JP2001315262A - 反射防止フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 屋外で使用しても可視光反射防止性が高く、
紫外線劣化にも強い耐久性のある反射防止フィルムを提
供する。 【解決手段】 透明な熱可塑性樹脂フィルムの少なくと
も片面にハードコート層、可視光線反射防止層、防汚染
層を順次設けた反射防止フィルムであって、該熱可塑性
樹脂フィルムが紫外線遮蔽性を有し、かつ該反射防止フ
ィルムの紫外線透過率が２０％以下、可視光線反射率が
５％以下、ヘーズ値が２％以下であることを特徴とする
反射防止フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は反射防止フィルムに
関する。さらに詳しくは、特に屋外で使用される表示窓
やディスプレイの表示部分に適用することで、優れた可
視光線反射防止性および耐久性を奏し、視認性に優れた
反射防止フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】ディスプレイの多くは室内外を問わず外
光線等が入射するような環境下で使用されている。ディ
スプレイに入射した外光線は、ディスプレイ表面等にお
いて正反射され、その反射像がディスプレイ本来の表示
と混合して表示品質を低下させ、表示画像の視認性を低
下させている。特にオフィスのコンピュータ化で、コン
ピューターを使用する頻度が増え、ＣＲＴやＬＣＤと相
対している時間が長くなり、外光線の反射像は視認性を
低下するとともに、目の疲労の健康障害を起こす要因に
なるとも考えられている。最近では、コンピューターの
性能が急激に進み、携帯情報末端として屋外での使用の
機会も増えつつある。また、携帯電話の普及に伴ない、
屋外でディスプレイの画像表示を見る機会も増えつつあ
る。そこで、このような環境下でもディスプレイの表示
品質をより向上させて、明確に表示像を認識できるよう
にすることが図られ、一部実用化されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】これらの要求を満たす
ためには、可視光線の反射を防止する層をディスプレイ
表面に形成する必要がある。因みに、ガラス基材の場合
は、その表面にゾルゲル法により形成した層を高温焼成
することで反射防止を達成できるが、基材が透明な熱可
塑性樹脂で成形されている場合は、このような方法を施
すことが難しく、また小型の表示窓への対応も難しい。
そこでこの場合、ディスプレイ表面に、透明な熱可塑性
樹脂フィルムの上に反射防止層を積層した反射防止フィ
ルムを貼り合せることが行なわれる。

【０００４】この反射防止フィルムは、室内での使用に
おいては特に問題が無いが、前述のように屋外での使用
頻度が増加するにつれ、直接太陽光線に曝される時間が
増える。太陽光線は熱可塑性樹脂フィルムを劣化させる
紫外線を含んでおり、長時間太陽光線に曝されると該フ
ィルムの劣化が起こり、視認性や積層体の密着性に問題
を生じる。

【０００５】本発明の目的は、上記問題点を解決し、周
辺の室内照明や太陽光の映り込みを防止しする可視光線
反射防止効果にすぐれ、、かつ紫外線に対しても高い耐
久性を持ち、視認性に優れた反射防止フィルムを提供す
ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、透明な熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片
面にハードコート層、可視光線反射防止層、防汚染層を
順次設けた反射防止フィルムであって、該熱可塑性樹脂
フィルムが紫外線遮蔽性を有し、かつ該反射防止フィル
ムの紫外線透過率が２０％以下、可視光線反射率が５％
以下、ヘーズ値が２％以下であることを特徴とする反射
防止フィルムによって達成される。

【０００７】本発明の反射防止フィルムは、好ましい態
様として、前記可視光線反射防止層が金属、金属酸化
物、有機樹脂またはこれら２種以上の混合物より形成さ
れるものであり、低屈折率層と高屈折率層が交互に積層
され、最表層が低屈折率層で構成されていること、前記
熱可塑性樹脂フィルムが紫外線吸収剤を含有するポリエ
ステルフィルムであること、前記紫外線吸収剤が特定構
造の環状イミノエステルであること、前記熱可塑性樹脂
フィルムの片面に粘着剤層を有すること等を包含する。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明における反射防止フィルム
の基材フィルムは、透明な熱可塑性樹脂フィルムであ
り、透明であって、可撓性を有し、スパッタ法や真空蒸
着法等により蒸着層を形成し得る耐熱性を備えた熱可塑
性樹脂フィルムが好ましい。

【０００９】かかる熱可塑性樹脂フィルムを構成する樹
脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレートに代表される芳香族ポリエステル、ナイ
ロン６、ナイロン６６に代表される脂肪族ポリアミド、
芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレンに代
表されるポリオレフィン、ポリカーボネート等が例示さ
れる。これらの中、芳香族ポリエステルが好ましく、特
に耐熱性、機械的強度に優れる二軸延伸フィルムを形成
し得るポリエチレンテレフタレートが好ましい。

【００１０】熱可塑性樹脂フィルムは、従来から知られ
ている方法で製造することができる。例えば、二軸延伸
ポリエステルフィルムは、芳香族ポリエステルを乾燥
後、Ｔｍ〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｍ：芳香
族ポリエステルの融点）で押出機にて溶融し、ダイ（例
えばＴ−ダイ、Ｉ−ダイ等）から回転冷却ドラム上に押
出し、４０〜９０℃で急冷して未延伸フィルムを製造
し、ついで該未延伸フィルムを（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ
＋７０）℃の温度（Ｔｇ：芳香族ポリエステルのガラス
転移温度）で縦方向に２．５〜８．０倍の倍率で延伸
し、次いで又は同時に横方向に２．５〜８．０倍の倍率
で延伸し、必要に応じて１８０〜２５０℃の温度で１〜
６０秒間熱固定することにより製造できる。フィルムの
厚みは５〜２５０μｍの範囲が好ましい。

【００１１】前記熱可塑性樹脂、特に芳香族ポリエステ
ルには、必要により、適当なフィラーを含有させること
ができる。このフィラーとしては、従来から熱可塑性樹
脂フィルム、特にポリエステルフィルムの滑り性付与剤
として知られているものを用いることができる。その例
を示すと、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アル
ミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、カーボンブ
ラック、炭化珪素、酸化錫、架橋アクリル樹脂粒子、架
橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリ
コーン樹脂粒子等が挙げられる。かかる滑り性付与剤の
平均粒径は０．０１〜１０μｍが好ましく、また含有量
はフィルムが透明性を保持する量範囲であって、０．０
００１〜５ｗｔ％が好ましい。さらに熱可塑性樹脂、特
に芳香族ポリエステル中には、着色剤、帯電防止剤、酸
化防止剤、有機滑剤、触媒なども適宜添加することがで
きる。

【００１２】本発明における熱可塑性樹脂フィルムは紫
外線吸収性を有する必要があるが、それにはフィルム中
に紫外線吸収剤を含有させるのが好ましい。

【００１３】前記紫外線吸収剤としては、公知の紫外線
吸収剤、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系
化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエス
テル系化合物などを好ましく例示することができる。こ
れらの中、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾー
ル系化合物、環状イミノエステル系化合物が好ましい。
ポリエステルに配合するものとしては、特に環状イミノ
エステル系化合物が好ましい。

【００１４】前記ベンゾフェノン系化合物としては２，
４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン等が好ましく例示で
き、前記ベンゾトリアゾール系化合物としては２−
（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール等が好ましく例示できる。

【００１５】また、前記環状イミノエステル系化合物は
下記の式（I）、式（II）で表わされる化合物である。

【００１６】

【化５】

【００１７】（ただし、式中のＸ¹は上記式に表わされ
るＸ¹からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にあ
る、２価の芳香族基であり；ｎは１、２又は３であり；
Ｒ¹はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を
含有していてもよい、又はＲ¹はｎ＝２のとき直接結合
であることができる。）

【００１８】

【化６】

【００１９】（ただし、式中のＡは下記式（II）−ａ

【００２０】

【化７】

【００２１】で表わされる基であるか又は下記式（II）
−ｂ

【００２２】

【化８】

【００２３】で表わされる基であり；Ｒ¹およびＲ²は同
一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ²は４
価の芳香族基で、これは更にヘテロ原子を含有していて
もよい。） 前記式（I）中、Ｘ¹としては、好ましくは１，２−フェ
ニレン、１，２−ナフチレン、２，３−ナフチレン、下
記式

【００２４】

【化９】

【００２５】（式中のＲは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ
−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂−又は−Ｃ
（ＣＨ₃）₂−である。）で表わされる基を挙げることが
できる。これらのうち、特に１，２−フェニレンが好ま
しい。

【００２６】Ｘ¹について例示した上記芳香族基は、例
えば炭素数１〜１０のアルキル例えばメチル、エチル、
プロピル、ヘキシル、デシル等；炭素数６〜１２のアリ
ール例えばフェニル、ナフチル等、炭素数５〜１２のシ
クロアルキル例えばシクロペンチル、シクロヘキシル
等；炭素数８〜２０のアラルキル例えばフェニルエチ
ル；炭素数１〜１０のアルコキシ例えばメトキシ、エト
キシ、デシルオキシ等；ニトロ；ハロゲン例えば塩素、
臭素等；炭素数２〜１０のアシル例えばアセチル、プロ
ポニル、ベンゾイル、デカノイル等、などの置換基で置
換されていてもよい。

【００２７】Ｒ¹はｎ価（ただし、ｎは１、２又は３で
ある）の炭化水素残基であるか、又はｎが２であるとき
に限り直接結合であることができる。

【００２８】１価の炭化水素残基（ｎ＝１の場合）とし
ては、第１に、例えば炭素数１〜１０の未置換脂肪族
基、炭素数６〜１２の未置換芳香族基、炭素数５〜１２
の未置換脂環族基が挙げられる。

【００２９】炭素数１〜１０の未置換脂肪族基としては
例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、デシル等
を、炭素数６〜１２の未置換芳香族基としては例えばフ
ェニル、ナフチル、ビフェニル等を、炭素数５〜１２の
未置換脂環族基としては例えばシクロペンチル、シクロ
ヘキシル等を挙げることができる。

【００３０】また、上記１価の炭化水素残基としては、
第２に、例えば下記式（ｃ）

【００３１】

【化１０】

【００３２】（式中、Ｒ⁴は炭素数２〜10のアルキレ
ン、フェニレン又はナフチレンである。）で表わされる
基、下記式（ｄ）

【００３３】

【化１１】

【００３４】（式中、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキル
基、フェニル基又はナフチル基である。）で表わされる
基、下記式（ｅ）

【００３５】

【化１２】

【００３６】（式中、Ｒ⁴およびＲ⁵の定義は上記に同じ
であり、Ｒ⁶は水素原子又はＲ⁵に定義された基のいずれ
かである。）で表わされる基、又は下記式（ｆ）

【００３７】

【化１３】

【００３８】（式中、Ｒ⁴およびＲ⁶の定義は上記に同じ
であり、Ｒ⁷は水素原子又はＲ⁵に定義された基のいずれ
かでる）で表わされる置換された脂肪族基又は芳香族基
を挙げることができる。

【００３９】また、上記１価の炭化水素残基としては、
第３に、上記未置換の芳香族基が例えば上記Ｘ¹を表わ
す芳香族基として例示したと同じ置換基で置換されてい
るものを挙げることができる。それ故、かかる置換基で
置換された場合の例示としては、例えばトリル、メチル
ナフチル、ニトロフェンニル、ニトロナフチル、クロロ
フェニル、ベンゾイルフェニル、アセチルフェニル又は
アセチルナフチル等を挙げることができる。

【００４０】1価の炭化水素残基としては、上記式
（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）又は（ｆ）で表わされる基、す
なわち置換された脂肪族基又は芳香族基、特にそのうち
置換された芳香族基が好ましい。

【００４１】２価の炭化水素残基（ｎ＝２の場合）とし
ては、第1に、例えば炭素数２〜１０の未置換の脂肪族
基、炭素数６〜１２の未置換の芳香族基、炭素数5〜１
２の未置換の脂環族基が挙げられる。

【００４２】炭素数２〜１０の未置換の脂肪族基として
は、例えばエチレン、トリメチレン、テトレメチレン、
デカメチレン等を、炭素数６〜１２の未置換の芳香族基
としては、例えばフェニレン、ナフチレン、ｐ，ｐ’−
ビフェニレン等を、炭素数5〜１２の未置換の脂環族基
としては、例えばシクロペンチレン、シクロヘキシレン
等を挙げることができる。

【００４３】また、上記２価の炭化水素残基としては、
第２に、例えば下記式（ｇ）

【００４４】

【化１４】

【００４５】（式中、Ｒ⁸はＲ⁴で定義された基のいずれ
かである。）で表わされる基、又は下記式（ｈ）

【００４６】

【化１５】

【００４７】（式中、Ｒ⁸の定義は上記に同じであり、
Ｒ⁹はＲ⁴に定義された基のいずれかであり、そしてＲ¹⁰
はＲ⁶に定義された基のいずれかである。）で表わされ
る置換された脂肪族基又は芳香族基を挙げることができ
る。

【００４８】また、上記２価の炭化水素残基としては、
第３に、上記未置換の２価の芳香族基が、例えば上記Ｘ
¹を表わす芳香族基として例示したと同じ置換基で置換
されているものを挙げることができる。

【００４９】ｎが２の場合には、Ｒ¹としては、これら
のうち直接結合又は第１〜３の群の未置換又は置換され
た２価の芳香族基が好ましく、特に、２本の結合手が最
も離れた位置から出ている第１又は第３の群の未置換の
又は置換された芳香族基が好ましく、就中ｐ−フェニレ
ン、ｐ，ｐ’−ビフェニレン又は２，６−ナフタレンが
好ましい。

【００５０】３価の炭化水素残基（ｎ＝３の場合）とし
ては、例えば炭素数６〜１２の芳香族基を挙げることが
できる。

【００５１】かかる芳香族基としては、例えば

【００５２】

【化１６】

【００５３】等を挙げることができる。

【００５４】かかる芳香族基は、上記１価の芳香族基の
置換基として例示したと同じ置換基で置換されていても
よい。

【００５５】上記一般式（I）中、Ｒ²およびＲ³は同一
もしくは異なり１価の炭化水素残基であり、Ｘ²は４価
の芳香族基である。

【００５６】Ｒ²およびＲ³としては、上記式（I）の説
明においてｎ＝１の場合のＲ1について説明したと同じ
基を例として挙げることができる。

【００５７】４価の芳香族残基としては、例えば、

【００５８】

【化１７】

【００５９】（ここで、Ｒの定義は式（ａ）に同じ。）
で表わされる基を挙げることができる。

【００６０】上記４価の芳香族基は、上記式（I）の説
明において、Ｒ¹を表わす1価の芳香族基の置換基として
例示したと同じ置換基で置換されていてよい。

【００６１】本発明において用いられる上記式（I）お
よび式（II）で表わされる環状イミノエステルの具体例
としては、例えば下記の化合物を挙げることができる。

【００６２】上記式（I）の化合物 ｎ＝１の場合の化合物 ２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２
−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−
フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−
（１−又は２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン、２−ｐ−ニトロフェニル−３，
１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｍ−ニトロフェ
ニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−
ベンゾイルフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン、２−ｐ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン、２−ｏ−メトキシフェニル−３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン、２−シクロヘキシル−
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−（又は
ｍ−）フタルイミドフェニル−３，１−ベンゾオキサジ
ン−４−オン、Ｎ−フェニル−４−（３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ベ
ンゾイル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン
−２−イル）アニリン、およびＮ−ベンゾイル−Ｎ−メ
チル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２
−イル）アニリン。

【００６３】ｎ＝２の場合の化合物 ２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、２，２’−エチレンビス（３，１−ベンゾオキサ
ジン−４−オン）、２，２’−テトラメチレンビス
（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−
デカメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビ
ス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’
−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−又は１，
５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）
ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，
２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−クロ
ロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン）、２，２’−（１，４−シクロヘキシレ
ン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、Ｎ
−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イ
ル）フェニル，４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン−２−イル）フタルイミド、およびＮ−ｐ−（３，
１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゾイ
ル，４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−
イル）アニリン。

【００６４】ｎ＝３の場合の化合物 １，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン−２−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、
および２，４，６−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−
４−オン−２−イル）ナフタレン。

【００６５】上記式（II）の場合の化合物 ２，８−ジメチル−４H，６H−ベンゾ（１，２−ｄ；
５，４−ｄ’）ビス−（１，３）−オキサジン−４，６
−ジオン、２，７−ジメチル−４H，９H−ベンゾ（１，
２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス−（１，３）−オキサジン
−４，９−ジオン、２，８−ジフェニル−４H，８H−ベ
ンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス−（１，３）−
オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジフェニル−４
H，９H−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス−
（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、６，６’−
ビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−
４−オン）、６，６’−ビス（２−エチル−４H，３，
１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス
（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、６，６’−メチレンビス（２−メチル−４
H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’
−メチレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２
−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，６’−エチレンビス（２−フェニル−４H，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブ
チレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサ
ジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−フェ
ニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、
６，６’−オキシビス（２−メチル−４H，３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス
（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−メチル−４
H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’
−スルホニルビス（２−フェニル−４H，３，１−ベン
ゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス
（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン）、６，６’−カルボニルビス（２−フェニル−４
H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’
−メチレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−
フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、７，７’−ビス（２−メチル−４H，３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−エチレンビス
（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン）、７，７’−オキシビス（２−メチル−４H，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−ス
ルホニルビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン）、７，７’−カルボニルビス（２−
メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，７’−ビス（２−メチル−４H，３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−フ
ェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，７’−メチレンビス（２−メチル−４H，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、および６，
７’−メチレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン）。

【００６６】上記例示化合物のうち、上記式（I）の化
合物、より好ましくはｎ＝２の場合の上記式（I）の化
合物、特に好ましくは下記式（I）−１

【００６７】

【化１８】

【００６８】（式中、Ｒ¹¹は２価の芳香族基である。）
で表わされる化合物が有利に用いられる。

【００６９】式（I）−１の化合物としては、就中２，
２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）
ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および
２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベン
ゾオキサジン−４−オン）が好ましい。

【００７０】前記紫外線吸収剤の熱可塑性樹脂中への添
加方法は特に限定されないが、ポリマー重合工程、フィ
ルム製膜前の溶融工程での熱可塑性樹脂への練込み、二
軸延伸フィルムへの含浸などを例示することができる。
特に、熱可塑性樹脂、特に芳香族ポリエステルの重合度
低下を防止する意味でもフィルム製膜前の溶融工程での
ポリマーへの練込みが好ましい。その際の紫外線吸収剤
の練込みは、該剤の粉体の直接添加法、該剤を高濃度に
含有するマスターポリマーを製膜用ポリマーに添加する
マスターバッチ法などにより行うことができる。なお、
上記環状イミノエステルは遊離の水酸基との反応性を有
するので、出来るだけ反応しない条件で配合するのが好
ましい。もっとも、ポリエステルの場合、この重合度が
極端に上昇しない条件であれば、配合条件として許容さ
れる。

【００７１】前記紫外線吸収剤の熱可塑性樹脂、特に芳
香族ポリエステル中の含有量は０．１〜５重量％、さら
に０．２〜３重量％であることが、紫外線吸収剤の不足
によるフィルムの耐候性低下や、紫外線吸収剤の過剰に
よるポリマー重合度の低下に起因する機械的特性の劣化
を防止するため好ましい。

【００７２】本発明における可視光線反射防止層は、光
の干渉性を利用した反射防止層であり、高屈折率層と低
屈折率層とを有する。この反射防止層は高屈折率層と低
屈折率層を交互に、かつ最表層に低屈折率層が位置する
ように積層することが好ましい。この積層構造は高屈折
率層と低屈折率層の２層構造、高屈折率層の両側に低屈
折率層を設けたサンドイッチ構造の３層構造、複数の高
屈折率層と複数の低屈折率層を交互に積層した４層乃至
１０層の積層構造をとることができる。好ましい層数は
２〜７である。これらの層はそれぞれ、優れた反射防止
特性を得るため、後述する所定の膜厚(屈折率ｎ × 層
厚ｄ)を構成するのが好ましい。

【００７３】前記高屈折率層としては、屈折率（ｎ）が
１．６５以上であることが好ましい。さらに高屈折率層
はＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂ 、Ｉｎ₂Ｏ₃お
よびＺｎＯから選ばれた１種以上の薄膜であることが好
ましい。また低屈折率層としては、屈折率（ｎ）が１．
５以下とすることが好ましい。さらに低屈折率層は有機
樹脂または金属酸化物からなる層が好ましい。特にＳｉ
Ｏ₂からなる層が好ましい。

【００７４】かかる層の形成方法としては、真空蒸着
法、反応性蒸着法、イオンビーム蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の
気相成長法が挙げられる。また、金属酸化物は微細粒子
化し、バインダーに分散させた塗料あるいはゾル−ゲル
法による湿式成膜方式も使用できる。かかる方式には、
グラビアコート法やスクリーンコート法、ディップコー
ト法、スピンコート法、スプレーコート法などによる湿
式コート法も使用することができる。また、可視光線反
射防止層の耐擦傷性向上のために、ハードコート層上に
可視光線反射防止層を設ける。

【００７５】前記反射防止層の可視光線反射率として
は、４００ｎｍから７００ｎｍの光の波長領域で５％以
下であることが好ましい。さらに波長５５０ｎｍにおけ
る反射率が２％以下、さらには１％以下であることが好
ましい。反射防止層の各層の厚みは、下記式を満足する
光学膜厚となるように設定すると、効果が最も高くなる
ので好ましい。

【００７６】

【数１】ｄ＝０．２５×λ／ｎ （ただし、式中の、ｄは層厚み(nm)、λは光の波長(550
nm)、ｎは層構成物質の屈折率を表わす。）

【００７７】本発明におけるハードコート層は、紫外線
硬化性樹脂からなるハードコート層であることが好まし
い。紫外線硬化性樹脂としては、例えばウレタン−アク
リレート系、エポキシアクリレート系、ポリエステル−
アクリレート系などの紫外線硬化性組成物を挙げること
ができ、これらの中、ハードコート樹脂自身が基材の伸
縮に追従するためには、ウレタン成分をソフトセグメン
トとして含んだアクリレート系の光硬化性樹脂、例えば
十条ケミカル社製のレイキュアーが好ましい。さらに、
塗膜の耐摩耗性の向上と硬化時の体積収縮率の減少のた
めに、無機微粒子を含有させることが好ましい。無機微
粒子としては、シリカ、酸化チタン等の金属酸化物より
なる微粒子が好ましい。かかる無機微粒子の含有量は２
０〜６０重量％が好ましく、無機微粒子の平均粒径は１
００μｍ以下のものが好ましい。また、この平均粒径は
１００ｎｍ以上であることが好ましい。反射防止層のハ
ードコート性（傷防止性）向上のために、無機微粒子表
面に光重合反応性を有する感光性基を導入したものが好
ましい。この感光性基としては単官能性または多官能性
アクリレートが好ましい。無機微粒子の含有量が２０重
量％未満であると、耐摩耗性不良および紫外線硬化時の
体積収縮率が高くなり、製品フィルムにカールを発生さ
せるようになり、一方、６０重量％超であると、ハード
コート樹脂の伸縮性不良となり、屈曲によるクラックが
入りやすくなる。

【００７８】前記ハードコート層は、その表面が鉛筆硬
度で４Ｈ以上の硬さを有することが好ましい。また、ハ
ードコート層表面はさらにその上に反射防止層を積層す
るため、表面の濡れ性を良くしておく必要がある。ハー
ドコート表面の水接触角は４０〜８０°であることが好
ましい。この接触角が８０°を超えると積層界面の密着
性不良を起こし、一方４０°未満ではロール上に巻いた
場合ブロッキング現象を起こすことがある。

【００７９】ハードコート層の形成方法としては、バー
コート法、ドクターブレード法、リバースロールコート
法、グラビアロールコート法等の公知の塗布方法で上記
成分を含む塗布液を塗布する方法を用いることができ
る。塗膜厚みは０．５〜２０μｍ、さらには１〜５μｍ
が好ましい。この厚みが０．５μｍ未満ではハードコー
ト性不良となり、一方２０μｍ超はフィルムの伸縮追従
において、内部応力が強く、密着性不良となる野で、好
ましくない。

【００８０】本発明における防汚層は、反射防止層の保
護膜的な効果を狙うもので、外的要因により汚れた表面
を清掃することで反射防止効果を常に保つことができる
ものである。この層の形成材料としては、透明性を有
し、反射防止特性を損なわないものが必要である。例え
ば、フルオロアルキル基含有樹脂やフルオロカーボンや
フルオロシラン等、あるいはこれらの化合物等が好まし
い。また指紋拭き取り性には、メチル基を導入するした
化合物も適している。

【００８１】前記防汚層の形成方法としては適用材料に
応じて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合やロール
コート法、スプレーコート法、ディップコート法等各種
コーティング法を用いることができる。防汚層は反射防
止特性を損なうことが無いよう、通常膜厚は３０ｎｍ以
下で形成される。

【００８２】本発明における反射防止フィルムは紫外線
透過率が２０％以下、好ましくは１０％以下、さらに好
ましくは５％以下である。この紫外線透過率が２０％よ
り大きくなると、紫外線劣化が大きく、フィルムの耐久
性に劣り、好ましくない。

【００８３】本発明における反射防止フィルムは、その
使用形態から、可視光線反射防止層の形成された反対面
側に粘着剤層を設け、さらにその上に離形フィルムを積
層した構造を有することが好ましい。

【００８４】前記粘着剤としては、アクリル系あるいは
シリコーン系の粘着剤が好ましい。また、コストや、反
射防止フィルムを剥がす必要がある場合を考慮すると、
アクリル系粘着剤が特に好ましい。かかる粘着剤として
は東洋インキ社製のオリバインＰＢＳ８１７０、を例示
することができる。

【００８５】この粘着剤には、添加剤として、例えば安
定剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤等を含有させ
ることもできる。粘着剤層の厚みは１０〜１５μｍが好
ましい。

【００８６】前記離形フィルムとしては公知の離形フィ
ルムを用いることができる。例えば、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムに硬化型シリコーン樹脂層を設けた
離形フィルムが好ましく用いることができる。この硬化
型シリコーン樹脂としては、例えば信越シリコーン社製
のＫＳ８４７Ｈ等を例示することが出来る。

【００８７】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳述す
る。なお、フィルムの特性は、以下の方法にしたがって
測定した。

【００８８】（１）耐候性 サンシャインウェザーメーター（スガ試験機（株）製、
ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣＬ型）を使用し、ＪＩＳ−Ｋ−６
７８３ｂに準じてフィルム側から照射を行ない、１００
０時間（屋外曝露１年間に相当）照射することにより屋
外曝露促進試験を行う。試験後のフィルムの外観を観察
し、以下の基準で評価する。 ○：劣化なし △：やや劣化 ×：表面が劣化して白くなる。

【００８９】（２）可視光線反射率 島津製作所 ＵＶ−３１０１ＰＣ型を用いて、反射防止
層側フィルム表面の可視光線反射率（測定光の波長：５
５０ｎｍ）を測定する。

【００９０】（３）紫外光透過率 島津製作所 ＵＶ−３１０１ＰＣ型を用いて、反射防止
フィルムの３７０ｎｍ以下の最大透過率を測定する。

【００９１】（４）ヘーズ値 日本電色工業社製のヘーズ測定器（ＮＤＨ−２０）を使
用して、粘着剤加工をする前の反射防止フィルムのヘー
ズ値を測定する。

【００９２】［実施例１〜３］重合終了後に、２，２’
−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン）（実施例１）、２，２’−ｐ−フ
ェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）
（実施例２）又は２，２’−（２，６−ナフタレン）ビ
ス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）（実施例
３）をポリマー９９重量部に対して１重量部添加して、
固有粘度（３５℃のｏ−クロロフェノール中で測定）
０．６５のポリエチレンテレフタレート（滑剤として平
均粒径１．０μｍのカオリンを２０ｐｐｍ含有）を準備
した。

【００９３】このポリエチレンテレフタレートを２０℃
に維持した回転冷却ドラム上に常法により溶融押出し、
急冷して未延伸フィルムを得た。次いでこの未延伸フィ
ルムを縦方向に９５℃にて３．５倍延伸し、引続き横方
向に１０５℃にて３．９倍延伸し、さらに２１０℃で熱
固定処理して、厚み７５μｍの二軸延伸ポリエステルフ
ィルム（ＰＥＴフィルム）を得た。

【００９４】このＰＥＴフィルムの片面に、紫外線硬化
型多官能アクリル樹脂を乾燥後の塗布厚みが５μｍとな
るよう塗布、乾燥、紫外線照射してハードコート層を形
成した。

【００９５】更にハードコート層上に、反射防止層を形
成するため、ＴｉＯｘ(n=1.75，d=78nm)、 ＴｉＯ₂(n=
2.0，d=69nm)、ＳｉＯ₂(n=1.45，d=95nm)の膜を、真空
下（５×１０^-5ｔｏｒｒ）でスパッタリング法により順
次形成した。

【００９６】可視光反射防止層上には防汚染層として、
パーフルオロアルキル基含有アクリル樹脂層を厚さ５nm
となるよう塗工した。

【００９７】可視光反射防止層を設けたＰＥＴフィルム
の他方の面に、ガラスに対する剥離強さが５００ｇ／ｃ
ｍのアクリル系粘着剤を、乾燥膜厚２０μｍとなるよう
塗布して反射防止フィルムを得た。この反射防止フィル
ムの特性は表１に示す。

【００９８】［比較例１］重合終了後に紫外線吸収剤を
添加しない以外は実施例１と同じように行なって反射防
止フィルムを得た。この反射防止フィルムの特性は表１
に示す。

【００９９】

【表１】

【０１００】

【発明の効果】本発明によれば、屋外で使用しても可視
光反射防止性が高く、紫外線劣化にも強い耐久性のある
反射防止フィルムを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ Ｚ Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA15 BB02 CC03 CC09 CC14 CC21 CC24 CC34 DD02 DD03 DD04 DD07 EE00 EE05 4F100 AA17C AA17E AA20 AA21 AB01C AB01E AH03A AH07A AK01A AK01C AK01E AK25 AK25G AK41A AK42 AR00B AR00C AR00D AS00B BA04 BA05 BA10A BA10D CA07A CB00 CC00 EH462 EH662 EJ381 EJ542 EJ862 GB90 JB16A JD09 JD09A JK01B JL06D JL11E JN01 JN01A JN06 JN06C JN06E JN18C JN18D JN18E YY00 4J002 BB031 BB121 CF061 CF081 CG001 CL011 CL031 EJ016 EU176 EU226 FD010 FD056 5G435 AA00 AA01 AA14 FF02 GG16 HH03 KK07

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明な熱可塑性樹脂フィルムの少なくと
   も片面にハードコート層、可視光線反射防止層、防汚染
   層を順次設けた反射防止フィルムであって、該熱可塑性
   樹脂フィルムが紫外線遮蔽性を有し、かつ該反射防止フ
   ィルムの紫外線透過率が２０％以下、可視光線反射率が
   ５％以下、ヘーズ値が２％以下であることを特徴とする
   反射防止フィルム。
2. 【請求項２】 可視光線反射防止層が、金属、金属酸化
   物、有機樹脂またはこれら２種以上の混合物より形成さ
   れるものであり、低屈折率層と高屈折率層が交互に積層
   され、最表層が低屈折率層で構成されている請求項１記
   載の反射防止フィルム。
3. 【請求項３】 熱可塑性樹脂フィルムが紫外線吸収剤を
   含有する請求項１記載の反射防止フィルム。
4. 【請求項４】 熱可塑性樹脂フィルムが紫外線吸収剤を
   含有するポリエステルフィルムである請求項３記載の反
   射防止フィルム。
5. 【請求項５】 紫外線吸収剤が下記式（Ｉ）及び下記式
   （II）で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少
   なくとも１種の化合物である請求項３または４記載の反
   射防止フィルム。 【化１】 （ただし、式中のＸ¹は上記式に表わされるＸ¹からの２
   本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香
   族基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ¹はｎ価の炭
   化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していても
   よい、又はＲ¹はｎ＝２のとき直接結合であることがで
   きる。） 【化２】 （ただし、式中のＡは下記式（II）−ａ 【化３】 で表わされる基であるか又は下記式（II）−ｂ 【化４】 で表わされる基であり；Ｒ¹およびＲ²は同一もしくは異
   なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ²は４価の芳香族残
   基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
6. 【請求項６】 熱可塑性樹脂フィルムの片面に粘着剤層
   を有する請求項１ないし５のいずれかに記載の反射防止
   フィルム。