다.
Mw = 13301
Fe 함량 = 75ppm
광물리적 성질:
유리 기판 상에서 스핀 피복된 필름의 UV 스펙트럼은 뜨거운 클로로벤젠 용액으로부터 제조하고, 상이한 온도에서 어닐링한다:
어닐링 온도 | UV/Vis-흡수 |
실온 | 680㎚ |
100℃에서 20분 | 720㎚, 800㎚ |
150℃에서 20분 | 720㎚, 800㎚ |
800㎚에서의 밴드의 증대는 어닐링 동안 강한 응집 거동의 출현을 보여준다.
적용 실시예 1a - DPP-중합체계 전계효과 트랜지스터
a) 실험:
p-Si 게이트가 장착된 기저-게이트 박막 트랜지스터(TFT) 구조물을 모든 실험에 사용했다. 고품질의 열적 SiO2 층은 단위 면적당 용량 Ci = 32.6nF/cm2의 게이트 절연체로서 작용한다. 소스 전극 및 드레인 전극을 게이트-옥사이드(기저 접촉 배열) 상에서 직접 사진석판술로 패턴화했다. 각 기판 상에 상이한 길이의 채녈을 한정하는 Au 소스/드레인 전극과 함께 16개의 트랜지스터를 제공한다. 유기 반도체를 증착시키기 전에, SiO2 표면을 헥사메틸디실라잔(HMDS) 또는 옥타데실트리클로로실란(OTS)으로 유도체화했다. 필름을 실시예 1에서 수득된 중합체를 상이한 용매 중에서 스핀 캐스팅 또는 드롭 캐스팅하여 제조한다. 트랜지스터 거동은 CSEM, 트랜지스터 프로버 TP-10으로 정교화된 자동화 시험기 상에서 측정한다.
b) 트랜지스터 성능:
박막 트랜지스터는 투명한 p-형 트랜지스터 거동을 보여준다. 포화 이동 특성의 제곱근에 대한 선형 적합도로부터 전계효과 이동성 0.15cm2/Vs가 측정될 수 있다. 트렌지스터는 약 0 내지 5V의 한계 전압을 나타냈다. 트랜지스터는 104 내지 107의 우수한 온/오프 전류 비를 나타냈다.
샘플의 어닐링은 성능(특히, 이동성)의 역동적인 증가를 유도하고, 이는 고체 상태에서의 중합체의 보다 양호한 응집과 관련될 수 있다. 공기 조건하에 2개월 노출 후, 한 세트의 OFETs의 시험은 이동성이 거의 일정하기 때문에 현저한 안정성을 보인다. 일반적으로 가장 크게 제공되는 온/오프 비가 단지 10배까지 감소된다.
적용 실시예 1b
DPP-중합체계 헤테로접합 태양 전지
a) 실험:
태양 전지는 다음 구조를 갖는다: Al 전극/LiF 층/본 발명의 중합체을 포함하는 유기 층/[폴리(3,4-에틸렌디옥시-티오펜)(PEDOT)/폴리(스티렌설폰산)(PSS)]/ITO 전극/유리 기판. 태양 전지는 예비패턴화 ITO 상의 PEDOT-PSS 층을 유리 기판 상에서 스핀 피복시켜 제조한다. 이어서, 실시예 1의 중합체(0.5중량%):[6O]PCBM(치환된 C60 풀러렌: )의 1:4 혼합물을 스핀 피복시킨다(유기 층). LiF 및 Al을 섀도우-마스크를 통해 고진공하에 승화시킨다.
b) 태양 전지 성능:
태양 전지는 태양 광 시뮬레이터하에 측정한다. 이어서, 외부 양자 효율(EQE) 그래프를 사용하여, 전류는 AM1.5 조건하에 추산된다.
이는 어닐링 전에 측정된 추산된 총 효율 1.62%에 대해 Jsc = 4.1mA/cm2, FF = 0.539 및 V∝ = 0.733V의 값을 유도한다. 100℃에서 10분 후, 추산된 효율은 2%로 증대된다. 증착 용매, 중합체/[60]PCBM 비 등을 가변시켜 활성 층 형태를 최적화한 후, 장치의 성능을 3.06%(Jsc = 9.5mA/cm2, FF = 0.46 및 V∝ = 0.7V)로 증대시킬 수 있다.
실시예 2
300ml의 N-메틸-피롤리돈(NMP) 중의 25g의 DPP(1), 46.07g의 K2CO3 및 75g의 1-브로모-2-헥실-데실의 용액을 6시간 동안 14O℃로 가열한다. 혼합물을 물로 세척하고, 디클로로메탄으로 추출시킨다. 이어서, 유기 상을 건조시키고, 실리카 겔 및 HyfloR의 이중 층 상에서 여과시킨 다음, 농축시킨다. 잔사를 100ml의 클로로포름에 용해시키고, O℃로 냉각시킨 다음, 2당량의 N-브로모석신이미드를 1시간 동안 적가한다. 반응을 완료시킨 후, 혼합물을 물로 세척한다. 유기 상을 추출하고, 건조시키고 농축시킨다. 이어서, 화합물을 실리카 겔 컬럼 상에서 정제시켜 DPP(5)의 바이올렛색 분말 19g을 수득한다.
b) 250ml의 무수 톨루엔 중의 18.5g의 디브롬화 DPP(5), 27.47g의 주석 유도 체 및 2.36g의 Pd(PPh3)4의 용액을 불활성 조건하에 밤새 환류시킨다. 냉각시킨 후, 혼합물을 실리카 겔 컬럼(CHCl3/헥산 3/7) 상에서 정제시켜 DPP(6)의 청색 고체 20.2g을 수득한다.
c) 10g의 DPP 유도체(6)의 용액을 300ml의 클로로포름에 용해시키고, O℃로 냉각시킨 다음, 2당량의 N-브로모석신이미드를 1시간 동안 적가한다. 반응이 완료된 후, 혼합물을 물로 세척한다. 유기 상을 추출시키고, 건조시키고, 농축시키고, 메탄올로 침전시킨다. 침전물을 여과하고, 메탄올로 세정하여 DPP(7)의 청색 고체 10g을 수득한다.
슐렌크 튜브에서, 10ml의 톨루엔 중의 240mg의 Ni(COD)2 및 140mg의 비피리딘의 용액을 15분 동안 탈기시킨다. 1g의 상응하는 디브롬화 단량체(7)를 이 용액에 첨가한 다음, 혼합물을 80℃로 가열하고, 밤새 격렬하게 교반시킨다. 용액을 100ml의 1/1/1 메탄올/HCl/아세톤 혼합물에 붓고, 1시간 동안 교반시킨다. 이어서, 침전물을 여과시키고, CHCl3에 용해시키고, 60℃에서 에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA) 사나트륨 염 수용액을 사용하여 추가로 1시간 동안 격렬하게 교반시킨다. 유기 상을 물로 세척하고, 농축시키고, 메탄올 중에서 침전시킨다. 잔사를 메탄올과 헥산을 사용하여 속슬레 추출로 정제시킨 다음, 중합체를 CHCl3로 추출시켜 250mg의 자주색 섬유를 수득한다.
Mw = 77465
Ni 함량 = 65ppm
용해도= 톨루엔 중에서 10중량% 초과
광물리적 성질:
유리 기판 상에서 스핀 피복된 필름의 UV는 뜨거운 클로로벤젠 용액으로부터 제조하고, 상이한 온도에서 어닐링한다:
어닐링 온도 | UV/Vis-흡수 |
실온 | 680㎚ |
100℃에서 20분 | 720㎚, 800㎚ |
800㎚에서의 밴드의 증대는 어닐링 동안 강한 응집 거동의 출현을 보여준다.
적용 실시예 2a - DPP-중합체계 전계효과 트랜지스터
a) 실험:
실시예 1에서 수득된 중합체 대신 실시예 2에서 수득된 중합체를 사용하는 것 이외에는, 적용 실시예 1a를 반복한다.
b) 트랜지스터 성능:
박막 트랜지스터는 투명한 p-형 트랜지스터 거동을 보여준다. 포화 이동 특성의 제곱근에 대한 선형 적합도로부터 전계효과 이동성 0.013cm2/Vs가 측정될 수 있었다. 트렌지스터는 약 0 내지 4V의 한계 전압을 나타냈다. 트랜지스터는 105 내지 107의 우수한 온/오프 전류 비를 나타냈다. 공기 조건하에 7일 노출 후 한 세트의 OFETs의 시험은 이동성이 거의 일정하거나 심지어 더 우수하기 때문에 현저한 안정성을 나타내고, 일반적으로 가장 크게 제공되는 온/오프 비가 단지 5배로 감소된다. 이 화합물은 정상 설비 상에서 10-3cm2/Vs 이하의 전자 이동성을 나타낸다. 상부 접촉 트랜지스터를 사용하여 이 설비를 최적화한 후, 이 중합체의 양극성은 정공 및 전자에 대한 유사한 이동성 0.1cm2/Vs 이하와 함께 훨씬 더 현저하다.
실시예 3
a) 300ml의 N-메틸-피롤리돈(NMP) 중의 25g의 DPP(1), 46.07g의 K2CO3 및 55g의 1-브로모-2-부틸-헥실의 용액을 6시간 동안 14O℃로 가열한다. 혼합물을 물 로 세척하고, 디클로로메탄으로 추출시킨다. 이어서, 유기 상을 건조시키고, 실리카 겔 및 HyfloR의 이중 층 상에서 여과시킨 다음, 농축시킨다. 잔사를 100ml의 클로로포름에 용해시키고, O℃로 냉각시킨 다음, 2당량의 N-브로모석신이미드를 1시간 동안 적가한다. 반응을 완료시킨 후, 혼합물을 물로 세척한다. 유기 상을 추출하고, 건조시키고 농축시킨다. 이어서, 화합물을 실리카 겔 컬럼 상에서 정제시켜 DPP(8)의 바이올렛색 분말 9.5g을 수득한다.
b) 50ml의 무수 톨루엔 중의 2.24g의 디브롬화 DPP(8), 4.11g의 주석 유도체 및 351mg의 Pd(PPh3)4의 용액을 불활성 조건하에 밤새 환류시킨다. 냉각시킨 후, 혼합물을 실리카 겔 컬럼(CHCl3/헥산 3/7) 상에서 정제시켜 DPP(9)의 청색 고체 2.37g을 수득한다.
c) 1.27g의 DPP 유도체(9)의 용액을 60ml의 클로로포름에 용해시키고, O℃로 냉각시킨 다음, 2당량의 N-브로모석신이미드를 1시간 동안 적가한다. 반응이 완료된 후, 혼합물을 물로 세척한다. 유기 상을 추출시키고, 건조시키고, 농축시키고, 메탄올로 침전시킨다. 침전물을 여과하고, 메탄올로 세정하여 DPP(10)의 청색 고체 1.32g을 수득한다.
d) 슐렌크 튜브에서, 10ml의 톨루엔 중의 244mg의 Ni(COD)2 및 142mg의 비피리딘의 용액을 15분 동안 탈기시킨다. 1g의 상응하는 디브롬화 단량체(10)를 이 용액에 첨가한 다음, 혼합물을 80℃로 가열하고, 밤새 격렬하게 교반시킨다. 용액을 100ml의 1/1/1 메탄올/HCl/아세톤 혼합물에 붓고, 1시간 동안 교반시킨다. 이어서, 침전물을 여과시키고, CHCl3에 용해시키고, 60℃에서 에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA) 사나트륨 염 수용액을 사용하여 추가로 1시간 동안 격렬하게 교반시킨다. 유기 상을 물로 세척하고, 농축시키고, 메탄올로 침전시킨다. 잔사를 메탄올과 헥산을 사용하여 속슬레 추출로 정제시킨 다음, 중합체를 CHCl3로 추출시켜 650mg의 자주색 섬유를 수득한다.
Mw = 30000
Ni 함량 = 52ppm
용해도 = CHCl3 중에서 0.5중량%
광물리적 성질:
유리 기판 상에서 스핀 피복된 필름의 UV는 뜨거운 클로로벤젠 용액으로부터 제조하고, 상이한 온도에서 어닐링한다:
어닐링 온도 | UV/Vis-흡수 |
실온 | 720㎚, 810㎚ |
810㎚에서의 밴드는 응집 거동 때문이다.
적용 실시예 3 - DPP-중합체계 전계효과 트랜지스터
a) 실험:
실시예 1에서 수득된 중합체 대신 실시예 3에서 수득된 중합체를 사용하는 것 이외에는, 적용 실시예 1a를 반복한다.
b) 트랜지스터 성능:
박막 트랜지스터는 투명한 p-형 트랜지스터 거동을 보여준다. 포화 이동 특성의 제곱근에 대한 선형 적합도로부터 전계효과 이동성 0.01cm2/Vs 이하가 측정될 수 있었다. 트렌지스터는 약 6V의 한계 전압을 나타냈다. 트랜지스터는 104 내지 105의 우수한 온/오프 전류 비를 나타냈다.
실시예 4
a) 60ml의 N-메틸-피롤리돈(NMP) 중의 3.5g의 DPP(11), 3.04g의 K2CO3 및 4.13g의 1-브로모-2-헥실-데실의 용액을 6시간 동안 14O℃로 가열한다. 혼합물을 물로 세척하고, 디클로로메탄으로 추출시킨다. 이어서, 유기 상을 건조시키고, 실리카 겔 및 HyfloR의 이중 층 상에서 여과시킨 다음, 농축시킨다. 잔사를 100ml의 클로로포름에 용해시키고, O℃로 냉각시킨 다음, 2당량의 N-브로모석신이미드를 1시간 동안 적가한다. 반응을 완료시킨 후, 혼합물을 물로 세척한다. 유기 상을 추출하고, 건조시키고 농축시킨다. 이어서, 화합물을 실리카 겔 컬럼 상에서 정제시켜 DPP(12)의 바이올렛색 분말 1.7g을 수득한다.
b) 60ml의 무수 톨루엔 중의 1.6g의 디브롬화 DPP(12), 0.65g의 주석 유도체 및 150mg의 Pd(PPh3)4의 용액을 불활성 조건하에 밤새 환류시킨다. 냉각시킨 후, 혼합물을 실리카 겔 컬럼(CHCl3/헥산 3/7) 상에서 정제시켜 DPP(13)의 청색 고체 1.27g을 수득한다.
c) 1.27g의 DPP 유도체(13)의 용액을 50ml의 클로로포름에 용해시키고, O℃로 냉각시킨 다음, 2당량의 N-브로모석신이미드를 1시간 동안 적가한다. 반응이 완료된 후, 혼합물을 물로 세척한다. 유기 상을 추출시키고, 건조시키고, 농축시키고, 메탄올로 침전시킨다. 침전물을 여과하고, 메탄올로 세정하여 DPP(14)의 청색 고체 1.22g을 수득한다.
d) 슐렌크 튜브에서, 10ml의 톨루엔 중의 292mg의 Ni(COD)2 및 170mg의 비피리딘의 용액을 15분 동안 탈기시킨다. 1.2g의 상응하는 디브롬화 단량체(14)를 이 용액에 첨가한 다음, 혼합물을 65℃로 가열하고, 41시간 동안 격렬하게 교반시킨다. 용액을 100ml의 1/1/1 메탄올/HCl/아세톤 혼합물에 붓고, 1시간 동안 교반시킨다. 이어서, 침전물을 여과시키고, CHCl3에 용해시키고, 60℃에서 에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA) 사나트륨 염 수용액을 사용하여 추가로 1시간 동안 격렬하게 교반시킨다. 유기 상을 물로 세척하고, 농축시키고, 메탄올로 침전시킨다. 잔사를 메탄올과 헥산을 사용하여 속슬레 추출로 정제시킨 다음, 중합체를 CHCl3로 추출시켜 730mg의 자주색 섬유를 수득한다.
Mw = 30000
Ni 함량 = 14ppm
용해도 = CHCl3 중에서 0.5중량%
광물리적 성질:
유리 기판 상에서 스핀 피복된 필름의 UV는 뜨거운 클로로벤젠 용액으로부터 제조하고, 상이한 온도에서 어닐링한다:
어닐링 온도 | UV/Vis-흡수 |
실온 | 720㎚, 800㎚ |
800㎚에서의 밴드는 응집 거동 때문이다.
적용 실시예 4 - DPP-중합체계 전계효과 트랜지스터
a) 실험:
실시예 1에서 수득된 중합체 대신 실시예 4에서 수득된 중합체를 사용하는 것 이외에는, 적용 실시예 1a를 반복한다.
b) 트랜지스터 성능:
박막 트랜지스터는 투명한 p-형 트랜지스터 거동을 보여준다. 포화 이동 특성의 제곱근에 대한 선형 적합도로부터 전계효과 이동성 0.013cm2/Vs 이하가 측정될 수 있었다. 트렌지스터는 약 4 내지 8V의 한계 전압을 나타냈다. 트랜지스터는 104 내지 105의 우수한 온/오프 전류 비를 나타냈다. 공기 조건하에 2개월 노출시킨 후의 한 세트의 OFETs의 시험은 이동성이 훨씬 더 우수하기 때문에 현저한 안정성을 나타내고, 일반적으로 가장 크게 제공되는 온/오프 비는 또한 5 내지 10배 증가되고, 한계 전압은 0 내지 4V의 범위이다.
실시예 5
3구 플라스크에서, 60ml의 톨루엔 중의 5g의 화합물(7), 1.185g의 1,4-벤젠디보론산 비스(피나콜) 에스테르, 3.773g의 K3PO4, 88.5mg의 sPhos(2-디사이클로헥실포스피노-2',6'-디메톡시페니비페닐) 및 80.6mg의 팔라듐 아세테이트의 탈기된 용액, 20ml의 디옥산 및 10ml의 물을 90℃로 가열하고, 밤새 격렬하게 교반시킨다. 이어서, 과량의 브로모벤젠을 첨가하고, 동일 온도에서 2시간 후, 과량의 페닐보론산 피나콜 에스테르를 첨가하여 중합체를 말단 캡핑한다. 말단 캡핑을 완료시키기 위해 2시간 후, 물 중의 10OmL의 NaCN(1중량%)을 첨가하고, 혼합물을 90℃에서 3시간 동안 교반시킨다. 유기 상을 추출시키고, 메탄올로 침전시킨다. 잔사를 톨루엔에 재용해시키고, NaCN 처리에 재적용하고, 유기 상을 메탄올로 침전시킨다. 잔사를 아세톤 및 Et2O를 사용하여 속슬레 추출로 정제시킨 다음, 중합체를 CHCl3로 추출시켜 2.5g의 자주색 섬유를 수득한다.
Mw = 27000
Pd 함량 = 30ppm
용해도 = CHCl3 중에서 1중량%
광물리적 성질:
유리 기판 상에서 스핀 피복된 필름의 UV는 뜨거운 클로로벤젠 용액으로부터 제조하고, 상이한 온도에서 어닐링한다:
어닐링 온도 | UV/Vis-흡수 |
실온 | 630㎚, 680㎚ |
680㎚에서의 밴드는 응집 거동 때문이다.
실시예 6
1g의 화합물(7), 82mg의 Pd(PPh3)4(10mol%) 및 13.5mg의 요오드화구리(10mol%)를 무수 질소 풀러슁 플라스크에서 디에틸아민(0.85ml) 및 THF(2ml)에 용해시킨다. 이어서, 플라스크를 진공하에 정치시키고, 질소로 풀러슁하고, 이를 3회 반복한다. 이어서, 328mg의 디아세틸렌니크 유도체를 첨가하고, 플라스크를 질소하에 밀봉하고, 85℃로 가열하고 밤새 교반시킨다. 반응 혼합물을 50ml의 CHCl3에 용해시키고, 500ml의 MeOH로 연마하고, 여과시킨다. 이 작용을 1회 반복한다. 이어서, 고체를 MeOH, 아세톤 및 헵탄을 사용하여 속슬렛 추출로 정제시킨 다음, 중합체를 CHCl3로 추출시켜 0.5g의 자주색 섬유를 수득한다.
Mw = 38000
용해도 = CHCl3 중에서 0.5중량%
광물리적 성질:
유리 기판 상에서 스핀 피복된 필름의 UV는 뜨거운 클로로벤젠 용액으로부터 제조하고, 상이한 온도에서 어닐링한다:
어닐링 온도 | UV/Vis-흡수 |
실온 | 650㎚, 700㎚ |
700㎚에서의 밴드는 응집 거동 때문이다.
Claims (10)
- 화학식 I의 (반복) 단위(들)를 포함하는 중합체.화학식 I위의 화학식 I에서,a, b, c, d, e 및 f는 0 내지 200, 특히 0, 1, 2 또는 3이고;Ar1 및 Ar1'는 서로 독립적으로 화학식Ar2, Ar2', Ar3, Ar3', Ar4 및 Ar4'는 서로 독립적으로 화학식p는 가능하면 0, 1, 2, 3 또는 4이고,R1 및 R2는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소, C1-C25알킬 그룹, 알케닐 그룹, 알키닐 그룹(이는 임의로 E로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있다), C1-C4알킬로 1 내지 3회 치환될 수 있는 알릴 그룹; C1-C8알킬, C1-C8알킬티오 또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 사이클로알킬 그룹, 또는 C1-C4알킬, 할로겐, 니트로 또는 시아노로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐로 1회 또는 2회 축합될 수 있는 사이클로알킬 그룹; 사이클로알케닐 그룹, 케톤 또는 알데히드 그룹, 에스테르 그룹, 카바모일 그룹, 실릴 그룹, 실록사닐 그룹, Ar10 및 -CR5R6-(CH2)g-Ar10(여기서, R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소, 불소, 시아노, 또는 불소, 염소, 또는 브롬으로 치환될 수 있는 C1-C4알킬, 또는 C1-C4알킬로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐이고, Ar10은 G로 임의로 치환될 수 있는 아릴 또는 헤테로아릴, 특히 C1-C8알킬, C1-C8티오알콕시 및/또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐 또는 1- 또는 2-나프틸이고, g는 0, 1, 2, 3 또는 4이다)으로부터 선택되고,R3은 한 그룹 내에서 동일하거나 상이할 수 있고, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C25알킬, G로 임의로 치환될 수 있는 C6-C24아릴, G로 임의로 치환될 수 있는 C2-C20헤테로아릴, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C18알콕시, C7-C25아르알킬(여기서, 아르알킬의 아르(=아릴)는 G로 임의로 치환될 수 있다) 또는 -CO-R28이거나, 서로 이웃한 둘 이상의 그룹 R3은 환을 형성하고;R4, R4', R7 및 R7'는 서로 독립적으로 수소, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C25알킬, G로 임의로 치환될 수 있는 C6-C24아릴, G로 임의로 치환될 수 있는 C2-C20헤테로아릴, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C18알콕시, C7-C25아르알킬(여기서, 아르알킬의 아르(=아릴)는 G로 임의로 치환될 수 있다) 또는 -CO-R28이거나, R4 및 R4'는 환을 형성하고;D는 -CO-; -COO-; -S-; -SO-; -SO2-; -O-; -NR25-; -CR23=CR24-; 또는 -C≡C-이고;E는 -OR29; -SR29; -NR25R26; -COR28; -COOR27; -CONR25R26; -CN; 또는 할로겐이고;G는 E이거나, D가 삽입될 수 있는 C1-C18알킬, 또는 E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알콕시이고,R23, R24, R25 및 R26은 서로 독립적으로 H; C6-C18아릴; C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환된 C6-C18아릴; C1-C18알킬; 또는 -O-가 삽입된 C1-C18알킬이고; R27 및 R28은 서로 독립적으로 H; C6-C18아릴; C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환된 C6-C18아릴; C1-C18알킬; 또는 -O-가 삽입된 C1-C18알킬이고, R29는 H; C6-C18아릴; C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환된 C6-C18아릴; C1-C18알킬; 또는 -O-가 삽입된 C1-C18알킬이고;R109 및 R110은 서로 독립적으로 H, C1-C18알킬, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알킬, C6-C24아릴, G로 치환된 C6-C24아릴, C2-C20헤테로아릴, G로 치환된 C2- C20헤테로아릴, C2-C18알케닐, C2-C18알키닐, C1-C18알콕시, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알콕시, 또는 C7-C25아르알킬이거나,R109와 R110은 함께 화학식 =CR100R101의 그룹(여기서, R100 및 R101은 서로 독립적으로 H, C1-C18알킬, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알킬, C6-C24아릴, G로 치환된 C6-C24아릴, C2-C20헤테로아릴, 또는 G로 치환된 C2-C20헤테로아릴이다)을 형성하거나,R109와 R110은 함께, C1-C18알킬, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알킬, C6-C24아릴, G로 치환된 C6-C24아릴, C2-C20헤테로아릴, G로 치환된 C2-C20헤테로아릴, C2-C18알케닐, C2-C18알키닐, C1-C18알콕시, E로 치환되고/되거나 D가 삽입된 C1-C18알콕시, C7-C25아르알킬 또는 -C(=O)-R18로 임의로 치환될 수 있는 5원 또는 6원 환을 형성하고,R111은 H, C1-C25알킬 그룹, C4-C18사이클로알킬 그룹, C1-C25알콕시 그룹(여기서, 서로 이웃하지 않는 하나 이상의 탄소원자는 -O-, -S- 또는 -C(=O)-O-로 대체될 수 있고/있거나 하나 이상의 수소원자는 F로 대체될 수 있다), C6-C24아릴 그룹 또는 C6-C24아릴옥시 그룹(여기서, 하나 이상의 탄소원자는 O, S 또는 N로 치환될 수 있고/있거나 하나 이상의 비방향족 그룹 R111로 치환될 수 있다)이고;m은 각각 동일하거나 상이할 수 있고, 0, 1, 2 또는 3, 특히 0, 1 또는 2, 매우 특히 0 또는 1이고;X1은 수소원자 또는 시아노 그룹이고,
- 제1항에 있어서, R1 및 R2가 서로 독립적으로 수소, 하나 이상의 산소원자가 임의로 삽입될 수 있는 C1-C25알킬, C5-C12-사이클로알킬, 특히 C1-C8알킬 및/또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 사이클로헥실, 또는 C5-C12사이클로알킬, 특히 C1-C4알킬, 할로겐, 니트로 또는 시아노로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐로 1회 또는 2회 축합될 수 있는 사이클로헥실, C1-C8알킬 및/또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐 또는 1- 또는 2-나프틸, 또는 -CR5R6-(CH2)g-Ar10(여기서, R5 및 R6은 수소이고, Ar10은 C1-C8알킬 및/또는 C1-C8알콕시로 1 내지 3회 치환될 수 있는 페닐 또는 1- 또는 2-나프틸이고, g는 0 또는 1이다)인 중합체.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,Ar2, Ar2', Ar3, Ar3', Ar4 및 Ar4'가 서로 독립적으로 화학식 의 그룹(여기서, p는 0, 1 또는 2이고, R3은 한 그룹 내에서 동일하거나 상이할 수 있고, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C25알킬, 및 E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C18알콕시로부터 선택되고; R4는 E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C6-C25알킬, G로 임의로 치환될 수 있는 C6-C14아릴, 예를 들어, 페닐, 나프틸 또는 비페닐릴, E로 임의로 치환되고/되거나 D가 삽입될 수 있는 C1-C25알콕시, 또는 C7-C15아르알킬(여기서, 아르는 임의로 G로 치환될 수 있다)이고,D가 -CO-, -COO-, -S-, -SO-, -SO2-, -O- 또는 -NR25-(여기서, R25는 C1-C12알킬, 예를 들어, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소부틸 또는 2급 부틸이다)이고;E가 -OR29; -SR29; -NR25R25; -COR28; -COOR27; -CONR25R25; 또는 -CN(여기서, R25, R27, R28 및 R29는 서로 독립적으로 C1-C12알킬, 예를 들어, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소부틸, 2급-부틸, 헥실, 옥틸 또는 2-에틸-헥실, 또는 C6-C14 아릴, 예를 들어, 페닐, 나프틸 또는 비페닐릴이다)이고;G가 E의 바람직한 경우와 동일하거나, C1-C18알킬, 특히 C1-C12알킬, 예를 들어, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소부틸, 2급-부틸, 헥실, 옥틸 또는 2-에틸-헥실인 중합체.
- 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 화학식 II의 반복 단위를 포함하거나, 화학식 III의 구조를 갖는 중합체.화학식 II화학식 III위의 화학식 II 및 III에서,a, b, c, d, e, f, R1, R2, Ar1, Ar1', Ar2, Ar2', Ar3, Ar3', Ar4 및 Ar4'는 제1항에서 정의된 바와 같고,h는 1이고,제1 반복 단위는 제1항에 따르는 화학식 I의 반복 단위이고,분지 단위는 2개 이상의 연결 부위를 갖는 단위이고,q 및 t는 정수이다.
- 제1항에 따르는 화학식 I의 중합체를 포함하는 반도체 장치, 특히 다이오드, 광다이오드, 유기 전계효과 트랜지스터 및/또는 태양 전지, 또는 다이오드 및/또는 광다이오드 및/또는 유기 전계효과 트랜지스터 및/또는 태양 전지를 함유하는 장치.
- 유기 용매 속의 제1항에 따르는 화학식 I의 중합체의 용액 및/또는 분산액을 적합한 기판에 도포하고, 용매를 제거함을 포함하는, 유기 반도체 장치의 제조방법.
- 화학식 X 또는 화학식 XI의 단량체.화학식 X화학식 XI위의 화학식 X 및 XI에서,B 및 C는 서로 독립적으로 임의로 축합된 방향족 또는 헤테로방향족 환이고a, b, c, d, e, f, R1, R2, Ar1, Ar1', Ar2, Ar2', Ar3, Ar3', Ar4 및 Ar4'는 제1항에서 정의한 바와 같고,X는 ZnX12, -SnR207R208R209[여기서, R207, R208 및 R209는 동일하거나 상이하고, H 또는 C1-C6알킬(여기서, 2개의 라디칼은 임의로 공통 환을 형성하고, 이들 라디칼은 임의로 분지되거나 분지되지 않는다)이고, X12는 할로겐 원자, 매우 특히 I 또는 Br이다]; 또는 -OS(O)2CF3, -OS(O)2-아릴, 특히 , -OS(O)2CH3, -B(OH)2, -B(OY1)2, , BF4Na 또는 -BF4K[여기서, Y1은 각각 독립적으로 C1-C10 알킬 그룹이고, Y2는 각각 독립적으로 C2-C10 알킬렌 그룹, 예를 들면, -CY3Y4-CY5Y6- 또는 -CY7Y8-CY9Y10- CY11Y12-(여기서, Y3, Y4, Y5, Y6, Y7, Y8, Y9, Y10, Y11 및 Y12는 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C10 알킬 그룹, 특히 -C(CH3)2C(CH3)2- 또는 -C(CH3)2CH2C(CH3)2-이다)이다]이고,
- 전지, 정렬 층 또는 OFET, IC, TFT, 디스플레이, RFITD 택, 전계 발광 장치 또는 광발광 장치, 디스플레이 역광, 광전지 장치 또는 센서 장치, 전하 주입 층, 쇼트키 다이오드(Schottky diode), 기억 장치(예: FeFET), 평탄화 층, 대전 방지물, 전도성 기판 또는 패턴, 광전도체 또는 전자사진 용품(기록)에서 전하 수송, 반도체성, 전기전도성, 광전도성, 발광 재료, 표면 개질 재료, 전극 재료로서의, 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 따르는 화학식 I의 중합체의 용도.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06116391 | 2006-06-30 | ||
EP06116391.1 | 2006-06-30 | ||
EP06119228 | 2006-08-21 | ||
EP06119228.2 | 2006-08-21 | ||
PCT/EP2007/056102 WO2008000664A1 (en) | 2006-06-30 | 2007-06-20 | Diketopyrrolopyrrole polymers as organic semiconductors |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090024832A true KR20090024832A (ko) | 2009-03-09 |
KR101422054B1 KR101422054B1 (ko) | 2014-07-23 |
Family
ID=38521350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020097002103A KR101422054B1 (ko) | 2006-06-30 | 2007-06-20 | 유기 반도체로서의 디케토피롤로피롤 중합체 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20090302311A1 (ko) |
EP (1) | EP2035428B1 (ko) |
JP (1) | JP5374367B2 (ko) |
KR (1) | KR101422054B1 (ko) |
AU (1) | AU2007263828B2 (ko) |
BR (1) | BRPI0713952A2 (ko) |
CA (1) | CA2655076A1 (ko) |
TW (1) | TWI444402B (ko) |
WO (1) | WO2008000664A1 (ko) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140077850A (ko) * | 2012-12-14 | 2014-06-24 | 경상대학교산학협력단 | 신규한 유기반도체 화합물 및 이를 포함하는 유기전자소자 |
WO2014181910A1 (ko) * | 2013-05-07 | 2014-11-13 | 경상대학교산학협력단 | 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 함유하는 유기 전자 소자 |
KR101513883B1 (ko) * | 2014-02-07 | 2015-04-21 | 경상대학교산학협력단 | 신규한 중합체 및 이를 포함하는 유기전자소자 |
KR101514207B1 (ko) * | 2013-04-15 | 2015-06-05 | 한국과학기술연구원 | 낮은 밴드갭을 갖는 고분자 화합물, 이를 포함하는 유기태양전지 및 이의 제조방법 |
KR20150085909A (ko) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기 태양 전지 |
KR20150086193A (ko) | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 경상대학교산학협력단 | 비대칭 헤테로고리-비닐렌-헤테로고리계 다이케토피롤로피롤 중합체, 이를 채용하고 있는 유기 전자 소자 및 이를 제조하기 위한 단량체 |
KR20150110127A (ko) | 2014-03-24 | 2015-10-02 | 경상대학교산학협력단 | 비대칭 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 함유하는 유기 전자 소자 |
KR20150111094A (ko) | 2014-03-25 | 2015-10-05 | 경상대학교산학협력단 | 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 채용하고 있는 유기 전자 소자 |
KR20150112238A (ko) | 2014-03-27 | 2015-10-07 | 경상대학교산학협력단 | 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 채용하고 있는 유기 전자 소자 |
KR20160024934A (ko) * | 2013-06-24 | 2016-03-07 | 바스프 에스이 | 융합된 디케토피롤로피롤을 기재로 하는 중합체 |
KR20160088257A (ko) | 2016-02-05 | 2016-07-25 | 경상대학교산학협력단 | 비대칭 헤테로고리-비닐렌-헤테로고리계 다이케토피롤로피롤 중합체, 이를 채용하고 있는 유기 전자 소자 및 이를 제조하기 위한 단량체 |
KR20170128135A (ko) * | 2016-05-12 | 2017-11-22 | 삼성전자주식회사 | 유기 반도체 박막 및 그 제조 방법과 이를 포함하는 박막 트랜지스터와 전자 장치 |
Families Citing this family (96)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070181179A1 (en) | 2005-12-21 | 2007-08-09 | Konarka Technologies, Inc. | Tandem photovoltaic cells |
US7781673B2 (en) | 2005-07-14 | 2010-08-24 | Konarka Technologies, Inc. | Polymers with low band gaps and high charge mobility |
WO2008000664A1 (en) | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Ciba Holding Inc. | Diketopyrrolopyrrole polymers as organic semiconductors |
US8008424B2 (en) | 2006-10-11 | 2011-08-30 | Konarka Technologies, Inc. | Photovoltaic cell with thiazole-containing polymer |
US8008421B2 (en) | 2006-10-11 | 2011-08-30 | Konarka Technologies, Inc. | Photovoltaic cell with silole-containing polymer |
US7932344B2 (en) * | 2007-09-06 | 2011-04-26 | Xerox Corporation | Diketopyrrolopyrrole-based polymers |
US7910684B2 (en) * | 2007-09-06 | 2011-03-22 | Xerox Corporation | Diketopyrrolopyrrole-based derivatives for thin film transistors |
US8758880B2 (en) * | 2007-10-25 | 2014-06-24 | Basf Se | Ketopyrroles as organic semiconductors |
EP2114085A1 (en) * | 2008-04-28 | 2009-11-04 | Nederlandse Centrale Organisatie Voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | Composite microphone, microphone assembly and method of manufacturing those |
TW201008942A (en) | 2008-07-18 | 2010-03-01 | Ciba Holding Inc | Azapyrenes for electronic applications |
US10224484B2 (en) | 2008-10-31 | 2019-03-05 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic field effect transistors |
EP3456756A3 (en) * | 2008-10-31 | 2019-05-01 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic field effect transistors |
WO2010049323A1 (en) * | 2008-10-31 | 2010-05-06 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic semiconductor devices |
WO2010108873A1 (en) * | 2009-03-23 | 2010-09-30 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic semiconductor devices |
US20100326525A1 (en) * | 2009-03-26 | 2010-12-30 | Thuc-Quyen Nguyen | Molecular semiconductors containing diketopyrrolopyrrole and dithioketopyrrolopyrrole chromophores for small molecule or vapor processed solar cells |
JP5396128B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-01-22 | 大阪瓦斯株式会社 | ジケトピロロピロール骨格を有するポリマーおよび白色発光材料 |
JP5787876B2 (ja) * | 2009-04-08 | 2015-09-30 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | ピロロピロール誘導体、その製造方法及び半導体としての使用 |
JP5292514B2 (ja) * | 2009-05-21 | 2013-09-18 | ポリエラ コーポレイション | 共役ポリマーおよび光電子デバイスにおけるその使用 |
AU2010254138A1 (en) * | 2009-05-26 | 2012-01-12 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Green soluble conjugated polymers with high charge carrier mobilities |
DE112010002086B4 (de) * | 2009-05-27 | 2020-07-09 | Basf Se | Verfahren zum Polymerisieren von (hetero)aromatischen Verbindungen |
JP5675787B2 (ja) * | 2009-05-27 | 2015-02-25 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 有機半導体装置で使用するためのジケトピロロピロールポリマー |
WO2011002927A2 (en) | 2009-06-30 | 2011-01-06 | Plextronics, Inc. | Novel compositions, methods and polymers |
WO2011025454A1 (en) | 2009-08-28 | 2011-03-03 | Agency For Science, Technology And Research | Ambipolar polymeric semiconductor materials and organic electronic devices |
CN102574991B (zh) | 2009-08-28 | 2014-04-23 | 新加坡科技研究局 | 聚合物半导体、装置及相关方法 |
US8691931B2 (en) | 2009-09-04 | 2014-04-08 | Plextronics, Inc. | Organic electronic devices and polymers, including photovoltaic cells and diketone-based and diketopyrrolopyrrole-based polymers |
JP5782703B2 (ja) * | 2009-10-29 | 2015-09-24 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及びそれを用いた電子素子 |
EP2550688B1 (en) * | 2010-03-20 | 2016-10-26 | Raynergy Tek Inc. | Pyrrolo[3,2-b]pyrrole semiconducting compounds and devices incorporating same |
JP5847800B2 (ja) | 2010-04-19 | 2016-01-27 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung | ベンゾジチオフェンのポリマーおよび有機半導体としてのそれらの使用 |
EP2571919B1 (en) | 2010-05-19 | 2018-07-11 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic semiconductor devices |
KR20130094773A (ko) | 2010-06-24 | 2013-08-26 | 바스프 에스이 | 온/오프 전류비가 개선되고 임계 이동이 제어가능한 유기 전계 효과 트랜지스터 |
US20110315967A1 (en) * | 2010-06-24 | 2011-12-29 | Basf Se | Organic field effect transistor with improved current on/off ratio and controllable threshold shift |
WO2012014653A1 (ja) | 2010-07-27 | 2012-02-02 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法及び電子デバイス |
WO2012017005A2 (en) | 2010-08-05 | 2012-02-09 | Basf Se | Polymers based on benzodiones |
GB201013820D0 (en) * | 2010-08-18 | 2010-09-29 | Cambridge Display Tech Ltd | Low contact resistance organic thin film transistors |
JP5853954B2 (ja) | 2010-08-25 | 2016-02-09 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
WO2012032949A1 (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-15 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及び有機光電変換素子 |
US8946376B2 (en) | 2010-09-29 | 2015-02-03 | Basf Se | Semiconductors based on diketopyrrolopyrroles |
WO2012050070A1 (ja) * | 2010-10-13 | 2012-04-19 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及びそれを用いた有機光電変換素子 |
US9187600B2 (en) | 2010-11-01 | 2015-11-17 | Basf Se | Polyimides as dielectric |
KR101421913B1 (ko) | 2010-11-01 | 2014-07-22 | 바스프 에스이 | 유전체로서의 폴리이미드 |
WO2012060283A1 (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及びそれを用いた有機光電変換素子 |
US8598450B2 (en) * | 2010-11-24 | 2013-12-03 | Polyera Corporation | Conjugated polymers and their use in optoelectronic devices |
US20130228771A1 (en) | 2010-12-22 | 2013-09-05 | Basf Se | Semiconductor structure and method for its production |
US9362524B2 (en) | 2010-12-27 | 2016-06-07 | Konica Minolta, Inc. | Method for producing gas barrier film, gas barrier film, and electronic device |
EP2660041B1 (en) | 2010-12-27 | 2015-06-17 | Konica Minolta, Inc. | Gas-barrier film and electronic device |
JP2014515043A (ja) | 2011-03-11 | 2014-06-26 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 共役ポリマー |
GB2504871A (en) * | 2011-03-25 | 2014-02-12 | Merck Patent Gmbh | Pyrrolo[3,2-B] Pyrrole-2,5-Diones and their use as organic semiconductors |
WO2012165128A1 (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-06 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及び有機光電変換素子 |
CN103562259B (zh) * | 2011-05-30 | 2016-05-04 | 巴斯夫欧洲公司 | 通过使用偶联反应制备聚合物的方法 |
KR102009846B1 (ko) | 2011-06-22 | 2019-08-12 | 바스프 에스이 | 유기 반도체 장치에 사용하기 위한 디케토피롤로피롤 올리고머 |
EP2744005B1 (en) | 2011-08-09 | 2016-07-13 | Konica Minolta, Inc. | Organic photoelectric conversion element and organic solar cell employing same |
JP2013055322A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-03-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | 光電変換素子、太陽電池及び太陽電池モジュール |
TW201321427A (zh) | 2011-08-19 | 2013-06-01 | Univ Washington | 基於二酮吡咯並吡咯之新型聚(雜亞芳基亞乙烯基) |
JP6296980B2 (ja) * | 2011-09-02 | 2018-03-20 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | ジケトピロロピロールオリゴマー、及びジケトピロロピロールオリゴマーを含む組成物 |
KR20140101788A (ko) * | 2011-11-15 | 2014-08-20 | 바스프 에스이 | 유기 반도체 소자 및 이의 제조 방법 |
CN103958182B (zh) | 2011-11-24 | 2015-07-29 | 柯尼卡美能达株式会社 | 气体阻隔膜及电子设备 |
US8598299B2 (en) * | 2011-12-06 | 2013-12-03 | Xerox Corporation | Semiconductor composition |
KR102017358B1 (ko) | 2011-12-07 | 2019-09-26 | 바스프 에스이 | 유기 반도체 장치에 사용하기 위한 디케토피롤로피롤 중합체 |
WO2013083507A1 (en) | 2011-12-07 | 2013-06-13 | Basf Se | An organic field effect transistor |
JP5952551B2 (ja) | 2011-12-12 | 2016-07-13 | Necトーキン株式会社 | 導電性高分子組成物およびその製造方法、導電性高分子材料の製造方法、導電性基材の製造方法、電極の製造方法、電子デバイスの製造方法並びに固体電解コンデンサの製造方法 |
JP5872872B2 (ja) * | 2011-12-12 | 2016-03-01 | Necトーキン株式会社 | 導電性高分子組成物の製造方法、導電性高分子材料の製造方法、導電性基材の製造方法、電極の製造方法および固体電解コンデンサの製造方法 |
EP2834284B1 (en) | 2012-04-02 | 2017-05-10 | Basf Se | Phenanthro[9,10-b]furan polymers and small molecules for electronic applications |
WO2013150005A1 (en) * | 2012-04-04 | 2013-10-10 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers and small molecules |
US9379335B2 (en) | 2012-04-08 | 2016-06-28 | The Regents Of The University Of California | Benzodipyrrolidones and their polymers: synthesis and applications for organic electronics and optoelectronics |
JP6056854B2 (ja) | 2012-05-14 | 2017-01-11 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法及び電子デバイス |
CN104380493A (zh) * | 2012-06-04 | 2015-02-25 | 默克专利有限公司 | 有机半导体 |
EP2875028A1 (en) | 2012-07-23 | 2015-05-27 | Basf Se | Dithienobenzofuran polymers and small molecules for electronic application |
WO2014031733A1 (en) * | 2012-08-22 | 2014-02-27 | University Of Washington Through Its Center For Commercialization | Diketopyrrolopyrrole polymers for electronics and optoelectronics |
KR102154260B1 (ko) * | 2012-08-27 | 2020-09-10 | 코닝 인코포레이티드 | 반도체성 융합 티오펜 중합체 잉크 제형 |
WO2014086722A1 (en) | 2012-12-04 | 2014-06-12 | Basf Se | Functionnalized benzodithiophene polymers for electronic application |
KR102173448B1 (ko) | 2013-05-06 | 2020-11-04 | 주식회사 클랩 | 유기 전자 응용품 내의 유전체로서의 가용성 시클릭 이미드 함유 중합체 |
EP2818493A1 (en) | 2013-06-25 | 2014-12-31 | Basf Se | Near infrared absorbing polymers for electronic applications |
EP3013885B1 (en) | 2013-06-27 | 2022-08-10 | CLAP Co., Ltd. | Metathesis polymers as dielectrics |
KR101754044B1 (ko) | 2013-07-08 | 2017-07-04 | 바스프 에스이 | 아지드계 가교제 |
US9761803B2 (en) | 2013-07-22 | 2017-09-12 | Xerox Corporation | Semiconductor composition |
WO2015076171A1 (ja) * | 2013-11-21 | 2015-05-28 | 株式会社ダイセル | 有機トランジスタ製造用溶剤 |
JP6354157B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2018-07-11 | 日立化成株式会社 | 電荷輸送性材料、該材料を用いたインク組成物、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、表示素子、表示装置及び照明装置 |
US9399698B2 (en) | 2014-01-31 | 2016-07-26 | Xerox Corporation | Processes for purifying diketopyrrolopyrrole copolymers |
CN107077920B (zh) | 2014-09-25 | 2019-05-03 | 巴斯夫欧洲公司 | 作为光可交联介电质的醚基聚合物 |
CN104774318B (zh) * | 2015-04-08 | 2017-02-01 | 中国科学院化学研究所 | 一种2,2’‑二(苯并噻吩)乙烯聚合物及其制备方法与应用 |
US10109798B2 (en) * | 2015-05-26 | 2018-10-23 | Purdue Research Foundation | Methods and compositions for enhancing processability and charge transport of polymer semiconductors |
JP6463475B2 (ja) | 2015-07-07 | 2019-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 有機半導体素子、化合物、有機半導体組成物、および、有機半導体膜の製造方法 |
WO2017006703A1 (ja) * | 2015-07-07 | 2017-01-12 | 富士フイルム株式会社 | 有機半導体素子、化合物、有機半導体組成物、並びに、有機半導体膜及びその製造方法 |
JP6629866B2 (ja) * | 2015-09-02 | 2020-01-15 | 富士フイルム株式会社 | 有機薄膜トランジスタ、有機薄膜トランジスタの製造方法、有機半導体組成物、有機半導体膜および有機半導体膜の製造方法 |
EP3464415B1 (en) | 2016-05-25 | 2020-08-19 | Basf Se | Semiconductors |
WO2018060015A1 (en) | 2016-09-27 | 2018-04-05 | Basf Se | Star-shaped styrene polymers with enhanced glass transition temperature |
KR102546718B1 (ko) | 2016-09-27 | 2023-06-22 | 주식회사 클랩 | 개선된 가교능을 갖는 성상 및 삼블록 중합체 |
CN109891615B (zh) * | 2016-10-11 | 2023-11-17 | 香港科技大学 | 基于一种供体聚合物和两种受体的三元混合物有机太阳能电池 |
JP7046395B2 (ja) | 2018-03-07 | 2022-04-04 | クラップ カンパニー リミテッド | トップゲート・ボトムコンタクト有機電界効果トランジスタを製造するためのパターニング方法 |
CN112074963A (zh) | 2018-03-08 | 2020-12-11 | Clap有限公司 | 半导体性单壁碳纳米管及包括有机半导体材料的有机场效应晶体管 |
JP7147232B2 (ja) | 2018-04-09 | 2022-10-05 | 三菱マテリアル株式会社 | セラミックス-金属接合体の製造方法、多数個取り用セラミックス-金属接合体の製造方法、セラミックス-金属接合体及び多数個取り用セラミックス-金属接合体 |
CN112074548B (zh) | 2018-06-26 | 2023-07-25 | Clap有限公司 | 作为电介质的乙烯醚类聚合物 |
CN111045296A (zh) * | 2018-10-12 | 2020-04-21 | 康宁股份有限公司 | 用于有机薄膜晶体管的可uv图案化的聚合物掺混物 |
JP7151468B2 (ja) * | 2018-12-25 | 2022-10-12 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 蛍光標識剤 |
EP3933949A1 (en) | 2020-06-30 | 2022-01-05 | Basf Se | Composition comprising an organic semiconducting polymer and a crosslinking agent and organic photodiode thereof |
US20240067774A1 (en) * | 2022-08-10 | 2024-02-29 | Kennesaw State University Research And Service Foundation, Inc. | Pyrrole derived compositions and sythesis methods |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR920002741A (ko) * | 1990-07-20 | 1992-02-28 | 베르너 발데크 | 디케토피롤로피롤을 기재로 하는 전기 발색 조성물 |
EP0635539B1 (de) * | 1993-07-20 | 1997-12-29 | Ciba SC Holding AG | In der Masse mit Diketopyrrolopyrrolpigmenten gefärbte Polyamide |
EP0648770B1 (de) | 1993-10-13 | 2000-05-17 | Ciba SC Holding AG | Pyrrolo[3,4-c]pyrrole |
US5492564A (en) * | 1994-03-16 | 1996-02-20 | Ciba-Geigy Corporation | Diketopyrrolopyrrole pigment with high chroma |
EP0704497B1 (de) * | 1994-09-28 | 1999-12-15 | Ciba SC Holding AG | Mischkristalle und feste Lösungen von 1,4-Diketopyrrolopyrrolen |
DE69524044T2 (de) * | 1994-12-22 | 2002-07-04 | Ciba Sc Holding Ag | Elektrophotographischer Photorezeptor |
JP3704748B2 (ja) * | 1995-06-23 | 2005-10-12 | 東洋インキ製造株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子用電子輸送材料およびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 |
TW341572B (en) * | 1995-09-20 | 1998-10-01 | Ciba Sc Holding Ag | Preparation of mixed crystals and solid solutions of 1,4-diketopyrrolopyrroles |
EP0787730B1 (de) * | 1996-01-30 | 2001-08-01 | Ciba SC Holding AG | Polymerisierbare Diketopyrrolopyrrole und damit hergestellte Polymere |
EP0944632B1 (en) * | 1996-12-10 | 2001-02-14 | Ciba SC Holding AG | Liquid crystalline diketopyrrolopyrroles |
DE69800715T2 (de) * | 1997-01-27 | 2001-08-09 | Ciba Sc Holding Ag | Lösliche chromophore enthaltend gruppen mit verbesserter löslichkeit |
TWI290164B (en) * | 1999-08-26 | 2007-11-21 | Ciba Sc Holding Ag | DPP-containing conjugated polymers and electroluminescent devices |
EP1087005B1 (en) * | 1999-09-27 | 2004-02-25 | Ciba SC Holding AG | Fluorescent diketopyrrolopyrroles |
EP1087006B1 (en) * | 1999-09-27 | 2003-10-15 | Ciba SC Holding AG | Electroluminescent devices comprising diketopyrrolopyrroles |
DE60003508T2 (de) * | 1999-11-17 | 2004-04-29 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. | Diketopyrrolopyrrol |
US6388093B1 (en) * | 2001-01-05 | 2002-05-14 | Sun Chemical Corporation | Syntheses for preparing 1,4-diketopyrrolo [3,4-c]pyrroles |
US6878505B2 (en) * | 2001-05-28 | 2005-04-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
EP1452574A4 (en) * | 2001-12-03 | 2009-03-25 | Toyo Ink Mfg Co | COMPOSITION FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING THE SAME |
EP1478713A1 (en) * | 2002-02-01 | 2004-11-24 | Ciba SC Holding AG | Fluorescent compositions comprising diketopyrrolopyrroles |
JP4093083B2 (ja) * | 2003-03-10 | 2008-05-28 | 東洋インキ製造株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子材料およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
WO2004090046A1 (en) * | 2003-04-10 | 2004-10-21 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Fluorescent diketopyrrolopyrroles |
JP4908222B2 (ja) * | 2003-10-28 | 2012-04-04 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 新規ジケトピロロピロールポリマー |
JP4911486B2 (ja) | 2005-04-13 | 2012-04-04 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 有機トランジスタ |
WO2008000664A1 (en) | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Ciba Holding Inc. | Diketopyrrolopyrrole polymers as organic semiconductors |
US7910684B2 (en) * | 2007-09-06 | 2011-03-22 | Xerox Corporation | Diketopyrrolopyrrole-based derivatives for thin film transistors |
US7932344B2 (en) | 2007-09-06 | 2011-04-26 | Xerox Corporation | Diketopyrrolopyrrole-based polymers |
WO2009047104A2 (en) | 2007-10-09 | 2009-04-16 | Basf Se | Pyrrolopyrrole derivatives, their manufacture and use |
EP3456756A3 (en) * | 2008-10-31 | 2019-05-01 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic field effect transistors |
WO2010049323A1 (en) | 2008-10-31 | 2010-05-06 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic semiconductor devices |
WO2011025454A1 (en) | 2009-08-28 | 2011-03-03 | Agency For Science, Technology And Research | Ambipolar polymeric semiconductor materials and organic electronic devices |
US8946376B2 (en) * | 2010-09-29 | 2015-02-03 | Basf Se | Semiconductors based on diketopyrrolopyrroles |
-
2007
- 2007-06-20 WO PCT/EP2007/056102 patent/WO2008000664A1/en active Application Filing
- 2007-06-20 AU AU2007263828A patent/AU2007263828B2/en not_active Ceased
- 2007-06-20 US US12/308,037 patent/US20090302311A1/en not_active Abandoned
- 2007-06-20 BR BRPI0713952-7A patent/BRPI0713952A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-06-20 CA CA002655076A patent/CA2655076A1/en not_active Abandoned
- 2007-06-20 EP EP07786763.8A patent/EP2035428B1/en active Active
- 2007-06-20 KR KR1020097002103A patent/KR101422054B1/ko active IP Right Grant
- 2007-06-20 JP JP2009517118A patent/JP5374367B2/ja active Active
- 2007-06-29 TW TW096123735A patent/TWI444402B/zh active
-
2015
- 2015-10-27 US US14/924,060 patent/US10424737B2/en active Active
-
2019
- 2019-08-13 US US16/539,464 patent/US11217752B2/en active Active
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140077850A (ko) * | 2012-12-14 | 2014-06-24 | 경상대학교산학협력단 | 신규한 유기반도체 화합물 및 이를 포함하는 유기전자소자 |
KR101514207B1 (ko) * | 2013-04-15 | 2015-06-05 | 한국과학기술연구원 | 낮은 밴드갭을 갖는 고분자 화합물, 이를 포함하는 유기태양전지 및 이의 제조방법 |
WO2014181910A1 (ko) * | 2013-05-07 | 2014-11-13 | 경상대학교산학협력단 | 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 함유하는 유기 전자 소자 |
KR101485398B1 (ko) * | 2013-05-07 | 2015-01-26 | 경상대학교산학협력단 | 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 함유하는 유기 전자 소자 |
US10090471B2 (en) | 2013-05-07 | 2018-10-02 | Industry-Academic Cooperation Foundation Gyeongsang National University | Diketopyrrolopyrrole polymer and organic electronic device containing same |
KR20160024934A (ko) * | 2013-06-24 | 2016-03-07 | 바스프 에스이 | 융합된 디케토피롤로피롤을 기재로 하는 중합체 |
KR20150085909A (ko) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기 태양 전지 |
KR20150086193A (ko) | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 경상대학교산학협력단 | 비대칭 헤테로고리-비닐렌-헤테로고리계 다이케토피롤로피롤 중합체, 이를 채용하고 있는 유기 전자 소자 및 이를 제조하기 위한 단량체 |
KR101513883B1 (ko) * | 2014-02-07 | 2015-04-21 | 경상대학교산학협력단 | 신규한 중합체 및 이를 포함하는 유기전자소자 |
KR20150110127A (ko) | 2014-03-24 | 2015-10-02 | 경상대학교산학협력단 | 비대칭 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 함유하는 유기 전자 소자 |
KR20150111094A (ko) | 2014-03-25 | 2015-10-05 | 경상대학교산학협력단 | 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 채용하고 있는 유기 전자 소자 |
KR20150112238A (ko) | 2014-03-27 | 2015-10-07 | 경상대학교산학협력단 | 다이케토피롤로피롤 중합체 및 이를 채용하고 있는 유기 전자 소자 |
KR20160088257A (ko) | 2016-02-05 | 2016-07-25 | 경상대학교산학협력단 | 비대칭 헤테로고리-비닐렌-헤테로고리계 다이케토피롤로피롤 중합체, 이를 채용하고 있는 유기 전자 소자 및 이를 제조하기 위한 단량체 |
KR20170128135A (ko) * | 2016-05-12 | 2017-11-22 | 삼성전자주식회사 | 유기 반도체 박막 및 그 제조 방법과 이를 포함하는 박막 트랜지스터와 전자 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090302311A1 (en) | 2009-12-10 |
AU2007263828B2 (en) | 2012-03-15 |
EP2035428A1 (en) | 2009-03-18 |
CA2655076A1 (en) | 2008-01-03 |
TW200811214A (en) | 2008-03-01 |
JP5374367B2 (ja) | 2013-12-25 |
US20160049589A1 (en) | 2016-02-18 |
JP2009541548A (ja) | 2009-11-26 |
BRPI0713952A2 (pt) | 2012-12-04 |
EP2035428B1 (en) | 2015-09-23 |
KR101422054B1 (ko) | 2014-07-23 |
US20190372007A1 (en) | 2019-12-05 |
TWI444402B (zh) | 2014-07-11 |
AU2007263828A1 (en) | 2008-01-03 |
US11217752B2 (en) | 2022-01-04 |
WO2008000664A1 (en) | 2008-01-03 |
US10424737B2 (en) | 2019-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101422054B1 (ko) | 유기 반도체로서의 디케토피롤로피롤 중합체 | |
KR101764436B1 (ko) | 유기 반도체 장치에 사용하기 위한 디케토피롤로피롤 중합체 | |
JP5460603B2 (ja) | 有機半導体としてのケトピロール類 | |
KR101754432B1 (ko) | 유기 반도체 장치에 사용하기 위한 디케토피롤로피롤 중합체 | |
KR101935644B1 (ko) | 유기 전계 효과 트랜지스터에 사용하기 위한 디케토피롤로피롤 중합체 | |
JP5675787B2 (ja) | 有機半導体装置で使用するためのジケトピロロピロールポリマー | |
CN101479272A (zh) | 作为有机半导体的二酮基吡咯并吡咯聚合物 | |
EP3464415B1 (en) | Semiconductors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170628 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180706 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190709 Year of fee payment: 6 |