KR20050090081A

KR20050090081A - 적층 필름

Info

Publication number: KR20050090081A
Application number: KR1020057013224A
Authority: KR
Inventors: 가츠유키 하시모토; 마코토 한다
Original assignee: 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤
Priority date: 2003-01-21
Filing date: 2004-01-20
Publication date: 2005-09-12
Also published as: CN1741902A; JP4174509B2; EP1586446A1; EP1586446B1; TWI299018B; WO2004065120A1; JPWO2004065120A1; EP1586446A4; TW200416133A; KR101059718B1; US20060121299A1; US7264866B2; DE602004029009D1; CN1741902B

Abstract

본 발명은, 기재층, 접착 용이층 및 하드 코트층으로 이루어지고, 기재층 상에 접착 용이층이 형성되고, 접착 용이층 상에 하드 코트층이 형성된 적층 필름으로서, (1) 기재층이, 나프탈렌디카르복시산을 주된 디카르복시산 성분으로 하고, 에틸렌글리콜을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리에스테르 수지로 이루어지고, (2)하드 코트층이 자외선 흡수 기능을 가지고, 표면의 연필경도가 H 이상으로서, (3) 이 적층 필름의 크세논 아크시험 300 시간 전후에서의 투과 (b*) 값의 변화량 (Δb*) 이 2.0 미만인 적층 필름이다. 상기 필름은, 내광성, 내스크래치성, 투명성, 치수 안정성, 하드 코트층과의 밀착성이 우수하다.

Description

적층 필름{LAMINATE FILM}

본 발명은, 기재층, 접착 용이층 및 하드 코트층으로 이루어지는 적층 필름에 관한 것이다. 또한 상세하게는, 내광성, 내스크래치성, 투명성, 치수 안정성 및 하드 코트층의 밀착성이 우수한 적층 필름에 관한 것이다.

폴리에스테르 필름, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트의 2 축연신 필름은, 우수한 기계적 성질, 내열성, 내약품성을 가진다. 이 때문에, 자기 테이프, 강자성 박막 테이프, 사진 필름, 포장용 필름, 전자 부품용 필름, 전기절연 필름, 금속 라미네이트용 필름, 유리 디스플레이 등의 표면에 붙이는 필름, 각종 부재의 보호용 필름 등의 소재로서 널리 사용되고 있다.

폴리에스테르 필름은, 최근, 특히 각종 광학용 필름에 많이 사용되며, 액정 표시장치의 부재인 프리즘 렌즈 시트, 터치 패널, 백라이트 등의 베이스 필름이나 반사 방지용 필름의 베이스 필름, 플라즈마 디스플레이의 전자파 실드 필름, 유기 EL 디스플레이의 베이스 필름, 디스플레이의 방폭용 베이스 필름 등의 용도로 사용되고 있다. 이러한 광학용 필름에 사용되는 베이스 필름은 우수한 투명성과 내광성이 요구된다. 그러나 폴리에스테르 필름은 자외선에 의해 열화되어, 변색, 기계강도의 저하 등 물성변화를 일으킨다. 특히 디스플레이 용도에서는 광열화에 의한 변색은 디스플레이의 컬러 밸런스를 손상시키기 때문에, 내광성이 나쁜 필름은 사용할 수 없다는 과제가 있었다.

지금까지, 폴리에스테르 필름의 내광성을 향상시키는 수단으로는, 폴리에스테르 필름 내에 자외선 흡수제를 반죽해서 넣은 것 (특허문헌 1) 이나 아크릴 수지 중에 자외선 흡수제를 혼합하고, 폴리에스테르 필름 표면에 도포, 건조시켜 적층한 것 (특허문헌 2), 폴리에틸렌나프탈레이트 필름의 굴절률이나 밀도를 특정한 범위로 한 것 (특허문헌 3), 열가소성 필름 상에 벤조트리아졸계 모노머 공중합 아크릴로 이루어지는 수지층과 연필경도 (H) 이상의 표면 경도화층의 2 층을 적층한 것 (특허문헌 4) 등이 알려져 있다.

(특허문헌 1) 일본 특허공보 소57-6470호

(특허문헌 2) 일본 특허공보 평4-2101호

(특허문헌 3) 일본 특허공고 소53-40627호

(특허문헌 4) 일본 공개특허공보 평9-234839호

(발명의 개시)

그러나 종래의 폴리에스테르 필름에는, 다음과 같은 결점이 있었다. 즉, 자외선 흡수제를 반죽해서 넣은 필름은, 폴리에스테르 필름의 강도 신도 열화에 대해서는 효과가 있지만, 필름 표면에서 열화가 진행되어, 헤이즈나 투명성이 저하된다는 결점이 있었다.

또한 아크릴 수지 중에 자외선 흡수제를 혼합하고, 그것을 폴리에스테르 필름 표면에 도포, 건조시켜 적층한 필름은, 혼합된 자외선 흡수제의 분산성에 의해 편차가 있기 때문에 디스플레이 용도로서 요구되는 내광성을 유지할 수 없다는 결점이 있다.

특정 범위의 굴절률이나 밀도를 가지는 폴리에틸렌나프탈레이트를 사용한 필름은, 약간의 효과는 있지만, 요구를 만족시키는 내광성은 얻을 수 없다.

열가소성 필름 상에 벤조트리아졸계 모노머 공중합 아크릴 수지로 이루어지는 수지층과 연필경도 (H) 이상의 표면 경도화층의 2 층을 적층한 필름은, 내스크래치성이 우수하다. 그러나, 구성이 복잡하여, 하드 코트층의 밀착성이 나쁜 경우가 있다.

기재층에 사용하는 필름으로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (PET 필름이라고 하기도 함) 과 폴리에틸렌나프탈레이트디카르복실레이트 필름 (PEN 필름) 을 비교하면, PET 필름은, PEN 필름에 비해 내광성은 우수하지만, 치수 안정성이 충분하지 않은 경우가 있다. 따라서 PET 필름은, 디스플레이 등을 제조하는 과정에서의 열 처리에 의해 수축되기 쉬워, 치수 안정성에 문제가 있는 경우가 있다.

한편 PEN 필름은, PET 필름에 비해 상기한 바와 같이, 치수 안정성이 우수하여, 디스플레이용 기재로서 우수하지만, 내광성이 떨어진다는 결점이 있다.

본 발명은, 상기 과제를 해결하여, 내광성 (내후성), 내스크래치성, 투명성, 치수 안정성 및 하드 코트층의 밀착성이 우수한 적층 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 기재층, 접착 용이층 및 하드 코트층으로 이루어지고, 기재층 상에 접착 용이층이 형성되고, 접착 용이층 상에 하드 코트층이 형성된 적층 필름으로서,

(1) 기재층이, 나프탈렌디카르복시산을 주된 디카르복시산 성분으로 하고, 에틸렌글리콜을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리에스테르 수지로 이루어지고,

(2) 하드 코트층이 자외선 흡수 기능을 가지고, 하드 코트층 표면의 연필경도가 H 이상으로서,

(3) 상기 적층 필름의 크세논 아크시험 300 시간 전후에서의 투과 (b*) 값의 변화량 (Δb*) 이 2.0 미만인

것을 특징으로 하는 적층 필름이다.

즉 본 발명은, PEN 필름이 우수한 투명성, 치수 안정성을 유지하면서, 내광성에 관한 결점을 특정 자외선 흡수기능을 가지는 하드 코트층에 의해 개선한 것을 특징으로 한다.

또 본 발명은, 기재층과 하드 코트층 사이에 접착 용이층을 형성함으로써 하드 코트층의 밀착성을 개선한 것을 특징으로 한다.

또한 본 발명은, 특정 연필강도의 하드 코트층에 의해 내스크래치성을 개선한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 적층 필름은, 투과 (b*) 값의 변화량 (Δb*) 이 2.0 미만인 것으로써 디스플레이로의 용도 등에서의 컬러-밸런스의 붕괴를 막을 수 있다. 또 이 투과 (b*) 값의 변화량은, 후술하는 방법에 의해 평가된다.

(발명을 실시하기 위한 최선의 형태)

<기재층>

본 발명에 있어서, 기재층을 구성하는 폴리에스테르 수지는, 나프탈렌디카르복시산을 주된 디카르복시산 성분으로 하고, 에틸렌글리콜을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리에스테르이다. 여기에서 「주된」 이란, 구성 성분 중의 적어도 90㏖%, 바람직하게는 적어도 95㏖% 를 의미한다.

나프탈렌디카르복시산으로는, 예를 들면 2,6-나프탈렌디카르복시산, 2,7-나프탈렌디카르복시산, 1,5-나프탈렌디카르복시산을 들 수 있고, 이들 중에서 2,6-나프탈렌디카르복시산이 바람직하다.

코폴리머인 경우, 코폴리머를 구성하는 공중합 성분으로는, 분자 내에 2 개의 에스테르 형성성 관능기를 가지는 화합물을 사용할 수 있다. 공중합용 디카르복시산 성분으로서, 예를 들면 옥살산, 아디프산, 프탈산, 세바스산, 도데칸 디카르복시산, 이소프탈산, 테레프탈산, 1,4-시클로헥산디카르복시산, 4,4'-디페닐디카르복시산, 페닐인단디카르복시산, 2,7-나프탈렌디카르복시산, 테트랄린디카르복시산, 데카린디카르복시산, 디페닐에테르디카르복시산 등을 들 수 있다. 또한 옥시카르복시산으로서, p-옥시벤조산, p-옥시에톡시벤조산과 같은 옥시카르복시산을 들 수 있다.

공중합용 글리콜 성분으로서, 프로필렌글리콜, 트리메틸렌글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜, 시클로헥산메틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 비스페놀술폰의 에틸렌옥사이드 부가물, 비스페놀 A 의 에틸렌옥사이드 부가물, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌옥시드글리콜과 같은 2가 알코올 등을 들 수 있다.

이들 화합물은 1 종만 사용해도 되고, 2 종 이상을 사용할 수 있다. 또한 이들 중에서 바람직하게는 디카르복시산 성분으로서, 이소프탈산, 테레프탈산, 4,4'-디페닐디카르복시산, 2,7-나프탈렌디카르복시산, p-옥시벤조산을 들 수 있다. 글리콜 성분으로는 트리메틸렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 비스페놀술폰의 에틸렌옥사이드 부가물을 들 수 있다.

또한 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트는, 예를 들면 벤조산, 메톡시폴리알킬렌글리콜 등의 1 관능성 화합물에 의해 말단의 수산기 및/또는 카르복실기의 일부 또는 전부를 봉쇄한 것이라도 되고, 극히 소량의 예를 들면 글리세린, 펜타에리트리톨 등과 같은 3 관능 이상의 에스테르 형성성 화합물로 실질적으로 선상의 폴리머를 얻을 수 있는 범위 내에서 공중합한 것이라도 된다.

기재층의 폴리에스테르 수지는, 종래 공지된 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들면 디카르복시산과 글리콜의 반응에서 직접 저중합도 폴리에스테르를 얻는 방법이 있다. 또한 디카르복시산의 저급 알킬에스테르와 글리콜을 종래 공지된 에스테르 교환촉매를 이용하여 반응시킨 후, 중합촉매의 존재 하에서 중합 반응을 행하는 방법으로 얻을 수 있다.

에스테르 교환촉매로서, 예를 들면 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 아연, 스트론튬, 티탄, 지르코늄, 망간, 코발트를 함유하는 화합물의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다. 중합촉매로는, 3산화안티몬, 5산화안티몬과 같은 안티몬 화합물, 2산화게르마늄으로 대표되는 게르마늄 화합물, 테트라에틸티타네이트, 테트라프로필티타네이트, 테트라페닐티타네이트 또는 이들의 부분 가수 분해물, 옥살산티타닐암모늄, 옥살산티타닐칼륨, 티탄트리스아세틸아세토네이트와 같은 티탄 화합물을 사용할 수 있다.

에스테르 교환반응을 경유하여 중합을 행하는 경우는, 중합 반응 전에 에스테르 교환촉매를 실활시킬 목적에서 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리-n-부틸포스페이트, 정인산 등의 인 화합물이 보통은 첨가되지만, 인원소로서의 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 중의 함유량이 20∼100 중량ppm 인 것이 폴리에스테르의 열안정성 면에서 바람직하다. 또, 폴리에스테르는, 용융 중합 후 이것을 칩화하고, 가열 감압 상태 또는 질소 등의 불활성 기류 중에서 추가로 고상중합을 시행해도 된다.

기재층의 폴리에스테르 수지는, 90㏖% 이상의 -0-CH₂CH₂-0-C0-Q-CO- (Q 는 naphthalene-dily 를 나타낸다) 로 표시되는 에틸렌나프탈렌디카르복실레이트 단위로 이루어지는 폴리에스테르가 바람직하다. 구체적으로는 90㏖% 이상, 바람직하게는 95% 이상, 더욱 바람직하게는 97% 이상의 에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 단위로 이루어지는 폴리에스테르가 바람직하다.

폴리에스테르 수지의 고유점도는 0.40dl/g 이상인 것이 바람직하고, 0.40∼0.9dl/g 인 것이 더욱 바람직하다. 고유점도가 너무 낮으면 공정 절단이 다발하는 경우가 있다. 또한 고유점도가 너무 높으면 용융 점도가 높기 때문에 용융 압출이 곤란한 데다, 중합시간이 길어 비경제적이어서 바람직하지 않다.

또한 본 발명에 있어서, 기재층을 구성하는 폴리에스테르 수지에는 자외선 흡수제를 첨가하는 것이, 내광성 향상 면에서 바람직하다. 특히, 기재층 중에서의 자외선 흡수성 화합물의 함유량은, 0.1∼5 중량%, 또한 0.2∼3 중량% 인 것이, 자외선 흡수성 화합물의 부족에 의한 폴리에스테르 필름의 내광성 저하, 자외선 흡수성 화합물 과잉에 의한 폴리에스테르 중합도 저하에 기인하는 기계적 특성의 열화를 방지하기 때문에 바람직하다.

그러한 자외선 흡수제로는, 공지된 자외선 흡수제, 예를 들면 살리실산계 화합물, 벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 환상 이미노에스테르계 화합물 등을 바람직하게 예시 할 수 있다. 이들 중, 벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 환상 이미노에스테르계 화합물이 바람직하다. 폴리에스테르에 배합하는 것으로는, 특히 환상 이미노에스테르계 화합물이 바람직하다.

벤조페논계 화합물로는 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시 벤조페논 등을 바람직하게 예시할 수 있고, 상기 벤조트리아졸계 화합물로는 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸 등을 바람직하게 예시할 수 있다.

또한 환상 이미노에스테르계 화합물은 하기 식 (I) 또는 식 (II) 로 표시되는 환상 이미노에스테르에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물을, 미반응 형태로 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 환상 이미노에스테르계 화합물은 자외선 흡수제로서 공지된 화합물이며, 예를 들면 일본 공개특허공보 소59-12952호에 기재되어 있다.

… (I)

… (II)

식 (I) 중, X¹ 은 상기 식으로 표시된 X¹ 로부터의 2 개의 결합수가 1 위, 2 위의 위치 관계에 있는, 2가의 방향족 잔기이다. n 은 1, 2 또는 3 이다. R¹ 은 n가의 탄화수소 잔기이며, 이것은 또한 헤테로 원자를 함유하고 있어도 되고, 또는 R¹ 은 n=2 일 때 직접 결합일 수 있다.

식 (II) 중, A 는 하기 식 (II)-a 로 표시되는 기이거나 또는 하기 식 (II)-b 로 표시되는 기이다. (II), (II)-a 또는 (II)-b 중의 R² 및 R³ 은 동일 혹은 상이하며 1가의 탄화수소 잔기이다. X² 는 4가의 방향족 탄화수소 잔기이며, 이것은 또한 헤테로 원자를 함유하고 있어도 된다.

… (II)-a

… (II)-b

X¹ 로는, 바람직하게는 예를 들면 1,2-페닐렌, 1,2-나프탈렌, 2,3-나프탈렌, 하기 식 (a) 또는 (b) 로 표시되는 기를 들 수 있다. 이들 중, 특히 1,2-페닐렌이 바람직하다. 식 (a) 또는 식 (b) 중, R 은 -O-, -CO-, -S-, -SO₂-, -CH₂-, -(CH₂)- 또는 -C(CH₃)₂-이다.

… (a) 또는

… (b)

X¹ 에 대해서 예시한 방향족 탄화수소 잔기는, 예를 들면 탄소수 1∼10 의 알킬 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 헥실, 데실 등; 탄소수 6∼12 의 아릴 예를 들면 페닐, 나프틸 등; 탄소수 5∼12 의 시클로알킬 예를 들면 시클로펜틸, 시클로헥실 등; 탄소수 8∼20 의 아르알킬 예를 들면 페닐에틸 등; 탄소수 l∼10 의 알콕시 예를 들면 메톡시, 에톡시, 데실옥시 등; 니트로; 할로겐 예를 들면 염소, 브롬 등; 탄소수 2∼10 의 아실 예를 들면 아세틸, 프로포닐, 젠조일, 데카노일 등; 등의 치환기로 치환되어 있어도 된다.

R¹ 은 n가 (단지, n 은 1, 2 또는 3 이다) 의 탄화수소 잔기이거나, 또는 n 이 2 일 때에 한하여 직접 결합일 수 있다.

(R¹ 이 1가의 탄화수소기인 경우)

1가의 탄화수소 잔기 (n=1 인 경우) 로는, 첫째로, 예를 들면 탄소수 1∼10 의 미치환 지방족기, 탄소수 6∼12 의 미치환 방향족기, 탄소수 5∼12 의 미치환 지환족기를 들 수 있다.

탄소수 1∼10 의 미치환 지방족기로는, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 헥실, 데실 등을, 탄소수 6∼12 의 미치환 방향족기로는, 예를 들면 페닐, 나프틸, 비페닐 등을; 탄소수 5∼12 의 미치환 지환족기로는, 예를 들면 시클로펜틸, 시클로헥실 등을 들 수 있다.

또한 상기 1가의 탄화수소 잔기로는, 둘째로, 예를 들면 하기 식 (c)∼(f) 로 표시할 수 있는, 치환된 지방족 잔기 또는 방향족 잔기를 들 수 있다.

… (c)

… (d)

… (e)

… (f)

식 중, R⁴ 는 탄소수 2∼10 의 알킬렌기, 페닐렌기 또는 나프틸렌기이다. R⁵ 는 탄소수 1∼10 의 알킬기, 페닐기 또는 나프틸기이다. R⁶ 은 수소원자 또는 R⁵ 로 정의된 기 중 어느 하나이다. R⁷ 은 수소원자 또는 R⁵ 로 정의된 기 중 어느 하나이다.

또한 상기 1가의 탄화수소 잔기로는, 셋째로, 상기 미치환의 방향족 잔기가 예를 들면 상기 X¹ 을 나타내는 방향족 잔기의 치환기로서 예시한 것과 같은 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다. 그 때문에, 이러한 치환기로 치환된 경우의 예로는, 예를 들면 톨릴, 메틸나프틸, 니트로페닐, 니트로나프틸, 클로로페닐, 벤조일페닐, 아세틸페닐 또는 아세틸나프틸 등을 들 수 있다.

1가의 탄화수소 잔기로는, 상기 식 (c), (d), (e) 또는 (f) 로 표시되는 기, 즉 치환된 지방족 잔기 또는 방향족 잔기, 특히 그 중 치환된 방향족 잔기가 바람직하다.

(R¹ 이 2가의 탄화수소기인 경우)

2가의 탄화수소 잔기 (n=2 인 경우) 로는, 첫째로, 예를 들면 2가의, 탄소수 2∼10 의 미치환의 지방족 잔기, 탄소수 6∼12 의 미치환의 방향족 잔기, 탄소수 5∼12 의 미치환의 지환족 잔기를 들 수 있다.

2가의 탄소수 2∼10 의 미치환의 지방족기로는, 예를 들면 에틸렌, 트리메틸렌, 테트라메틸렌, 데카메틸렌 등을, 2가의 탄소수 6∼12 의 미치환의 방향족 잔기로는, 예를 들면 페닐렌, 나프틸렌, P,P'-피페닐렌 등을; 2가의 탄소수 5∼12 의 미치환의 지환족 잔기로는, 예를 들면 시클로펜틸렌, 시클로헥실렌 등을 들 수 있다.

또한 상기 2가의 탄화수소 잔기로는, 둘째로, 예를 들면 하기 식 (g) 로 표시되는 기, 또는 하기 식 (h) 로 표시되는 치환된 지방족 잔기 또는 방향족 잔기를 들 수 있다.

… (g)

… (h)

식 중, R⁸ 은 R⁴ 로 정의된 기 중 어느 하나이다. R⁹ 는 R⁴ 로 정의된 기 중 어느 하나이며, 그리고 R^l0 은 R⁶ 으로 정의된 기 중 어느 하나이다.

또한 상기 2가의 탄화수소 잔기로는, 셋째로, 상기 미치환의 2가의 방향족 잔기가, 예를 들면 상기 X¹ 을 나타내는 방향족기의 치환기로서 예시한 것과 같은 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.

n 이 2 인 경우에는, R¹ 로는, 이들 중 직접 결합 또는 상기 제 1∼제 3 군의 미치환 또는 치환된 2가의 방향족 탄화수소 잔기가 바람직하고, 특히 2 개의 결합수가 가장 떨어진 위치에서 나와 있는 제 １ 또는 제 3 군의 미치환 또는 치환된 방향족 탄화수소 잔기가 바람직하고, 그 중 P-페닐렌, P,P'-비페닐렌 또는 2,6-나프틸렌이 바람직하다.

(R¹ 이 3가의 탄화수소기인 경우)

3가의 탄화수소 잔기 (n=3 인 경우) 로는, 예를 들면 3가의 탄소수 6∼12 의 방향족 잔기를 들 수 있다.

이러한 방향족 잔기로는, 다음에 나타내는 4 종류의 기를 들 수 있다. 이러한 방향족 잔기는, 상기 1가의 방향족 잔기의 치환기로서 예시한 것과 같은 치환기로 치환되어 있어도 된다.

상기 기술한 R² 및 R³ 은, 동일 혹은 상이하며 1가의 탄화수소 잔기이고, X² 는 4가의 방향족 탄화수소 잔기이다. R² 및 R³ 으로는, 상기 식 (I) 의 설명에 있어서, n=1 인 경우의 R¹ 에 대해서 예시한 것과 같은 기를 예로서 들 수 있다. 4가의 방향족 탄화수소 잔기로는, 다음에 나타내는 8 종류의 기를 들 수 있다. 여기에서, R 의 정의는 식 (a) 와 동일한다. 이러한 4가의 방향족 탄화수소 잔기는, 상기 식 (I) 의 설명에 있어서, R¹ 을 나타내는 1가의 방향족 잔기의 치환기로서 예시한 것과 같은 치환기로 치환되어 있어도 된다.

본 발명에서 사용할 수 있는 상기 식 (I) 및 (II) 로 표시되는 환상 이미노에스테르의 구체적인 예로는, 예를 들면 하기의 화합물을 들 수 있다.

(상기 식 (I) 의 화합물 n=1 인 경우)

2-메틸-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-부틸-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-페닐-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-(1-또는 2-나프틸)-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-(4-비페닐)-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-p-니트로페닐-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-m-니트로페닐-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-p-벤조일페닐-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-p-메톡시페닐-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-o-메톡시페닐-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-시클로헥실-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-p-(또는 m-)프탈이미드페닐-3,1-벤조옥사진-4-온, N-페닐-4-(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)프탈이미드, N-벤조일-4-(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)아닐린, N-벤조일-N-메틸-4-(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)아닐린, 2-(p-(N-메틸카르보닐)페닐)-3,1-벤조옥사진-4-온.

(상기 식 (I) 의 화합물 n=2 인 경우)

2,2'-비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-에틸렌비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-테트라메틸렌비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-테트라메틸렌비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-p-페닐렌비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-m-페닐렌비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-(4,4'-디페닐렌)비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-(2,6-또는 1,5-나프탈렌)비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-(2-메틸-p-페닐렌)비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-(2-니트로-p-페닐렌)비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-(2-클로로-p-페닐렌)비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-(1,4-시클로헥실렌)비스(3,1-벤조옥사진-4-온), N-p-(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)페닐, 4-(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)프탈 이미드, N-p-(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)벤조일, 4-(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)아닐린.

(상기 식 (I) 의 화합물 n=3 인 경우)

1,3,5-트리(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)벤젠, 1,3,5-트리(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)나프탈렌, 2,4,6-트리(3,1-벤조옥사진-4-온-2-일)나프탈렌.

(상기 식 (II) 의 화합물)

2,8-디메틸-4H,6H-벤조(1,2-d; 5,4-d')비스(1,3)-옥사진-4,6-디온, 2,7-디메틸-4H,9H-벤조(1,2-d; 4,5-d')비스(1,3)-옥사진-4,9-디온, 2,8-디페닐-4H,8H-벤조(1,2-d; 5,4-d')비스(1,3)-옥사진-4,6-디온, 2,7-디페닐-4H,9H-벤조(1,2-d; 4,5-d')비스(1,3)-옥사진-4,6-디온, 6,6'-비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-비스(2-에틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-메틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-메틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-에틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6' -에틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-부틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-부틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-옥시비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-옥시비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-술포닐비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-술포닐비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-카르보닐비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,6'-카르보닐비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 7,7'-메틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 7,7'-메틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 7,7'-비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 7,7'-에틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 7,7'-옥시비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 7,7'-술포닐비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 7,7'-카르보닐비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,7'-비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,7'-비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,7'-메틸렌비스(2-메틸-4H,3,1-벤조옥사진-4-온), 6,7'-메틸렌비스(2-페닐-4H,3,1-벤조옥사진-4-온).

상기 예시 화합물 중, 상기 식 (I) 의 화합물, 보다 바람직하게는 n=2 인 경우의 상기 식 (I) 의 화합물, 특히 바람직하게는 하기 식 (I)-1 로 표시되는 화합물을 유리하게 사용할 수 있다. 식 중, R¹¹ 은 2가의 방향족 탄화수소 잔기이다.

… (I)-1

식 (I)-1 의 화합물로는, 특히 2,2'-p-페닐렌비스(3,1-벤조옥사진-4-온), 2,2'-(4,4'-디페닐렌)비스(3,1-벤조옥사진-4-온) 및 2,2'-(2,6-나프틸렌)비스(3,1-벤조옥사진-4-온) 이 바람직하다.

이들 환상 이미노에스테르의 자외선 흡수 특성은, 예를 들면 그 대표적 화합물에 대해서 일본 공개특허공보 소59-12952호에 기재되어 있으므로, 그것을 원용한다.

본 발명에 있어서, 기재층은 불활성 입자를 함유하지 않거나, 함유해도 특성에 영향을 주지 않는 소입경, 소량인 것이 바람직하다.

기재층의 두께는, 액정, 하드 코트, 터치 패널, 방현 (防肱) 처리, PDP 용 전자파 실드 필름, 유기 EL , 전자 페이퍼, 태양 전지 등, 윈도우 부착용도, 차용도의 지지체로서 사용할 경우에 필요한 강도와 어느 정도 자유로운 굴곡성을 얻기 위해서 1∼500㎛ 인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 12∼350㎛ 이며, 특히 바람직하게는 50∼250㎛ 이다.

<접착 용이층>

본 발명의 적층 필름은, 기재층 상에 접착 용이층이 형성된다. 이 접착 용이층은 고분자 바인더로 이루어진다. 접착 용이층에는 또한 불활성 입자, 습윤제, 지방족 왁스, 첨가제 입자를 함유하고 있어도 된다.

(고분자 바인더)

고분자 바인더는 폴리에스테르 수지로 이루어진다. 고분자 바인더는, 물에 가용성 또는 분산성인 것이 바람직한데, 다소의 유기용제를 함유하는, 물에 가용인 것도 바람직하게 사용할 수 있다.

고분자 바인더를 구성하는 폴리에스테르 수지로서, 하기의 디카르복시산 성분과 디올 성분으로부터 얻을 수 있는 폴리에스테르를 사용할 수 있다.

즉, 디카르복시산 성분으로는, 예를 들면 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 무수프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복시산, 1,4-시클로헥산디카르복시산, 아디프산, 세바스산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 다이머산, 5-나트륨술포이소프탈산을 예시 할 수 있다. 고분자 바인더를 구성하는 폴리에스테르 수지로는, 2 종 이상의 디카르복시산 성분을 사용한 공중합 폴리에스테르를 사용하는 것이 바람직하다. 폴리에스테르 수지에는, 약간의 양이라면 말레인산, 이타콘산 등의 불포화 다염기산 성분이, 혹은 p-히드록시벤조산 등과 같은 히드록시카르복시산 성분이 함유되어 있어도 된다.

디올 성분으로는, 에틸렌글리콜, 1,4-프탈디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 자일렌글리콜, 디메티롤프로판 등 또는, 폴리(에틸렌옥시드)글리콜, 폴리(테트라메틸렌옥시드)글리콜을 예시할 수 있다.

고분자 바인더를 구성하는 폴리에스테르 수지는, 디카르복시산 성분이, 50∼70㏖% 의 2,6-나프탈렌디카르복시산으로 이루어지는 것이 바람직하다. 다른 디카르복시산 성분으로는 테레프탈산 또는 이소프탈산이 바람직하다. 디올 성분은, 80∼95㏖% 의 에틸렌글리콜로 이루어지는 것이 바람직하다. 다른 디올 성분으로는 디에틸렌글리콜 등이 바람직하다.

따라서, 고분자 바인더를 구성하는 폴리에스테르 수지는, 디카르복시산 성분으로서, 50∼70㏖% 의 2,6-나프탈렌디카르복시산 및 30∼50㏖% 의 테레프탈산 또는 이소프탈산, 디올 성분으로서 80∼95㏖% 의 에틸렌글리콜 및 5∼20㏖% 의 디에틸렌글리콜로부터 얻을 수 있는 폴리에스테르가 바람직하다.

폴리에스테르 수지의 유리 전이점은, 바람직하게는 40∼100℃, 더욱 바람직하게는 60∼80℃ 이다. 이 범위이면, 우수한 접착성과 우수한 접착 용이층 자신의 내스크래치성을 얻을 수 있다. 한편 유리 전이온도가 너무 낮으면 필름끼리 블록킹이 발생하기 쉬워지고, 너무 높으면 도포막이 딱딱하고 취약해져, 내스크래치성이 악화되어 바람직하지 않다.

폴리에스테르 수지의 고유점도는 0.40dl/g 이상인 것이 바람직하고, 0.40∼0.9dl/g 인 것이 더욱 바람직하다. 접착 용이층에 사용하는 폴리에스테르 수지는, 기재층 폴리에스테르와 같은 방법에서 제조 할 수 있다.

접착 용이층의 두께는 0.01∼0.3㎛, 바람직하게는 0.02∼0.25㎛ 의 범위인 것이 바람직하다. 두께가 너무 얇으면, 접착력이 부족하고, 반대로 너무 두꺼우면, 블록킹을 일으키거나, 헤이즈 값이 높아지거나 할 가능성이 있다.

(불활성 입자)

접착 용이층에는 불활성 입자를 함유시키는 것이 바람직하다. 불활성 입자는, 유기 또는 무기의 불활성 입자이며, 실리카와 티타니아의 복합 무기입자, 탄산칼슘, 산화칼슘, 산화알루미늄, 카올린, 산화규소, 산화아연, 가교 아크릴 수지 입자, 가교 폴리스티렌 수지 입자, 멜라민 수지 입자, 가교 실리콘 수지 입자 등이 예시된다. 그 중에서도 가교 아크릴 수지 입자가 바람직하다.

불활성 입자의 평균 입자경은 40∼120㎚ 의 범위가 바람직하다. 불활성 입자의 평균 입자경이 너무 크면 입자의 탈락이 발생하기 쉬워지고, 너무 작으면 충분한 활성, 내스크래치성을 얻을 수 없을 경우가 있다. 접착 용이층용 도포제 중의 불활성 입자의 함유량은, O.1∼10 중량% 의 범위가 바람직하다. 너무 적으면 충분한 활성, 내스크래치성을 얻을 수 없고, 너무 많으면 접착 용이층의 응집력이 낮아지고 접착성이 악화되어 바람직하지 않다.

(습윤제)

접착 용이층에는 습윤제를 함유시키는 것이 바람직하다. 습윤제로서, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌-지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 지방산 금속비누, 알킬황산염, 알킬술폰산염, 알킬술포숙신산염 등의 음이온형, 및 비이온형 계면활성제를 들 수 있다. 습윤제의 함유량은 1∼10 중량% 가 바람직하다. 습윤제의 첨가량이 너무 적으면 충분하게 폴리에스테르 필름에 대한 습윤성을 나타낼 수 없어, 도포제를 튀긴다. 한편 너무 많으면 접착 용이층으로서의 성능이 저하되어 바람직하지 않다.

(지방족 왁스)

접착 용이층에는 지방족 왁스를 함유시키는 것이 바람직하다. 지방족 왁스에 의해 필름 표면의 활성이 향상된다. 지방족 왁스의 함유량은 바람직하게는 0.5∼30 중량%, 더욱 바람직하게는 1 중량%∼10 중량% 이다. 이 함유량이 너무 적으면 필름 표면의 활성을 얻을 수 없는 경우가 있어 바람직하지 않다. 또한 너무 많으면 폴리에스테르 필름 기재에의 밀착이나 하드 코트나 점착제 등에 대한 접착 용이성이 부족할 경우가 있어 바람직하지 않다.

지방족 왁스의 구체적인 예로는, 카르나우바 왁스, 칸델리라 왁스, 라이스 왁스, 나무 밀랍, 호호바 오일, 팜 왁스, 로진 변성 왁스, 오일리큐리 왁스, 사탕수수 왁스, 에스파르토 왁스, 수피 왁스 등의 식물계 왁스, 밀랍, 라놀린, 경랍, 백랍, 셸락 왁스 등의 동물계 왁스, 몬탄 왁스, 지랍, 세레신 왁스 등의 광물계 왁스, 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스, 페트로락탐 등의 석유계 왁스, 피셔-트롭스크, 폴리에틸렌 왁스, 산화폴리에틸렌 왁스, 폴리프로필렌 왁스, 산화폴리프로필렌 왁스 등의 합성 탄화수소계 왁스를 들 수 있다. 그 중, 하드 코트나 점착제 등에 대한 접착 용이성과 활성이 양호한 점에서, 카르나우바 왁스, 파라핀 왁스, 폴리에틸렌 왁스가 특히 바람직하다. 이들은 환경부하의 저감이 가능한 것 및 취급의 용이성으로부터 수분산체로서 사용하는 것이 바람직하다.

(첨가제 입자)

접착 용이층은, 활성, 내스크래치성을 추가로 향상시키기 위해서, 투명성에 영향을 주지 않을 정도로 다른 첨가제 입자를 함유해도 된다. 다른 첨가제 입자로는, 예를 들면 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화칼슘, 산화아연, 산화마그네슘, 규산 소다, 수산화알루미늄, 산화철, 산화지르코늄, 황산바륨, 산화주석, 3산화안티몬, 카본블랙, 2황화몰리부덴 등의 무기 불활성 입자나 아크릴계 가교 중합체, 스티렌계 가교 중합체, 실리콘 수지, 불소 수지, 벤조 구아나민 수지, 페놀 수지, 나일론 수지 등의 입자를 들 수 있다. 이들 중, 수불용성 고체물질은, 수분산액 중에서 침강하는 것을 피하기 위해서, 비중이 3 을 초과하지 않는 입자를 고르는 것이 바람직하다.

본 발명에서 사용할 수 있는 접착 용이층은, 피막을 형성하기 위해서 필요에 따라, 상기 조성물 이외의 다른 수지나 화합물, 예를 들면 대전방지제, 착색제, 가교제, 자외선 흡수제 등을 첨가할 수 있다.

(용제)

접착 용이층 성분은, 균일한 접착 용이층을 형성하기 위해서, 접착 용이층 성분이 용제 중에 용해 또는 분산된 도포제의 상태로 기재층 상에 도포되는 것이 바람직하다. 용제로서, 물을 들 수 있지만, 다소의 유기용제를 함유하는 물을 사용해도 된다. 이러한 용제는, 접착 용이층이 형성된 후, 막제조 공정에서 제거되어, 최종 접착 용이층에는 포함되지 않는 것이 바람직하다.

<막제조 방법>

본 발명의 적층 필름은 이하의 방법에 의해, 기재층 상에 접착 용이층을 형성한 필름을 제조한 후, 접착 용이층 상에 하드 코트층을 형성할 수 있다.

즉 기재층을 구성하는 폴리에스테르를 필름형상으로 용융 압출하고, 캐스팅 드럼에서 냉각 고화시켜 미연신 필름으로 한다. 그 후, 미연신 필름을 Tg∼(Tg+60)℃ 에서 세로방향, 가로방향으로 배율 2.0∼5.0 배로 2 축으로 연신한다. 또한 (Tm-100)∼(Tm-5)℃ 의 온도에서 1∼100 초간 열고정한다. 여기에서, Tg 는, 폴리머의 유리 전이온도, Tm 은 폴리머의 융점을 나타낸다.

연신은 일반적으로 사용할 수 있는 방법 예를 들면 롤에 의한 방법이나 스텐터를 사용하는 방법으로 행할 수 있다. 세로방향, 가로방향을 동시에 연신해도 되고, 또한 세로방향, 가로방향으로 순서대로 연신해도 된다. 접착 용이층은 동시 연신인 경우, 2 축연신 필름 상에 도공한다. 또한 접착 용이층은 축차연신인 경우, 1 방향으로 연신한 1 축배향 필름에, 접착 용이층용 도포제를 도포하고, 그대로 이미 1 방향으로 연신하여 열고정하는 것이 바람직하다. 접착 용이층의 도공방법으로는 롤 코트법, 그라비아 코트법, 롤 푸시법, 스프레이법, 에어나이프 코트법, 함침법, 커튼 코트법 등을 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.

또한 이완 처리를 행하는 경우에는, 가열 처리를 필름의 (X-80)∼X℃ 의 온도에서 행하는 것이 효과적이다. 여기에서 X 는 열고정 온도를 나타낸다. 이완 처리의 방법으로는 열고정 후 롤에 권취하기 까지의 동안에, 열고정 존의 도중에 필름의 양단부를 잘라내어 필름의 공급 속도에 대해 인취 속도를 감속시키는 방법이 있다. 또한 2 개의 속도가 상이한 반송 롤 사이에서 IR 히터로 가열하는 방법이 있다. 가열 반송 롤 상에 필름을 반송시켜 가열 반송 롤 후의 반송 롤의 속도를 감속시키는 방법이 있다. 또한 열고정 후, 열풍을 내뿜는 노즐 상에 필름을 반송시키면서, 공급의 속도보다도 감는 속도를 감속하는 방법이 있다. 혹은 막제조기로 권취한 후, 가열 반송 롤 상에 필름을 반송시켜 반송 롤의 속도를 감속하는 방법이 있다. 혹은 가열 오븐 내나 IR 히터에 의한 가열 존을 반송시키면서 가열 존 후의 롤 속도를 가열 존 전의 롤 속도보다 감속하는 방법이 있다. 어느 방법을 이용해도 되고, 공급측의 속도에 대하여 감는 측의 속도의 감속률을 0.1∼10% 로 하여 이완 처리를 행하는 것이 바람직하다.

<하드 코트층>

본 발명에서는 내광성 향상을 위해, 접착 용이층 상에, 자외선 흡수 성능을 가지는 하드 코트층을 형성할 필요가 있다. 그러한 하드 코트층으로는, 그 층을 형성하는 소재 자체에 자외선 흡수 성능을 갖춘 수지를 사용할 수 있다.

(자외선 흡수 성능을 가지는 수지)

자외선 흡수 성능을 가지는 수지로는, 벤조페논, 벤조트리아졸을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머를 다른 에틸렌계 불포화 모노머와 공중합시킨 자외선 흡수성 폴리머가 바람직하다.

벤조페논을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머로서, 하기 식으로 표시되는 모노머를 들 수 있다.

(식 중, R 은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다. X 는 -O-, -OCH₂CH₂O- 또는 -OCH₂CH(CH₃)O- 를 나타냄)

구체적으로는, 2-히드록시-4-아크릴옥시벤조페논, 2-히드록시-4-메타크릴로일옥시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시)에톡시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시)에톡시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-메틸-2-아크릴로일옥시)에톡시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-메틸-2-메타크릴로일옥시)에톡시벤조페논 등을 들 수 있다.

그 중, 2-히드록시-4-아크릴옥시벤조페논 또는 2-히드록시-4-메타크릴로일옥시벤조페논이 특히 바람직하다.

벤조트리아졸을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머로서, 하기 식으로 표시되는 모노머를 들 수 있다.

(Y 는, 수소원자, 할로겐 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R₁ 은 수소원자 또는 탄소수 1∼6 의 탄화수소기, R₂ 는 탄소수 1∼6 의 알킬렌기, R₃ 은 수소원자 또는 메틸기를 나타냄)

구체적으로는, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(아크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-메틸-5'-(아크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(아크릴로일옥시부틸)페닐]-5-메틸벤조트리아졸 등을 들 수 있다.

그 중, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸 또는 2-[2'-히드록시-5'-(아크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸이 특히 바람직하다.

다른 에틸렌계 불포화 모노머로는, 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴산의 알킬에스테르, 메타크릴산의 알킬에스테르, 알킬비닐에테르, 알킬비닐에스테르 등을 적합하게 사용할 수 있다.

아크릴산의 알킬에스테르, 메타크릴산의 알킬에스테르, 알킬비닐에테르에서의 알킬쇄 길이, 및 알킬비닐에스테르에서의 카르복시산 잔기의 탄소수는, 1∼8 이 적합하고, 더욱 바람직하게는 1∼4 이다.

아크릴산의 알킬에스테르로는, 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산프로필, 아크릴산부틸, 아크릴산2-에틸헥실 등이 있고, 메타크릴산의 알킬에스테르로는 메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산프로필, 메타크릴산부틸 등을 들 수 있다.

알킬비닐에테르로는, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 부틸비닐에테르 등을 들 수 있다. 알킬비닐에스테르로는, 포름산비닐, 아세트산비닐, 아크릴산비닐, 부티르산비닐, 크로톤산비닐 등을 들 수 있다.

벤조페논, 벤조트리아졸을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머와 다른 에틸렌계 불포화 모노머와의 공중합비는, 벤조페논, 벤조트리아졸을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머의 비율이 10∼70 중량%, 바람직하게는 20∼65 중량%, 다른 에틸렌계 불포화 모노머의 비율이 30∼90 중량%, 바람직하게는 35∼80 중량% 이다. 자외선 흡수 기능을 가지는 모노머의 비율이 하한을 만족시키지 않을 경우, 하드 코트층의 흡수 개시 파장 (λs) 이 기재층의 폴리에스테르 수지의 흡수 파장 (λ) 보다도 짧아져 자외선 흡수 성능이 저하된다. 한편, 자외선 흡수 기능을 가지는 모노머의 비율이 상한을 초과할 경우, 하드 코트층이 약해져 원하는 연필경도를 얻을 수 없다. 하드 코트층의 흡수 개시 파장 (λs) 은, 385∼390㎚ 인 것이 바람직하다.

자외선 흡수성 폴리머는, 중량평균 분자량이 5,000∼100 만인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1만∼80 만이다.

상기 하드 코트층을 형성하는 데 사용하는 도포제에는, 광택을 조정함과 함께, 표면의 미끄럼을 부여할 목적으로 2차입경이 20㎛ 이하인 불활성 미립자를, 수지성분 100 중량부에 대하여 0.3∼3 중량부 부가하는 것이 바람직하다. 0.3 중량부 이하에서는 슬라이딩성의 향상 효과가 부족하고, 한편 3 중량부를 초과하면 얻을 수 있는 하드 코트층의 연필경도가 저하되는 경우가 있다.

도포제에 부가하는 불활성 입자로는, 실리카, 탄산마그네슘, 수산화알루미늄, 황산바륨 등의 무기입자 이외에, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리에틸렌나프탈레이트, 멜라민 수지 등의 유기 폴리머의 입자를 예시할 수 있다.

하드 코트층을 형성하기 위한 도공방법은, 롤 코트, 그라비아 코트, 바 코트, 압출 코트 등, 도포제의 특성이나 도공량에 따라, 종래 그 자체로 공지된 방법을 적당히 선택하면 된다. 하드 코트층의 두께는 특별하게 한정되지 않지만, 1∼15㎛ 의 범위가 바람직하다. 도포제 중의 고형분 농도는 30∼70 중량%, 나아가서는 40∼60 중량% 가 바람직하다.

하드 코트층은 접착 용이층 상에 형성되는 것 이외에는 특별하게 한정되지 않는다. 또한 하드 코트층 상에 가스 배리어층이나 도전층 등의 기능층을 포함하는 구성체라도 상관없다. 따라서 본 발명의 적층 필름은, 하드 코트층 (H), 기재층 (S), 접착 용이층 (B) 의 기본적인 구성은 H/B/S, H/B/S/B/H 가 된다. 또한 기능층 (F) 을 가지는 경우에는, F/H/B/S, H/B/S/F, F/H/B/S/B/H, H/B/C/B/H/F 가 된다.

(흡수 파장)

또한 하드 코트층은, 기재층을 형성하는 폴리에스테르 수지의 흡수 파장 (λ) 과, 하드 코트층의 흡수 개시 파장 (λs) 이, λ≤λs≤400㎚ 의 관계를 만족시키는 것이 바람직하다. λs 가 λ 보다 작으면, 내광성의 개선 효과가 없어 바람직하지 않고, 또한 λs 가 400㎚ 보다 커지면, 착색하기 위한 디스플레이 용도로서 사용할 수 없는 경우가 있다. 여기서 폴리에스테르 수지의 흡수 파장 (λ) 은, 분광 광도계로 측정한 투과율이 20% 가 되었을 때의 파장이다. 또한 하드 코트층의 흡수 개시 파장 (λs) 은, 분광 광도계로 측정한 투과율이 550㎚ 일 때의 투과율에 대하여 20% 저하되었을 때의 파장이다.

또한 기재층이 자외선 흡수제를 함유할 경우, 기재층의 폴리에스테르 수지의 흡수 파장 (λ) 과, 기재층에 포함되는 자외선 흡수제의 흡수 개시 파장 (λps) 은, λ<λps 인 것이 바람직하다. 여기에서 자외선 흡수제의 흡수 개시 파장 (λps) 은, 분광 광도계로 측정한 투과율이 550㎚ 일 때의 투과율에 대하여 20% 저하되었을 때의 파장이다.

(내광성)

본 발명의 적층 필름은, 크세논 아크시험 300 시간 전후에서의 투과 (b*) 값의 변화량 (Δb*) 이 2.0 미만, 바람직하게는 1.0 미만이다. 투과 (b*) 값이 상한을 초과할 경우, 황착색하기 때문에, 디스플레이 용도로서 사용할 수 없는 경우가 있다.

(하드 코트층 표면의 연필경도)

본 발명의 적층 필름은, 하드 코트층 표면의 연필경도가 H 이상인 것이 바람직하고, H 이하가 되면 스크래치되기 쉬워져 디스플레이 용도로는 바람직하지 않다. 보다 바람직하게는 2H 이상, 더욱 바람직하게는 3H 이상이다.

(투명성)

본 발명의 적층 필름은, 가시광선 파장영역에서의 전체 광선 투과율이 85% 이상인 것이 바람직하다. 전체 광선 투과율이 낮으면, 화면의 선명도가 저하되는 등 광학용도로서 바람직하지 않다. 보다 바람직하게는 87% 이상, 더욱 바람직하게는 90% 이상이다. 또한 헤이즈는 1% 미만인 것이 바람직하다. 헤이즈가 높으면 디스플레이 용도에 있어서 시인성을 손상하는 등 광학용도로서 바람직하지 않다. 보다 바람직하게는 0.8% 미만, 더욱 바람직하게는 0.5% 미만이다.

(치수 안정성)

본 발명의 적층 필름은, 150℃×30 분에서의 열수축률이 2% 미만인 것이 바람직하다. 2% 이상이 되면, 필름 상에 기능층을 적층할 때 혹은 적층한 후에, 적층체에 주름이 생기거나 반대로 주름짐으로써 적층체가 파괴되는 등 충분한 기능을 발휘할 수 없게 되는 경우가 있다. 보다 바람직하게는 1% 미만, 더욱 바람직하게는 0.5% 미만이다. 또한 본 발명의 적층체는 기능층의 특성을 나타내기 위해 고온에서 처리되는 경우도 있다. 그러한 경우를 고려하면, 열수축률은 200℃×10 분에서도 2% 미만인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 1% 미만, 더욱 바람직하게는 0.5% 미만이다.

본 발명에서의 다양한 물성값 및 특성은 이하와 같이 하여 측정되고 또한 정의된다.

(1) 필름 두께

전자 마이크로미터 (안리츠 (주) 제조 K-312A 형) 를 이용하여 침압 30g 에서 필름 두께를 측정하였다.

(2) 헤이즈, 전체 광선 투과율

니혼덴쇼쿠고교 (주) 제조 Haze Meter, 상품명 「NDH2000」 을 사용하고, JIS K-7105 에 기초하여, 50㎜×50㎜ 의 시료편의 전체 광선 투과율 (Tt(%)) 과 산란광 투과율 (Td(%)) 을 측정하고, 헤이즈 ((Td/Tt)×100)(%) 를 산출하여, 이하의 기준으로 평가하였다.

전체 광선 투과율

○ 전체 광선 투과율이 85% 이상ㆍㆍㆍ투명성 양호.

△ 전체 광선 투과율이 80% 이상 85% 미만ㆍㆍㆍ투명성 약간 불량.

× 전체 광선 투과율이 80% 미만ㆍㆍㆍ투명성 불량.

헤이즈

○ 헤이즈가 1% 미만ㆍㆍㆍ투명성 양호.

△ 헤이즈가 1% 이상 1.5% 미만ㆍㆍㆍ투명성 약간 불량.

× 헤이즈가 1.5% 이상ㆍㆍㆍ투명성 불량.

(3) 내광성 평가

크세논 아크 웨더 미터 ((주)도요세이키제작소 제조 상품명 「산테스트 CPS」 형식번호 「CPS+」) 를 사용하고, JIS-K-7350-2 에 준하여, 65℃, 50RH% 의 환경 하에서 300 시간 조사함으로써 옥외 폭로 촉진시험을 행한다. 처리 후, 니혼덴쇼쿠공업 제조의 색차계 (SZ) 를 사용하여, L*a*b* 표색계에 의한 결과의 필름의 투과 (b*) 값를 측정하고, 처리 전후의 차 (Δb*) 를 구하여, 하기의 기준으로 평가하였다.

◎ Δb* 값이 1.0 미만ㆍㆍㆍ내광성 매우 양호.

○ Δb* 값이 1.0 이상 2.0 미만ㆍㆍㆍ내광성 양호.

△ Δb* 값이 2.0 이상 4.0 미만ㆍㆍㆍ내광성 약간 불량.

× Δb* 값이 4.0 이상ㆍㆍㆍ내광성 불량.

(4) 하드 코트와의 밀착성

폴리에스테르 필름의 도포면에 두께 5㎛ 의 하드 코트층을 형성하여 바둑판눈의 크로스커트 (1㎜×1㎜ 의 메시를 100개) 를 실시하고, 그 위에 24㎜ 폭의 셀로판 테이프 (니치반사 제조) 를 부착하였다. 그리고, 부착한 테이프를 따라 하드 코트 층면과는 병행한 방향으로, 급격하게 당겨 벗기는 작업을 3 회 반복하였다. 그리고 박리면을 관찰하여, 하기 기준으로 평가하였다.

○ 박리면적이 20% 미만ㆍㆍㆍ접착력 매우 양호.

△ 박리면적이 20% 이상 40% 미만ㆍㆍㆍ접착력 약간 불량.

× 박리면적이 40% 이상ㆍㆍㆍ접착력 매우 불량.

(5) 연필경도

하드 코트층측의 연필경도는 JlS K-5400 에 기초하여 각종 경도의 연필을 90도의 각도로 필름층에 눌러 가중 1Kg 으로 긁었을 때, 스크래치가 발생했을 때의 연필경도를 측정하여, 이하의 기준으로 평가하였다.

◎ 연필경도가 3H 이상ㆍㆍㆍ내스크래치성 매우 양호.

○ 연필경도가 H 이상 3H 미만ㆍㆍㆍ내스크래치성 양호.

× 연필경도가 H 미만ㆍㆍㆍ내스크래치성 불량.

(6) 치수 안정성

필름 샘플에 30cm 간격으로 표점을 만들고, 하중을 가하지 않고 오븐으로 열처리 (200℃×10 분) 를 실시하여, 열 처리 후의 표점간격을 측정하고, 하기 식에서 열수축률을 산출하여, 이하의 기준으로 평가하였다.

열수축률(%)=(열 처리 전 표점간 거리-열 처리 후 표점간 거리)/열 처리 전 표점간 거리×100

○ 열수축률이 2% 미만ㆍㆍㆍ치수 안정성 매우 양호.

△ 열수축률이 2% 이상 4% 미만ㆍㆍㆍ치수 안정성 보통.

× 열수축률이 4% 이상ㆍㆍㆍ치수 안정성 불량.

(7) 흡수 파장

폴리에스테르 수지의 흡수 파장 (λ) 은 더블 빔형 분광 광도계 (시마즈제작소 (주) 제조 상품명 「UV-3100PC」) 에 의해, 파장 300∼800㎚ 영역에서 연속적으로 광선 투과율을 측정하여, 광선 투과율이 20% 가 된 파장을 흡수 파장 (λ) 으로 하였다.

하드 코트층의 흡수 개시 파장 (λs) 은 유리 상에 막을 형성하고 상기 분광광도계에서 300∼800㎚ 영역의 광선 투과율을 측정하여, 550㎚ 일 때의 광선 투과율에 대하여 20% 저하한 파장을 흡수 개시 파장으로 하였다.

<실시예 1>

(기재층용 폴리에스테르)

나프탈렌-2,6-디카르복시산디메틸 100 부, 및 에틸렌글리콜 60 부를, 에스테르 교환촉매로서 아세트산망간4수염 0.03 부를 사용하고, 150℃ 에서 238℃ 로 서서히 승온시키면서 120 분간 에스테르 교환반응을 행하였다. 도중, 반응온도가 170℃ 에 도달한 시점에서 3산화안티몬 0.024 부를 첨가하고, 에스테르 교환반응 종료 후, 인산트리메틸 (에틸렌글리콜 중에서 135℃, 5 시간 0.11∼0.16MPa 의 가압 하에서 가열 처리한 용액: 인산 트리메틸 환산량으로 0.023 부) 을 첨가하였다. 그 후 반응 생성물을 중합 반응기에 옮기고, 290℃ 까지 승온하고, 27Pa 이하의 고진공 상태에서 중축합 반응을 행하고, 중합종료 후, 식 (A) 로 표시되는 자외선 흡수제를, 폴리머 99 중량% 에 대하여 1 중량% 첨가하고, 고유점도가 0.61dl/g 의 실질적으로 입자를 함유하지 않은, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트를, 기재층 필름 형성용으로서 얻었다.

… (A)

(접착 용이층용 도포제)

또한 폴리에스테르 85 중량부와, 불활성 입자 5 중량부와, 습윤제 10 중량부로 이루어지는 도포제를 이온 교환수에 용해시키고, 접착 용이층 형성용으로서 준비하였다. 여기에서 도포제용으로 사용한 폴리에스테르는, 산 성분이 2,6-나프탈렌디카르복시산 65㏖%/이소프탈산 30㏖%/5-나트륨술포이소프탈산 5㏖%, 글리콜 성분이 에틸렌글리콜 90㏖%/디에틸렌글리콜 10㏖% 로 구성 (Tg=80℃) 된다. 불활성 입자는 가교 아크릴 불활성 입자 (평균 입경 60㎚) 이다. 습윤제는 폴리옥시에틸렌 (n=7) 라우릴에테르이다.

(필름 형성)

상기 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트의 펠렛을, 170℃ 에서 6 시간 건조 후, 압출기 호퍼에 공급하고, 용융 온도 305℃ 에서 용융하고, 평균 메시가 17㎛ 인 스테인레스강 세선 필터로 여과하고, 3㎜ 의 슬릿형상 다이를 통과시켜서 표면온도 60℃ 의 회전 냉각 드럼 상에서 압출하고, 급랭하여 미연신 필름을 얻었다. 이렇게 하여 얻어진 미연신 필름을 120℃ 에서 예열하고, 또한 저속, 고속의 롤 간에서 15㎜ 상방에서 900℃ 의 IR 히터로 가열하여 세로방향으로 3.1 배로 연신하였다. 이 세로연신 후의 필름의 편면에 상기 기술한 접착 용이층 형성용 도포제를 건조 후의 접착 용이층의 두께가 0.1㎛ 가 되도록 롤 코터로 도공하였다.

계속해서 텐터에 공급하여, 145℃ 에서 가로방향으로 3.5 배로 연신하였다. 얻어진 2 축배향 필름을 240℃ 의 온도에서 40 초간 열고정하여 두께 75㎛ 의 고투명 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 접착 용이층측에 하드 코트층을 형성하기 위해 제제 ① (잇포샤유지제공업주식회사 제품의 상품명 「ULS-1935LH」 (제제 ① 은, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸 30 중량%, 메타크릴산메틸계 모노머 70 중량% 를 톨루엔, 아세트산 에틸의 혼합 용제에 용해시키고, 반응 용기 중에서 70℃ 까지 승온하여, 8 시간 중합을 행한 것이다. 또한 제제의 고형분 농도는 30 중량% 임) 를 롤 코트법으로 드라이 두께가 5㎛ 가 되도록 도공하고, 100℃ 에서 2 분 건조 후, 23℃ 에서 2 일간 숙성하여 하드 코트층을 형성하였다.

얻어진 필름의 특성을 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 얻어진 필름은, 내광성, 내스크래치성, 투명성, 치수 안정성, 하드 코트층의 밀착성이 우수한 필름이었다.

<실시예 2>

기재층을 형성하는 폴리머에 자외선 흡수제가 포함되지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 같은 방법으로 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.

얻어진 필름의 특성을 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 얻어진 필름은, 내광성은 실시예 1 의 필름에 떨어지지만, 내스크래치성, 투명성, 치수 안정성, 하드 코트층의 밀착성이 우수한 필름이었다.

<실시예 3, 4>

기재층을 형성하는 폴리머에 자외선 흡수제가 포함되지 않는 것, 하드 코트제를 표 1 에 나타내는 자외선 흡수 모노머 함유율의 제제로 변경한 것 (제제 ②, 제제 ③) 이외에는, 실시예 1 과 같은 방법으로 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.

<비교예 1>

(기재층용 폴리에스테르)

메틸테레프탈레이트 96부, 에틸렌글리콜 58부, 아세트산망간 0.038부 및 3산화안티몬 0.041 부를 각각 반응기에 투입하고, 교반 하 내온이 240℃ 가 될 때까지 메탄올을 유출시키면서 에스테르 교환반응을 행하고, 상기 에스테르 교환반응이 종료된 후 트리메틸포스페이트 0.097부를 첨가하였다. 이어서, 반응 생성물을 승온하고, 최종적으로 고진공 하 280℃ 의 조건에서 중축합을 행하여 고유점도 ([η]) 0.64 의 폴리에틸렌테레프탈레이트의 칩을 얻었다.

(접착 용이층용 도포제)

실시예 1 에서 사용한 접착 용이층용 도포제를 사용하였다.

(하드 코트층용 도포제)

실시예 1 에서 사용한 도포제를 사용하였다.

(필름 형성)

다음으로, 이 폴리에틸렌테레프탈레이트의 칩을 170℃ 에서 3 시간 건조 후, 2축 압출기에 공급하고, 280℃ 에서 용융 혼련하고, 급랭 고화하여, 기재층 필름 형성용 마스터 칩을 얻었다.

이 폴리에틸렌테레프탈레이트의 펠렛을 160℃ 에서 3 시간 건조 후, 압출기 호퍼에 공급하고, 용융 온도 295℃ 에서 용융하여, 20℃ 로 유지한 냉각 드럼 상에서 급랭 고화시켜 미연신 필름을 얻었다. 이 미연신 필름을 95℃ 에서 세로방향으로 3.5 배로 연신하고, 이어서 실시예 1 에서 사용한 접착 용이층용 도포제를 건조 후의 두께가 0.1㎛ 가 되도록 도포하고, 110℃ 에서 가로방향으로 3.8 배로 연신한 후, 230℃ 에서 열 처리하여, 두께가 75㎛ 인 2 축연신 필름을 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 필름 상에 실시예 1 과 같은 방법으로 하드 코트층을 형성하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.

얻어진 필름의 특성을 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 얻어진 필름은, 내광성, 내스크래치성, 투명성, 하드 코트층의 밀착성이 우수한 필름이었는데, 치수 안정성은 실시예 1 의 필름에 비해 떨어지는 필름이었다.

<비교예 2>

기재층 필름을 형성하는 폴리머에 자외선 흡수제가 함유되지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 같은 방법으로, 우선은 기재층과 접착 용이층을 구비한 필름을 얻었다. 그 필름 상에, 자외선 흡수 기능이 없는 아크릴 변성 실리카 입자 함유의 아크릴 하드 코트 (JSR (주) 제조의 상품명 「Z750l」, 제제 ④, 용제: 메틸에틸케톤, 고형분 50%) 를 롤 코트법으로 드라이 두께가 5㎛ 가 되도록 도공하여, 건조시킨 전자선을 175kV 및 10Mrad 의 조건으로 조사하여 하드 코트층을 형성하였다.

얻어진 필름의 특성을 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 얻어진 필름은, 내스크래치성, 투명성, 치수 안정성, 하드 코트층의 밀착성이 우수한 필름이었지만, 내광성이 매우 나쁜 필름이었다.

<비교예 3>

기재층을 형성하는 폴리머에 윤활제로서 진구상 실리카 (평균 입경 0.4㎛, 굴절률 1.44) 를 0.25 중량% 첨가하고, 접착 용이층을 형성하지 않았던 것 이외에는 실시예 1 과 같은 방법으로, 우선은 기재층 필름을 얻었다. 그 필름 상에 비교예 2 와 같은 방법으로 하드 코트층을 형성하여 적층 필름을 얻었다.

얻어진 필름의 특성을 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 얻어진 필름은, 내스크래치성, 치수 안정성이 우수한 필름이었지만, 투명성이 떨어지고, 내광성, 하드 코트층의 밀착성이 매우 나쁜 필름이었다.

<비교예 4>

기재층 필름을 형성하는 폴리머에 자외선 흡수제가 함유되지 않은 것, 하드 코트제를 표 1 에 나타내는 자외선 흡수 모노머 함유율의 제제로 변경한 것 (제제 ⑤) 이외에는 실시예 1 과 같은 방법으로 적층 필름을 얻었다.

얻어진 필름의 특성을 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 얻어진 필름은, 내스크래치성, 투명성, 치수 안정성, 하드 코트층의 밀착성이 우수한 필름이었지만, λs<λ 이기 때문에 내광성이 매우 나쁜 필름이었다.

<비교예 5>

비교예 1 과 같은 방법으로, 우선은 기재층과 접착 용이층을 구비한 필름을 얻었다. 그 필름 상에 비교예 2 와 같은 하드 코트층을 형성하여 적층 필름을 얻었다.

얻어진 필름의 특성을 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 얻어진 필름은, 내스크래치성, 투명성, 하드 코트층의 밀착성이 우수한 필름이었지만, 내광성이 매우 나쁘고, 치수 안정성에 떨어지는 필름이었다.

<비교예 6>

기재층 필름을 형성하는 폴리머에 자외선 흡수제가 함유되지 않은 것, 하드 코트제를 표 1 에 나타내는 자외선 흡수 모노머 함유율의 제제로 변경한 것 (제제 ⑥) 이외에는 실시예 1 과 같은 방법으로 적층 필름을 얻었다.

얻어진 필름의 특성을 측정한 결과를 표 1 에 나타낸다. 얻어진 필름은, 내광성, 투명성, 치수 안정성, 하드 코트층의 밀착성이 우수한 필름이었지만, 내스크래치성이 매우 나쁜 필름이었다.

표 중의 PEN 은, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트、 PET 는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 나타낸다.

(발명의 효과)

본 발명의 적층 필름은, 투명성이 우수하고, 또한 아래의 우수한 성질을 가진다. 즉 본 발명의 적층 필름은, 하드 코트층이 자외선 흡수 기능을 가지고 Δb* 값이 소정 값 미만이며 내광성이 우수하다. 또한 하드 코트층 표면의 연필경도가 H 이상이므로 내스크래치성이 우수하다. 또한 기재층에 나프탈렌디카르복시산을 주된 디카르복시산 성분으로 하고 에틸렌글리콜을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리에스테르 수지를 사용하므로 치수 안정성이 우수하다. 또한, 기재층과 하드 코트층 사이에 접착 용이층을 배치하고 있기 때문에, 하드 코트층의 밀착성이 우수하다.

본 발명의 적층 필름은, 내광성, 내스크래치성, 투명성, 치수 안정성 및 하드 코트층의 밀착성이 우수하므로, 액정 표시장치의 부재의 프리즘 렌즈 시트, 터치 패널, 백 라이트 등의 베이스 필름이나 반사 방지용 필름의 베이스 필름, 플라즈마 디스플레이의 전자파 실드 필름, 유기 EL 디스플레이의 베이스 필름, 디스플레이의 방폭용 베이스 필름 등의 각종 광학용 필름으로서 이용할 수 있다.

Claims

기재층, 접착 용이층 및 하드 코트층으로 이루어지고, 기재층 상에 접착 용이층이 형성되고, 접착 용이층 상에 하드 코트층이 형성된 적층 필름으로서,

(1) 기재층이, 나프탈렌디카르복시산을 주된 디카르복시산 성분으로 하고, 에틸렌글리콜을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리에스테르 수지로 이루어지고,

(2) 하드 코트층이 자외선 흡수 기능을 가지고, 또한 하드 코트층 표면의 연필경도가 H 이상으로서,

(3) 이 적층 필름의 크세논 아크시험 300 시간 전후에서의 투과 (b*) 값의 변화량 (Δb*) 이 2.0 미만인

것을 특징으로 하는 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 기재층의 폴리에스테르 수지의 흡수 파장 (λ) 과, 하드 코트층의 흡수 개시 파장 (λs) 이, λ≤λs≤400㎚ 인 관계식을 만족시키는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 200℃×10 분에서의 열수축률이 2% 미만인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 가시광선 파장영역에서의 전체 광선 투과율이 85% 이상인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 헤이즈가 1% 미만인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 기재층의 폴리에스테르 수지가 자외선 흡수제를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 기재층의 폴리에스테르 수지가, 90㏖% 이상의 에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 단위로 이루어지는 적층 필름.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 접착 용이층이, 유리 전이점온도가 40∼100℃ 인 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층 필름.
제 8 항에 있어서, 접착 용이층이, 디카르복시산 성분으로서, 50∼70㏖% 의 2,6-나프탈렌디카르복시산 및 30∼50㏖% 의 테레프탈산 또는 이소프탈산, 디올 성분으로서 80∼95㏖% 의 에틸렌글리콜 및 5∼20㏖% 의 디에틸렌글리콜을 이용하여 얻을 수 있는 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층 필름.
제 8 항에 있어서, 접착 용이층이 불활성 입자를 함유하는 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 하드 코트층이, 벤조페논 또는 벤조트리아졸을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머와 다른 에틸렌계 불포화 모노머와의 공중합체로 이루어지는 적층 필름.
제 11 항에 있어서, 벤조페논을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머가, 2-히드록시-4-아크릴옥시벤조페논 또는 2-히드록시-4-메타크릴로일옥시벤조페논인 적층 필름.
제 11 항에 있어서, 벤조트리아졸을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머가, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸 또는 2-[2'-히드록시-5'-(아크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸인 적층 필름.
제 11 항에 있어서, 다른 에틸렌계 불포화 모노머가, 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴산의 알킬에스테르 및 메타크릴산의 알킬에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 모노머인 적층 필름.
제 11 항에 있어서, 하드 코트층이, 벤조페논 또는 벤조트리아졸을 측쇄에 가지는 아크릴계 모노머 10∼70 중량% 와, 다른 에틸렌계 불포화 모노머 30∼90 중량% 를 중합시킨 공중합체로 이루어지는 적층 필름.